Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapeutic apparatus

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapeutic apparatus

Номер патента: TW201214465A
Опубликовано: 01-04-2012
Автор(ы): Takaaki Iwata, Yue-Hu Pu
Принадлежит: Mitsubishi Electric Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US20120132826A1. Автор: Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-05-31.

Charged-particle beam irradiation device

Номер патента: US20140058186A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Particle beam irradiation system and particle beam therapy system

Номер патента: US20110147604A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2011-06-23.

Irradiation apparatus and irradiation method for depositing a dose in a target volume

Номер патента: CA2790896C. Автор: Oliver Heid. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-04-10.

Particle beam irradiation system and method for controlling the particle beam irradiation system

Номер патента: TWI406683B. Автор: Hisashi Harada. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-09-01.

Rotating gantry and particle beam therapy system

Номер патента: US09504854B2. Автор: Tadashi Katayose. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Energy degrader and charged particle beam irradiation system equipped therewith

Номер патента: US09390826B2. Автор: Takamasa Ueda,Takuya Miyashita. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US20130253252A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-09-26.

Charged particle irradiation apparatus and operating method thereof

Номер патента: EP1152436A2. Автор: Hiroshi Hitachi Intell.Property Group Akiyama,Kazuo Hitachi Intell.Property Group Hiramoto,Koji Hitachi Intell.Property Group Matsuda,Tetsuro Hitachi Intell.Property Group Norimine. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-07.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20130253253A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-09-26.

Particle beam monitoring systems and methods

Номер патента: EP3655102A1. Автор: Juergen Heese. Владелец: Varian Medical Systems Particle Therapy GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-05-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20210299480A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle beam treatment apparatus

Номер патента: US20190027339A1. Автор: Nagaaki Kamiguchi. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: EP2283705A2. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-16.

Particle radiation monitoring apparatus, recording medium to retain particle radiation monitoring program, and particle radiation monitoring method

Номер патента: EP2492712A3. Автор: Takashi Nakano,Shin Watanabe,Kazuo Arakawa,Takahiro Satoh,Tadayuki Takahashi,Hirofumi Shimada,Kota Torikai,Mitsutaka Yamaguchi,Tomihiro Kamiya,Naoki Kawachi,Motohide Kokubun. Владелец: JAPAN ATOMIC ENERGY AGENCY. Дата публикации: 2013-05-08.

Particle radiation monitoring apparatus, recording medium to retain particle radiation monitoring program, and particle radiation monitoring method

Номер патента: US20120215495A1. Автор: Takashi Nakano,Shin Watanabe,Kazuo Arakawa,Takahiro Satoh,Tadayuki Takahashi,Hirofumi Shimada,Kota Torikai,Mitsutaka Yamaguchi,Tomihiro Kamiya,Naoki Kawachi,Motohide Kokubun. Владелец: JAPAN ATOMIC ENERGY AGENCY. Дата публикации: 2012-08-23.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US09770604B2. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

High-frequency control device for accelerator and particle beam therapy system

Номер патента: US20150073199A1. Автор: Hidenobu TAKASE. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

High-frequency control device for accelerator and particle beam therapy system

Номер патента: US09456487B2. Автор: Hidenobu TAKASE. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US8941086B2. Автор: Satoru YAJIMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-01-27.

Gantry-type particle beam irradiation system and particle beam therapy system comprising same

Номер патента: US20150031934A1. Автор: Kengo Sugahara,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20140319368A1. Автор: Masanori Tachibana,Junichi Inoue,Shoubun HARA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-10-30.

Particle beam transport apparatus, rotary gantry, and particle beam irradiation treatment system

Номер патента: US20190255357A1. Автор: Shigeki Takayama,Takeshi Yoshiyuki,Yoshifumi Nagamoto,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Particle beam guiding system and method and related radiotherapy system

Номер патента: AU2019236394B2. Автор: Per Havard Kleven. Владелец: Kongsberg Beam Technology AS. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for manufacturing particle beam therapy system and particle beam therapy system

Номер патента: US20240355497A1. Автор: Yutaka Hirata,Atsushi Miyamoto,Hiromichi RYUTO. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Particle beam guiding system and related radiotherapy system

Номер патента: SE1830083A1. Автор: Per Havard Kleven. Владелец: Ph Kleven As. Дата публикации: 2019-09-13.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9907981B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Particle beam scanning irradiation system

Номер патента: US20150038766A1. Автор: Masahiro Ikeda,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-02-05.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20130289333A1. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Kengo Sugahara,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Particle beam irradiation chamber

Номер патента: US09399147B2. Автор: Yusuke Sakamoto,Nobuyuki HARUNA,Tadashi Katayose. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Particle beam irradiation chamber

Номер патента: US20160016011A1. Автор: Yusuke Sakamoto,Nobuyuki HARUNA,Tadashi Katayose. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-01-21.

Particle beam irradiation equipment

Номер патента: US20170236631A1. Автор: Toshihiro Otani,Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-08-17.

Charged particle beam treatment apparatus and method of adjusting path length of charged particle beam

Номер патента: US20150270098A1. Автор: Shinji Iwanaga. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Rotatable targeting magnet apparatus and method of use thereof in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US09757594B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9737734B2. Автор: Susan L. Michaud,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: US20240324092A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: EP4434577A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-25.

Particle beam rotational irradiation apparatus

Номер патента: US8664620B2. Автор: Kazuo Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuyuki HARUNA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Coolant supply apparatus for rotating gantry, and particle beam treatment system

Номер патента: US20240165426A1. Автор: Yasuhiro Yuguchi,Kiyohiko Kitagawa,Shinichi Takama,Kazuhito Tomita. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09566453B2. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09937361B2. Автор: Hisashi Harada,Yusuke Sakamoto,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Laser-driven particle beam irradiation apparatus and method

Номер патента: US8222617B2. Автор: Akira Noda,Masahiro Ikegami,Takeshi Yoshiyuki,Hiroyuki Daido,Yasushi Iseki,Mamiko Nishiuchi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-07-17.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20140088336A1. Автор: Takeshi Hagino,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-03-27.

Particle beam scanning irradiation system

Номер патента: US9597530B2. Автор: Masahiro Ikeda,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Particle beam scanning irradiation system

Номер патента: US09597530B2. Автор: Masahiro Ikeda,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Charged particle beam irradiating apparatus

Номер патента: US20100072389A1. Автор: Toshiaki Ochi,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

Charged-particle beam irradiation device, charged-particle beam irradiation method, and computer readable medium

Номер патента: US20120049091A1. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20120211667A1. Автор: Hisashi Harada,Takaaki Iwata,Kengo Sugahara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-08-23.

Particle beam scanning irradiation system

Номер патента: US20150080631A1. Автор: Masahiro Ikeda,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Accessory holder for particle beam apparatus

Номер патента: US09789343B2. Автор: Sven De Roeck,Jean-Claude Amelia,Thomas Colmant. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2017-10-17.

Particle beam treatment system and beam position correcting method thereof

Номер патента: US20140235922A1. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Toshihiro Otani,Kengo Sugahara,Shuhei ODAWARA,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda,Katsuhisa Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Rapid range stacking (RRS) for particle beam therapy

Номер патента: US09597529B2. Автор: Joseph Lidestri. Владелец: Best Medical International Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Charged-particle beam therapy apparatus and method for controlling charged-particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20150265855A1. Автор: Masanori Tachibana,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20230317403A1. Автор: Masaru Nakakita,Takuya Fukuura. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Monitoring apparatus for rotating gantry, monitoring method for rotating gantry, and particle beam treatment system

Номер патента: US20240157173A1. Автор: Yasuhiro Yuguchi,Masato Misawa,Kiyohiko Kitagawa,Shinichi Takama,Kazuhito Tomita,Yoshishige Nobuoka,Michitaka ISHIWATA. Владелец: Toshiba Plant Systems and Services Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09687679B2. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Irradiation nozzle, particle beam therapy device, particle beam therapy system, and control method for particle beam therapy system

Номер патента: EP4302823A1. Автор: Taizo Honda,Chihiro Nakashima,Tomokazu Shimakura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-01-10.

Particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09889319B2. Автор: Hisashi Harada,Yusuke Sakamoto,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation facility

Номер патента: US12121754B2. Автор: Kenichi Takizawa,Hideaki Nishiuchi,Tadashi Katayose. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20100288946A1. Автор: Hisashi Harada,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2010-11-18.

Particle beam irradiation system and control method therefor, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: EP4197591A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-06-21.

Particle beam irradiation system, control method for particle beam irradiation system, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: US20230253175A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-08-10.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: EP2073612A2. Автор: Takahide Nakayama,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

Charged particle beam irradiation system

Номер патента: EP4052758A1. Автор: Takashi Yamaguchi,Masayuki Araya,Shouhei MIZUTANI,Yuya SUGAMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

Treatment planning system and particle therapy system

Номер патента: US11033755B2. Автор: Takahiro Yamada,Takuya Nomura,Shinichiro Fujitaka,Taisuke Takayanagi,Rintarou FUJIMOTO. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2021-06-15.

Treatment planning system and particle therapy system

Номер патента: US20180200534A1. Автор: Takahiro Yamada,Takuya Nomura,Shinichiro Fujitaka,Taisuke Takayanagi,Rintarou FUJIMOTO. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-07-19.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20160101298A1. Автор: Toshihiro Otani,Syuhei ODAWARA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-04-14.

Particle beam therapeutic apparatus

Номер патента: US20060231775A1. Автор: Hisashi Harada. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-10-19.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09776019B2. Автор: Kazuyoshi Saito,Takuya Nomura,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-10-03.

Particle accelerator and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US12101869B2. Автор: Toshiyuki Shirai,Kota Mizushima. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-24.

Circular accelerator and particle beam treatment system

Номер патента: US20240198138A1. Автор: Kenji Miyata,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Circular accelerator and particle beam treatment system

Номер патента: EP4383955A1. Автор: Kenji Miyata,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-06-12.

Charged particle beam radiation system, synchrotron, and beam ejection method therefor

Номер патента: US09763316B2. Автор: Takuya Nomura,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi,Satoshi Totake,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

Particle beam treatment apparatus

Номер патента: US09610462B2. Автор: Hiroshi Ishiyama,Kentaro Matsui,Yuuji Takiguchi,Teppei Ukegawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Device for remotely cross-firing particle beams

Номер патента: US09555266B2. Автор: Yoshio Hishikawa. Владелец: MEDIPOLIS MEDICAL RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2017-01-31.

Particle beam accelerator, particle beam blocking method for particle beam accelerator, and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20230247753A1. Автор: Shinya Matsuda,Shigeki Takayama,Takayuki Sako,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Particle beam accelerator, method for operating particle beam accelerator, and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20230262869A1. Автор: Shinya Matsuda,Shigeki Takayama,Takayuki Sako,Tomofumi Orikasa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Particle beam therapy apparatus

Номер патента: US09839794B2. Автор: Masayuki Kato. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Particle beam treatment system

Номер патента: US20160346567A1. Автор: Tomoaki Hirane,Haruki ARITA,Naofumi ISHIGURO,Isao FURUSE. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-12-01.

Beam monitor system and particle beam irradiation system

Номер патента: US9044605B2. Автор: Masahiro Tadokoro,Kunio Moriyama,Yoshihito Hori,Tomohisa Iwamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-06-02.

Charged particle beam therapy and magnetic resonance imaging

Номер патента: RU2681075C2. Автор: Йоханнес Адрианус ОВЕРВЕГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-01.

Beam monitor system and particle beam irradiation system

Номер патента: US20150151140A1. Автор: Masahiro Tadokoro,Kunio Moriyama,Yoshihito Hori,Takayoshi MATSUSHITA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-06-04.

Beam monitor system and particle beam irradiation system

Номер патента: US20150041673A1. Автор: Masahiro Tadokoro,Kunio Moriyama,Yoshihito Hori,Tomohisa Iwamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-02-12.

Particle beam transport apparatus

Номер патента: US09818573B2. Автор: Willem Kleeven,Michel Abs,Szymon Zaremba. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2017-11-14.

Relativistic energy compensating cancer therapy apparatus and method of use thereof

Номер патента: US11000705B2. Автор: W. Davis Lee,Maureen Petterson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-11.

Proton therapy tuning apparatus and method of use thereof

Номер патента: US11918830B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Ran Tu,Artur Teymurazyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-05.

Proton therapy tuning apparatus and method of use thereof

Номер патента: US20240066325A1. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Ran Tu,Artur Teymurazyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-29.

CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND OPERATING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM

Номер патента: US20140203186A1. Автор: NISHIUCHI Hideaki,MORIYAMA Kunio,NIHONGI Hideaki,Iwamoto Tomohisa. Владелец: Hitachi, Ltd.. Дата публикации: 2014-07-24.

Particle beam treatment system and method for renewing facilities of particle beam treatment system

Номер патента: US20190269941A1. Автор: Hidehiro Aono. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2019-09-05.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Particle beam irradiation apparatus for irradiating a subject with an arbitrary number of particles

Номер патента: US09847210B2. Автор: Hiroshi Inoue,Kazuo Yamamoto,Yusuke Sakamoto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Particle beam therapy system and magnetic resonance imaging apparatus

Номер патента: EP4035732A1. Автор: Manabu Aoki,Yusuke Fujii,Masumi Umezawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-08-03.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US09596746B2. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-14.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US20160150630A1. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-05-26.

Particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20180289981A1. Автор: Kiyohiko Kitagawa,Yoshifumi Nagamoto,Kazutaka MAETA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Particle beam therapy system and magnetic resonance imaging apparatus

Номер патента: US20220355129A1. Автор: Manabu Aoki,Yusuke Fujii,Masumi Umezawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-11-10.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: US20240172354A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Multi-layer range measurement for characterizing charged particle beams

Номер патента: US09981146B2. Автор: Raymond P. Boisseau,John S. Gordon,Andrew Dart,Julia C. Nett. Владелец: PYRAMID TECHNICAL CONSULTANTS Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Particle beam gun control systems and methods

Номер патента: US20230040534A1. Автор: Mark Everett Trail,James Edward Clayton. Владелец: Varian Medical Systems Inc. Дата публикации: 2023-02-09.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: CA3225929A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: AU2022309543A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: EP4371608A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Multifunction hyperthermo-therapeutical apparatus

Номер патента: US20030130601A1. Автор: Myeong-su Kim. Владелец: Dwzone Medical Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-10.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multiple charged particle beam inspection apparatus and multiple charged particle beam inspection method

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Multiple charged particle beam writing apparatus and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US20220107569A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20240242932A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam lithography method

Номер патента: US09947509B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09934935B2. Автор: Yasuo Kato,Hideo Inoue,Hayato Kimura,Ryoichi Yoshikawa,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11774860B2. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20200278612A1. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Charged particle beam device and capturing condition adjusting method in charged particle beam device

Номер патента: US10770266B2. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-08.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged particle beam system, corrector for aberration correction of a charged particle beam, and method thereof

Номер патента: US20240170249A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-05-23.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20180307144A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Charged particle beam device, computer, and signal processing method for charged particle beam device

Номер патента: US11898974B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US9659745B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20150279617A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130157198A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-06-20.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140225008A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-08-14.

CHARGED-PARTICLE BEAM DRAWING METHOD, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIA, AND CHARGED-PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS

Номер патента: US20130177855A1. Автор: NAKADA Sumito,IIZUKA Osamu,YAMAMURA Hikaru. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-07-11.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US20150303019A1. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2015-10-22.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US09514908B2. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2016-12-06.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US20060017002A1. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2006-01-26.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US7612346B2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2009-11-03.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US20220102113A1. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US11574797B2. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09852876B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US09601315B2. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09715993B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1801838A1. Автор: FANG Zhou. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2007-06-27.

Charged particle beam generating apparatus, charged particle beam apparatus, high voltage generating apparatus, and high potential apparatus

Номер патента: US09548182B2. Автор: Takashi Onishi,Shunichi Watanabe,Minoru Kaneda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US09953800B2. Автор: Hideo Inoue,Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Yoshiaki Onimaru. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Rotation angle measuring method of multi-charged particle beam image, rotation angle adjustment method of multi-charged particle beam image, and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09466461B2. Автор: Osamu Iizuka,Kenji Ohtoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Shigeru Kawamata,Hirofumi Sato,Yuki Numata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140166869A1. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US09583310B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20170229280A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Multi-charged-particle-beam writing apparatus and multi-charged-particle-beam writing method

Номер патента: US11901156B2. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20160155610A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Multi-charged particle beam image acquisition apparatus and multi-charged particle beam image acquisition method

Номер патента: US20210005422A1. Автор: Kazuhiro Nakashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160155608A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160181062A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-23.

Charged particle beam column, charged particle beam chromatic aberration corrector, and method of correcting charged particle beam chromatic aberration

Номер патента: US20240222063A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fuer Halbleiterpueftechnik Mbh. Дата публикации: 2024-07-04.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US20160111252A1. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Method and apparatus for automatically correcting charged-particle beam and method of controlling aberration corrector for charged-particle beam

Номер патента: US7355175B2. Автор: Kazuhiro Honda,Joachim Zach,Shinobu Uno,Natsuko Nakamura. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-04-08.

Charged particle beam drawing apparatus, format check apparatus and format check method

Номер патента: US9715994B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle beam drawing apparatus, format check apparatus and format check method

Номер патента: US20140319384A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-30.

Charged particle acceleration apparatus and method

Номер патента: WO2007133225A3. Автор: Jonathan Gorrell,Mark Davidson,Michael E Maines,Paul K Hart. Владелец: Virgin Islands Microsystems. Дата публикации: 2009-04-16.

Focusing apparatus for uniform application of charged particle beam

Номер патента: US4276477A. Автор: Harald A. Enge. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20060098550A1. Автор: Yukio Kaneko,Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama,Takeshi Umega. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-11.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shape object

Номер патента: US20060138352A1. Автор: Kazushi Tanaka. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-06-29.

Apparatus and method

Номер патента: EP3033613A1. Автор: Saulius Juodkazis,Gediminas GERVINSKAS,Gediminas SENIUTINAS. Владелец: Swinburne University of Technology. Дата публикации: 2016-06-22.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Converter of orbital momentum into spin momentum for the polarization of particle beams

Номер патента: US8552398B2. Автор: Lorenzo Marrucci,Vincenzo Grillo,Ebrahim Karimi,Enrico Santamato. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2013-10-08.

Neutral particle beam injector based on negative ions

Номер патента: RU2619923C2. Автор: Александр Александрович Иванов,Владимир Иванович Давыденко,Юрий Иванович Бельченко,Александр Владимирович Бурдаков,Геннадий Иванович Димов,Валерий Васильевич Кобец,Артем Николаевич СМИРНОВ,Михль В. БИНДЕРБАУЭР,Дональд Л. СЕВИЕР,Теренс Э. РИЧАРДСОН. Владелец: Трай Альфа Энерджи, Инк.. Дата публикации: 2017-05-22.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A3. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M Bemis,Ronak J Bhatt. Владелец: Ronak J Bhatt. Дата публикации: 2008-08-21.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M. Bemis,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-05-22.

Neutral particle beam lithography

Номер патента: WO2004075269A1. Автор: Hag-Joo Lee. Владелец: Sem Technology Co., Ltd. Дата публикации: 2004-09-02.

Electron-beam irradiation apparatus and maintenance method for electron-beam irradiation apparatus

Номер патента: US12033828B2. Автор: Masahiro Nagai,Toshio Kimura. Владелец: NHV Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample

Номер патента: US09673020B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09530611B2. Автор: Alexander Groholski,Raymond Hill,John A. Notte, IV,Mark D. DiManna,Robert Conners. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Photon neutraliser for neutral particle beam injectors

Номер патента: RU2696268C2. Автор: Александр Александрович Иванов,Сергей Сергеевич Попов,Александр Владимирович Бурдаков. Владелец: Таэ Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2019-08-01.

Device for varying the energy of a particle beam extracted from an accelerator

Номер патента: AU1850700A. Автор: Yves Jongen,Vincent Poreye. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2000-07-12.

Atmospheric electron particle beam generator

Номер патента: US09443634B2. Автор: Thomas Edward Fairbairn. Владелец: FRIPRO ENERGY LLC. Дата публикации: 2016-09-13.

Atmospheric electron particle beam generator

Номер патента: US9443634B2. Автор: Thomas Edward Fairbairn. Владелец: FRIPRO ENERGY LLC. Дата публикации: 2016-09-13.

Atmospheric electron particle beam generator

Номер патента: US20100043729A1. Автор: Thomas Edward Fairbairn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-02-25.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US20110062351A1. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Method for operating a particle beam generator for a particle beam device and particle beam device comprising a particle beam generator

Номер патента: US20190355551A1. Автор: Giuseppe Pavia. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-11-21.

Drawing apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8729509B2. Автор: Takahiro Matsumoto,Wataru Yamaguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-20.

Converter of orbital momentum into spin momentum for the polarization of particle beams

Номер патента: EP2605266A3. Автор: Lorenzo Marrucci,Vincenzo Grillo,Ebrahim Karimi,Enrico Santamato. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2015-12-30.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A2. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered System, Llc. Дата публикации: 2010-09-16.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A8. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered Systems, Llc. Дата публикации: 2010-11-04.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US20230386696A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US20240006149A1. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US11961709B2. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-16.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US11961627B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: EP1751784A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A3. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2006-03-23.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Limited. Дата публикации: 2005-12-15.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240055220A1. Автор: Yuka II. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180247788A1. Автор: Yukitaka Shimizu,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Method of determining a brightness of a charged particle beam, method of determining a size of a source of the charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240126057A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-04-18.

Multi charged particle beam blanking apparatus and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: KR101943201B1. Автор: 히로시 마츠모토,히로후미 모리타,다카나오 도우야,무네히로 오가사와라. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-01-28.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Semiconductor device, multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam irradiating device

Номер патента: KR20220118927A. Автор: 히로시 마츠모토,히로후미 모리타,요시쿠니 고시마,케이 오바라,카주유키 히가시,미요코 시마다,요시아키 시모오카,히토미 야마구치. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2022-08-26.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Composite Charged Particle Beam Detector, Charged Particle Beam Device, and Charged Particle Beam Detector

Номер патента: US20170358421A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Charged particle beam device and image generation method

Номер патента: EP4148766A1. Автор: Kazuki Yagi,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI,Bryan W Reed. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

Номер патента: US12001521B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

On-axis illumination and alignment for charge control during charged particle beam inspection

Номер патента: US20180364564A1. Автор: Stefan Lanio,Alex Goldenshtein. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-12-20.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: WO2022266269A9. Автор: Christopher Su-Yan OWN. Владелец: Own Christopher Su Yan. Дата публикации: 2023-02-23.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20090008568A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210134555A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US11929231B2. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11901155B2. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-13.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220037111A1. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-02-03.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240194439A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220165537A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Motonobu HOMMI,Kei Sakai,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Semiconductor device, multi-charged-particle beam writing apparatus, and multi-charged-particle beam exposure apparatus

Номер патента: US11721520B2. Автор: HIROFUMI Morita,Kazuyuki Higashi,Hiroshi Matsumoto,Yoshiaki Shimooka,Hitomi Yamaguchi,Miyoko Shimada,Yoshikuni GOSHIMA,Kei Obara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130252172A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20200135428A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-30.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM PATTERN WRITING METHOD

Номер патента: US20180307144A1. Автор: KATO Yasuo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-10-25.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20160349626A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-12-01.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION METHOD

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Ogawa Riki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-11-28.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: KR102081734B1. Автор: 히로후미 모리타,오사무 이즈카,츠바사 나나오. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-02-26.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102303435B1. Автор: 히로시 마츠모토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-09-23.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam adjusting method

Номер патента: KR102153655B1. Автор: 히로후미 모리타. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-09-08.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102026648B1. Автор: 오사무 이이즈카,유키타카 시미즈. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-10-04.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: TW201830151A. Автор: 飯修,清水幸毅. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-08-16.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: KR102057929B1. Автор: 오사무 이이즈카,유키타카 시미즈. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-12-20.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP7189729B2. Автор: 裕史 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-12-14.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: TW202022503A. Автор: 松本裕史. Владелец: 日商紐富來科技股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-16.

Method for measuring amount of current for multi beam, multi charged-particle writing control apparatus and multi charged-particle beam writing apparatus

Номер патента: KR101835197B1. Автор: 히데유키 이와타. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2018-03-06.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10937629B2. Автор: Yasuo Kato,Hironori Teguri,Jun Yashima,Masafumi Ise. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-03-02.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9076564B2. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-07-07.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP6577787B2. Автор: 靖雄 加藤,良一 吉川,英郎 井上,加藤　靖雄,純 八島,隼人 木村. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-09-18.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: JP7210991B2. Автор: 靖雄 加藤,弘典 手操,純 八島,誠史 伊勢. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-01-24.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20230187172A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160161849A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10504696B2. Автор: Osamu Iizuka,Yukitaka Shimizu. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-12-10.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Sasaki Yuko,Nakano Tomohito,Mochizuki Yuzuru,Yokosuka Toshiyuki,YAMAZAKI Minoru. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

Charged particle beam device and method for correcting misalignment of charged particle beam

Номер патента: JP6951922B2. Автор: 憲昭 中山田. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-10-20.

Multi-charged particle beam exposure method and blanking apparatus for multi-charged particle beam

Номер патента: KR101968609B1. Автор: 히로시 마츠모토. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2019-04-12.

Charged particle beam device, computer, and signal processing method for charged particle beam device

Номер патента: JP2022094375A. Автор: Hiroshi Oinuma,Masaji Wada,Uen Ri,ウェン 李,寛 生沼,正司 和田. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-27.

Mask blank for charged particle beam exposure and method for manufacturing mask for charged particle beam exposure

Номер патента: JP4220229B2. Автор: 健一 森本. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-02-04.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220100099A1. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

WRITING DATA GENERATING METHOD, MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, PATTERN INSPECTING APPARATUS, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20200278612A1. Автор: NAKAYAMADA Noriaki,YASUI Kenichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Data processing method, data processing apparatus, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: KR102239968B1. Автор: 게이 하세가와,요시아키 오니마루,하야토 기무라. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2021-04-14.

Irradiation apparatus, apparatus and method for manufacturing semiconductor device and manufacturing method of display device

Номер патента: TW200908103A. Автор: Koichi Tsukihara. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-02-16.

Neutral particle beam based injector based on negative ions

Номер патента: RU2741793C2. Автор: Александр Александрович Иванов,Владимир Иванович Давыденко,Юрий Иванович Бельченко,Александр Владимирович Бурдаков,Геннадий Иванович Димов,Валерий Васильевич Кобец,Артем Николаевич СМИРНОВ,Михль В. БИНДЕРБАУЭР,Дональд Л. СЕВИЕР,Теренс Э. РИЧАРДСОН. Владелец: Таэ Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2021-01-28.

Accelerator for two particle beams for producing collision

Номер патента: RU2569324C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-11-20.

Additive manufacturing using a particle beam

Номер патента: WO2024003264A1. Автор: Ulf Ackelid. Владелец: Freemelt AB. Дата публикации: 2024-01-04.

Continuous fusion due to energy concentration through focusing of converging fuel particle beams

Номер патента: CA2832753C. Автор: Xian-Jun Zheng. Владелец: Zheng Xian Jun. Дата публикации: 2020-07-14.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US09916962B2. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Portable information terminal, beam irradiation system, and program

Номер патента: US10485087B2. Автор: Masato Suzuki,Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Takuma Aso. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Multi-beam current quantity measuring method, multi-charged particle drawing control device, and multi-charged particle beam drawing device

Номер патента: US09734984B2. Автор: Hideyuki Iwata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US20170309440A1. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

Multiple charged particle beam writing apparatus, multiple charged particle beam writing method, and computer readable recording media storing program

Номер патента: US20240242931A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11804361B2. Автор: Munehiro Ogasawara,Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Tilting parameters calculating device, sample stage, charged particle beam device, and program

Номер патента: US20200066481A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Inclination angle amount calculation device, sample stand, charged particle beam device, and program

Номер патента: EP3633709A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Mask defect repair system and method which controls a dose of a particle beam

Номер патента: US6028953A. Автор: Haruki Komano,Kazuyoshi Sugihara,Hiroko Nakamura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Multi charged particle beam adjustment method, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US11804360B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam irradiation apparatus and control method

Номер патента: US20210090855A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Xin Man,Takuma Aso. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Charged particle beam irradiation method, method of manufacturing semiconductor device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050121610A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Charged particle beam apparatus and sample manufacturing method

Номер патента: US20060097166A1. Автор: Koichiro Takeuchi,Mitsugu Sato,Tohru Ishitani,Tsuyoshi Ohnishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-05-11.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Control method of writing apparatus and writing apparatus

Номер патента: US20240297010A1. Автор: Takahito Nakayama,Satoshi Nakahashi,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Analyzing an object using a particle beam apparatus

Номер патента: US09535020B2. Автор: Wolfgang Berger,Richard Schillinger. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam adjustment method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20220068591A1. Автор: Takahito Nakayama,Ryoichi Kakehi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09659746B2. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11239046B2. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210090851A1. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US8237139B2. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-08-07.

Data generation method and charged particle beam irradiation device

Номер патента: US11749499B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20130199719A1. Автор: Tomoyuki Morita,Go Tsuchiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20100290023A1. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Multi-charged-particle-beam writing method, multi-charged-particle-beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US12046447B2. Автор: Taku Yamada,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting same

Номер патента: US11740546B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: US09449789B2. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam apparatus and method of controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11756764B2. Автор: Kuniyasu Nakamura,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230343548A1. Автор: Takuma Yamamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Cross-talk cancellation in multiple charged-particle beam inspection

Номер патента: US12080513B2. Автор: Wei Fang,BO Wang,Yongxin Wang,Lingling Pu,Zhonghua Dong. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

System for imaging a secondary charged particle beam with adaptive secondary charged particle optics

Номер патента: US09953805B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam apparatus and inspection method using the same

Номер патента: US09659744B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Shoji Hotta. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle optics, charged particle beam apparatus, and method for scanning a charged particle beam

Номер патента: US20240290571A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US09478392B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Apparatus and methods for patterning a reticle blank by electron-beam inscription with reduced exposure of the reticle blank by backscattered electrons

Номер патента: US20020012853A1. Автор: Atsushi Yamada,Hajime Yamamoto,Shohei Suzuki,Sumito Shimizu,Wakako Suganuma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-01-31.

Electron beam irradiation apparatus and method

Номер патента: WO2001002082A1. Автор: Yoshihiko Naitoh. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2001-01-11.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiating method

Номер патента: US20030178581A1. Автор: Hiroshi Kawase,Setsuo Norioka,Masanobu Yamamoto,Yoshihisa Miura,Naoki Date,Yuichi Aki,Mitsuru Koizumi,Gakuo Komatsubara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2003-09-25.

Electron beam irradiation apparatus and method

Номер патента: EP1339084A3. Автор: Setsuo Norioka,Naoki Date,Masanobu C/O Sony Corporation Yamamoto,Yoshihisa c/o Sony Corporation Miura,Yuichi c/o Sony Corporation Aki,Hiroshi c/o Sony Corporation Kawase,Mitsuru Koikumi,Gakuo Komatsubara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-05-05.

Charged particle beam writing apparatus, and apparatus and method for correcting dimension error of pattern

Номер патента: US20090200488A1. Автор: Takayuki Abe,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Charged Particle Beam Apparatus and Sample Observation Method

Номер патента: US20190279838A1. Автор: Kunji Shigeto,Mitsugu Yamashita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Crystal orientation figure creating device, charged particle beam device, crystal orientation figure creating method, and program

Номер патента: US20200066480A1. Автор: Naoki Maruyama,Takafumi Amino,Takashige Mori. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Particle beam inspection apparatus

Номер патента: US20240258138A1. Автор: Jeroen Gerard Gosen,Edwin Cornelis KADIJK,Te-Yu Chen,Erheng WANG,Christianus VAN HEUMEN Martijn Petrus,Caspar VAN BANNING Dennis Herman,Henricus Maria JACOBS Johannes Andreas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for positioning objects in a particle beam microscope with the aid of a flexible particle beam barrier

Номер патента: US20220375714A1. Автор: Josef Biberger,Michal Postolski,Miriam Tabea Kaefer,Holger Ehm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2022-11-24.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

MULTIPLE-CHARGED PARTICLE-BEAM IRRADIATION APPARATUS AND MULTIPLE-CHARGED PARTICLE-BEAM IRRADIATION METHOD

Номер патента: US20220102113A1. Автор: OKAZAWA Mitsuhiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-03-31.

Spin detector arrangement for measuring the vector component of a spin vector predominating in a particle beam

Номер патента: US09453893B2. Автор: Oliver Schaff. Владелец: SPECS SURFACE NANO ANALYSIS GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Drawing apparatus and deflector

Номер патента: US12009174B2. Автор: Kazuhiro Kishi,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam exposure apparatus, and defect detection method

Номер патента: US6784426B2. Автор: Takayuki Sugiura,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-31.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Creating an electric field when processing a lithography object using a particle beam

Номер патента: WO2024180028A3. Автор: Daniel Schwarz,Michael Budach,Joerg Petschulat. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: US12123841B2. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Data generation method and charged particle beam irradiation device

Номер патента: US20220093360A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09991086B2. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS

Номер патента: US20210319974A1. Автор: Inoue Kazuhiko,Ogasawara Munehiro,Shiratsuchi Masataka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US20160284510A1. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20160103945A1. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US20140237196A1. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-21.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Particle beam microscope

Номер патента: US20240302542A1. Автор: Dirk Preikszas,Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US09564293B2. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US09558315B2. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Charged particle beam writing apparatus and method therefor

Номер патента: US09552963B2. Автор: Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Crystal analysis apparatus, composite charged particle beam device, and crystal analysis method

Номер патента: US09470642B2. Автор: Toshiaki Fujii,Xin Man. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle-beam device and specimen observation method

Номер патента: US09466460B2. Автор: Taku Sakazume,Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Method of determining an energy spectrum or energy width of a charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240371600A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Method for alignment of a light beam to a charged particle beam

Номер патента: US20190013178A1. Автор: Steven Randolph,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman,Milos Toth,Dolf Timmerman,Cameron James Zachreson. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-01-10.

Method for fracturing a pattern for writing with a shaped charged particle beam writing system using dragged shots

Номер патента: WO2011049735A2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2011-04-28.

Method of operating a particle beam system and computer program product

Номер патента: US20240258065A1. Автор: Ralf Wolleschensky,Yauheni Novikau,Kai Wicker,Dirk Preikszas,Bjoern Gamm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US20170207064A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US09881770B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09805907B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US09779913B2. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Diaphragm mounting member and charged particle beam device

Номер патента: US09633817B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Method for detecting signal charged particles in a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US09589763B1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-07.

Charged Particle Beam Device, Charged Particle Beam System, and Adjustment Method

Номер патента: US20230386781A1. Автор: Ayumi Doi,Shuichiro Takahashi,Aoi YAMAUCHI,Zhao JINYU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A2. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-02-11.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242919A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A3. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-04-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272768A1. Автор: Masaaki Komatsu,Shin Imamura,Shuhei Yabu,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US20240297012A1. Автор: Makoto Suzuki,Hiroki Kawada,Atsuko SHINTANI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for particle beam-induced processing of a defect of a microlithographic photomask

Номер патента: US20230081844A1. Автор: Michael Budach,Thorsten Hofmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-16.

Method for calibrating deflectors of a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: WO2023232257A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Robert TRAUNER,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-07.

Composite Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20150221468A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Particle beam current monitoring technique

Номер патента: EP1101123A1. Автор: Nobuhiro Tokoro,Steven L. F. Richards. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2001-05-23.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Laser beam irradiation apparatus and manufacturing method of organic light emitting display apparatus using the same

Номер патента: US09515294B2. Автор: Gyoo-wan Han,Ku-Hyun Kang,Jin-Hong Jeun,Hae-Sook LEE,Kyoung-Seok CHO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Alignment and registration targets for multiple-column charged particle beam lithography and inspection

Номер патента: US09478395B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Imaging, processing, and/or analyzing an object using a particle beam device

Номер патента: US20240038481A1. Автор: Josef Biberger. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Multiple particle beam microscope and associated method with an improved focus setting taking into account an image plane tilt

Номер патента: US20220246388A1. Автор: Michael Behnke,Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Nicole Rauwolf,Christof Riedesel,Arne Thoma,Gunther Scheunert,Nico Kaemmer. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2022-08-04.

Particle beam current monitoring technique

Номер патента: WO2000007030A1. Автор: Nobuhiro Tokoro,Steven L. F. Richards. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2000-02-10.

Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced coulomb effects

Номер патента: US20020187411A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Sumito Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-12.

Method for treating a material with a particle beam and material thus treated

Номер патента: EP1649481A1. Автор: Imtiaz Rangwalla,Harvey Clough,George Hannafin. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2006-04-26.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Particle beam mass spectrometer and particle measurement method by means of same

Номер патента: US20180286655A1. Автор: Sang Jung Ahn,Cheolsu Han,Chang Joon Park,Keu Chan Lee,Seok Rae Yoon. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2018-10-04.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7449692B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-11.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof

Номер патента: US09702695B2. Автор: Osamu Inoue,Takashi Takahama,Naoshi Itabashi,Miyako Matsui,Takahiro Kawasaki,Hiroki Kawada,Osamu Komuro,Katsumi Setoguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US9190245B2. Автор: Takayuki Ohnishi,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing failure of blanking circuit

Номер патента: US10460902B2. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230377837A1. Автор: Yuko Sasaki,Yasuhiro Shirasaki,Yohei Nakamura,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Shota MITSUGI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US11846736B2. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220244412A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged Particle Beam Device and Image Generation Method

Номер патента: US20230072991A1. Автор: Kazuki Yagi,Bryan W. Reed,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Method of deconvoluting and restoring image observed in charged particle beam apparatus, image processing apparatus, and charged particle beam apparatus equipped with image processing apparatus

Номер патента: US20230109872A1. Автор: Ogawa Takashi,In Yong Park,Jun Hyeok HWANG. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20240055218A1. Автор: Yoshikuni GOSHIMA,John William Kay,Chising Lai,Yasuo Sengoku. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged beam apparatus

Номер патента: US20180182596A1. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Pattern writing apparatus using charged particle beam, and program-recorded readable recording medium

Номер патента: US20080067431A1. Автор: Tomoyuki Horiuchi,Takeshi Kurohori. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7652249B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190228947A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20100102224A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-04-29.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: US20220381654A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-01.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: EP4095940A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-11-30.

Method and apparatus for particle beam-induced processing of a defect of a microlithographic photomask

Номер патента: WO2022263534A1. Автор: Michael Brendel,Michael Budach,Christian Rensing,Martin Guenter Reuss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-22.

Dry separation method using high-speed particle beam

Номер патента: US09865475B2. Автор: In Ho Kim,Jin Won Lee. Владелец: Npics Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US09859100B2. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged-particle-beam analysis device and analysis method

Номер патента: US09752997B2. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Method and apparatus for processing a substrate with a focused particle beam

Номер патента: US09721754B2. Автор: Petra Spies,Thorsten Hofmann,Tristan Bret. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Method and system for reducing curtaining in charged particle beam sample preparation

Номер патента: US09488554B2. Автор: Michael Schmidt,Sang Hoon Lee,Stacey Stone,Jeffrey Blackwood,Hyun Hwa Kim. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-08.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Particle beam forming device

Номер патента: US9574984B2. Автор: Naoki Takeda,Masaya Tabaru,Kazuhiro Koizumi,Noritomo Hirayama,Nobuyuki Takegawa,Takuma Miyakawa. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Particle beam device and method for operating a particle beam device

Номер патента: EP2706553A2. Автор: Michael Albiez. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-03-12.

Charged-particle beam lithography apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090057571A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Multi charged particle beam writing apparatus and method for correcting a current distribution of groups of charged particle beams

Номер патента: US9543119B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US20200066484A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US10522325B2. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9455119B2. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150270096A1. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Methods and systems for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: US20200051781A1. Автор: Akira Fujimura,Michael J. Meyer,Thang Nguyen,Ajay Baranwal,Suhas Pillai. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US20210202206A1. Автор: Hidekazu Takekoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130105690A1. Автор: Satoshi Takada,Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Light guide, detector having light guide, and charged particle beam device

Номер патента: US10593512B2. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-17.

Device and method for measuring an energy particle beam

Номер патента: US09431222B2. Автор: Damien Prieels. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2016-08-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method of determining an energy width of a charged particle beam

Номер патента: US11948771B2. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-02.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230352268A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: EP3332417A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-13.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: WO2018068506A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11810753B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-07.

Multiple charged particle beam writing method and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230420217A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061651A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Method for operating a particle beam device and / or a light microscope, computer program product as well as particle beam device and light microscope for carrying out the method

Номер патента: US20210271063A1. Автор: Gero Walter,Andreas Schmaunz,Stephan Hiller. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2021-09-02.

Particle beam apparatus, defect repair method, lithographic exposure process and lithographic system

Номер патента: US11996267B2. Автор: Alexey Olegovich POLYAKOV,Teis Johan COENEN,Ruben Cornelis Maas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-28.

System and method for estimating change of status of particle beams

Номер патента: US20120112086A1. Автор: Chi-Hsiang Fan,Kuen-Yu Tsai,Sheng-Yung Chen,Jia-Yush YEN,Yung-Yaw Chen. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2012-05-10.

Multiple beam inspection apparatus and sensitivity correction method for multi-detector

Номер патента: US20190214221A1. Автор: Koichi Ishii,Atsushi Ando. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-07-11.

Digital printing apparatus and process using liquid toner

Номер патента: EP3449318A1. Автор: Lode Erik Dries Deprez,Werner Jozef Johan Op de Beeck,Wouter Jeroom Maria VAN GAENS. Владелец: Xeikon Manufacturing NV. Дата публикации: 2019-03-06.

Digital Printing Apparatus and Process Using Liquid Toner

Номер патента: US20190146377A1. Автор: Lode Erik Dries Deprez,Werner Jozef Johan Op de Beeck,Wouter Jeroom Maria VAN GAENS. Владелец: Xeikon Manufacturing NV. Дата публикации: 2019-05-16.

Optical disk apparatus and data reproducing method

Номер патента: US20050141380A1. Автор: Hisataka Sugiyama,Hiroyuki Hori,Masanori Matsuzaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2005-06-30.

Optical Disk Apparatus and Data Reproducing Method

Номер патента: US20080112290A1. Автор: Hisataka Sugiyama,Hiroyuki Hori,Masanori Matsuzaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2008-05-15.

IC analysis system having charged particle beam apparatus for improved contrast image

Номер патента: US5640539A. Автор: Akira Goishi,Masayuki Kurihara,Koshi Ueda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Method For Fracturing And Forming A Pattern Using Shaped Beam Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160103390A1. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Crystal analysis apparatus, composite charged particle beam device, and crystal analysis method

Номер патента: US20150226684A1. Автор: Toshiaki Fujii,Xin Man. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11928801B2. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791131B2. Автор: Shuntaro Ito,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US11961701B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220261973A1. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Particle beam generating system and method with measurement of the beam spot of the particle beam

Номер патента: US20090314969A1. Автор: Eike Rietzel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2009-12-24.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and a non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US11961708B2. Автор: Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Method for calibrating verticality of particle beam and system applied to semiconductor fabrication process

Номер патента: EP3915130A1. Автор: Guangdian Chen,Jinxing Chen,Zhengyi CAI. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-01.

Method for calibrating verticality of particle beam and system applied to semiconductor fabrication process

Номер патента: US20210132174A1. Автор: Guangdian Chen,Jin Xing Chen,Zheng Yi Cai. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Crystal analysis apparatus, composite charged particle beam device, and crystal analysis method

Номер патента: US20140077097A1. Автор: Toshiaki Fujii,Xin Man. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US20220189729A1. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Method and system for logic design for cell projection particle beam lithography

Номер патента: EP2095279A1. Автор: Kenji Yoshida,Akira Fujimura,Takashi Mitsuhashi. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2009-09-02.

Method and system for logic design for cell projection particle beam lithography

Номер патента: WO2008094343A1. Автор: Kenji Yoshida,Akira Fujimura,Takashi Mitsuhashi. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2008-08-07.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US20170278673A1. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US9934940B2. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US20160064182A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9812289B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9514915B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160365223A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160233052A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-11.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Takashi Nakamura,Hideki Matsui,Yoshiaki Hattori,Munehiro Ogasawara,Takuya Uemura,Rieko Nishimura,Tatsuya Murofushi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

A charged particle beam drawing device, a drawing method using a charged particle beam, and a firing correction method in charged particle beam drawing

Номер патента: TWI592973B. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-21.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged particle beam system and method of operating thereof

Номер патента: US9305740B2. Автор: Jürgen Frosien,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-04-05.

Charged particle beam column and method for directing a charged particle beam

Номер патента: WO2003100815A2. Автор: Juergen Frosien,Igor Petrov,Zvika Rosenberg,Pavel Adamec,Ralf Degenhardt,Igor KRYVITZ. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2003-12-04.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Method and system for stable dynamics and constant beam delivery for acceleration of charged particle beams in a non-scaling fixed field alternating gradient magnetic field accelerator

Номер патента: EP2701468A3. Автор: Carol Johnstone. Владелец: PARTICLE ACCELERATOR CORP. Дата публикации: 2014-10-29.

Composite charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210151283A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US5324950A. Автор: Tadashi Otaka,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-06-28.

Method of operating a particle beam system, particle beam system and computer program product

Номер патента: US11087957B2. Автор: Daniel Fischer,Josef Biberger,Pedro Besteiro. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2021-08-10.

Setting position of a particle beam device component

Номер патента: US11837434B2. Автор: Gero Walter,Andreas Schmaunz,Bernd Stenke. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2023-12-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Method and apparatus for surface processing of a substrate using an energetic particle beam

Номер патента: US20160071708A1. Автор: Robert Krause,Piero Sferlazzo,Ira Reiss,Alan V. Hayes,Viktor Kanarov,Boris L. Druz,Roger P. Fremgen. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Member for charged particle beam device, charged particle beam device and diaphragm member

Номер патента: US20150206705A1. Автор: Noriyuki Sakuma,Yusuke Ominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Stage apparatus, and charged particle beam apparatus using same

Номер патента: US20150053857A1. Автор: Akira Nishioka,Hiroshi Tsuji,Shuichi Nakagawa,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-02-26.

Method for Controlling Position of Sample in Charged Particle Beam Device, Program, Storage Medium, Control Device, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230178330A1. Автор: Kazuki ISHIZAWA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

A method for determining aberrations in images acquired by a charged particle beam apparatus, a method for determining a setting of a charged particle beam apparatus, and a charged particle beam apparatus

Номер патента: KR20220065050A. Автор: 마이켈 로버트 구센,이펭 샤오.. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2022-05-19.

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM INFLUENCING DEVICE, AND METHOD OF OPERATING A CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

Номер патента: US20190019649A1. Автор: Winkler Dieter,Eytan Guy,Nir Zvi. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, AND SHOT CORRECTION METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160111252A1. Автор: MOTOSUGI Tomoo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-04-21.

ROTATION ANGLE MEASURING METHOD OF MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IMAGE, ROTATION ANGLE ADJUSTMENT METHOD OF MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IMAGE, AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20160211111A1. Автор: IIZUKA Osamu,OHTOSHI Kenji. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-07-21.

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, INTERCHANGEABLE MULTI-APERTURE ARRANGEMENT FOR A CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, AND METHOD FOR OPERATING A CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

Номер патента: US20200203116A1. Автор: Winkler Dieter,JASINSKI Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Charged particle beam device, interchangeable multi-aperture arrangement for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: KR102375188B1. Автор: 디터 윙클러,토마스 야신스키. Владелец: 아이씨티 인티그레이티드 써킷 테스팅 게젤샤프트 퓌어 할프라이터프뤼프테크닉 엠베하. Дата публикации: 2022-03-16.

Charged particle beam device, interchangeable multi-aperture arrangement for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US10978270B2. Автор: Dieter Winkler,Thomas Jasinski. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2021-04-13.

Charged particle beam device, charged particle beam influencing device, and method of operating a charged particle beam device

Номер патента: TW201919087A. Автор: 迪特 溫克勒,蓋 伊坦,茲維 尼爾. Владелец: 德商Ｉｃｔ積體電路測試股份有限公司. Дата публикации: 2019-05-16.

Charged particle beam device, charged particle beam influencing device, and method of operating a charged particle beam device

Номер патента: KR102194561B1. Автор: 디터 윙클러,가이 에이탄,즈비 니르. Владелец: 아이씨티 인티그레이티드 써킷 테스팅 게젤샤프트 퓌어 할프라이터프뤼프테크닉 엠베하. Дата публикации: 2020-12-24.

Charged particle beam device, charged particle beam steering device and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: CN109256313B. Автор: 迪特尔·温克勒,盖伊·伊坦,玆维·尼珥. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2021-07-06.

A charged particle beam exposure apparatus, and a charged particle beam exposure method, and a manufacturing method for the apparatus

Номер патента: KR100250801B1. Автор: 히로시 야스다,도모히코 아베,요시히사 오아에. Владелец: 아끼구사 나오유끼. Дата публикации: 2000-06-01.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130240750A1. Автор: Touya Takanao,Tamamushi Shuichi,Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-19.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130252145A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130253688A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180005799A1. Автор: Hasegawa Kei,KIMURA Hayato,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-01-04.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IMAGE ACQUISITION APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IMAGE ACQUISITION METHOD

Номер патента: US20210005422A1. Автор: NAKASHIMA Kazuhiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-01-07.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190035603A1. Автор: IIZUKA Osamu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-01-31.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190043693A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-02-07.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200043701A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170047194A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo,YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo,KIMURA Hayato. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-02-16.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150064934A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-03-05.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190066975A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-02-28.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140187056A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-07-03.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190103252A1. Автор: IIZUKA Osamu,KAKEHI Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-04-04.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180114673A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-04-26.

SEMICONDUCTOR DEVICE, MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20220270850A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,SHIMADA Miyoko,MORITA Hirofumi,Higashi Kazuyuki,Shimooka Yoshiaki,Obara Kei,GOSHIMA Yoshikuni,Yamaguchi Hitomi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200118791A1. Автор: YASHIMA Jun,KATO Yasuo,TEGURI Hironori,ISE Masafumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-04-16.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180138012A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-17.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180138013A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-17.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20180144905A1. Автор: IIZUKA Osamu,SHIMIZU Yukitaka. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-05-24.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150155138A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-06-04.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160155608A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-02.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM PATTERN WRITING METHOD

Номер патента: US20160155610A1. Автор: KATO Yasuo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-02.

CHARGED PARTICLE BEAM GENERATING APPARATUS, CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, HIGH VOLTAGE GENERATING APPARATUS, AND HIGH POTENTIAL APPARATUS

Номер патента: US20150179387A1. Автор: Onishi Takashi,Watanabe Shunichi,Kaneda Minoru. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-25.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160181062A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo,INOUE Hideo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-06-23.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150206709A1. Автор: NAKAYAMADA Noriaki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-07-23.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190198290A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-06-27.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150235807A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-08-20.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20170229280A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi,KATO Yasuo,INOUE Hideo,KAWANA Ryoh. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2017-08-10.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20210257185A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2021-08-19.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20140346369A1. Автор: MATSUMOTO Hironobu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-11-27.

MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200258716A1. Автор: MATSUMOTO Hiroshi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-08-13.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160284513A1. Автор: INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-09-29.

Multi Charged Particle Beam Inspection Apparatus, and Multi Charged Particle Beam Inspection Method

Номер патента: US20180286630A1. Автор: TAKEKOSHI Hidekazu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20160322196A1. Автор: Hasegawa Kei,INOUE Hideo,KIMURA Hayato,ONIMARU Yoshiaki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2016-11-03.

MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20190304749A1. Автор: YOSHIKAWA Ryoichi,INOUE Hideo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-10-03.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20200328060A1. Автор: IIZUKA Osamu. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2020-10-15.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD

Номер патента: US20180350552A1. Автор: IIZUKA Osamu,MORITA Hirofumi,NANAO Tsubasa. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-06.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20180358203A1. Автор: MORITA Hirofumi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-13.

Multi charged particle beam drawing apparatus and multi charged particle beam drawing method

Номер патента: JP2019176047A. Автор: Hideo Inoue,Ryoichi Yoshikawa,良一 吉川,英郎 井上. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Multiple charged particle beam writing apparatus, and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US10607812B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-03-31.

Multi-charged particle beam drawing apparatus and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP6545437B2. Автор: 裕信 松本. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-07-17.

Multi-charged particle beam lithography apparatus and multi-charged particle beam lithography method

Номер патента: JP2023042359A. Автор: Satoru Hirose,亮介 上羽,理恵子 西村,Rieko Nishimura,Ryosuke Ueha,暁 廣瀬,俊輔 伊佐治,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-03-27.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20150194289A1. Автор: KATO Yasuo. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-07-09.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US8907306B2. Автор: Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-09.

Charged Particle Beam System and Method of Axial Alignment of Charged Particle Beam

Номер патента: US20130320210A1. Автор: NAKAMURA Motohiro,Yamada Mitsuru. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-05.

Charged Particle Beam Device, and Method of Manufacturing Component for Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20180019096A1. Автор: Aoyagi Takuya,Ito Hiroyuki,Kato Shinichi,TANIMOTO Kenji,FUJIEDA Tadashi,Miyake Tatsuya,Murakoshi Hisaya,NAITOU Takashi,Ichimura Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20140166869A1. Автор: NAKADA Sumito,IIZUKA Osamu,YAMAMURA Hikaru,Tsurumaki Hideyuki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Numata Yuki,Kawamata Shigeru,SATO Hirofumi. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-23.

CHARGED PARTICLE BEAM SOURCE AND A METHOD FOR ASSEMBLING A CHARGED PARTICLE BEAM SOURCE

Номер патента: US20210175040A1. Автор: Eytan Guy,Avneri Israel,Uziel Yoram,Schlimoff Natan,Krivts (Krayvitz) Igor,Shavit Lavy,Asulin Itay,Yuli Ofer,Levin Jacob. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2021-06-10.

CHARGED PARTICLE BEAM SOURCE AND A METHOD FOR ASSEMBLING A CHARGED PARTICLE BEAM SOURCE

Номер патента: US20200234907A1. Автор: Eytan Guy,Avneri Israel,Uziel Yoram,Schlimoff Natan,Krivts (Krayvitz) Igor,Shavit Lavy,Asulin Itay,Yuli Ofer,Levin Jacob. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2020-07-23.

Charged particle beam device and detector position adjustment method for charged particle beam device

Номер патента: CN112106168A. Автор: 今井悠太,笹岛正弘,高鉾良浩. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-12-18.

Charged particle beam source and a method for assembling a charged particle beam source

Номер патента: US11189451B2. Автор: Yoram Uziel,Israel Avneri,Itay Asulin,Ofer Yuli,Lavy Shavit,Guy Eytan,Natan Schlimoff,Igor Krivts (Krayvitz),Jacob Levin. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1760761B1. Автор: FANG Zhou,Jürgen Frosien,Pavel Adamec,Jimmy Vishnipolsky. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-10-18.

Charged particle beam writing apparatus, write data creation method and charged particle beam writing method

Номер патента: US8301291B2. Автор: Takashi Kamikubo. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-30.

Charged particle beam device and detector position adjustment method for charged particle beam device

Номер патента: JPWO2019224896A1. Автор: 悠太 今井,正弘 笹島,良浩 高鉾. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US9460892B2. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Charge particle beam device and method for setting conditions of charge particle beam device

Номер патента: CN114709120A. Автор: 佐藤博文,沼田由起,川俣茂. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2022-07-05.

Metal ion emission device and process for producing the same, ion beam irradiation device, processing apparatus and analyzing apparatus provided with emission device

Номер патента: US20060145090A1. Автор: Mitsuru Ohtsuka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-07-06.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, FORMAT CHECK APPARATUS AND FORMAT CHECK METHOD

Номер патента: US20140319384A1. Автор: YASUI Kenichi. Владелец: NUFLARE TECHNOLOGY, INC. Дата публикации: 2014-10-30.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND PATTERN INSPECTION APPARATUS

Номер патента: US20150279617A1. Автор: YASUI Kenichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2015-10-01.

DATA PROCESSING METHOD, DATA PROCESSING APPARATUS, AND MULTIPLE CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

Номер патента: US20190378688A1. Автор: Hasegawa Kei,KIMURA Hayato,ONIMARU Yoshiaki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2019-12-12.

Beam irradiation apparatus and beam irradiation method

Номер патента: US09449791B2. Автор: Mitsukuni Tsukihara,Noriyasu Ido,Noriyuki Suetsugu. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09343265B2. Автор: Hisayuki Takasu,Asako Kaneko,Hirobumi Mutou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Charged Particle Beam Irradiation Apparatus, Charged Particle Beam Image Acquisition Apparatus, and Charged Particle Beam Inspection Apparatus

Номер патента: US20190304737A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Electron beam irradiation method and scanning electron microscope

Номер патента: US09640366B2. Автор: Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kazutami Tago. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Electron microscope and beam irradiation method

Номер патента: US20200411278A1. Автор: Takamitsu Nagai. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged particle beam irradiation apparatus and irradiation method using the apparatus

Номер патента: US6323498B1. Автор: Kaneo Kageyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Mounting substrate, blanking aperture array chip, blanking aperture array system and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20240013999A1. Автор: HIROFUMI Morita,Toshiki Kimura,Kazuhiro Chiba,Hayato Kimura,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20210090853A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Xin Man,Takuma Aso. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Multi charged particle beam evaluation method, multi charged particle beam writing method, inspection method for aperture array substrate for multi charged particle beam irradiation apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230402253A1. Автор: HIROFUMI Morita,Yoshikuni GOSHIMA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US11798780B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240242921A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4409617A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791124B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle beam writing apparatus, and method for detecting irregularities in dose of charged particle beam

Номер патента: US20150325407A1. Автор: Hideo Inoue,Hironori Mizoguchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240128043A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Particle beam apparatus and method for operating a particle beam apparatus

Номер патента: US09947504B2. Автор: Dirk Preikszas,Michel Aliman,Michael Schnell,Edgar Fichter,Christian Hendrich,Momme MOMMSEN,Klaus Hegele,Kai Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11784023B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method

Номер патента: US09741526B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masako Nishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Observation apparatus and optical axis adjustment method

Номер патента: US09466457B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20050161599A1. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-07-28.

Plasma driven particle propagation apparatus and pumping method

Номер патента: EP3314988A1. Автор: David BUDGE. Владелец: Aurora Labs Ltd. Дата публикации: 2018-05-02.

Inspection apparatus and inspection method

Номер патента: US09859096B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Beam detector, multi charged particle beam irradiation apparatus, and beam detector adjustment method

Номер патента: US20240071714A1. Автор: Yasutaka Sato,Kiminobu Akeno. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Data generation method, charged particle beam irradiation device, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230053272A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Charged particle beam apparatus and image forming method of charged particle beam apparatus

Номер патента: US09859094B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Takuma NISHIMOTO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09455124B2. Автор: Yoshihiro Hirata,Masato Muraki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Method of adjusting a stigmator in a particle beam apparatus and a Particle beam system

Номер патента: US09455115B2. Автор: Simon Diemer. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US8497475B2. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-07-30.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US20120043462A1. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Three-dimensional powder bed fusion additive manufacturing apparatus and three-dimensional powder bed fusion additive manufacturing method

Номер патента: US12103076B2. Автор: Takashi Sato,Masahiko Kawakami,Yuhei Kaneko,Yohei DAINO,Kozo Koiwa,Nari TSUTAGAWA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Methods and devices for determining times for maintenance activity performed on a charged-particle-beam microlithography apparatus, and microelectronic-device-manufacturing methods comprising same

Номер патента: US6545274B1. Автор: Kenji Morita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Apparatus and method for manufacturing a light-emitting device using a neutral particle beam

Номер патента: US20140017827A1. Автор: Suk Jae Yoo,Seong Bong Kim. Владелец: Korea Basic Science Institute KBSI. Дата публикации: 2014-01-16.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: US09697985B2. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus

Номер патента: US09484181B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: EP2864997A1. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2015-04-29.

Inspection or observation apparatus and sample inspection or observation method

Номер патента: US20150083908A1. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle beam writing apparatus and method utilizing a sum of the weighted area density of each figure pattern

Номер патента: US09837247B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Charged particle beam apparatus, image forming method using a charged particle beam apparatus, and image processing apparatus

Номер патента: US09633818B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250331A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Particle beam system comprising a multi-beam deflection device and a beam stop, method for operating the particle beam system and associated computer program product

Номер патента: EP4066270A1. Автор: Ingo Müller,Dieter Schumacher,Dirk Zeidler,Wilhelm Bolsinger,Stefan Schubert,Arne Thoma,Erik Essers,Jörg Jacobi. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2022-10-05.

Charged particle beam apparatus and aberration corrector

Номер патента: US20170162362A1. Автор: Takaho Yoshida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Charged particle beam apparatus and charged particle beam irradiation method

Номер патента: US6956211B2. Автор: Takashi Doi,Yoichi Ose,Hideo Todokoro,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi,Noriaki Arai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-18.

Charged particle beam drawing data production apparatus and charged particle beam drawing system

Номер патента: US5796408A. Автор: Makoto Kanno,Koichi Moriizumi,Kinya Kamiyama,Hironobu Taoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-08-18.

Charged particle beam device, system for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US09666406B1. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: WO2023017107A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2023-02-16.

Writing error diagnosis method for charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20080067423A1. Автор: Hayato Kimura,Seiichi Tsuchiya,Seiji WAKE,Takuya Matsukawa,Yujin Handa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: US20240355577A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-10-24.

High resolution charged particle beam device and method of operating the same

Номер патента: US09595417B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-14.

Sample storage container, charged particle beam apparatus, and image acquiring method

Номер патента: US09564288B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Charged particle beam apparatus, thin film forming method, defect correction method and device forming method

Номер патента: US20130224889A1. Автор: Tatsuya Shimoda,Yasuo Matsuki,Yoshihiro Koyama,Anto Yasaka,Ryo Kawajiri. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240234080A9. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154291A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233584A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Method for designing a multi-beam particle beam system having monolithic path trajectory correction plates, computer program product and multi-beam particle beam system

Номер патента: WO2024156468A1. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler,Sandra Vogel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-08-02.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing dac amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20100030522A1. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-02-04.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing DAC amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US8290743B2. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-16.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Platform for charged particle apparatus and components within a charged particle apparatus

Номер патента: US20240312756A1. Автор: Hans Butler,Peter Paul HEMPENIUS,Niels Johannes Maria BOSCH,Willem Henk URBANUS,Jasper Hendrik GRASMAN,Joan SANS MERCADER,Patrick Peter Hubert Helena PHILIPS,Gerardus Wilhelmus SARS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-19.

Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device

Номер патента: US09984848B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for structuring an object and associated particle beam system

Номер патента: US09960012B2. Автор: Roland Salzer,Josef Biberger. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-05-01.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09824849B2. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: US09601303B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-21.

Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof

Номер патента: US09472373B1. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,John Breuer,Johannes Hopster. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Particle beam assisted fused deposition modeling

Номер патента: WO2023164006A1. Автор: Aaron Sauers. Владелец: Fermi Research Alliance, LLC. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Particle beam accelerator

Номер патента: US20060250097A1. Автор: Yuichi Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuhiko Ina. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-11-09.

Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam

Номер патента: US09666404B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09548183B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged Particle Beam Device and Control Method of Optical System of Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200343072A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

A computer-aided defect correction method of a charged particle beam device, defect correction device of a charged particle beam device and a computer program

Номер патента: WO2024146664A1. Автор: Stanislav Petras,Jan SOPOUSEK. Владелец: Tescan Group, A.S.. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged-particle-beam microlithography apparatus and methods including optical corrections made during subfield exposures

Номер патента: US20010052579A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Teruaki Okino,Noriyuki Hirayanagi,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-12-20.

Charged particle beam device and aberration correction method for charged particle beam device

Номер патента: US20190214222A1. Автор: Hideyuki Kazumi,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150060690A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Particle beam cooling device

Номер патента: US20110074287A1. Автор: Thomas J. Roberts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-31.

Particle Beam Detector

Номер патента: US20160035536A1. Автор: Brandon W. Blackburn,Paul F. Martin,Bruce Chignola,Timothy M. Norcott,Kenneth A. Levenson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2016-02-04.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Particle beam system

Номер патента: US09552957B2. Автор: Dirk Zeidler,Christof Riedesel,Thomas Kemen,Ralf Lenke. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-01-24.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2022184387A3. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20180350554A1. Автор: Takeshi Sunaoshi,Haruhiko Hatano,Yoshihisa Orai,Takashi MIZUO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam

Номер патента: US09953798B2. Автор: Brian Patrick Wilfley,Josh Star-Lack,Thomas A CASE. Владелец: Novaray Medical Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Particle beam microscope and method for operating a particle beam microscope

Номер патента: US09859092B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium

Номер патента: US09741530B2. Автор: Kenji Nakahira,Maki Tanaka,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09570267B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Extraction system and particle accelerator having a foil holder

Номер патента: US9723706B2. Автор: Tomas Eriksson,Jonas Ove Norling,Oskar Svedberg,Peter Askebro. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-08-01.

Operating a particle beam apparatus

Номер патента: US20240274397A1. Автор: Sebastian SCHAEDLER. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-08-15.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

Particle beam processing apparatus

Номер патента: WO2001035438A9. Автор: Imtiaz Rangwalla,Harvey Clough,George Hannafin. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2002-04-11.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Particle beam processing apparatus

Номер патента: EP1232515A1. Автор: Imtiaz Rangwalla,Harvey Clough,George Hannafin. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2002-08-21.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

Particle beam system and the use thereof for flexibly setting the current intensity of individual particle beams

Номер патента: US12119204B2. Автор: Dirk Zeidler,Hans Fritz,Georgo Metalidis,Stefan Schubert,Ralf Lenke. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-10-15.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09691585B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device

Номер патента: US09673017B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-06-06.

Method for analyzing and/or processing an object as well as a particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09558911B2. Автор: Lorenz Lechner,Josef Biberger,Ralph Pulwey,Michal Postolski,Marcin Janaszewski. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-01-31.

Charged-particle beam device for irradiating a charged particle beam on a sample

Номер патента: US09543113B2. Автор: Masashi Fujita,Seiichiro Kanno,Naoya Ishigaki,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Apparatus and methods for reducing Coulombic blur in charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6545282B2. Автор: Hiroyasu Simizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242922A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: EP3047502A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: WO2015042051A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Extraction system and particle accelerator having a foil holder

Номер патента: US20160050742A1. Автор: Tomas Eriksson,Jonas Ove Norling,Oskar Svedberg,Peter Askebro. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-02-18.

Charged particle beam device and charged particle beam device noise source determination method

Номер патента: US20190341225A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Ion beam etching apparatus and method

Номер патента: US12087558B2. Автор: Po-Chin Chang,Pinyen Lin,Li-Te Lin,Jung-Hao CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method for operating a multiple particle beam system while altering the numerical aperture, associated computer program product and multiple particle beam system

Номер патента: US12057290B2. Автор: Ingo Mueller,Hans Fritz. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Extraction system and particle accelerator having a foil holder

Номер патента: US09723706B2. Автор: Tomas Eriksson,Jonas Ove Norling,Oskar Svedberg,Peter Askebro. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-08-01.

Ion Beam Etching Apparatus And Method

Номер патента: US20240379333A1. Автор: Po-Chin Chang,Pinyen Lin,Li-Te Lin,Jung-Hao CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Data generation method, charged particle beam irradiation device, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11942305B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-26.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US20150021495A1. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US9196458B2. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-24.

Charged particle beam device with dark field detector

Номер патента: EP2560185A3. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Method for operating a multi-beam particle beam microscope

Номер патента: US20240312759A1. Автор: Dirk Zeidler,Gregor Dellemann,Gunther Scheunert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for operating a multi-beam particle beam microscope

Номер патента: US12094683B2. Автор: Dirk Zeidler,Gregor Dellemann,Gunther Scheunert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-09-17.

Method for operating a multiple particle beam system while altering the numerical aperture, associated computer program product and multiple particle beam system

Номер патента: US20240347316A1. Автор: Ingo Mueller,Hans Fritz. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-10-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism

Номер патента: US09431208B2. Автор: Shuichiro Fukutome. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242920A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged Particle Beam Device, Sample Stage Unit, and Sample Observation Method

Номер патента: US20150311033A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Interface apparatus for a particle beam instrument

Номер патента: WO2024153924A2. Автор: Santokh Bhadare,Chris TYRRELL,Paul EVETTS. Владелец: Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited. Дата публикации: 2024-07-25.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Charged particle beam apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20170278678A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Deformation method of nanometer scale material using particle beam and nano tool thereby

Номер патента: US20080203295A1. Автор: Jinho Choi,Ki-Young Jung,Dal-Hyun Kim,Byong-Chon Park,Sang-Jung Ahn,Jae-Wan Hong. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2008-08-28.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Particle beam surface analyzer

Номер патента: GB9013216D0. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1990-08-01.

Particle beam surface analyzer

Номер патента: GB2235087B. Автор: Minoru Shimizu,Tadashi Otaka,Eiichi Hazaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-13.

Interface apparatus for a particle beam instrument

Номер патента: WO2024153924A3. Автор: Santokh Bhadare,Chris TYRRELL,Paul EVETTS. Владелец: Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle beam device, image generation method, observation system

Номер патента: US09824854B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Junichi Katane. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements

Номер патента: US09653254B2. Автор: Anger Pascal,Dirk Zeidler,Christof Riedesel,Thomas Kemen,Antonio Casares. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620328B1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method

Номер патента: US09472375B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Particle beam system and pattern data generation method for particle beam system

Номер патента: US20140152199A1. Автор: Moemi TAKEDA,Haruki ARITA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2014-06-05.

Particle beam system and pattern data generation method for particle beam system

Номер патента: US9215791B2. Автор: Moemi TAKEDA,Haruki ARITA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-12-15.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US20040238752A1. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US6963069B2. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-11-08.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4156227A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-03-29.

Apparatus for controlling a charged particle beam and a lithographic process in which the apparatus is used

Номер патента: US5663568A. Автор: Warren Kazmir Waskiewicz. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Charged particle beam inspection apparatus and method

Номер патента: WO2024132808A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Xuechen ZHU,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: US20190096630A1. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: WO2016076718A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-05-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230290606A1. Автор: Yusuke Nakamura,Shunsuke Mizutani,Muneyuki Fukuda,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Charged particle beam source and charged particle beam system

Номер патента: EP4254465A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317400A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Pulsed ion beam to pulsed neutral particle beam slow wave converter device and method for use thereof

Номер патента: US11991814B1. Автор: Mark Bennahmias,Michael J. Zani. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A2. Автор: Anthony Renau,Joseph C. Olson,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2009-03-19.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A3. Автор: Anthony Renau,Joseph C Olson,Russell J Low,Piotr R Lubicki. Владелец: Piotr R Lubicki. Дата публикации: 2009-06-11.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Charged particle multi-beam apparatus including a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams

Номер патента: US09607806B2. Автор: Pieter Kruit,Aernout Christiaan Zonnevylle. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for attaching an object to a manipulator and for moving the object in a particle beam apparatus, computer program product, and particle beam apparatus

Номер патента: US20240038489A1. Автор: Endre Majorovits. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4352773A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Apparatus and method for irradiating a surface of a sample using charged particle beams

Номер патента: NL2016853B1. Автор: KRUIT Pieter,Wouter Hagen Cornelis,Scotuzzi Marijke. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2017-12-11.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391143A1. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Method for depositing a film using a charged particle beam, method for performing selective etching using the same, and charged particle beam equipment therefor

Номер патента: US20070252092A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Muneyuki Fukuda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Energy Filter, and Energy Analyzer and Charged Particle Beam Device Provided with Same

Номер патента: US20230298845A1. Автор: Hiroyuki Ito,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: WO2015138362A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2015-09-17.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Method of operation of a charged particle beam device

Номер патента: WO2022028633A1. Автор: FILIP Vojtech. Владелец: Tescan Brno. Дата публикации: 2022-02-10.

Aligning charged particle beams

Номер патента: WO2010039339A3. Автор: Raymond Hill. Владелец: Carl Zeiss Smt Inc.. Дата публикации: 2010-06-10.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Beam deflection device, aberration corrector, monochromator, and charged particle beam device

Номер патента: US12062519B2. Автор: Pieter Kruit,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Charged particle beam device and charged particle beam device control method

Номер патента: US09881769B2. Автор: Tsutomu Saitou,Kenji Aoki,Mitsuhiro Nakamura,Kunji Shigeto,Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for processing and/or for observing an object, and particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09685300B2. Автор: Roland Salzer,Josef Biberger,Ralph Pulwey,Katja Tsyrulin. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Method for measuring a distance of a component from an object and for setting a position of a component in a particle beam device

Номер патента: US09496116B2. Автор: Andreas Schmaunz,Holger Doemer. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Charged particle beam device

Номер патента: US12142457B2. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Method and device for directing neutral particles beam

Номер патента: RU2653581C2. Автор: Шон Р. КИРКПАТРИК,Сон ЧАУ. Владелец: Эксодженезис Корпорейшн. Дата публикации: 2018-05-15.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US20220216027A1. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2022-07-07.

Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis

Номер патента: US20240087837A1. Автор: Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-03-14.

Fastening an object to a manipulator and/or to an object holder in a particle beam apparatus

Номер патента: US20240038484A1. Автор: Andreas Schertel. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242933A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same

Номер патента: US20030111614A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Particle beam system and method for operating the same

Номер патента: US20140217303A1. Автор: Volker Wieczorek,Josef Biberger,Ralph Pulwey. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-08-07.

Particle beam microscope

Номер патента: US20240304412A1. Автор: Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: US09905394B1. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-27.

Charged particle beam device enabling facilitated EBSD detector analysis of desired position and control method thereof

Номер патента: US09741531B2. Автор: Tsutomu Saito,Kazuyuki Takeda,Tohru Ando. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam apparatus, composite charged particle beam apparatus, and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210118645A1. Автор: Koji Nagahara,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: WO2004088709A1. Автор: Josef Sellmair. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-14.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: US7345436B2. Автор: Josef Sellmair. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2008-03-18.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Workpiece holder, semiconductor fabricating apparatus, semiconductor inspecting apparatus, circuit pattern inspecting apparatus, charged particle beam application apparatus, calibrating substrate, workpiece holding method, circuit pattern inspecting method, and charged particle beam application method

Номер патента: US20030146382A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,YASUTSUGU Usami,Hiroyuki Shinada,Shuji Sugiyama,Atsuko Takafuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-08-07.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20180233374A1. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-16.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20200411275A1. Автор: Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged Particle Detector and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20180261425A1. Автор: Makoto Sakakibara,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Kaori Shirahata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US10446404B2. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-15.

Scanning type charged particle beam microscope

Номер патента: US20020017606A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-14.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09824859B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09822443B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Blanking system for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09697981B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09453281B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Focused particle beam systems and methods using a tilt column

Номер патента: US20020170675A1. Автор: Billy Ward,Charles Libby. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-21.

Apparatus and method for removal of selected particles from a charged particle beam

Номер патента: GB2446005A. Автор: Superion Limited. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-30.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems

Номер патента: US5254856A. Автор: Kazue Takahashi,Tadashi Otaka,Kenji Odaka,Toshiaki Kobari,Mikio Ichihashi,Hironobu Matsui,Shinjiroo Ueda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-10-19.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240145208A1. Автор: Erwin Slot,Bertil OSTERBERG Mans Johan. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Method for adjusting charged particle beam device and adjusting beam aperture based on a selected emission condition and charged particle beam device for same

Номер патента: US10176968B2. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233583A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154290A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362930A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Device for imaging and processing a sample using a focused particle beam

Номер патента: US20240062989A1. Автор: Thomas Beck,Daniel Schwarz,Michael Schnell,Florian Neuberger,David Laemmle. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-02-22.

Particle beam microscope

Номер патента: US20240304409A1. Автор: Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09556521B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Particle beam system and method for the particle-optical examination of an object

Номер патента: US10535494B2. Автор: Dirk Zeidler,Stefan Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-01-14.

Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems

Номер патента: US20240017301A1. Автор: Marc Smits,Johan Joost Koning,Chris Franciscus Jessica Lodewijk,Hindrik Willem Mook,Ludovic Lattard. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

Номер патента: WO2023198397A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240136146A1. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-04-25.

Compensated location specific processing apparatus and method

Номер патента: US20180197715A1. Автор: Michael Graf,Martin D. Tabat,Matthew C. Gwinn,Kenneth Regan,Allen J. Leith. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Charged particle beam apparatus, scanning electron microscope, and method of operating a charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4295385A1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-12-27.

Inspection apparatus and inspection method

Номер патента: US20170243716A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

Charged Particle Beam Device and Method for Adjusting Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20160118218A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-04-28.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: EP4385056A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-06-19.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20120006984A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Ion beam irradiating apparatus and method of adjusting uniformity of a beam

Номер патента: US7541601B2. Автор: Tadashi Ikejiri. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-02.

Method for structuring an object with the aid of a particle beam apparatus.

Номер патента: NL2015530A. Автор: Stegmaier Simon. Владелец: Zeiss Carl Microscopy Gmbh. Дата публикации: 2016-08-25.

Structure for Particle Acceleration And Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240242918A1. Автор: Kenji Tanimoto,Shuhei Ishikawa,Ryo Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Kazuki ISHIZAWA,Yoshihiro Takahoko,Daichi Nara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Sample holder with light emitting and transferring elements for a charged particle beam apparatus

Номер патента: US09812288B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Kunio Harada,Minami Shouji,Yuusuke Oominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09466464B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam instrument and sample container

Номер патента: US09449784B2. Автор: Tatsuo Naruse. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Particle source for producing a particle beam and particle-optical apparatus

Номер патента: US10446360B2. Автор: Volker Drexel,Bernd Hafner. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-10-15.

Method for inspecting a specimen and charged particle beam device

Номер патента: WO2021078352A1. Автор: Dieter Winkler,Jürgen Frosien,Pieter Kruit,Ralf Schmid,Benjamin John Cook,Ron Naftali,Roman BARDAY. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2021-04-29.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: EP4235731A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180076002A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160071682A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190115185A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11798776B2. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US11854765B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-26.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Transmission charged particle beam apparatus, and method of aligning such a transmission charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230282443A1. Автор: Shanel Ondrej,Martin Schneider,Jan Jisa,Ondrej Baco. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20240145214A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged Particle Beam Apparatus and Focus Adjusting Method Therefor

Номер патента: US20230230798A1. Автор: Keisuke Igarashi,Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Mai YOSHIHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Charged particle microscope apparatus and image acquisition method of charged particle microscope apparatus

Номер патента: US20140319341A1. Автор: Maki Tanaka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-10-30.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US20230274908A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US11990315B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-05-21.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20200381211A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-03.

Beam blanker and method for blanking a charged particle beam

Номер патента: US20180151327A1. Автор: Christof Baur,Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-31.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160336141A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Method of operating a particle beam system and related system and computer program product

Номер патента: US20240047175A1. Автор: Andreas Schmaunz,Simon Diemer. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-02-08.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US7205558B2. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-04-17.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: US12033830B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US9362085B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-07.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US9673114B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US8000939B2. Автор: Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240177963A1. Автор: Masaru Matsushima,Go Miya,Masaki Mizuochi,Yuki UCHIOKE,Katsumi Kambe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam

Номер патента: US20150170876A1. Автор: Uwe Luecken,Ivan Lazic,Bart Jozef Janssen,Ross Savage,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-06-18.

Method for structuring an object with the aid of a particle beam apparatus.

Номер патента: NL2015530B1. Автор: Stegmaier Simon. Владелец: Zeiss Carl Microscopy Gmbh. Дата публикации: 2018-05-24.

Charged particle beam system

Номер патента: EP3901983A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-27.

Vibration isolated table for a charged particle beam apparatus provided with a shock protection element and shock protection element

Номер патента: US20050121592A1. Автор: Johannes Van Der Ven,Albertus Dirks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20210313142A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160013010A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate bonding apparatus and substrate bonding method

Номер патента: US09870922B2. Автор: Akira Yamauchi,Tadatomo Suga. Владелец: BONDTECH CO Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Charged particle beam apparatus for measuring surface potential of a sample

Номер патента: US09799486B2. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09620332B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of manufacturing an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620329B1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09466463B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged-particle beam device

Номер патента: US09443695B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Takeyoshi Ohashi,Noritsugu Takahashi,Osamu Komuro. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: GB2582242A. Автор: Pearson David,Ferreira Joao,POCHON Sebastien. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2020-09-23.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Multi charged particle beam apparatus, and shape adjustment method of multi charged particle beam image

Номер патента: US9966228B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Signal charged particle deflection device, signal charged particle detection system, charged particle beam device and method of detection of a signal charged particle beam

Номер патента: US9805908B2. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam device

Номер патента: US9679740B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for operating a multiple particle beam system with a mirror mode of operation and associated computer program product

Номер патента: NL2028949B1. Автор: SCHUBERT Stefan. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210175047A1. Автор: Ichiro Fujimura,Hiroki Kannami,Hironori Itabashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11791128B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US11823861B2. Автор: Junichi Katane,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Drawing apparatus, method of manufacturing article, method of manufacturing deflecting apparatus, and method of manufacturing drawing apparatus

Номер патента: US8729493B2. Автор: Shinji Ohishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-20.

System and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11804358B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP3977499A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061650A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Charged particle beam device and control method of optical system of charged particle beam device

Номер патента: EP3731256A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240079202A1. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160148785A1. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230116466A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220359150A1. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09607805B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Charged particle beam processing method

Номер патента: EP2221849A3. Автор: Katsuhiro Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-06-13.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Charged-particle beam apparatus with fast focus correction and methods thereof

Номер патента: WO2023237277A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Wei-Yu Chang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-24.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Woellert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2022-09-01.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180261421A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Particle beam couplingsystem and method

Номер патента: WO2012048166A3. Автор: Gary Guethlein. Владелец: Lawrence Livermore National Security, LLC. Дата публикации: 2012-07-05.

Multiple charged particle beam writing method, and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190198294A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4302318A2. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-01-10.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200335297A1. Автор: Kazuhiro Kishi,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210020422A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsuhiro Nakamura,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Masahiro Sasajima,Hironori Itabashi,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230274907A1. Автор: Hideo Morishita,Junichi Katane,Tatsuro Ide,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle beam apparatus and control method

Номер патента: US20220115203A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Daisuke Bizen,Ryota Watanabe,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: WO2013191539A1. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2013-12-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20160111246A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Lens for a charged particle beam apparatus, charged particle beam apparatus, and method of focusing a charged particle beam

Номер патента: US20240212968A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-06-27.

Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: WO2005024888A3. Автор: Juergen Frosien,Stefan Lanio,Ralf Degenhardt. Владелец: Ralf Degenhardt. Дата публикации: 2005-04-28.

Microfabricated template for multiple charged particle beam calibrations and shielded charged particle beam lithography

Номер патента: WO2000067291A2. Автор: Kim Y. Lee,Marian Mankos,Ho-Seob Kim,Lawrence Muray,T. H. P. Chang. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2000-11-09.

Gas blowingnozzle of charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus as well as working method

Номер патента: US20050167614A1. Автор: Takashi Kaito. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Scanning apparatus, drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US8829461B2. Автор: Hirohito Ito,Yusuke Sugiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-09-09.

Charged particle beam device, field curvature corrector, and methods of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2020078610A1. Автор: Benjamin John Cook,Thomas Kemen,Roman BARDAY. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2020-04-23.

Mechanism for Adjusting Angle of Incidence on Charged Particle Beam Aperture, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240029992A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US10109454B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-23.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250332A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Device and Charged Particle Beam Measurement Method

Номер патента: US20160225583A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Junichiro Tomizawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US11756766B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220319807A1. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US8183545B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Charged-particle beam apparatus with beam-tilt and methods thereof

Номер патента: US20240021404A1. Автор: Hermanus Adrianus Dillen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Shahedul Hoque. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged Particle Beam System and Control Method Therefor

Номер патента: US20230343550A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317406A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yuto Kawashima,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20110031387A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: US11817292B2. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-14.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: EP4272238A1. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-08.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4167267A1. Автор: Takeshi Kaneko,Isamu Ishikawa,Eiji Okunishi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-19.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11295928B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9892887B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

Method and apparatus for determining a beam tail of a focused particle beam

Номер патента: WO2023036911A1. Автор: Markus Bauer,Daniel Rhinow,David Laemmle. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-16.

High Current Density Particle Beam System

Номер патента: US20070284536A1. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-13.

Composite charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20200266029A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama,Naoko Hirose. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: EP4133514A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-02-15.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: CA3173642A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180342371A1. Автор: Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11315753B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-04-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210313140A1. Автор: Minoru Yamazaki,Yuzuru MIZUHARA,Noritsugu Takahashi,Daisuke Bizen,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US20170243714A1. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: WO2023180016A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190304740A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20150340196A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US20110046762A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140127914A1. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230005700A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Kazuma Tanii. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20180138010A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240212966A1. Автор: Masahiro Fukuta,Tomoya IGARI,Takshi DOI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11710615B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Apparatus for providing a protective layer for charged-particle-beam processing

Номер патента: EP1918981B1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-02-16.

Protective Layer For Charged Particle Beam Processing

Номер патента: US20120107521A1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2012-05-03.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM

Номер патента: US20120056098A1. Автор: . Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-03-08.

Monochromator, charged particle beam apparatus, method for reducing energy spread of charged particle beam and method for energy-filtering particle beam

Номер патента: TWI492244B. Автор: Zhong-Wei Chen,Wei-Ming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-07-11.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130056647A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130082187A1. Автор: Ogasawara Munehiro. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-04-04.

Multi-charged particle beam drawing apparatus and multi-charged particle beam drawing method

Номер патента: JP2018098242A. Автор: Takashi Kamikubo,貴司 上久保,上久保　貴司. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD

Номер патента: US20130056645A1. Автор: Ogasawara Munehiro,YOSHIKAWA Ryoichi. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

Charged particle beam therapy device and energy adjustment method for charged particle beam

Номер патента: JP6826628B2. Автор: 敏樹 立川. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-02-03.

TREATMENT PLANNING SYSTEM, DEVICE FOR CALCULATING A SCANNING PATH AND PARTICLE THERAPY SYSTEM

Номер патента: US20120001085A1. Автор: Fujii Yusuke,UMEKAWA Toru,FUJIMOTO Rintaro,NAGAMINE Yoshihiko,UMEZAWA Masumi,AKIYAMA Hiroshi. Владелец: Hitachi, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Laser Beam Irradiation Apparatus and Substrate Sealing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20120000611A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of injecting particles beam into accumulation ring

Номер патента: RU2012169C1. Автор: С.И. Козлов. Владелец: Объединенный Институт Ядерных Исследований. Дата публикации: 1994-04-30.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002987A1. Автор: ODANI Makoto. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Scanning system for charged and neutral particle beams

Номер патента: CA1150422A. Автор: Anders Brahme. Владелец: INSTRUMENT SCANDITRONIX AB. Дата публикации: 1983-07-19.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.