Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SHOWER HEAD FOR UNIFORM GAS DISTRIBUTION

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SHOWER HEAD FOR UNIFORM GAS DISTRIBUTION

Номер патента: US20190376184A1
Опубликовано: 12-12-2019
Автор(ы): BORTH Andrew James, Madsen Eric, Selep Michael John, SLEVIN Damien Martin, Wiltse John Michael
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Gas distribution showerhead with high emissivity surface

Номер патента: WO2012027009A2. Автор: Liang-Yuh Chen,Wei-Yung Hsu,Hiroji Hanawa,Jie Cui,David Bour,Hua Chung,Kyawwin Maung. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-01.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Defined dosing atmospheric temperature and pressure vapor deposition system

Номер патента: US09562288B2. Автор: Adam Zax,Russell C. SLAYBAUGH,Michael Stephen METCALFE,Guillermo SETA. Владелец: Diamon Fusion International Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Chemical vapor deposition furnace with a cleaning gas system to provide a cleaning gas

Номер патента: US12077854B2. Автор: Herbert Terhorst,Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Theodorus G. M. Oosterlaken,Lucian JDIRA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Cold thermal chemical vapor deposition

Номер патента: US20240117495A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,Jesse BISCHOF,James B. Mattzela,Gary A. Barone,Geoffrey K. WHITE,Nicholas P. DESKEVICH,Pierre A. LECLAIR. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US7217326B2. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-15.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20040200413A1. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-10-14.

High density plasma chemical vapor deposition chamber and method of using

Номер патента: US20210125811A1. Автор: Ding-I Liu,Wen-Long Lee,Wei-Ching Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 통해 전자 부품에 고분자 박막을 형성하는 장치 및 그 제조 방법

Номер патента: KR20220168089A. Автор: 김하영,김호연,김용호,김창재,김광순,이다미. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-12-22.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US09994956B2. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2018-06-12.

Device and methods for chemical vapor deposition

Номер патента: US20230257882A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Chemical vapor deposition apparatus and method for forming parylene film

Номер патента: US20110151121A1. Автор: Chun-Hao Chang,Chuan-Sheng Zhuang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-06-23.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Apparatus and method for chemical vapor deposition using an axially symmetric gas flow

Номер патента: GB2181460A. Автор: Mcdonald Robinson,Klavs F Jensen,Wayne L Johnson,Wiebe B Deboer,Gary W Read. Владелец: Epsilon LP. Дата публикации: 1987-04-23.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US20160040288A1. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2016-02-11.

Apparatus for plasma enhanced chemical vapor deposition comprising shower head electrode with magnet disposed therein

Номер патента: US5433786A. Автор: Ing-Feng Hu,James C. Tou. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1995-07-18.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230105104A1. Автор: Jinsan Moon,Wonbae Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-04-06.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Integration of vapor deposition process into plasma etch reactor

Номер патента: US20230260759A1. Автор: Eric A. Hudson,Ramesh Chandrasekharan,Andrew Clark SERINO,Alan M. Schoepp,Thad NICHOLSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US11697873B2. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-07-11.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US20220056579A1. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: WO2022072258A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2022-04-07.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US12065735B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US20240271279A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Apparatus for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026078A3. Автор: Geoffrey Nunes,Richard Dale Kinard,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-06-16.

Apparatus for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026078A2. Автор: Geoffrey Nunes,Richard Dale Kinard,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-03-03.

Gas distribution system for a reaction chamber

Номер патента: EP2744924A1. Автор: Peter Nemeth,Zsolt Vadadi,Tamas Strausz. Владелец: ECOSOLIFER AG. Дата публикации: 2014-06-25.

Apparatus of chemical vapor deposition with a shower head and method therof

Номер патента: KR100731164B1. Автор: 변철수. Владелец: 주식회사 피에조닉스. Дата публикации: 2007-06-20.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09493875B2. Автор: Pyung-Yong Um. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Chemical vapor deposition apparatus and blocker plate

Номер патента: US20200131640A1. Автор: Chao-chun WANG,Keith Kuang-Kuo Koai,Chih-Yu Wu,Huan-Chieh CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Chemical vapor deposition reactor to grow diamond film by microwave plasma chemical vapor deposition

Номер патента: US11214871B2. Автор: Elgin E. Eissler,David SABENS,Charles D. Tanner. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2022-01-04.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US5871586A. Автор: John A. Crawley,Victor J. Saywell. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-16.

Chemical vapor deposition manifold

Номер патента: US6024799A. Автор: Karl Anthony Littau,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Vertical chemical vapor deposition of heating suscpetor and shower head jet

Номер патента: KR100402332B1. Автор: 김상철,이경하. Владелец: 주식회사 시스넥스. Дата публикации: 2003-10-22.

Vertical chemical vapor deposition of heating suscpetor and shower head jet

Номер патента: KR20010099168A. Автор: 김상철,이경하. Владелец: 주식회사 시스넥스. Дата публикации: 2001-11-09.

Apparatus for atmospheric chemical vapor deposition

Номер патента: US5076207A. Автор: Kouichirou Tsutahara,Toru Yamaguchi,Akihiro Washitani,Masashi Ohmori. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1991-12-31.

Temperature controlled multi-gas distribution assembly

Номер патента: EP2084735A1. Автор: Nyi Oo Myo,Steven Poppe,George Mattinger. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-08-05.

Chemical vapor deposition film profile uniformity control

Номер патента: US20130149871A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chia-Ho Chen,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Ming-Chin Tsai,Ming-Shiou Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10480065B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: EP3988685A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2022-04-27.

Low-pressure chemical vapor deposition apparatus and thin-film deposition method thereof

Номер патента: US09478440B2. Автор: XIAO Wu,Xunhui Wang,Qijun Guo,Jianchao Fan. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2016-10-25.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: US20230115177A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413176A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Method for testing susceptor of chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing organic light emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US09508613B2. Автор: Jin-Woo Yang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Metal organic chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240167159A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Apparatus for low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US5441570A. Автор: Chul-Ju Hwang. Владелец: Jein Technics Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Chamber for reducing contamination during chemical vapor deposition

Номер патента: US6114227A. Автор: Joseph P. Ellul,Stephen M. Campbell,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato,David Leksell,Ming Xi Chan,Jeanne L. Luce,David T. Ryan,Iqbal A. Shareef. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5576071A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Methods of depositing aluminum nitride templating layers using thermal pulsed chemical vapor deposition for the enhancement of aluminum nitride thick films and related films

Номер патента: US20240052493A1. Автор: Andrew Kummel,Aaron McLeod,Scott UEDA. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-02-15.

Precursor compound for atomic layer deposition(ald), chemical vapor deposition(cvd) and ald/cvd deposition using the same

Номер патента: KR20210093011A. Автор: 박정우,석장현,문기영,염규현,이현경. Владелец: 주식회사 한솔케미칼. Дата публикации: 2021-07-27.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Synthesis and use of precursors for vapor deposition of tungsten containing thin films

Номер патента: US20190300468A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Miika Mattinen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-10-03.

Method of manufacturing an injector for chemical vapor deposition processing

Номер патента: US5935647A. Автор: Jay B. DeDontney,Nicholas M. Gralenski,Adam Q. Miller. Владелец: WJ Semiconductor Equipment Group Inc. Дата публикации: 1999-08-10.

Method and a device for epitaxial growth of objects by chemical vapor deposition

Номер патента: US6093253A. Автор: Yujing Liu,Christer Hallin,Peter Lofgren,Chun Yuan Gu. Владелец: ABB Research Ltd Switzerland. Дата публикации: 2000-07-25.

Multiple Chamber System for Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond and Related Materials

Номер патента: US20230392255A1. Автор: William Holber. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2023-12-07.

Vertical chemical vapor deposition apparatus having nozzle for spraying reaction gas toward wafers

Номер патента: US20090159004A1. Автор: Takahiro Yoshioka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2024118468A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: WO2024118472A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: US20240175133A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: US20240175132A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Species controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US20170327950A1. Автор: Keith Daniel Humfeld,De'Andre James Cherry. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-16.

Gas distribution apparatus for semiconductor processing

Номер патента: WO2001003159A9. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz,Fangli Hao. Владелец: Fangli Hao. Дата публикации: 2002-05-02.

Gas distribution apparatus for semiconductor processing

Номер патента: EP1200981A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz,Fangli Hao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-02.

Gachemical vapor deposition apparatus with cleaning gas flow guiding member

Номер патента: US20230098570A1. Автор: Tung-Ching Tseng,Tsung-Lin Lee,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Chih-Hung Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: US20230407463A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Seal plates for chemical vapor infiltration and deposition chambers

Номер патента: US11788186B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: EP3882373A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

Metal compound, material for chemical vapor phase growth, and process for forming metal-containing thin film

Номер патента: US20100247765A1. Автор: Naoki Yamada,Senji Wada,Atsuya Yoshinaka. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4345187A1. Автор: Alyson T. Burdette,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-04-03.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Device for loading porous substrates of three-dimensional shape in order to be densified by directed flow chemical vapor infiltration

Номер патента: US10233540B2. Автор: Stephane Goujard,Sebastien Bertrand,Franck Lamouroux. Владелец: Safran Ceramics SA. Дата публикации: 2019-03-19.

Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration

Номер патента: US20240110281A1. Автор: Alyson T. Burdette,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191B2. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: CA3187109A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: EP4219789A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-02.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20140322849A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-30.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US09543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Thin film vapor deposition method and thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: US09506146B2. Автор: Ju-Hwan Park,Byung-Chul Cho,In-Hwan Yi. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190169747A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Vapor deposition systems and methods

Номер патента: US09556519B2. Автор: Jill Svenja Becker,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Vapor deposition of thin films comprising gold

Номер патента: US10145009B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Timo Hatanpää,Maarit Mäkelä. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-04.

Gas distribution unit in connection with ald reactor

Номер патента: EP3959350A2. Автор: Matti Malila. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-03-02.

Gas distribution assembly including positioning device

Номер патента: US20230069637A1. Автор: wei chen Liao,Vincent Hubert Bernard Gilles Babin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-02.

Vapor deposition of LiF thin films

Номер патента: US09909211B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Jani Hämäläinen,Miia Mäntymäki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-03-06.

Zirconium-containing film forming compositions for vapor deposition of zirconium-containing films

Номер патента: WO2016106090A1. Автор: Christian Dussarrat,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-06-30.

Process and aparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2009073292A1. Автор: Robert P. Haley,Mark G.C. Vreys,Christina A. Rhoton,Alphonsus J.P. De Rijcke. Владелец: Dow Global Technologies Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Gas delivering apparatus for chemical vapor deposition

Номер патента: US6123776A. Автор: Kuen-Jian Chen,Horng-Bor Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Apparatus of chemical vapor deposition with a showerhead regulating injection velocity of reactive gases positively and method thereof

Номер патента: US09476121B2. Автор: Chul Soo Byun,Man Cheol Han. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Dispenser system for atomic beam assisted metal organic chemical vapor deposition (MOCVD)

Номер патента: US20080026575A1. Автор: Supratik Guha,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-01-31.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: US4694778A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

Chemical vapor deposition chamber having an adjustable flow flange

Номер патента: US6080241A. Автор: Tingkai Li,Dane C. Scott,Brian Wyckoff. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus having a gas diffusing nozzle designed to diffuse gas equally at all levels

Номер патента: US6146461A. Автор: Tae-Chul Kim,Chang-Zip Yang,Jae-Hyuck An. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-11-14.

Chemical vapor deposition process for producing diamond

Номер патента: US11905594B2. Автор: Neil Fox,Hugo DOMINGUEZ ANDRADE,Thomas B SCOTT,Edward JD MAHONEY,Alexander CROOT. Владелец: University of Bristol. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Vapor deposition system and method of operating

Номер патента: WO2008121601A1. Автор: Jacques Faguet. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2008-10-09.

Gas distribution apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US10557198B2. Автор: Sang Yub Ie,Dong Woo Kim,Dae Yong Kim,Sang Jin HYUN,Heon Bok LEE,Jun Ki PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-11.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09481929B2. Автор: In-Kyo Kim,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Choel-Min JANG,Sung-Hun KEY. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Vapor deposition and vapor deposition method

Номер патента: US09932672B2. Автор: Sang-Joon SEO,Myung-Soo Huh,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG,Jeong-Ho Yi,Cheol-Rae JO,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Vapor deposition device, vapor deposition method and organic EL display device

Номер патента: US8658545B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-02-25.

Shower head and substrate processing apparatus including the shower head

Номер патента: US20240200190A1. Автор: Taewon Lee,Songyi Baek,Sangho Roh,Dae Wee Kong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Vapor deposition of chalcogenide-containing films

Номер патента: US09543144B2. Автор: Julien Gatineau,Hana ISHII,Nathanaelle Schneider. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-01-10.

Vapor deposition apparatus for using solid starting materials

Номер патента: US5334250A. Автор: Koichi Tanaka,Shigeo Nakajima,Masaru Yoshida,Takashi Ogura,Akiyoshi Mikami,Kouji Taniguchi,Hiroaki Nakaya,Takuo Yamashita,Katsushi Okibayashi,Kousuke Terada. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1994-08-02.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Continuous-feed chemical vapor deposition system

Номер патента: US20230002906A1. Автор: Yaakov Gridish,Elad Mentovich,Yaniv Rotem,Doron NAVEH,Chen STERN,Yosi BEN-NAIM,Ariel Ismach,Tal KAUFMAN,Eran BAR-RABI. Владелец: Simtal Nano Coatings Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US09663855B2. Автор: Jung-Sik Lee,Seok-won JUNG,Myung-Su Heo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689048A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim,Moonkap Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4539933A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-09-10.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: CA1216419A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-01-13.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: SE2250842A1. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Choolakkal Arun Haridas. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-05.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A2. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-11.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A3. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689049A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Automated conveyance of articles in chemical vapor processing

Номер патента: US11946141B2. Автор: Michael Anthony Crockett. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-04-02.

Vapor deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150191822A1. Автор: Sang-Joon SEO,Jae-eung Oh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of producing near-net shape free standing articles by chemical vapor deposition

Номер патента: US20010048171A1. Автор: Jitendra Goela,Michael Pickering,Zlatko Salihbegovic,Mitch Boudreaux. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-12-06.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Novel coating method of complex 3d structures using low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US20240102167A1. Автор: William C. West,Matthew R. Dickie,Harold Frank GREER,Billy Chun-Yip Li,Su C. Chi. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2024-03-28.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: EP4208583A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: CA3193161A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Chemical vapor deposition method and coatings produced therefrom

Номер патента: CA2393531C. Автор: William J. Dalzell, Jr.,Miodrag Oljaca,Andrew T. Hunt,Subramaniam Shanmugham,Girish Deshpande,Shara S. Shoup,Jan Tzyy-Jiuan Hwang,Nii Sowa Laye,Trifon Tomov,Aimee Poda,Michelle Hendrick. Владелец: Microcoating Technologies Inc. Дата публикации: 2011-02-15.

Single ended ultra-high vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd) reactor

Номер патента: US5181964A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-01-26.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Acoustic wave assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4368744A1. Автор: Ying She,Jinquan Xu. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-15.

Acoustic wave assisted chemical vapor iinfiltration

Номер патента: US20240141479A1. Автор: Ying She,Jinquan Xu. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Shower head apparatus and method for controlling plasma or gas distribution

Номер патента: US09982340B2. Автор: Chung-En Kao,Hung Jui Chang,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Shiu-Ko Jangjian,Ming-Chin Tsai,Huan-Wen Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and organic electroluminescence element manufacturing method

Номер патента: US09893283B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020155644A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

Vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327987A1. Автор: Wenjun Xie,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Vapor-deposited foamed body

Номер патента: CA2861849C. Автор: Takeshi Aihara,Kentarou Ichikawa,Nobuhisa Koiso. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: US20170037508A1. Автор: Peng Zhang,Lifei Ma. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system

Номер патента: CA2023278C. Автор: Jitendra S. Goela,Raymond L. Taylor,Roy D. Jaworski. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020026983A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-07.

Linear batch chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2011149678A3. Автор: Piero Sferlazzo. Владелец: Aventa Systems, Llc. Дата публикации: 2012-04-19.

Metal organic chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US20130095658A1. Автор: Chien-Chih Chen,Ching-Chiun Wang,Chih-Yung Huang,Szu-Hao Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-04-18.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09410247B2. Автор: Jung Hyun Lee,Jong Hyun Lee,Young Sun Kim,Ki Sung Kim,Suk Ho Yoon,Hyun Seok Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

System for chemical vapor deposition at ambient temperature using electron cyclotron resonance and method for depositing metal composite film using the same

Номер патента: US20030000827A1. Автор: Byung-Won Cho,Joong-Kee Lee,Dal-Keun Park,Joo-Man Woo,Bup-Ju Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2003-01-02.

Chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US8778079B2. Автор: Michael J. Begarney,Frank J. Campanale. Владелец: Valence Process Equipment Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: CA1268688A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-08.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: US4705700A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-10.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and manufacturing method of nano-structured particles

Номер патента: KR100779082B1. Автор: 정우석,백문철,유용구. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2007-11-27.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US4638762A. Автор: Montri Viriyayuthakorn,Myung K. Kim. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Chemical vapor deposition apparatus for flat display

Номер патента: CN101016622A. Автор: 金南珍,金俊洙. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Wafter carrier for chemical vapor deposition systems

Номер патента: US10316412B2. Автор: Yuliy Rashkovsky,Sandeep Krishnan,Alexander I. Gurary,Lukas Urban,Jeffrey Scott Montgomery. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2019-06-11.

Wafer carrier for metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: EP3907308A1. Автор: Yuxi Wan,Zetao PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09614155B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Yoshiyuki Isomura,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: WO2010008439A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Mohd Aslami. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: EP2318561A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-11.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US20160115587A1. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-04-28.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Process and apparatus for supplying zinc vapor continuously to a chemical vapor deposition process from a continuous supply of solid zinc

Номер патента: US5383969A. Автор: Michael A. Pickering,Jeffery L. Kirsch,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: EP1230420A1. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-14.

Novel group IV metal precursors and a method of chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20020058843A1. Автор: Dae Kim,Young Cho,Wan Lee,Ik Lee,Yo Min,Sun Lim,Bo Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-05-16.

Aerosol-assisted chemical vapor deposition of nickel sulfide nanowires for electrochemical water oxidation

Номер патента: US20230407497A1. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-12-21.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US9878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US09878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals

Номер патента: US09528182B2. Автор: Gary S. Silverman,Roman Y. Korotkov,Martin E. Bluhm. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Low pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide with oxygen enhancement of the chlorosilane- nitrous oxide reaction

Номер патента: CA1166128A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Solid source and method for the synthesis of silicon-containing precursors for chemical vapor deposition

Номер патента: US09944532B2. Автор: Mihai Scarlete,Cetin Aktik. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie SEC. Дата публикации: 2018-04-17.

Method and apparatus for the combustion chemical vapor deposition of films and coatings

Номер патента: CA2158568C. Автор: Andrew T. Hunt,Joe K. Cochran,William Brent Carter. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2001-12-04.

Organometallic chemical vapor deposition of films utilizing organic heterocyclic compounds

Номер патента: US4509997A. Автор: Peter J. Wright,Brian Cockayne,Richard J. M. Griffiths. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 1985-04-09.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US4547404A. Автор: Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: WO2001029281A9. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2001-09-27.

Process for the elaboration of powders uniformly coated with ultrafine silicon-base particles using chemical vapor decomposition in the presence of core powders

Номер патента: US5298296A. Автор: Jean-Marie Friedt,Masahiko Matsukata,Toshinori Kojima,Eiichi Ozawa. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 1994-03-29.

Exhaust system for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4608063A. Автор: Takashi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film

Номер патента: US5209182A. Автор: Tomohiro Ohta,Eiichi Kondoh,Kenichi Otsuka,Tohru Mitomo,Hiroshi Sekihashi. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-05-11.

Chemical vapor deposition system cleaner

Номер патента: US5109562A. Автор: John W. Albrecht. Владелец: C V D System Cleaners Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: US20240060178A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: EP4328351A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

Chemical vapor deposition apparatus and methods of using the apparatus

Номер патента: SG153849A1. Автор: Michael Howard Rucker,Scott Andrew Weaver,George Theodore Dalakos,Daniel Joseph Lewis,Matthew David Saylor,Victor Lienkong Lou. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2009-07-29.

Method and apparatus for monitoring generation of liquid chemical vapor

Номер патента: EP1015659A1. Автор: John Vincent Schmitt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-05.

Chemical vapor reaction process by virtue of uniform irradiation

Номер патента: US4803095A. Автор: Kenji Ito,Shigenori Hayashi,Naoki Hirose,Takashi Inujima. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1989-02-07.

Vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US20190233930A1. Автор: Jian Xu,Yaoyang Liu. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Coating particles in a fluidized bed by vapor deposition

Номер патента: EP1298182A3. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith-A Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2006-02-08.

Method of coating particles by vapor deposition

Номер патента: US20030059530A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20160083836A1. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

System and Method for Sealing a Vapor Deposition Source

Номер патента: US20110255950A1. Автор: Joseph D. LoBue,Robert A. Enzenroth,Lawrence J. Knipp. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09670581B2. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US5264039A. Автор: Raymond W. Gobush,Bryan J. Lovejoy. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 1993-11-23.

Photochemical vapor deposition apparatus and method

Номер патента: CA1181719A. Автор: John W. Peters,Frank L. Gebhart. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1985-01-29.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1531189A1. Автор: Dennis R. Christensen. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Organic vapor jet micro-print head with multiple gas distribution orifice plates

Номер патента: US12127467B2. Автор: Gregory McGraw,William E. Quinn,Roman Korotkov. Владелец: Universal Display Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Method of automatically cleaning a vacuum vapor deposition tank

Номер патента: US5492569A. Автор: Junji Nakada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-20.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20190211437A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2019-07-11.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20210222283A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2021-07-22.

Method for chemical infiltration or vapor deposition

Номер патента: RU2738718C2. Автор: Стефан ГУЖАР,Адриен ДЕЛЬКАМ,Седрик ДЕСКАМ. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2020-12-15.

Photochemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4516527A. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1985-05-14.

Method of cooling induction-heated vapor deposition apparatus and cooling apparatus therefor

Номер патента: US4293755A. Автор: Dennis Garbis,Lawrence Hill,Robert Heller. Владелец: General Instrument Corp. Дата публикации: 1981-10-06.

Apparatus and method for photochemical vapor deposition

Номер патента: CA1297831C. Автор: Scott C. Jackson,Richard E. Rocheleau. Владелец: University of Delaware. Дата публикации: 1992-03-24.

Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09957618B2. Автор: Karen K. Gleason,Miles C. Barr,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-05-01.

Method to reduce plasma charge damage from high density plasma chemical vapor deposition (hdp-cvd) process

Номер патента: US20080146039A1. Автор: Daewon Yang,Jeffery B. Maxson,Ann N. McDonald. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230349046A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma chemical vapor deposition (cvd) apparatus and film forming method

Номер патента: US20240242940A1. Автор: Takuya Hirohashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Directing plasma distribution in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09543125B2. Автор: Hsiang-Wei Lin,Chia-Ho Chen,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Thermal CVD/PECVD reactor and use for thermal chemical vapor deposition of silicon dioxide and in-situ multi-step planarized process

Номер патента: US5000113A. Автор: John M. White,Ilya Perlov,Dan Maydan,David N. Wang,Cissy Leung,Kenneth S. Collins,Kam S. Law,Salvador P. Umotoy,John A. Adamik. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1991-03-19.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09478401B2. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: AGC Flat Glass North America Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Deposition of silicon nitride by plasma-enchanced chemical vapor deposition

Номер патента: US5508067A. Автор: Atsushi Tabata,Tatsuya Sato,Naoaki Kobayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US11851763B2. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US20240076779A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-03-07.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20220119953A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma- enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022086708A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

High speed chemical vapor deposition process utilizing a reactor having a fiber coating liquid seal and a gas sea;

Номер патента: US4863760A. Автор: Christopher A. Schantz,Ronald Hiskes. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1989-09-05.

Chemical vapor deposition apparatus of in-line type

Номер патента: US5288329A. Автор: Kazuyuki Ito,Masanori Hashimoto,Michio Ishikawa,Yoshifumi Ota,Kyuzo Nakamura,Noriaki Tani. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1994-02-22.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Multi-showerhead chemical vapor deposition reactor, process and products

Номер патента: EP3931368A1. Автор: Rajaram Bhat. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-01-05.

Electrical insulator for a plasma enhanced chemical vapor processor

Номер патента: US4761301A. Автор: Charles E. Ellenberger,Hayden K. Piper. Владелец: Pacific Western Systems Inc. Дата публикации: 1988-08-02.

Chromium -free passivation process of vapor deposited aluminum surfaces

Номер патента: EP2539488A1. Автор: John R. Kochilla,Jacob Grant Wiles. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2013-01-02.

Vapor deposition reactor and method for forming thin film

Номер патента: US20100310771A1. Автор: Sang In LEE. Владелец: Synos Technology Inc. Дата публикации: 2010-12-09.

Vapor deposition apparatus, method of forming thin film using the same and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9390841B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Plasma vapor deposited (pvd) coating process

Номер патента: US20170058399A1. Автор: Ann Marie Straccia,Larry P. Haack,Steven J. Simko. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-03-02.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IES87296Y1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IE20210002U1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A2. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2010-03-25.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US9447495B2. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Systems and methods for depositing materials on either side of a freestanding film using laser-assisted chemical vapor deposition (LA-CVD), and structures formed using same

Номер патента: US09583354B2. Автор: David P. Taylor,Margaret H. Abraham. Владелец: Aerospace Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom

Номер патента: CA2068152A1. Автор: Thomas R. Anthony,Robert H. Ettinger,Charles D. Iacovangelo,William L. Mowrey,Sidney P. Young,David W. Woodruff. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-12-13.

Reductive elimination chemical vapor deposition processes utilizing organometallic precursor compounds in semiconductor wafer processing

Номер патента: US5384289A. Автор: Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Fixed abrasive planarization pad conditioner incorporating chemical vapor deposited polycrystalline diamond and method for making same

Номер патента: US6632127B1. Автор: Jerry W. Zimmer,Todd W. Buley,Albert B. Stubbmann. Владелец: Albert B. Stubbmann. Дата публикации: 2003-10-14.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: WO2002086189A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2002-10-31.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: EP1387898A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-02-11.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Method for producing nickel thin film on a Si substrate by chemical vapor deposition method, and method for producing Ni silicide thin film on Si substrate

Номер патента: US09805936B2. Автор: Takayuki Sone,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya,Michihiro YOKOO. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A3. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2013-01-03.

Chemical vapor deposition method

Номер патента: US3565676A. Автор: Robert A Holzl. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1971-02-23.

Method for low temperature chemical vapor deposition of aluminides containing easily oxidized metals

Номер патента: US5503874A. Автор: John F. Ackerman,William R. Stowell,John H. Wood,Adrian M. Beltran. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1996-04-02.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: US5071677A. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,John L. Margrave,C. Judith Chu. Владелец: Houston Advanced Research Center HARC. Дата публикации: 1991-12-10.

Method of producing articles by chemical vapor deposition and the support mandrels used therein

Номер патента: US5869133A. Автор: Thomas Richard Anthony,Robert Helmut Ettinger,James Fulton Fleischer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1999-02-09.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: WO1992019791A1. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,Judith C. Chu,John L. Margrave. Владелец: Houston Advanced Research Center. Дата публикации: 1992-11-12.

METHOD FOR PREPARING THICKNESS-CONTROLLED GRAPHENE USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND Cu-Ni THIN FILM LAMINATE CATALYST

Номер патента: KR101999564B1. Автор: 조길원,이효찬,유민석. Владелец: 재단법인 나노기반소프트일렉트로닉스연구단. Дата публикации: 2019-07-12.

Chemical vapor deposition of polycrystalline diamond with orientation and growth facets

Номер патента: US5437891A. Автор: Thomas R. Anthony,James F. Fleischer,David E. Slutz. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1995-08-01.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane

Номер патента: US5191099A. Автор: Everett C. Phillips,Wayne L. Gladfelter. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1993-03-02.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1087040A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: Vale Canada Ltd. Дата публикации: 1980-10-07.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4250210A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: International Nickel Co Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

Diamond manufacturing system and method via chemical vapor deposition assisted with laser initiated plasma fed with microwave energy

Номер патента: EP3291279A1. Автор: Elena PALACIOS ZAMBRANO,Pedro Julián MARTÍN VELASCO,Vasily LENNIKOV,Susana Maria LUACES OROBITG. Владелец: Nano Coatings SL. Дата публикации: 2018-03-07.

Chemical vapor deposition of perovskite thin films

Номер патента: US20190074439A1. Автор: Xiao Chen,Parag Banerjee,Peifu Cheng,Yoon Myung. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2019-03-07.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Method for growing halide perovskite nanocrystals through in-situ chemical vapor deposition

Номер патента: US20240035194A1. Автор: Chao FAN,Haiping He,Xingliang DAI. Владелец: Wenzhou Xinxin Taijing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US5441766A. Автор: Hyung S. Choi,Young S. Cho,Chong J. Lim,Soon T. Hwang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1995-08-15.

Metal organic vapor deposition procedure for preparing group III--V compounds on a heated substrate

Номер патента: US4436769A. Автор: Rodney H. Moss,Marc M. Faktor. Владелец: British Telecommunications plc. Дата публикации: 1984-03-13.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US20140261177A1. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: WO1993019856A1. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment And Transfer, Inc.. Дата публикации: 1993-10-14.

Fabrication of carbon/carbon composites by forced flow-thermal gradient chemical vapor infiltration

Номер патента: US5916633A. Автор: Walter Jackson Lackey,Sundar Vaidyaraman. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 1999-06-29.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: US5238710A. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment and Transfer Inc. Дата публикации: 1993-08-24.

Graphene vapor deposition system and process

Номер патента: US20230416908A1. Автор: Richard Tracy McDaniel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Vapor deposition methods to form group 8-containing films

Номер патента: US09738971B2. Автор: Satoko GATINEAU,Grigory Nikiforov. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-08-22.

Neutral beam-assisted atomic layer chemical vapor deposition apparatus and method of processing substrate using the same

Номер патента: US7799706B2. Автор: Sung-Woo Kim,Geun-Young Yeom,Byoung-Jae Park,Jong-Tae Lim. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2010-09-21.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20030170982A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20060172087A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: EP2906738A1. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2015-08-19.

Precursor and process design for photo-assisted metal atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09932671B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Paul A. Zimmerman,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Harsono S. Simka,Grant M. Kloster. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: US09909210B2. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: US09534285B2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Initiated chemical vapor deposition of vinyl polymers for the encapsulation of particles

Номер патента: US09492805B2. Автор: Karen K. Gleason,Kenneth K. S. Lau. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5661115A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-08-26.

Methods for area-selective deposition of polymer films using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019842A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Composition control of chemical vapor deposition nitrogen doped germanium antimony tellurium

Номер патента: US20190345607A1. Автор: Takeshi Masuda,Robert Bruce,Matthew J. BrightSky,Norma Edith Sosa,Fabio Carta,Gloria W.Y. Fraczak. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Dynamic wafer leveling/tilting/swiveling during a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2017184293A1. Автор: Tuan Anh Nguyen,Karthik Janakiraman,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Kumar BANSAL. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09899210B2. Автор: Ren-Hua GUO,Ju-Ru HSIEH,Jen-Hao Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Method of ensuring adhesion of chemically vapor deposited oxide to gold integrated circuit interconnect lines

Номер патента: US4716071A. Автор: Dyer A. Matlock,Bruce E. Roberts,Jimmy C. Black. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 1987-12-29.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4503807A. Автор: Satoshi Nakayama,Shigeru Takeda,Masuo Suzuki,Hideaki Takeuchi,Harushige Kurokawa,Junichi Murota,Tatuhiko Hurukado,Humihide Ikeda. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Feedback control of sub-atmospheric chemical vapor deposition processes

Номер патента: US20030049376A1. Автор: Arulkumar Shanmugasundram,Manuel Hernandez,Rong Pan,Alexander Schwarm,Amna Mohammad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-13.

Deposition systems and processes for transport polymerization and chemical vapor deposition

Номер патента: US6086679A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-11.

Very low pressure chemical vapor deposition process for deposition of titanium silicide films

Номер патента: US4957777A. Автор: Vida Ilderem,L. Rafael Reif,Prabha K. Tedrow. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1990-09-18.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Method for the selective deposition of bismuth based ferroelectric thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US6120846A. Автор: Thomas H. Baum,Frank Hintermaier,Bryan Hendrix,Peter Van Buskirk,Jeff Roeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2000-09-19.

Exclusion guard and gas-based substrate protection for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5843233A. Автор: Barry L. Chin,Eliot K. Broadbent,Jeffrey C. Benzing,Christopher W. Burkhart,Edward J. McInerney,Everhardus P. van de Ven,Lawrence C. Lane. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US11661655B2. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-05-30.

Metal organic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP3652358A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-05-20.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: EP3551780A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-16.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: WO2018106886A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: WO2007106788A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2007-09-20.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: WO2021250499A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: OKINAWA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY SCHOOL CORPORATION. Дата публикации: 2021-12-16.

Plasma Chemical Vapor Deposition Process

Номер патента: US20230312392A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2023-10-05.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: EP4143363A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: Okinawa Institute of Science and Technology School Corp. Дата публикации: 2023-03-08.

Temperature-controlled purge gate valve for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20090205563A1. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Plasma-activated chemical vapor deposition of fluoridated cyclic siloxanes

Номер патента: US5230929A. Автор: Gerardo Caporiccio,Riccardo D'agostino,Pietro Favia. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1993-07-27.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US11842883B2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A3. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Plasma chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11956884B2. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2024-04-09.

Plasma Chemical Vapor Deposition Apparatus

Номер патента: US20220377871A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2022-11-24.

Method for etching and controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US4468283A. Автор: Irfan Ahmed. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US10208398B2. Автор: Daisuke Muto,Jun NORIMATSU. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-02-19.

Inverted positive vertical flow chemical vapor deposition chamber

Номер патента: CA1209330A. Автор: James D. Parsons. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1986-08-12.

Equipment for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20070002277A. Автор: 나민재. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-01-05.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Method for manufacturing cigs light absorption layer for solar cell through chemical vapor deposition

Номер патента: EP4340047A1. Автор: Seung Hyun Lee,Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,Hea Yong KWON,Tae Yeop Jeon,Tae Woo Eom. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US11885018B2. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-01-30.

Methods for the photo-initiated chemical vapor deposition (picvd) of coatings and coatings produced by these methods

Номер патента: EP2989229A1. Автор: Christopher Alex DORVAL DION,Jason Robert TAVARES. Владелец: Polyvalor LP. Дата публикации: 2016-03-02.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof for suppressing background carbon incorporation

Номер патента: US11846024B2. Автор: Hongping Zhao,Yuxuan ZHANG,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2023-12-19.

Thermal chemical vapor deposition system and operating method thereof

Номер патента: US20170107619A1. Автор: Ding-I Liu,Si-Wen Liao,Po-Hsiung Leu,Kai-Shiung Hsu,Jui-Fu Hsu,Cheng-Tsung WU,Yi-Fang Lai,Yen-Chan LO,Jheng-Uei HSIEH,Shian-Huei LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-20.

Method for Fabricating Solar Cell Using Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20120077306A1. Автор: Jong Ho Lee,Ho-Sung Kim,Chaehwan JEONG,Seongjae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2012-03-29.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20080194104A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-08-14.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20060094218A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-05-04.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof

Номер патента: US20210355581A1. Автор: Hongping Zhao,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2021-11-18.

Method for recycling organic ruthenium compound for chemical vapor deposition

Номер патента: US20150087851A1. Автор: Masayuki Saito,Ryosuke Harada,Toshiyuki Shigetomi,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-03-26.

Plasma enhanced chemical vapor reactor with shaped electrodes

Номер патента: US5628869A. Автор: Thomas G. Mallon. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1997-05-13.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US11804375B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US20240096631A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09957601B2. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Ceramic matrix composite structures with controlled microstructures fabricated using chemical vapor infiltration (CVI)

Номер патента: US12054432B2. Автор: Krishan Lal Luthra,Gregory Scot Corman,Jared Hogg Weaver. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-06.

Tunable masks for uniformity management of pvd coating thickness

Номер патента: US20190169732A1. Автор: Shiping Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-06.

Chemical vapor infiltration apparatus and process

Номер патента: CA2839406C. Автор: Joseph R. Vargas,Steven J. Seelman,David B. Roberts. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Chemical vapor phase growing method of a metal nitride film and a method of manufacturing an electronic device using the same

Номер патента: US6284649B1. Автор: Takaaki Miyamoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-09-04.

Apparatus and method for inductively-coupled-plasma-enhanced ionized physical-vapor deposition

Номер патента: WO1999027153A1. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Cvc, Inc.. Дата публикации: 1999-06-03.

Film quality control in a linear scan physical vapor deposition process

Номер патента: US20190311905A1. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Particle reduction in physical vapor deposition of amorphous silicon

Номер патента: WO2024081221A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Vapor deposition method and vapor deposition container

Номер патента: US20240110274A1. Автор: Yoshihiko Mochizuki,Mitsuru Iwata,Yasunori Yonekuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: US20020132721A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-09-19.

Vapor deposition method for producing an organic EL panel

Номер патента: US09947904B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and method of manufacturing organic electroluminescent display device

Номер патента: US09714466B2. Автор: Satoshi Inoue,Satoshi Hashimoto,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for stretching vapor deposition mask, method for producing frame-equipped vapor deposition mask, method for producing organic semiconductor element, and stretching apparatus

Номер патента: US09705083B2. Автор: Toshihiko Takeda,Hideyuki Okamoto,Yoshiyuki Honma,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-07-11.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09493872B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09458532B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: EP2839055A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: WO2013157057A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: FURUKAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

Physical vapor deposition target assemblies, and methods of forming physical vapor deposition target assemblies

Номер патента: EP1335994A2. Автор: Jianxing Li,Timothy Scott. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-08-20.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: WO2001044535A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2001-06-21.

Methods for depositing amorphous silicon layers or silicon oxycarbide layers via physical vapor deposition

Номер патента: US20180142343A1. Автор: Yong Cao,Huixiong Dai,Khoi Phan,Xianmin Tang,Christopher Ngai,Rongjun Wang,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-24.

Toposelective vapor deposition using an inhibitor

Номер патента: US20220181163A1. Автор: Michael Givens,Varun Sharma,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-09.

Vapor-deposited film having barrier performance

Номер патента: US09650191B2. Автор: Shigenobu Yoshida,Koji Yamauchi,Shigeto Kimura,Tooru Hachisuka. Владелец: MITSUBISHI PLASTICS INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Vapor deposition device and method for producing epitaxial wafer

Номер патента: EP4219804A1. Автор: Akira Okabe. Владелец: Epicrew Corp. Дата публикации: 2023-08-02.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20110005460A1. Автор: Yuji Yanagi,Tatsuya Hirano,Nobuyuki Shigeoka. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emittng material

Номер патента: US20190355938A1. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Device for vapor depositing metal

Номер патента: US20210348260A1. Автор: Lixia RUAN,Daoxu LIU. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Scan vapor deposition metal mask, vapor deposition device, vapor deposition method, and electroluminescence display device

Номер патента: US20190071762A1. Автор: Satoshi Inoue,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Manabu Niboshi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-03-07.

Vapor deposition material

Номер патента: US6143437A. Автор: Yoshitaka Kubota,Satoshi Kondou. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2000-11-07.

Physical vapor deposition tile arrangement and physical vapor deposition arrangement

Номер патента: US20150114824A1. Автор: Klaus Schneider,Christoph Kaiser,Bernd Teichert,Michael Rivkin,George Arthur Proulx. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2015-04-30.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electronic device

Номер патента: EP3822388A1. Автор: Shinichiro Kobayashi,HIROSHI Miyazaki,Hiroshi Fujimoto. Владелец: Fukuoka Industry Science and Technology Foundation. Дата публикации: 2021-05-19.

Vapor Deposition Apparatus and Process for Continuous Indirect Deposition of a Thin Film Layer on a Substrate

Номер патента: US20130122630A1. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Method for changing physical vapor deposition film form

Номер патента: US20100022101A1. Автор: Yi-Hao Ting. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2010-01-28.

Base paper for vapor deposition paper and vapor deposition paper

Номер патента: US20240309588A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Manufacturing method for vapor deposition mask device and manufacturing apparatus for vapor deposition mask device

Номер патента: US12128500B2. Автор: Hideyuki Okamoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-10-29.

Physical vapor deposition of low-stress nitrogen-doped tungsten films

Номер патента: US09938616B2. Автор: Michael Ng,Michael Rumer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Ion vapor deposition of aluminum on non-metallic materials

Номер патента: US09909207B1. Автор: Timothy Cranford. Владелец: Cametoid Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US09447494B2. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Vapor deposition apparatus and process for continuous indirect deposition of a thin film layer on a substrate

Номер патента: US09412892B2. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Vapor deposition device

Номер патента: US09315893B2. Автор: Chunyun Huang. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-19.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20220220600A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Kozo Yano,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device

Номер патента: US20190106781A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-11.

Method of controlling contamination of vapor deposition apparatus and method of producing epitaxial wafer

Номер патента: US20200392618A1. Автор: Shota Kinose. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Physical vapor deposition chamber with rotating magnet assembly and centrally fed rf power

Номер патента: WO2011139439A3. Автор: Keith Miller,Alan Ritchie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Vapor deposition apparatus and process for continuous deposition of a doped thin film layer on a substrate

Номер патента: MY161000A. Автор: Scott Daniel Feldman-Peabody,Mark Jeffrey Pavol. Владелец: First Solar Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2017-03-31.

Apparatus and method for introducing small amounts of refractory elements into a vapor deposition coating

Номер патента: US20030140856A1. Автор: Reed Corderman,Melvin Jackson,Richard Nardi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-31.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus for forming organic thin films

Номер патента: US20030131796A1. Автор: Toshitaka Kawashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230175113A1. Автор: Sangwook Park,Kyuhee Han,Jaesuk KIM,Gukrok YUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Vacuum vapor deposition method

Номер патента: US09863034B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: US09822440B2. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US09650709B2. Автор: Jie Yin,Dejiang Zhao,Jianwei Yu,Haoran GAO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method of producing articles by vapor deposition of multiconstituent material

Номер патента: CA1209949A. Автор: Robert P.H. Chang. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1986-08-19.

Vapor deposition carrier plate and method for performing vapor deposition on substrate by using vapor deposition carrier plate

Номер патента: US20210180181A1. Автор: Zhiqiao LIU. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Vapor deposition source for vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230279536A1. Автор: Toshimitsu Nakamura,Jungo Onoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Particle Reduction in Physical Vapor Deposition of Amorphous Silicon

Номер патента: US20240128075A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Tunable gas distribution plate assembly

Номер патента: WO2004064407A2. Автор: William A. Bagley,John M. White,Wendell T. Blonigan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2004-07-29.

Gas distribution system and reactor system including same

Номер патента: US12024775B2. Автор: Sonti Sreeram,Junwei Su,Loc Vinh Tran. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-02.

Gas distribution system and reactor system including same

Номер патента: US20230313377A1. Автор: Sonti Sreeram,Junwei Su,Loc Vinh Tran. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-05.

Physical vapor deposition system and methods of operating the same

Номер патента: US20240271271A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US11753736B2. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2023-09-12.

Showerhead having a detachable gas distribution plate

Номер патента: US09610591B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Jennifer Y. Sun,Hamid Noorbakhsh,Jason Della ROSA,Sumanth Banda,Vladimir KNYAZIK,Zheng John Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Method and system for conditioning a vapor deposition target

Номер патента: EP2013373B1. Автор: Robert Huff,Milan Ilic,George McDonough. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US11866818B2. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Vacuum coating apparatus for uniformly distributing metal vapor using uniform mixing buffer structure

Номер патента: US20230323526A1. Автор: Fei Xiong,Yueming Zhou,Junfei Fan,Shanqing Li,Sanbing REN. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A2. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-06-29.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US20230265553A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-08-24.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: WO2022197723A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Vacuum deposition apparatus and vapor deposition method

Номер патента: US20170283938A1. Автор: Peng Xu,Gu Yao,Suwei ZENG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: EP4211288A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-07-19.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A3. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-08-17.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: WO2022184585A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2022-09-09.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: US20220301828A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Vacuum vapor-deposition apparatus

Номер патента: US20090314212A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-24.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: EP3717675A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: China Triumph International Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: WO2019104727A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: CTF SOLAR GMBH. Дата публикации: 2019-06-06.

Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition

Номер патента: WO2009017376A3. Автор: Hong Chul Kim,Jeong Rae Kim,Hyun Joong Kim. Владелец: CEKO Corp Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: EP4296401A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2023-12-27.

Films including a water-soluble layer and a vapor-deposited inorganic coating

Номер патента: US20210362924A1. Автор: Emily Charlotte Boswell,Srinivas Krishnaswamy Mirle,Vesselin Nikolov Shanov,Rachit MALIK,Colin William MCCONNELL. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2021-11-25.

Fixture and method for uniform electroless metal deposition on integrated circuit bond pads

Номер патента: US20010047944A1. Автор: Gonzalo Amador,Roger Stierman. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2001-12-06.

Physical vapor deposition machine with a shutter having at least one intermediate position

Номер патента: WO2023110807A1. Автор: Francis Henky. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-06-22.

Vapor deposition crucible

Номер патента: US20060013949A1. Автор: Makoto Adachi,Takeshi Mitsuishi,Takeshi Imizu,Ken-Ichi Shinde. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: WO2023247173A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20210050195A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US20240018684A1. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2024-01-18.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Apparatus and method for physical vapor deposition

Номер патента: US20240339310A1. Автор: Wen-Cheng Yang,Chyi-Tsong Ni,Yu-Young Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Physical vapor deposition system and physical vapor depositing method using the same

Номер патента: US09887073B2. Автор: Hung-Wen Su,Chih-Chien Chi,Pei-Hsuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Methods of vapor deposition with multiple vapor sources

Номер патента: US09873942B2. Автор: Mohith Verghese,Eric Shero,Jan Willem Maes,Christophe Pomarede,Chang-gong Wang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-01-23.

Polylactic acid formed body having a vapor-deposited film and method of producing the same

Номер патента: US09845175B2. Автор: Kazuhiko Yamazaki,Takuro Ito,Satoru Kito,Satomi Ozawa. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09806257B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Vapor deposition method and method for producing an organic electroluminescence display device

Номер патента: US09741932B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Coaxial hollow cathode plasma assisted directed vapor deposition and related method thereof

Номер патента: US09640369B2. Автор: Goesta Mattausch,Haydn N. G. Wadley,Henry Morgner,Frank-Holm Roegner. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2017-05-02.

Physical vapor deposition RF plasma shield deposit control

Номер патента: US09605341B2. Автор: Keith A. Miller. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Physical vapor deposition of an aluminum nitride film

Номер патента: US09484198B1. Автор: Yung-Chin Yang,Chen-Te Chang,Jyh-Wei Lee. Владелец: Ming Chi University of Technology. Дата публикации: 2016-11-01.

Vapor-deposited film

Номер патента: CA2453596A1. Автор: Noboru Sasaki,Hiroshi Suzuki,Takayuki Nakajima,Takeshi Kanetaka,Miki Oohashi,Ryoji Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-06.

Method for depositing a thin layer on a substrate by laser pulse vapor deposition

Номер патента: US5578350A. Автор: Klaus Schubert,Hermann Mai,Reiner Dietsch. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 1996-11-26.

Deflection magnetic field type vacuum arc vapor deposition device

Номер патента: US20070023282A1. Автор: Yasuo Murakami. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

Zn-Mg alloy vapor deposition plated metals of high corrosion resistance, as well as method of producing them

Номер патента: US5002837A. Автор: Hiroshi Satoh,Masao Toyama,Shingo Nomura,Hirohiko Sakai,Shoji Miyake,Koki Ikeda,Kazutoshi Shimogori,Hidetoshi Shimoto,Junji Kawahuku. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1991-03-26.

Methods for controlling physical vapor deposition metal film adhesion to substrates and surfaces

Номер патента: AU2019217883B2. Автор: Akhil Srinivasan,Yifei Wang. Владелец: Medtronic Minimed Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Method and chamber for backside physical vapor deposition

Номер патента: US20230335393A1. Автор: Yong Cao,Kevin Vincent Moraes,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Chunming Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emitting material

Номер патента: US10553834B2. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-04.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20110189390A1. Автор: Takahisa Yamamoto,Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa. Владелец: Tama-Tlo Ltd. Дата публикации: 2011-08-04.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20150044391A1. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-02-12.

System for cadmium telluride (cdte) reclamation in a vapor deposition caonveyor assembly

Номер патента: MY154653A. Автор: Reed Max William,Pavol Mark Jeffrey,Rathweg Christopher. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2015-07-15.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: EP2398930A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: WO2010096533A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-08-26.

Evaporation source for use in vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230357919A1. Автор: Hironori Wakamatsu,Toshimitsu Nakamura,Fumitsugu Yanagihori,Masashi UMEHARA. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Vapor deposition of molybdenum using a bis(alkyl-arene) molybdenum precursor

Номер патента: EP3740600A1. Автор: Thomas H. Baum,Shuang Meng,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen,JR. Robert WRIGHT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2020-11-25.

Method and apparatus for asymmetric selective physical vapor deposition

Номер патента: US20190276926A1. Автор: Joung Joo Lee,Keith Miller,Sudarsan Srinivasan,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki,Sree Rangasai KESAPRAGADA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20190067582A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2019-02-28.

Container-shaped physical vapor deposition targets

Номер патента: US20030015432A1. Автор: Jianxing Li,Steven Wu,Michael Pinter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Vapor deposition routes to nanoporous silica

Номер патента: US6022812A. Автор: Douglas M. Smith,Teresa Ramos,Kevin H. Roderick. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Vapor deposition method for depositing a film of fluorine-containing glass on a substrate

Номер патента: US5454847A. Автор: Olivier Perrot,Charles Jacoboni,Brigitte Boulard. Владелец: Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite. Дата публикации: 1995-10-03.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: PH12015500676B1. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: Dainippon Printing Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-18.

Electrode for vapor deposition and vapor-deposition method using same

Номер патента: US4978556A. Автор: Eduard Pinkahsov. Владелец: Vapor Technologies Inc. Дата публикации: 1990-12-18.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: AU2013321072A1. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2015-05-07.

Optical coatings of variable refractive index and high laser-resistance from physical-vapor-deposited perfluorinated amorphous polymer

Номер патента: US5882773A. Автор: Ian M. Thomas,Robert Chow,Gary E. Loomis. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1999-03-16.

Method and apparatus for pulsed energy induced vapor deposition of thin films

Номер патента: US5015492A. Автор: THIRUMALAI VENKATESAN,Xin D. Wu. Владелец: Bell Communications Research Inc. Дата публикации: 1991-05-14.

Method of vapor deposition

Номер патента: US3934059A. Автор: Murray Arthur Polinsky. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1976-01-20.

Take up type vacuum vapor deposition device

Номер патента: EP2037001B1. Автор: Nobuhiro Hayashi,Kenji Komatsu,Isao Tada,Atsushi Nakatsuka,Takayoshi Hirono. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US11800779B2. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Thermal conduction device and vapor deposition crucible

Номер патента: US20180148827A1. Автор: Yang Liu,Yawei Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Film forming source, vapor deposition apparatus, and apparatus for manufacturing an organic el element

Номер патента: US20110042208A1. Автор: Toshio Negishi,Tatsuhiko Koshida. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Multi-zone gas distribution for asymmetric wafer bow compensation

Номер патента: WO2023220302A1. Автор: James Forest Lee,Adriana VINTILA,Yanhui Huang,Daniel BOATRIGHT,Curtis Warren Bailey,Chad Adrien BEAUDETTE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Vacuum coating device for uniformly distributing metal steam by using guide plate type structure

Номер патента: US20230340657A1. Автор: Fei Xiong,Junfei Fan,Shanqing Li,Xiaoli Jin,Sanbing REN. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Physical vapor deposition processing systems target cooling

Номер патента: SG11201905739QA. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Kartik Shah,Wei W Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-08-27.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US20190214562A1. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Vapor deposition mask and method for producing organic electronic device

Номер патента: US20240084434A1. Автор: Shinichiro Watanabe,Takahiro Yajima,Tatsuro Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Preparation apparatus for uniform silicon carbide crystals

Номер патента: US20210189590A1. Автор: Bo-Cheng Lin,Chih-Wei Kuo,Dai-liang Ma,Bang-Ying Yu,Hsueh-I Chen,Cheng-Jung Ko,Chia-Hung Tai. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2021-06-24.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1117853A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Keith H. Betscher,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans, Sr.,William Allen Bowlin,Harold Phillips Ii Dillon. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-25.

Manufacturing medical devices by vapor deposition

Номер патента: US20030018381A1. Автор: Makoto Takeuchi,Forrest Whitcher. Владелец: Scimed Life Systems Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (PVD) dielectric deposition

Номер патента: US11842890B2. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Chemical vapor deposition methods and methods of etching a contact opening over a node location on a semiconductor substrate

Номер патента: US20020123221A1. Автор: Chris Hill,Mark Jost. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Selective area deposition of metal films by atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09583389B2. Автор: Florian Gstrein,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Jeanette M. Roberts. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Chemical-vapor-deposition silicon carbide bulk having improved etching characteristic

Номер патента: US11859309B2. Автор: Kang Suk Kim,Young Ju Kim,Hak Jun AHN,Youn Woong JUNG,Jun Baek SONG,Won Geun SON. Владелец: DS TECHNO Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Method for performing metallo-organic chemical vapor deposition of titanium nitride at reduced temperature

Номер патента: US20020001928A1. Автор: Mei Chang,Ming Xi,Keith K. Koai,Shulin Wang,Huan LUO,Russell C. Ellwanger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Process for chemical vapor deposition of materials with via filling capability and structure formed thereby

Номер патента: US20080164579A1. Автор: Alejandro G. Schrott,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Magnetically enhanced high density plasma-chemical vapor deposition plasma source for depositing diamond and diamond-like films

Номер патента: US09951414B2. Автор: Roman Chistyakov,Bassam Hanna Abraham. Владелец: IonQuest Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method of forming vanadium oxide films and vanadium oxide thin-films prepared thereby

Номер патента: US6156395A. Автор: Ping Liu,David K. Benson,C. Edwin Tracy,Ji-Guang Zhang,John A. Turner. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-12-05.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Aerosol assisted chemical vapor deposition methods useful for making dye-sensitized solar cells with platinum dialkyldithiocarbamate complexes

Номер патента: US11742151B2. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abdul REHMAN,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-08-29.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20220025515A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20180010245A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US6903462B2. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US20090039517A1. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Pyrolytic chemical vapor deposition of silicone films

Номер патента: US6045877A. Автор: Karen K. Gleason,Michael C. Kwan. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2000-04-04.

Method and system for producing graphene on a copper substrate by modified chemical vapor deposition (AP-CVD)

Номер патента: US11624114B2. Автор: Patricio HÄBERLE TAPIA,Christian ORELLANA GÓMEZ. Владелец: Universidad Tecnica Federico Santa Maria USM. Дата публикации: 2023-04-11.

Process-specific wafer carrier correction to improve thermal uniformity in chemical vapor deposition systems and processes

Номер патента: US20170053049A1. Автор: Sandeep Krishnan,Lukas Urban. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Vibro-thermally assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: US20230304146A1. Автор: Aaron M. Feaver,Henry R Costantino,Christopher Timmons,Brett KILCUP,Frank BRUNEEL,Michael Pittman. Владелец: Group14 Technologies Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Passivation against vapor deposition

Номер патента: US20210115559A1. Автор: Varun Sharma,Eva E. Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-04-22.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US8654298B2. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-02-18.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US20110242447A1. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Techniques for marking a substrate using a physical vapor deposition material

Номер патента: US09849650B2. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Vapor deposition mask, and manufacturing method and manufacturing device for organic EL element using vapor deposition mask

Номер патента: US09580791B2. Автор: Satoshi Inoue,Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Photoelectric conversion device vapor deposition material, photoelectric conversion device, sensor, and imaging device

Номер патента: US09691999B2. Автор: Mitsumasa Hamano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Techniques for Marking a Substrate using a Physical Vapor Deposition Material

Номер патента: US20180072021A1. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US09691771B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-06-27.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (CVD) in liquid crystals

Номер патента: US10907038B2. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2021-02-02.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for preparing perovskite solar cell absorbing layer by means of chemical vapor deposition

Номер патента: US20220230813A1. Автор: Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,So Yeon Lee. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20220029049A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Ahmed Alyamani,Abdulrahman Albadri,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2022-01-27.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20190245112A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2019-08-08.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Single-crystal diamond, method for manufacturing single-crystal diamond, and chemical vapor deposition device used in same

Номер патента: US20190031515A1. Автор: Yutaka Kobayashi,Yoshiki Nishibayashi,Natsuo Tatsumi,Hitoshi Sumiya,Akihiko Ueda,Takuya NOHARA. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC HARDMETAL CORP. Дата публикации: 2019-01-31.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: WO2024168346A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: US20240282546A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of manufacturing self-healing polymer that can control physical character according to composition using initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US11680124B2. Автор: Yujin Lee,SungGap IM,Moon Jin KWAK,Kihoon JEONG,Youson KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-06-20.

Method for forming aluminum oxide/carbon nanotubes by ultrasonic atomization and chemical vapor deposition

Номер патента: US09834444B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2017-12-05.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: US09617156B2. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Synthesis of ordered microporous carbons by chemical vapor deposition

Номер патента: US09604194B2. Автор: Cemal Ercan,Minkee Choi,Rashid M. Othman,Yuguo Wang,Seokin Choi. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-03-28.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Chemical vapor deposition reactor in polysilicon production process

Номер патента: US20240084480A1. Автор: David Keck,Chad Fero. Владелец: Advanced Material Solutions. Дата публикации: 2024-03-14.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition graphene foam electrodes for pseudo-capacitors

Номер патента: US9263196B2. Автор: Thomas A. Yager. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-02-16.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Method for enhancing growth of semipolar (Al,In,Ga,B)N via metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US8405128B2. Автор: Hitoshi Sato,Shuji Nakamura,Steven P. DenBaars,Benjamin A. Haskell,John F. Kaeding,Michael Iza,Troy J. Baker. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2013-03-26.

Chemical vapor deposition reactor having ceramic lining for production of polysilicon

Номер патента: US20140235041A1. Автор: Anatoly Alexandrovich Goncharov,Yury Dmitrievich Kalashnikov. Владелец: Ecolive Technologies Ltd. Дата публикации: 2014-08-21.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Internal coating of a glass tube by plasma pulse-induced chemical vapor deposition

Номер патента: US5059231A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Hartmut Bauch. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-10-22.

Vapor phase epitaxial growth method by organometallic chemical vapor deposition

Номер патента: CA1242623A. Автор: Yoshinobu Matsuda,Akio Sasaki,Shigeo Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

Novel combination catalysts based on iron for the substantial synthesis of multi-walled carbon nanotubes by chemical vapor deposition

Номер патента: US20120177545A1. Автор: Abdulaziz A. Bagabas,Mohammed Abdullah Bahattab,Ibrahim M. Al-Najjar. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2012-07-12.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: US20190136033A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-05-09.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: US20160329456A1. Автор: Moon Chun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-10.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: WO2016182824A1. Автор: Moon Chun. Владелец: SunPower Corporation. Дата публикации: 2016-11-17.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: WO2017181108A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN. Дата публикации: 2017-10-19.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: EP3442901A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-02-20.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09958425B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Quantum dot—polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09599564B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Gas injectors including a funnel- or wedge-shaped channel for chemical vapor deposition (CVD) systems and CVD systems with the same

Номер патента: US9481944B2. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven,Ed Lindow,Ronald Thomas Bertram, JR.. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2016-11-01.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition.

Номер патента: NL2005365C2. Автор: Rutger Alexander David Raalten,Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2012-03-20.

Growth of non-polar m-plane iii-nitride film using metalorganic chemical vapor deposition (mocvd)

Номер патента: US20080026502A1. Автор: James Speck,Steven DenBaars,Bilge Imer. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2008-01-31.

Chemical vapor deposition apparatus for obtaining high quality epitaxial layer with uniform film thickness

Номер патента: US4992301A. Автор: Masao Mikami,Fumitoshi Toyokawa,Seiichi Shishiguchi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1991-02-12.

Compounds for use as chemical vapor deposition precursors, thermochromic materials light-emitting diodes, and molecular charge-transfer salts and methods of making these compounds

Номер патента: US6103459A. Автор: Bruce Diel. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-08-15.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166A1. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Delft Enterprises BV. Дата публикации: 2012-03-22.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166C. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2021-04-06.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Methods and devices for graphene formation on flexible substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US11823895B2. Автор: Chyi-Ming Leu,Chih-Cheng Lin,Nai-Chang Yeh,Chi-Fu Tseng,Chen-Hsuan LU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-11-21.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Chemical vapor deposition method for fabricating two-dimensional materials

Номер патента: EP3443138A1. Автор: Nigel Pickett,Ombretta Masala,Nicky Prabhudas SAVJANI. Владелец: Nanoco Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Method of selective growth of van der waals heterostructures on a graphene substrate by chemical vapor deposition using electron-beam irradiation and a heterostructure manufactured by this method

Номер патента: WO2024058678A1. Автор: Jakub SITEK,Karolina CZERNIAK-ŁOSIEWICZ. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2024-03-21.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: US20070003696A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2007-01-04.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: EP1608799A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2005-12-28.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: WO2004085717A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zuerich. Дата публикации: 2004-10-07.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemical vapor condensation deposition of photoresist films

Номер патента: WO2022177704A1. Автор: Kelvin Chan,Lakmal Charidu KALUTARAGE,Mark Joseph Saly. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Ceramic matrix composites made by chemical vapor infiltration and methods of manufacture thereof

Номер патента: CA2924053C. Автор: Krishan Lal Luthra,Gregory Scot Corman,Badri Narayan Ramamurthi. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-07-17.

Gas distribution grate for polymeriser

Номер патента: RU2464083C2. Автор: Джузеппе ПЕНЦО,Габриеле ГОВОНИ,Лучано МИКЬЕЛИН,Роберто РИНАЛЬДИ. Владелец: Базелль Полиолефин Италия С.Р.Л.. Дата публикации: 2012-10-20.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: USRE32777E. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1988-11-01.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: US4652438A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1987-03-24.

Single-step synthesis of nanostructured thin films by a chemical vapor and aerosol deposition process

Номер патента: US20160056448A1. Автор: Pratim Biswas,Tandeep Singh Chadha,Woo-Jin An. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2016-02-25.

Method and device for uniform steam generation from discharged heat of dehydration of saturated hydrocarbons

Номер патента: RU2518971C2. Автор: Саша Венцель,Макс ХЕЙНРИЦ-АДРИАН. Владелец: Уде Гмбх. Дата публикации: 2014-06-10.

Lamp with particles coated by vapor deposition

Номер патента: US20030057824A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Conductive flakes by sputtering and vapor deposition

Номер патента: WO2004070733A2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Laboratories Of Arizona, Inc.. Дата публикации: 2004-08-19.

Method and apparatus for uniformly heating a substrate

Номер патента: WO2007014133A3. Автор: Daniel J Harrison,Pamela A Geddes,Jim Ibarra,Joel D Neri. Владелец: Joel D Neri. Дата публикации: 2009-04-23.

Method and apparatus for uniformly heating a substrate

Номер патента: WO2007014133A2. Автор: Pamela A. Geddes,Daniel J. Harrison,Joel D. Neri,Jim Ibarra. Владелец: International Imaging Materials, Inc.. Дата публикации: 2007-02-01.

Multiple-surface imposition vapor deposition mask

Номер патента: US09548453B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-01-17.

Method for producing multiple-surface imposition vapor deposition mask, multiple-surface imposition vapor deposition mask obtained therefrom, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09343679B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-05-17.

Resin composition for direct vapor deposition, molded articles made by using the same, and surface-metallized lamp housing

Номер патента: US20100159134A1. Автор: Yoshihiro Nakai,Takahiro Ikebe,Hideyuki Shigemitsu,Keiji Obata. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-24.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US09527098B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-12-27.

Reactor with gas distribution system in bottom part

Номер патента: RU2553897C2. Автор: Франсискус Йоханнес Мария СХРАУВЕН. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2015-06-20.

Method and apparatus for manufacturing optical fiber preforms using the outside vapor deposition process

Номер патента: US20050076680A1. Автор: Hyung-Soo Shin,Chan-Yong Park,Man-Soo Choi,Bong-hun Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-14.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020190223A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020192372A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Hydrophobic materials made by vapor deposition coating and applications thereof

Номер патента: EP2440402A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Hydrophobic Materials Made By Vapor Deposition Coating and Applications Thereof

Номер патента: US20140147655A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2014-05-29.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US12054431B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US09981880B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Gas distribution arrangement for a fluidized bed

Номер патента: US09440210B2. Автор: Werner Filtvedt,Arve Holt. Владелец: Institutt for Energiteknikk IFE. Дата публикации: 2016-09-13.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US11511301B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-11-29.

Vapor deposition equipment including a selenization process for fabricating cigs film

Номер патента: US20160293789A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Jen-Chieh Li,Chui-Yu Chiu,Tsang-Ming Hsu,Shih-Shan Wei,Tsan-Tung Chen. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2016-10-06.

Conductive flakes manufactured by combined sputtering and vapor deposition

Номер патента: US7754106B2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Labs Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Double pipe for uniformly distributing flow

Номер патента: US11986755B2. Автор: Young-Hwa Choi. Владелец: Technology Trading LLC. Дата публикации: 2024-05-21.

Enhancing performance stability of electroactive polymers by vapor-deposited organic networks

Номер патента: US20190055371A1. Автор: T. Alan Hatton,Karen K. Gleason,Andong Liu,Xianwen Mao. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2019-02-21.

Gas distributor plate for gas distribution and flow guidance in electrolysers and fuel cells

Номер патента: US20200343564A1. Автор: Stefan Schoenbauer,Ulrich Berner. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2020-10-29.

Self-sealing shower head with disinfectant

Номер патента: WO2018116291A9. Автор: Lidor Zabari. Владелец: Lidor Zabari. Дата публикации: 2018-08-23.

Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid

Номер патента: CA2636662C. Автор: James J. Finley. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2011-08-16.

Method for making an eyeglass lens coated by means of physical vapor deposition pvd and intermediate assembly for the production of a coated eyeglass lens for said method

Номер патента: EP3695959A1. Автор: Marco QUEBOLI,Carlo RONI,Claudia Fagini,Danilo Mandelli. Владелец: The'lios SpA. Дата публикации: 2020-08-19.

Shower head with toroidal regulator and magnetic ring

Номер патента: RU2655144C1. Автор: Бранко МИРКОВ. Владелец: Фтт Доо. Дата публикации: 2018-05-23.

Gas distribution element for fuel element

Номер патента: RU2630896C2. Автор: Закари ВЮИЙЕМЕН. Владелец: ЭйчТиСЕРАМИКС С.А.. Дата публикации: 2017-09-14.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Plattenanordnung mit CVDD-(Chemical Vapor Deposition Diamond)-Fenstern für den Wärmetransport

Номер патента: DE112019007581B4. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microchip Tech Caldicot Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Methods for fabricating integrated circuits using flowable chemical vapor deposition techniques with low-temperature thermal annealing

Номер патента: US09831098B2. Автор: TAO Han,Sukwon Hong,Sandeep Gaan,Xinyuan Dou,Shimpei Yamaguchi,Satyajit Shinde,Carlos Chacon. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09544998B1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-01-10.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Methods for stabilization of self-assembled monolayers (sams) using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019841A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods For Stabilization Of Self-Assembled Monolayers (SAMs) Using Sequentially Pulsed Initiated Chemical Vapor Deposition (spiCVD)

Номер патента: US20240017290A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Method of producing photoluminescence of individual color centers in vapor-deposited diamond

Номер патента: RU2655026C1. Автор: Владимир Алексеевич Кукушкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2018-05-23.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Magnetic recording head for perpendicular recording with enhanced covering power of protective film, fabrication process, and magnetic disk storage apparatus mounting the magnetic recording head

Номер патента: US20060090329A1. Автор: Tomohiro Okada,Isao Nunokawa,Atsushi Kato,Ichiro Oodake. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2006-05-04.

Method of fabricating a magnetic recording head for perpendicular recording with enhanced covering power

Номер патента: US7882617B2. Автор: Tomohiro Okada,Isao Nunokawa,Atsushi Kato,Ichiro Oodake. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2011-02-08.

Consistent alignment mark profiles on semiconductor wafers using metal organic chemical vapor deposition titanium nitride protective layer

Номер патента: US6157087A. Автор: Joe W. Zhao,Keith K. Chao,Shumay X. Dou. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2000-12-05.

Selective chemical vapor deposition of tungsten for microdynamic structures

Номер патента: US5149673A. Автор: Liang-Yuh Chen,Noel C. MacDonald,Zuoying L. Zhang. Владелец: Cornell Research Foundation Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Liquid chemical vapor recovery device, wet stripping device, photoresist stripping process, and method for manufacturing thin film transistor-liquid crystal display using the same

Номер патента: US20190064674A1. Автор: Hao Yin,Xiaoning Liu,Qianqian Li,Mingming Wang,Dongseob Kim,Shikai Wang,Yadong Xu,Jun Geng,Yadong Liang,Zhongren JIANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020058413A1. Автор: Anand Srinivasan,Raj Narasimhan,Sujit Sharon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Chemically vapor deposited saw guides

Номер патента: US5415069A. Автор: Jerry Collins,John Hoover,Al Latham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-05-16.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of advanced lubricant for thin film storage medium

Номер патента: US20090263592A1. Автор: Lei Li,Michael Joseph Stirniman,Jing Gui,Jianwei Liu,Yiao-Tee Hsia. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2009-10-22.

Power-delivery mechanism and apparatus of plasma-enhanced chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20080295771A1. Автор: Kuan-Chou Chen,Fu-Ching Tung,Yuan-Yuan Chiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2008-12-04.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: WO2013135631A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: MEMC Electronic Materials S.p.A.. Дата публикации: 2013-09-19.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2825350A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US11009493B2. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-05-18.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US20190234923A1. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-08-01.

Device and method for uniform flow distribution

Номер патента: RU2664602C2. Автор: Омеро БОРГЕЗАНИ,Стефано ЦЕККИ. Владелец: О.М.Т. Оффичина Мекканика Тартарини С.р.Л.. Дата публикации: 2018-08-21.

Incense and Chemical Vaporization Method Using Incense

Номер патента: MY195165A. Автор: Kawamori Hideo,Sugiura Masaaki,NISHIGUCHI Taihei. Владелец: Fumakilla Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Directed vapor deposition and assembly of polymer micro - and nanostructures

Номер патента: WO2023081751A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN,Tien Hong NGUYEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-11.

Method and apparatus for measuring the insect repellent properties of chemical vapors

Номер патента: US3572131A. Автор: Robert H Wright,Francis E Kellogg,Donald J Burton,Philip N Daykin. Владелец: USA. Дата публикации: 1971-03-23.

2H/1T phase contact engineering for high performance transition metal dichalcogenide chemical vapor sensors

Номер патента: US10436744B2. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-10-08.

2H/1T Phase Contact Engineering for High Performance Transition Metal Dichalcogenide Chemical Vapor Sensors

Номер патента: US20170299544A1. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-10-19.

Chemical vapor trap and vacuum drying system including same

Номер патента: US5289641A. Автор: Richard C. Fuksa,John Balamuta. Владелец: Welch Vacuum Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-01.

Liquid chemical vapor recovery device, wet stripping device, photoresist stripping process, and method for manufacturing thin film transistor-liquid crystal display using the same

Номер патента: US11231652B2. Автор: Hao Yin,Xiaoning Liu,Qianqian Li,Mingming Wang,Dongseob Kim,Shikai Wang,Yadong Xu,Jun Geng,Yadong Liang,Zhongren JIANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-25.

Lasing dye sensor for chemical vapors

Номер патента: US5185131A. Автор: Terence W. Barrett,John F. Giuliani. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1993-02-09.

Shower head with sink

Номер патента: RU2742478C1. Автор: Владимир Петрович Воложанин. Владелец: Владимир Петрович Воложанин. Дата публикации: 2021-02-08.

Fuel cell stack with uniform gas distribution in main flow channels thereof

Номер патента: US20110223511A1. Автор: Chi-Bin Wu,Po-Hsien Chou. Владелец: Chung Hsin Electric and Machinery Manufacturing Corp. Дата публикации: 2011-09-15.

Nonlineal gold nanocluster chemical vapor sensor

Номер патента: WO2003098202A1. Автор: Arthur Snow,Mario Ancona,Edward Foos. Владелец: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy. Дата публикации: 2003-11-27.

Calibrating system for implementation with sensor head for reagent in form of dry powder and calibrating head for powder spraying

Номер патента: RU2434224C1. Автор: Скотт ЭЕРС. Владелец: Кидде Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2011-11-20.

Chemical vapor sensor system and method thereof

Номер патента: US8049174B2. Автор: David K. Lambert. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2011-11-01.

High-Rate Chemical Vapor Etch of Silicon Substrates

Номер патента: US20140357082A1. Автор: Isaac Lauer,Stephen W. Bedell,Joseph S. Newbury,Gen P. Lauer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-12-04.

Fastening system for installation shower heads

Номер патента: US09662667B2. Автор: Michael Schulte,Uwe Stoelzel. Владелец: GROHE AG. Дата публикации: 2017-05-30.

Shower head for pets

Номер патента: US12089563B2. Автор: ZHIWEI CHEN,Xiaofa Lin,Xiaoshan Lin,Qiqiao Liu,Xiaoqing Deng,Feiming DENG. Владелец: Fujian Xihe Sanitary Ware Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Gas distribution device for the supply of a processing gas to an atomizing chamber

Номер патента: CA1113375A. Автор: Christian Schwartzbach,Finn H. Larsson. Владелец: Niro Atomizer AS. Дата публикации: 1981-12-01.

Shower head

Номер патента: RU2241547C2. Автор: Герд БЛЕССИНГ. Владелец: Хансгроэ Аг. Дата публикации: 2004-12-10.

Method (versions), system (versions) and machine-readable medium (versions) for execution of operations of supporting gas distribution in oil field

Номер патента: RU2491416C2. Автор: Кашиф РАШИД,Эндрю Майкл ШЭНД,Тревор ТОНКИН,Люка ЛЕТИЦИЯ,Эндрю Джон ХАУЭЛЛ,Дэниэл ЛУКАС-КЛЕМЕНТС. Владелец: Лоджинд Б.В.. Дата публикации: 2013-08-27.

Device for uniform distribution of brake effort of the electromechanical drive of the friction brake of the wheel

Номер патента: RU2760800C1. Автор: Алексей Владимирович Богомолов,Владимир Иванович Третьяк,Ярослав Владимирович Морошкин,Андрей Юрьевич Чекин,Кирилл Александрович Гореликов,Алексей Валериевич Куковинец,Сергей Леонидович Будников,Игорь Викторович Лихачев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие «Государственный научно-исследовательский институт авиационных систем» (ФГУП «ГосНИИАС»). Дата публикации: 2021-11-30.

Device for uniform distribution of sludge

Номер патента: RU2719824C2. Автор: Томас КРЕМЕР,Карло КНАУФ,Александер ХАРТМАН,Томас КОХ,Стергиос КАРАКУССИС,Георги ПАРАСКОВ,Райнер ШНАЙДЕРБАНГЕР. Владелец: Кнауф Гипс КГ. Дата публикации: 2020-04-23.

Vapor deposition deposited photoresist, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09829805B2. Автор: Timothy W. Weidman,Paul Deaton,Timothy Michaelson,Barry Lee Chin,Majeed Foad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Methods for depositing dielectric films via physical vapor deposition processes

Номер патента: US09633839B2. Автор: Yong Cao,Yana Cheng,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Thanh X. Nguyen,Srinivas Guggilla,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Method of producing compressed natural gas at a gas distribution station and a booster compressor with a gas drive for realizing said method

Номер патента: RU2689510C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2019-05-28.

Method for installation of two dampers relative to adjustable flow ports of gas distribution valve with one shaft and linear flow characteristic

Номер патента: RU2635729C2. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Кирилл Геннадьевич Домнин. Владелец: Акционерное общество "Корпорация "Московский институт теплотехники" (АО "Корпорация "МИТ"). Дата публикации: 2017-11-15.

Shower head in piston and spring-piston versions of liquid detergent supply

Номер патента: RU2770491C1. Автор: Арслан Ималуевич Джавтаев,Хамзат Мусаевич Эсуев,Арслан Самоилович Айдамиров. Владелец: Арслан Самоилович Айдамиров. Дата публикации: 2022-04-18.

Method of electric rice cooking kettle for uniformly cooking rice

Номер патента: WO1997015219A1. Автор: Sang Uk You. Владелец: Daewoo Electronics Co., Ltd.. Дата публикации: 1997-05-01.

Shower head holder and easy-to-use combined shower set

Номер патента: US12091846B2. Автор: Pengwei Xie,Zehe Xie. Владелец: Protech Xiamen Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Gas distribution mechanism of the four-stroke internal combustion engine

Номер патента: RU2651099C1. Автор: Владимир Сергеевич Сергеев,Сергей Степанович Сергеев. Владелец: Сергей Степанович Сергеев. Дата публикации: 2018-04-18.

Method and equipment for uniform stretching of thermoplastic film and products manufactured hereby

Номер патента: RU2349453C2. Автор: Леопольдо В. КАНЧИО,Томас Г. МУШАБЕН,Роберт М. МОРТЕЛЛИТЕ,Пай-Чуань У. Владелец: Клоупэй Плэстик Продактс Компани, Инк.. Дата публикации: 2009-03-20.

Method of axle spacing motion compensation in a gas distribution mechanism equipped with valve gas distribution of internal combustion engine as well as gas distribution mechanism equipped with valve gas distribution of a internal combustion engine

Номер патента: RU2621581C2. Автор: Адриан ФИНК,Михаэль ПАТЛА,Марк ЦИММЕРМАНН. Владелец: Ман Трак Унд Бас Аг. Дата публикации: 2017-06-06.

Method of yield increase and stabilization of fractional natural gas liquefaction plant located at gas distribution station

Номер патента: RU2626615C2. Автор: Станислав Прокофьевич Горбачев,Илья Сергеевич Медведков,Станислав Владимирович Люгай. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-исследовательский институт природных газов и газовых технологий - Газпром ВНИИГАЗ". Дата публикации: 2017-07-31.

Distributing device axis of the gas-distributing mechanism

Номер патента: RU2729585C1. Автор: Иван Аркадьевич Ширковский. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Принтпарт". Дата публикации: 2020-08-11.

Shower head assembly with extendable wand handle and adaptable shower head

Номер патента: US20240218645A1. Автор: Tracy Roby,Alan Roby. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Systems and method for automatic shower head shutoff

Номер патента: US20240206686A1. Автор: Walter Daguhn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-27.

Shower head with nozzles having self cleaning tips

Номер патента: US20030038189A1. Автор: Gianni Clerico Titinet. Владелец: Visentin USA. Дата публикации: 2003-02-27.

Servo head for magnetic tape

Номер патента: US20030030939A1. Автор: George Clifford,Paul Poorman,Richard Henze,Patricia Beck. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-13.

Gas Distribution Plate with Enhanced Gas Hole Consistency and Extended Life

Номер патента: US20240290580A1. Автор: Sam Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Systems and method for automatic shower head shutoff

Номер патента: WO2024141203A1. Автор: Walter Daguhn. Владелец: Walter Daguhn. Дата публикации: 2024-07-04.

Shower head cover fixture

Номер патента: US20080185458A1. Автор: Alan E. Holbrook. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-08-07.

System and a method for uniformly characterizing equipment category

Номер патента: US20210350941A1. Автор: Subhasis Mandal,Somesh Bandari Gopalaiah,Yogesh B. Владелец: Carrier Corp. Дата публикации: 2021-11-11.

Quick disassembly and assembly structure of shower head

Номер патента: US20240278279A1. Автор: Ronghua Lin,Jianbo SHAN,Shen LIAO. Владелец: NINGBO NEW ART SANITARY WARE CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Method, system and apparatus for uniformed surface measurement

Номер патента: US20210372764A1. Автор: Jian-Shian Lin,Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Jen-Chieh Li,Chao-Chang Chen,Ching-Tang Hsueh,Yong-Jie Ciou. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2021-12-02.

Adjustable mount for shower head

Номер патента: WO1998014098A1. Автор: Scott E. Buhrman. Владелец: Buhrman Scott E. Дата публикации: 1998-04-09.

Systems for uniform heat transfer including adaptive portions

Номер патента: US09835388B2. Автор: Krishnan Shrinivasan,Keerthi GOWDARU. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

System and method for uniform interleaving of data across a multiple-channel memory architecture with asymmetric storage capacity

Номер патента: US09465735B2. Автор: Feng Wang,Simon Booth,Anwar Rohillah,Bohuslav Rychlik. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Device providing for uniform irradiation of blood cells in devices for conducting extracorporeal photochemotherapy

Номер патента: RU2711132C1. Автор: Гаррий Дмитриевич Иващенко. Владелец: Гаррий Дмитриевич Иващенко. Дата публикации: 2020-01-15.

Shower head for sanitary shower

Номер патента: RU2262390C2. Автор: Франц ШОРН. Владелец: Хансгроэ Аг. Дата публикации: 2005-10-20.

Method of assembling gas-distributing valve with two outlet branch pipes and saddles with flow-through openings in contact with shutters installed on bosses of one shaft

Номер патента: RU2703556C2. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Кирилл Геннадьевич Домнин,Александр Дмитриевич Чекушин. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2019-10-21.

Gas distribution unit

Номер патента: RU2761939C1. Автор: Евгений Юрьевич Курочкин,Валерия Олеговна Безбородова,Надежда Юрьевна Курочкина. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Балтийский федеральный университет имени Иммануила Канта" (БФУ им. И. Канта). Дата публикации: 2021-12-14.

Control module (versions) and procedure of control (versions) for mechanism of regulated phases of gas distribution

Номер патента: RU2432479C2. Автор: Масайоси ХАТТОРИ,Цукаса АБЕ. Владелец: Тойота Дзидося Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-10-27.

Method for performing repair works on gas-distributing station of main gas pipeline without interruption of gas supply to consumer

Номер патента: RU2642905C1. Автор: Олег Леонидович Мишин,Владимир Семенович Аверков,Сергей Валерьевич Фаррахов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Екатеринбург". Дата публикации: 2018-01-29.

Gas distribution station power plant or the gas control unit operation method

Номер патента: RU2650238C1. Автор: Владимир Александрович Грабовец,Владимир Львович Фиников,Константин Юрьевич Шабанов,Владимир Анатольевич Субботин,Леонид Павлович Шелудько. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Самара". Дата публикации: 2018-04-11.

Natural gas liquefaction complex at gas distribution station (versions)

Номер патента: RU2707014C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2019-11-21.

Gas-distributing mechanism of internal combustion engine

Номер патента: RU2675647C2. Автор: Александр Васильевич Ноздричев. Владелец: Александр Васильевич Ноздричев. Дата публикации: 2018-12-21.

Photoresist pattern formation through etching where the imaging exposure changes in a given direction in the desired pattern and inclined vapor deposition is utilized to deposit a film

Номер патента: US5366849A. Автор: Yoshikazu Nakagawa,Masayuki Sonobe. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 1994-11-22.

Method and apparatus for uniformly dispersing articles in a treatment solution

Номер патента: AU4175396A. Автор: Robert Allen Janssen,Barbara Lynn Heyl,Roger James Hoffman,Thomas Erik Shank. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1996-06-26.

Portable shower head with air inlet cover

Номер патента: US9227202B2. Автор: Zhangjun Yu. Владелец: Sinyu Technology Fujian Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-05.

Dispensing Attachment for a Shower Head

Номер патента: US20190030553A1. Автор: Deborah Timmerman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-01-31.

Shower head mounting

Номер патента: GB2592216A. Автор: Westgate Simon. Владелец: Kohler Mira Ltd. Дата публикации: 2021-08-25.

Control system for a natural gas distribution network, natural gas distribution network comprising said control system and method for controlling said distribution network

Номер патента: EP3523568A1. Автор: Nevio Zampieri. Владелец: Pietro Fiorentini SPA. Дата публикации: 2019-08-14.

Therapeutic substance dispensing shower head system

Номер патента: US11913202B2. Автор: James SLAUGHTER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-27.

Shower head with inner core

Номер патента: US20190336987A1. Автор: Xuedong Wang,Jiangcheng Zhang,Xiaofei Guo. Владелец: Xiamen Lota International Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-07.

Therapeutic substance dispensing shower head system

Номер патента: US20240159030A1. Автор: James SLAUGHTER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-16.

Gas distribution system for aircrafts

Номер патента: EP4407223A1. Автор: Ralf Becks,Lennart Schmidt,Gerke POPKEN,Jens-Peter Knobloch,Arno Janz. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Showerhead having a detachable high resistivity gas distribution plate

Номер патента: US09911579B2. Автор: Jisoo Kim,Wonseok Lee,Hamid Noorbakhsh,Jason Della ROSA,Vladimir KNYAZIK,Usama Dadu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Shower head attachment

Номер патента: US09834913B1. Автор: Salim Kimiagar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-12-05.

Shower heads and shower apparatus

Номер патента: US09751095B2. Автор: Peter James Honeyands,Christopher Honeyands. Владелец: Kelda Showers Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Handle rotating switch shower head

Номер патента: US09573142B2. Автор: Huasong ZHOU,Guoqiang Wu,Wenxing CHEN,Donghai CHEN. Владелец: Xiamen Solex High Tech Industries Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Shower head

Номер патента: RU2534088C1. Автор: Томас ФОРЕЛЬ. Владелец: Гроэ Аг. Дата публикации: 2014-11-27.

Ice gas distribution mechanism drive

Номер патента: RU2665560C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Сергей Юрьевич Радин,Виктор Алексеевич Корчагин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина". Дата публикации: 2018-08-31.

Apparatus and method for uniform powder feed

Номер патента: CA1038421A. Автор: John J. Waskiewicz,John H. Winston. Владелец: Outboard Marine Corp. Дата публикации: 1978-09-12.

Gas-distributing station

Номер патента: RU2694699C1. Автор: Николай Сергеевич Кобелев,Владимир Николаевич Кобелев,Алексей Сергеевич Емельянов,Никита Сергеевич Перепелица,Карина Владимировна Мамаева,Алина Руслановна Баздырева,Никита Эдуардович Сельвестров,Ирина Михайловна Шевченко,Антон Олегович Хмелевской. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ). Дата публикации: 2019-07-16.

Method and system for uniform call termination treatment in a global communications network

Номер патента: US6160995A. Автор: David Taisser Kiswani,Robert Lawrence Vence,Robert Kyle Smith,John Kennedy McNiff,Ronni Evans. Владелец: Iridium IP LLC. Дата публикации: 2000-12-12.

Small hand-held shower head for domestic sinks connected to a pulsating faucet

Номер патента: CA1322774C. Автор: Alfons Knapp. Владелец: Masco Corp. Дата публикации: 1993-10-05.

Output device for uniformly mixed liquid and method for making and using the same

Номер патента: AU2023202359A1. Автор: Bai Wen,HUI Max Sze Mo,LUO Xiaomeng,JIN Chaoyang,Robert J. Henry,Christopher P. Orem,Joseph Moll,Gregory Nungester,Ying K. Ho,Ivan Li,Michael Moskal,Keith Alison,`Guo Haiteng,Ho Yiu Keung. Владелец: Beijing Wenhaiyang Industry Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Monitoring apparatus and method for uniformity and residual thickness of nano-transfer printing process

Номер патента: US20110134440A1. Автор: Wei-Hsuan Hsu,Hong Hocheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-09.

Shower head

Номер патента: US20220371033A1. Автор: Tsuyoshi Matsushita. Владелец: MTG Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Metal-germanium physical vapor deposition for semiconductor device defect reduction

Номер патента: US20080311747A1. Автор: Noel Russell,Douglas E. Mercer,Doufeng Yue,Peijun J. Chen. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Shower head

Номер патента: WO2001021323A1. Автор: Christopher Samwell. Владелец: NewTeam Ltd. Дата публикации: 2001-03-29.

Shower head with rotary jet water

Номер патента: US20230398558A1. Автор: Chunhua Wang,Changzheng Ni,Lengjie Huang,Yongqiang Yan. Владелец: Xiamen Dermei Sanitary Ware Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Gas distribution system for aircrafts

Номер патента: US20240246692A1. Автор: Ralf Becks,Lennart Schmidt,Gerke POPKEN,Jens-Peter Knobloch,Arno Janz. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Shower head with holder device

Номер патента: US11154895B2. Автор: Binghuo Zhu,Hewei Liu,Kunjing Fan. Владелец: Xiamen Rainshower Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-26.

Prefabricated substrate of array substrate, vapor deposition method, array substrate and display apparatus

Номер патента: US09947902B2. Автор: Lujiang Huangfu,Libin LIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Hybridization fin reveal for uniform fin reveal depth across different fin pitches

Номер патента: US09935015B1. Автор: Peng Xu,Donald F. Canaperi,Sivananda K. Kanakasabapathy,Zhenxing Bi,Fee Li LIE,Thamarai S. Devarajan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Hybridization fin reveal for uniform fin reveal depth across different fin pitches

Номер патента: US09754798B1. Автор: Peng Xu,Donald F. Canaperi,Sivananda K. Kanakasabapathy,Zhenxing Bi,Fee Li LIE,Thamarai S. Devarajan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Method and display device for uniform image display

Номер патента: US09564094B2. Автор: Feilin JI,Xiaoping Tan,Man Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Multi-zone gas distribution systems and methods

Номер патента: US12148597B2. Автор: Saravjeet Singh,Alan Tso,Kenneth D. Schatz,Dimitri Kioussis,Marlin Wijekoon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-19.

System and method for uniformly applying a wetting agent to a treatment surface

Номер патента: US09452453B2. Автор: Edwin Buijsman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-27.

Device for uniform distribution of single-phase load by phases of three-phase network

Номер патента: RU2731209C1. Автор: Андрей Николаевич Евсеев. Владелец: Андрей Николаевич Евсеев. Дата публикации: 2020-08-31.

Device for uniform distribution of single-phase load by phases of three-phase network

Номер патента: RU2591040C1. Автор: Андрей Николаевич Евсеев. Владелец: Андрей Николаевич Евсеев. Дата публикации: 2016-07-10.

Sowing machine for uniform sowing of seeds of vegetable crops

Номер патента: RU2586163C2. Автор: Леонид Михайлович Максимов,Павел Леонидович Максимов,Николай Витальевич Бояров,Антон Викторович Волков. Владелец: Леонид Михайлович Максимов. Дата публикации: 2016-06-10.

Automatic gas distribution station (options)

Номер патента: RU2671554C1. Автор: Мидхат Губайдуллович Хабибуллин. Владелец: Мидхат Губайдуллович Хабибуллин. Дата публикации: 2018-11-01.

Mower-conditioner for mowing grass, comprising device for uniform laying grass on soil

Номер патента: RU2528444C2. Автор: Мартен ВАЛШ,Бернар ВАТТРОН. Владелец: Кюн С.А.. Дата публикации: 2014-09-20.

Device for thermal compensation of valve mechanism of gas distribution system with positive effect on characteristics of internal combustion engine

Номер патента: RU2740832C1. Автор: Анатолий Сергеевич Лоренц. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Северный (Арктический) федеральный университет имени М.В. Ломоносова". Дата публикации: 2021-01-21.

Natural gas liquefaction complex at gas distribution station

Номер патента: RU2689505C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2019-05-28.

Natural gas liquefaction complex at a gas distribution station

Номер патента: RU2665787C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2018-09-04.

Method of depositing copper using physical vapor deposition

Номер патента: US9728414B2. Автор: Wen Yu,Stephen B. Robie,Jeremias D. Romero. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Pharmaceuticals microencapsulated by vapor deposited polymers and method

Номер патента: US5393533A. Автор: Ronald J. Versic. Владелец: Dodge Ronald T Co. Дата публикации: 1995-02-28.

A pull-out spray head for a kitchen sink faucet

Номер патента: GB2461139A. Автор: Josesph Li. Владелец: GLOBE UNION INDUSTRIAL CORP. Дата публикации: 2009-12-30.

Method and apparatus for uniformly drying a continuous web of cellulosic fibers

Номер патента: CA1116844A. Автор: Peter J. Walker. Владелец: Midland Ross Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

Nanoscale gold catalysts, activating agents, support media, and related methodologies useful for making such catalyst systems especially when the gold is deposited onto the support media using physical vapor deposition

Номер патента: CA2540036C. Автор: Thomas E. Wood,Allen R. Siedle,Marvin E. Jones,Craig S. Chamberlain,Larry A. Brey,Gina M. Buccellato. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-10-22.

Process and device for uniform distribution of a free-flowing reaction mixture onto a continuously transported substrate

Номер патента: CA2003908C. Автор: Kurt Krippl. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1999-05-25.

Technique for uniformity tuning in an ion implanter system

Номер патента: US20060284114A1. Автор: Joseph Olson,Jonathan England,Shengwu Chang,Morgan Evans,William Callahan,Damian Brennan,Douglas Fielder,Gregg Norris. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2006-12-21.

Buffer Layer for Dielectric Protection in Physical Vapor Deposition Metal Liner Applications

Номер патента: US20240145300A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Vapor deposition paper and method for producing same

Номер патента: EP4279263A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-11-22.

Output Device for Uniformly Mixed Liquid and Method for Making and Using the Same

Номер патента: US20230391130A1. Автор: Bai Wen,LUO Xiaomeng,JIN Chaoyang,GUO Haiteng,Robert J. Henry,Christopher P. Orem,Joseph Moll,Gregory Nungester,Ying K. Ho,Michael Moskal,Keith Alison,He Yingqiang,Li Juejun,Xu Wusi,He Yaoqiang. Владелец: Beijing Wenhaiyang Industry Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Buffer layer for dielectric protection in physical vapor deposition metal liner applications

Номер патента: WO2024097016A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Dual hand-held shower head assembly

Номер патента: US20230040613A1. Автор: Qin Yu,Haibo HONG. Владелец: Xiamen Prime Shower Co ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Fuel cell with modular, flexible gas distribution structures

Номер патента: AU3283800A. Автор: Frank Thom. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH. Дата публикации: 2000-09-21.

Shower head

Номер патента: CA3154691A1. Автор: Tsuyoshi Matsushita. Владелец: MTG Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Gas distribution unit and water heater

Номер патента: AU2023270320A1. Автор: Kakizaki Yusuke. Владелец: Paloma Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Water outlet fitting, e.g. tap or shower head, producing a combined flow of gas and water, and power connector therefor

Номер патента: EP4146403A1. Автор: William Penfold,John Scott SHRIMPTON,Luis Blay ESTEBAN,Benjamin DOULIS,Jaevan BURRELL,Aaron BOURNE,Zsolt Bako-Biro. Владелец: Kelda Showers Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Water outflow control assembly, shower head and shower head assembly method

Номер патента: GB2578936A. Автор: Lin Xiaofa,Lin Xiaoshan,Liu Qiqiao,Deng Xiaoqing,WAN Zhigang. Владелец: Fujian Xihe Sanitary Ware Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-03.

Fuel cell hybrid power generation system and method for gas distribution systems

Номер патента: EP2033253A2. Автор: Andrew Skok,David Jonathan Teichroeb. Владелец: Enbridge Inc. Дата публикации: 2009-03-11.

Fuel cell hybrid power generation system and method for gas distribution systems

Номер патента: WO2007137004A8. Автор: Andrew Skok,David Jonathan Teichroeb. Владелец: Enbridge Inc. Дата публикации: 2008-12-31.

Fuel cell hybrid power generation system and method for gas distribution systems

Номер патента: US20120151920A1. Автор: Andrew Skok,David Jonathan Teichroeb. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-21.

Fuel cell hybrid power generation system and method for gas distribution systems

Номер патента: WO2007137004A2. Автор: Andrew Skok,David Jonathan Teichroeb. Владелец: Enbridge, Inc.. Дата публикации: 2007-11-29.

Shower head with water-powered vibrating function

Номер патента: US20110266363A1. Автор: Man Hon Lee. Владелец: Brand New Technology Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Holding device for a hand-operated shower head

Номер патента: US6361005B1. Автор: Andreas Haug,Thomas Kuechler,Thomas Schoenherr,Fabian Kollmann,Magdelena Faisst. Владелец: HANSGROHE SE. Дата публикации: 2002-03-26.

Water outlet fitting, e.g. tap or shower head, producing a combined flow of gas and water, and power connector therefor

Номер патента: WO2021224642A1. Автор: William Penfold,John Scott SHRIMPTON,Luis Blay ESTEBAN,Benjamin DOULIS,Jaevan BURRELL,Aaron BOURNE,Zsolt Bako-Biro. Владелец: KELDA SHOWERS LIMITED. Дата публикации: 2021-11-11.

Spherical shower head

Номер патента: US20210016302A1. Автор: Marco Antonio GARCIA VILLAREAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-01-21.

Aromatherapy ring for shower head

Номер патента: US09833531B1. Автор: Sheri Ann Archer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-12-05.

Shower head with integrated mixing valve

Номер патента: US09594383B2. Автор: Kevin T. Peel. Владелец: Kohler Mira Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Water cooled CO boiler floor with screen gas distribution inlet

Номер патента: US09587827B2. Автор: Eric L Wells,John A Kulig,Richard A Wessel,Daniel E Knopsnider, Jr.. Владелец: Babcock and Wilcox Co. Дата публикации: 2017-03-07.

Shower head

Номер патента: US09539591B2. Автор: Stefan Bruckmann,Stefan Raab. Владелец: Roof Groove Publishing SARL. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for production of liquefied natural gas and compressed natural gas at a gas distribution station and a complex (versions) for its implementation

Номер патента: RU2719533C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2020-04-21.

Methods and apparatus for enhanced gas distribution

Номер патента: RU2604371C2. Автор: Ашфак ШАИКХ. Владелец: Групо Петротемекс, С.А. Де С.В.. Дата публикации: 2016-12-10.

Actuating device of gas distributing valve

Номер патента: RU2445472C2. Автор: Маркус ХЕРГЕРТ,Кай КАННИНГ,Штефан РУДЕРТ. Владелец: Даймлер Аг. Дата публикации: 2012-03-20.

Two-stroke engine with sleeve gas distribution

Номер патента: RU2734566C1. Автор: Евгений Николаевич Захаров,Владислав Александрович Михеев,Виктор Яковлевич Кругликов,Владимир Георгиевич Просвирнин,Юрий Вячеславович Богачев,Сергей Владиславович Маршин. Владелец: Акционерное общество "Северный пресс". Дата публикации: 2020-10-20.

Gas distribution apparatus

Номер патента: RU2756188C1. Автор: Дмитрий Александрович Яхонтов,Марат Мансурович Фарахов,Алексей Леонидович Агеев,Тимур Фаритович Кадыров,Михаил Михайлович Партилов,Сергей Петрович Дегтярев,Сергей Борисович Азизов,Алмаз Анасович Ахмитшин,Азат Дилюсович Гилязов,Сергей Александрович Ирдинкин,Рустам Музагитович Хасанов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром добыча Ямбург" (ООО "Газпром добыча Ямбург"). Дата публикации: 2021-09-28.

Apparatus and method for uniform powder feed

Номер патента: US4059310A. Автор: John J. Waskiewicz,John H. Winston. Владелец: Outboard Marine Corp. Дата публикации: 1977-11-22.

Method of diagnosing parts of cylinder-piston group and gas distributing mechanism of engine

Номер патента: RU2715132C1. Автор: Виталий Викторович Нечаев. Владелец: Виталий Викторович Нечаев. Дата публикации: 2020-02-25.

Fuel injector with gas distribution through plurality of tubes

Номер патента: RU2721627C2. Автор: Дональд Джеймс КРАМБ,Джеймс Скотт ПАЙПЕР,Шон Келли СПАЙВИ,Майкл Джон РАМОТОВСКИЙ. Владелец: Соулар Тёрбинз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2020-05-21.

Optimum distribution system of electric power generated at gas reduction at gas distribution station

Номер патента: RU2743817C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2021-02-26.

Complex for the centralized distribution of the pressure of the respiratory mixture for simultaneous and individual artificial ventilation of the lungs (avl) to a group of patients and an individual gas distribution unit providing an individual patient with individual avl with the help of the complex

Номер патента: RU2745261C1. Автор: Александр Сергевич Ковалев. Владелец: Ковалев Александр Сергеевич. Дата публикации: 2021-03-22.

Components of absorbing product with printed image for uniform appearance

Номер патента: RU2529109C2. Автор: Дэвид Фледжер БИШОП,Пэтси Энн КРАУТКРАМЕР,Джулиа ХАРТОНО,Кэтрин Кэрол УИЛЕР,Марсилл Фэй РАМЭН,Дэниэл Роберт ШЛИНЦ,Кимберли Мари ДОУНС,Тэми Линн КУРТЦ. Владелец: Кимберли-Кларк Ворлдвайд, Инк.. Дата публикации: 2014-09-27.

Gas distribution station operation method

Номер патента: RU2752119C1. Автор: Оксана Николаевна Медведева,Александр Юрьевич Чиликин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.). Дата публикации: 2021-07-22.

Gas distributing mechanism ice

Номер патента: RU2689230C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Сергей Юрьевич Радин,Виктор Алексеевич Корчагин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина". Дата публикации: 2019-05-24.

Shower head with spring water guide gasket

Номер патента: RU2598470C1. Автор: Йозеф БЕР,Вальтер ШМИТЦ. Владелец: Айдиел Стэндед Интернэшнл Бвба. Дата публикации: 2016-09-27.

Gas distribution device in shaft grain dryer

Номер патента: RU2610781C2. Автор: Александр Георгиевич Сергеев. Владелец: Закрытое акционерное общество "Агропромтехника". Дата публикации: 2017-02-15.

Shower head

Номер патента: RU2031736C1. Автор: Вагнер Фридрих,Хайманн Бруно,Бишофф Бернд,Штрелов Ханс-Петер. Владелец: Фридрих Грое Акциенгезельшафт. Дата публикации: 1995-03-27.

Method and apparatus for uniform microwave bulk heating of thick viscous materials in a cavity

Номер патента: CA1252152A. Автор: Nigel A. Heard. Владелец: Shell Canada Ltd. Дата публикации: 1989-04-04.

Spreader device in a storage container for uniform filling of the container with granular storage goods

Номер патента: CA1202165A. Автор: Stig Wigram. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-03-25.

Device for uniform web pinning

Номер патента: CA1177621A. Автор: David E. Heyer. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1984-11-13.

Systems and methods for uniform expansion and heat setting of medical devices

Номер патента: US9457511B2. Автор: Michael Lee Green. Владелец: Abbott Cardiovascular Systems Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Apparatus for uniformly applying either liquid or foam compositions to a moving web

Номер патента: CA1199789A. Автор: Clifford A. Bryant,Joseph A. Pacifici. Владелец: Westpoint Pepperell Inc. Дата публикации: 1986-01-28.

Device and method for uniformly distributing electrode particles

Номер патента: CA2444069A1. Автор: Dominick Frustaci,Tina Urso,Michael Guidi. Владелец: Wilson Greatbatch Technologies Inc. Дата публикации: 2004-04-09.

Process for uniformly drawing polyethylene terephthalate filaments to form high shrinkage fibers

Номер патента: US3943138A. Автор: Geoffrey Marshall,Eric Ivan Riseley. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1976-03-09.

Method and means for uniformly coating particulate material

Номер патента: CA2130324C. Автор: Richard L. Long, Jr.,Donald E. Barber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-30.

Vapor deposition of photoconductive selenium onto a metallic substrate having a molten metal coating as bonding layer

Номер патента: US4094675A. Автор: Hans-Hermann Beschoner,Gottfried Guder,Hartmut Dulken,Karl-Heinz Kassel. Владелец: Licentia Patent Verwaltungs GmbH. Дата публикации: 1978-06-13.

Assembly and method for uniform illumination of icons on a housing of a power device

Номер патента: WO2022101371A1. Автор: Nathan Farrell,Le Gia PHAM. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2022-05-19.

Shower head for baths with natural essences

Номер патента: WO2018127900A3. Автор: Emily CHAN,Ernesto BONADIES,Jose HIM FABREGA,Manuel SOLIS,José MORCILLO. Владелец: Universidad De Panamá. Дата публикации: 2018-10-25.

Shower head for pets

Номер патента: CA3134245C. Автор: ZHIWEI CHEN,Xiaofa Lin,Xiaoshan Lin,Qiqiao Liu,Xiaoqing Deng,Feiming DENG. Владелец: Fujian Xihe Sanitary Ware Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-11.

Technique for uniformity tuning in an ion implanter system

Номер патента: US20060266957A1. Автор: Joseph Olson,Shengwu Chang,Damian Brennan. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2006-11-30.

System and method for uniformly applying a wetting agent to a treatment surface

Номер патента: US20150202661A1. Автор: Edwin Buijsman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-07-23.

Apparatus for uniformly arranging solar cell elements, system for use in the manufacture of solar cells, and method for uniformly arranging solar cell elements

Номер патента: WO2021028030A1. Автор: Luigi De Santi. Владелец: Applied Materials Italia S.R.L.. Дата публикации: 2021-02-18.

Output device for uniformly mixed liquid and method for making and using the same

Номер патента: GB2619408A. Автор: Moskal Michael,Li Ivan,Moll Joseph,Wen BAI,Nungrester Gregory,P Orem Christopher,K Ho Ying,Alison Keith,J Henry Robert,Max Sze Mo Hui,Yiu Keung Ho,Xiaomeng Luo,Chaoyang Jin,Haiteng Guo. Владелец: Beijing Wenhaiyang Ind Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Shower head and receptacle combination device with outlet water filtering function

Номер патента: US20220341137A1. Автор: Junjie YOU. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-27.

Method and apparatus for uniform direct radiant heating in a rapid thermal processing reactor

Номер патента: EP1307908A1. Автор: Robert W. Grant,Benjamin J. Petrone,Ronald F. Klopp,Theodore E. Farley,Paul D. Mumbauer. Владелец: Primaxx Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Apparatus for uniformly arranging solar cell elements, system for use in the manufacture of solar cells, and method for uniformly arranging solar cell elements

Номер патента: US11961937B2. Автор: Luigi De Santi. Владелец: Applied Materials Italia Srl. Дата публикации: 2024-04-16.

Light source for uniform illumination of a surface

Номер патента: US20180347784A1. Автор: Anthony W. Catalano. Владелец: LEDVANCE LLC. Дата публикации: 2018-12-06.

Device for uniform delivery of inoculant in metal smelting

Номер патента: LU502586B1. Автор: Baojun Qu,Shoufeng Li,Darui WANG,Jianchen CONG,Meizhen FENG. Владелец: Tianrun Industry Tech Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-30.

Light source for uniform illumination of a surface

Номер патента: US10605430B2. Автор: Anthony W. Catalano. Владелец: LEDVANCE LLC. Дата публикации: 2020-03-31.

Shower head for pets

Номер патента: CA3134245A1. Автор: ZHIWEI CHEN,Xiaofa Lin,Xiaoshan Lin,Qiqiao Liu,Xiaoqing Deng,Feiming DENG. Владелец: Fujian Xihe Sanitary Ware Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-20.

System and method for uniform allocation of resources amongst a plurality of recipients

Номер патента: WO2022064520A1. Автор: Deeptesh VERMA. Владелец: Verma Deeptesh. Дата публикации: 2022-03-31.

Output device for uniformly mixed liquid and method for making and using the same

Номер патента: CA3197562A1. Автор: Christopher P. Orem,Joseph Moll,Wen BAI,Gregory Nungester,Ying K. Ho,Michael Moskal,Xiaomeng Luo,Chaoyang Jin,Haiteng Guo,Keith Alison,Yingqiang HE,Juejun Li,Wusi Xu,Yaoqiang He. Владелец: Beijing Wenhaiyang Industry Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-20.

System and method for uniformly distributing a fluid through a filter bed in a filter

Номер патента: US20110226687A1. Автор: R. Lee Roberts,Mark Kevin Addison. Владелец: ROBERT MARKETING DE Inc. Дата публикации: 2011-09-22.

Shower head

Номер патента: US20190374959A1. Автор: Zhangjun Yu. Владелец: Sinyu Technology Fujian Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

A device for holding a shower head

Номер патента: GB2614641A. Автор: Cornish Michael. Владелец: Aucuro Pty Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

A device for holding a shower head

Номер патента: AU2021339465A1. Автор: Michael Cornish. Владелец: Aucuro Pty Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

A device for holding a shower head

Номер патента: WO2022051808A1. Автор: Michael Cornish. Владелец: Aucuro Pty Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Multi-zone gas distribution plate (gdp) and a method for designing the multi-zone gdp

Номер патента: US20180286634A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Chin-Han Meng,Lin-Ching Huang,Yu-Pei Chiang,Yin-Tun Chou,Chih-Hua Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Plasma reactor cooled ceiling with an array of thermally isolated plasma heated mini-gas distribution plates

Номер патента: WO2001045135A2. Автор: Evans Lee,Hongching Shan,Michael Welch,Hamid Noorbakhsh,Kaushik Vaidya,Paul Luscher,Jim Carducci,Saimak Salimian. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-06-21.

Shower system, and a shower head and a method for cleaning a shower system

Номер патента: EP1678381A1. Автор: Antonius Van Hecke. Владелец: Van Hecke Antonius. Дата публикации: 2006-07-12.

Shower head system

Номер патента: US20210340745A1. Автор: Isaac Wilcox. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-04.

A method and system for validating energy measurement in a high pressure gas distribution network

Номер патента: WO2011162592A1. Автор: B Halim M Huzainy. Владелец: Petroliam Nasional Berhad (Petronas). Дата публикации: 2011-12-29.

Method and apparatus for uniform thermal distribution in a microwave cavity during semiconductor processing

Номер патента: WO2018204576A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Preetham Rao,Dennis Ivanov. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-08.

Image sequence with reference image for uniform lighting of route for controlling pixel lamp of motor vehicle arranged on route

Номер патента: US11932163B2. Автор: Johannes Neukam. Владелец: Audi AG. Дата публикации: 2024-03-19.

Method and heater for uniformly curing a resin impregnated electrical bushing

Номер патента: WO2011117893A4. Автор: Manoj Kisan Mandlik,Sethumadhavan Thekkeveettil. Владелец: Crompton Greaves Limited. Дата публикации: 2012-02-23.

Gas-distributing mechanical arrangement automatically changing injection and exhaust gas valve timing

Номер патента: EP1781904A1. Автор: Arnis Treijs. Владелец: MOTORCIKLS SIA. Дата публикации: 2007-05-09.

Impermeable plate for uniformly dispersing paper raw material in a twin wire paper former

Номер патента: US4708773A. Автор: Hiroshi Iwata,Tetsuo Makino,Haruyoshi Fujiwara. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1987-11-24.

Application Programming Interface (API) for Uniform Security Access on a 5G Network

Номер патента: US20230171599A1. Автор: Maharaj Mukherjee,George Albero,Jinna Kim,Deborah Mayers. Владелец: Bank of America Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma reactor cooled ceiling with an array of thermally isolated plasma heated mini-gas distribution plates

Номер патента: WO2001045135A9. Автор: Evans Lee,Hongching Shan,Michael Welch,Hamid Noorbakhsh,Kaushik Vaidya,Paul Luscher,Jim Carducci,Saimak Salimian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-15.

Portable texture-spraying apparatus for uniformly dispersing a viscous material

Номер патента: US20110272487A1. Автор: John Reynolds,Troy Thurber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-11-10.

Method and press for uniform pressing and compaction of parts

Номер патента: EP1314546A3. Автор: Dante Belluzzi. Владелец: Matrix Srl. Дата публикации: 2004-04-14.

Waterway switching structure for multifunctional shower head and multifunctional shower head including same

Номер патента: US20230083299A1. Автор: Wenjun Li,Chunhua Wang,Changzheng Ni,Guiyun Zhang. Владелец: Xiamen Dermei Sanitary Ware Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Fluidized bed gas distribution nozzle and fluidized bed reactor

Номер патента: US20230235878A1. Автор: Björn Brosch,Oguzhan Narin. Владелец: DOOSAN LENTJES GMBH. Дата публикации: 2023-07-27.

Process for uniformizing the temperature of a liquid

Номер патента: EP3303968A1. Автор: Arrigo BERTOLISSIO,Francesco Magris. Владелец: Danieli and C Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2018-04-11.

Process for uniformizing the temperature of a liquid

Номер патента: US20180164044A1. Автор: Arrigo BERTOLISSIO,Francesco Magris. Владелец: Danieli and C Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2018-06-14.

Ac direct driving circuit device for uniformity of multi-channel light emitting diodes

Номер патента: US20240196495A1. Автор: Jun Sik Kim. Владелец: POINT TEK CO Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Tailored radiofrequency pulses for uniform saturation in magnetic resonance imaging

Номер патента: WO2010057093A3. Автор: Krishna S. Nayak,Kyunghyun Sung. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTHERN CALIFORNIA. Дата публикации: 2010-08-19.

Lather Shower Head

Номер патента: US20240295101A1. Автор: Zobon S.A. Jomah. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-05.

Waterway switching structure for multifunctional shower head and multifunctional shower head including same

Номер патента: US12090496B2. Автор: Wenjun Li,Chunhua Wang,Changzheng Ni,Guiyun Zhang. Владелец: Xiamen Dermei Sanitary Ware Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Anesthetic gas distribution device

Номер патента: US20220280735A1. Автор: Yeong Hyeon PYEON. Владелец: Vieworks Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Method and device for uniformly managing data export functions of multiple subsystems in system

Номер патента: CA3151001A1. Автор: Shun Yao,Jianyang LIU,Daoxin Li,Xuelun Zheng. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2022-09-03.

Shower Head with Teeth Flushing Device

Номер патента: US20240286149A1. Автор: Jeff Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-29.

Lamp structure, having elliptical reflectors, for uniformly irradiating surfaces of optical fiber and method of use thereof

Номер патента: EP1319196A2. Автор: Robert L. Rhoades,Charles H. Wood,Sykes R. Carter. Владелец: Fusion UV Systems Inc. Дата публикации: 2003-06-18.

Gas distribution device, for reverse protection of welding joints and related method

Номер патента: WO2017203547A1. Автор: Stefano Rossi,Massimiliano Tacconelli. Владелец: Walter Tosto S.P.A.. Дата публикации: 2017-11-30.

Output device for uniformly mixed liquid and method for making and using same

Номер патента: GB2628725A. Автор: Moskal Michael,Li Ivan,Moll Joseph,Wen BAI,Nungester Gregory,P Orem Christopher,K Ho Ying,Alison Keith,J Henry Robert,Max Sze Mo Hui,Yiu Keung Ho,Xiaomeng Luo,Chaoyang Jin,Haiteng Guo. Владелец: Beijing Wenhaiyang Ind Trading Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Multi-zone gas distribution plate (GDP) and a method for designing the multi-zone GDP

Номер патента: US09997336B2. Автор: Jr-Sheng Chen,Chin-Han Meng,Lin-Ching Huang,Yu-Pei Chiang,Yin-Tun Chou,Chih-Hua Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Shower head

Номер патента: US09855569B2. Автор: Christopher Honeyands. Владелец: Kelda Showers Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Shower head with alternating outlet function

Номер патента: US09844787B2. Автор: Jianmin Chen,Huasong ZHOU,Yangfeng Ji,Yuanfang HUANG. Владелец: Xiamen Solex High Tech Industries Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Shower head with a rotary bottom cover assembly

Номер патента: US09815069B2. Автор: Lei Hou,yu-ping Zhang. Владелец: Xiamen Runner Industrial Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Top spraying shower head with reset function

Номер патента: US09656279B2. Автор: Yonghui Zhang,Xiaojia LIU,Donghai CHEN. Владелец: Xiamen Solex High Tech Industries Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Flexible handheld shower head sprayer system

Номер патента: US09468938B2. Автор: Jeff Oblak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-18.

Method and system for validating energy measurement in a high pressure gas distribution network

Номер патента: US09430734B2. Автор: M. Huzainy B. Halim,Rosdiazli Ibrahim,Idris Ismail,Maryam Jamela Ismail. Владелец: Petroliam Nasional Bhd Petronas. Дата публикации: 2016-08-30.

System for the production of electricity, liquefied and compressed natural gas at gas distribution station

Номер патента: RU2753205C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2021-08-12.

Preventive control system for gas distribution network locking and control valves

Номер патента: RU2745642C1. Автор: Сергей Вадимович Густов. Владелец: Акционерное общество "Газпром газораспределение Тула". Дата публикации: 2021-03-29.

Gas-distributing station

Номер патента: RU2685627C1. Автор: Николай Сергеевич Кобелев,Юлия Васильевна Соколова,Владимир Сергеевич Кобелев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ). Дата публикации: 2019-04-22.

Conformal coating of lithium anode via vapor deposition for rechargeable lithium ion batteries

Номер патента: US10608249B2. Автор: Fang Liu,Yunfeng Lu,Mei Cai,Qiangfeng Xiao,Duo Xu. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2020-03-31.

Shower head with built-in mechanism for formation of dispersion media and foamy mixture

Номер патента: RU2698221C1. Автор: Сергей Владимирович Глухов. Владелец: Сергей Владимирович Глухов. Дата публикации: 2019-08-23.

Electric power generation system during liquefaction of natural gas at gas distribution station

Номер патента: RU2731263C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов. Владелец: Юрий Васильевич Белоусов. Дата публикации: 2020-08-31.

Liquefied gas distribution kit

Номер патента: RU2727773C2. Автор: Симон УРИ. Владелец: Криостар Сас. Дата публикации: 2020-07-24.

Shower head with which shower sensations can be obtained without providing water sprinkling plate

Номер патента: EP3189757A1. Автор: Junichi Ichizawa. Владелец: Micro-Bub Corp. Дата публикации: 2017-07-12.

Visualization and enhancement of latent fingerprints using low pressure dye vapor deposition

Номер патента: US8507028B2. Автор: Calvin Thomas Knaggs. Владелец: Linde North America Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Shower head

Номер патента: CA1211141A. Автор: Don C. Arnold. Владелец: Beatrice Foods Co. Дата публикации: 1986-09-09.

Adjustable height shower head assembly

Номер патента: CA3041480C. Автор: Kyle Davidson,Celine Garland,Scott Sorrell. Владелец: Delta Faucet Co. Дата публикации: 2021-11-30.

Shower head dispenser

Номер патента: US4921171A. Автор: Jerry D. Cupit. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-05-01.

Hybrid Shower Head

Номер патента: US20200156090A1. Автор: Xiaofa Lin,Xiaoshan Lin,Qiqiao Liu,Xiaoqing Deng,Zhigang WAN. Владелец: Fujian Xihe Sanitary Ware Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Intake apparatus for internal combustion engine and outside gas distribution structure for internal combustion engine

Номер патента: US20170211519A1. Автор: Keitaro Mori,Atsushi Ito. Владелец: Aisin Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-27.

Flexible shower head

Номер патента: US11865557B2. Автор: Benoit Poirier. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-09.

Flexible shower head

Номер патента: US20210008573A1. Автор: Benoit Poirier. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-01-14.

Shower Head of Chemical Vapor Deposition Equipment

Номер патента: KR970052086A. Автор: 배대록,유봉영,김형섭. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-07-29.

Chemical vapor deposition of metal compound coatings utilizing metal sub-halide

Номер патента: CA1224091A. Автор: M. Javid Hakim. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1987-07-14.

Masking techniques in chemical vapor deposition

Номер патента: CA1199715A. Автор: Robert D. Burnham. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1986-01-21.

Device for gas distribution in mine grain dryer

Номер патента: RU2457413C1. Автор: Николай Михайлович Андрианов,Сергей Викторович Карташов,Антон Михайлович Дубков,Иван Сергеевич Лебедев,Николай Михайлович Андрианов (RU),Сергей Викторович Карташов (RU),Антон Михайлович Дубков (RU),Иван Сергеевич Лебедев (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Новгородский государственный университет им. Ярослава Мудрого. Дата публикации: 2012-07-27.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: CA1262506A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1989-10-31.

Gas Supply System of Chemical Vapor Etching Equipment

Номер патента: KR970052611A. Автор: 최병오,박경신,김역환. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-07-29.

Method and apparatus for uniform application of processing medium onto rope type materials

Номер патента: RU2312178C2. Автор: Карл КОРДС,Томас ВАЙДМЕР. Владелец: ДЗЕН МАШИНЕН (Би.Ви.Ай.) ЛИМИТЕД. Дата публикации: 2007-12-10.

Method for determination of primary parameters for uniform section of three-wire power transmission line

Номер патента: RU2522836C1. Автор: Георгий Анатольевич Большанин,Людмила Юрьевна Большанина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Братский государственный университет". Дата публикации: 2014-07-20.

Method for uniform distribution of levels of stress-strain state of above-ground pipe using support

Номер патента: RU2592564C1. Автор: Игорь Григорьевич Ткаченко,Сергей Геннадьевич Шабля,Сергей Вячеславович Твардиевич,Сергей Владимирович Бачалов,Вадим Георгиевич Гераськин,Сергей Николаевич Шабров,Пётр Николаевич Шабров,Сергей Петрович Сусликов,Сергей Викторович Пушкин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Газпром Трансгаз Краснодар". Дата публикации: 2016-07-27.

Device for uniform distribution of reactive power

Номер патента: RU2402134C1. Автор: Геннадий Евграфович Кувшинов,Алексей Викторович Коршунов,Наталья Николаевна Мазалева,Юрий Андреевич Андреенко. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Дальневосточный государственный технический университет (ДВПИ имени В.В. Куйбышева). Дата публикации: 2010-10-20.

Method of shock-absorbing of impact loads on gas distributing valve of internal combustion engine by hydraulic drive system of gas distributing valve

Номер патента: RU2555101C2. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2015-07-10.

Natural gas distribution method with simultaneous production of liquefied gas at transportation to consumer from high-pressure main pipeline to low-pressure pipeline

Номер патента: RU2534832C2. Автор: Виктор Михайлович Гуреев,Герман Викторович Демидов,Михаил Викторович Гуреев,Эмануил Борисович Мац. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ" (КНИТУ-КАИ). Дата публикации: 2014-12-10.

Method for uniform distribution of moisture in soil on lands with uneven microrelief

Номер патента: RU2250581C1. Автор: Г.Г. Морковкин,И.В. Демина,В.А. Демин. Владелец: Демина Ирина Владимировна. Дата публикации: 2005-04-27.

Method of production of compromised natural gas at the gas distribution station and booster compressor for the realisation of such method

Номер патента: RU2641416C1. Автор: Юрий Васильевич Белоусов,Валерий Николаевич Анциферов,Николай Николаевич Верещагин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газхолодтехника". Дата публикации: 2018-01-17.

Gas-distributing mechanism of internal combustion engine

Номер патента: RU2472008C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Сергей Юрьевич Радин,Леонид Алексеевич Савин,Олег Андреевич Пивоваров,Анна Геннадьевна Каратевская. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина". Дата публикации: 2013-01-10.

Gas distributing station with power installation

Номер патента: RU2351842C1. Автор: Размик Енокович Агабабян. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Завод "Газпроммаш". Дата публикации: 2009-04-10.

Gas distributing station

Номер патента: RU2316693C1. Автор: Сергей Геннадьевич Емельянов,Николай Сергеевич Кобелев,Игорь Витальевич Насенков,Владимир Сергеевич Ежов,Павел Николаевич Ишков,Наталья Евгеньевна Семичева,Наталь Евгеньевна Семичева,нов Сергей Геннадьевич Емель,Ольга Юрьевна Щедрина. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курский государственный технический университет". Дата публикации: 2008-02-10.

Power system for utilisation of heat of exhaust gases of gas-distributing station

Номер патента: RU2564195C1. Автор: Николай Геннадьевич Кириллов,Александрс Народицкис. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное объединение "Санкт-Петербургская электротехническая компания". Дата публикации: 2015-09-27.

Heater-electric generator for gas-distributing station

Номер патента: RU2597327C1. Автор: Андрей Николаевич Кобелев,Владимир Сергеевич Ежов,Павел Николаевич Ишков,Виктор Викторович Амелин. Владелец: Акционерное общество "Газпром газораспределение Курск" (АО "Газпром газораспределение Курск"). Дата публикации: 2016-09-10.

Gas distribution station

Номер патента: RU2225567C1. Автор: В.Л. Добрянский,Л.В. Коротков,А.И. Кривошеев,В.В. Рысев,Ф.Ш. Серазетдинов,Р.Ш. Серазитдинов,нский В.Л. Добр,Я.В. Зарецкий,В.С. Громов,И.А. Якунин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Авиагаз-Союз+". Дата публикации: 2004-03-10.

Shower head holder attachment

Номер патента: CA103379S. Автор: . Владелец: Moen Inc. Дата публикации: 2004-06-10.

Shower head

Номер патента: RU2531288C2. Автор: Андрей Николаевич Алексеев,Наталья Вячеславовна Заворотинская. Владелец: Наталья Вячеславовна Заворотинская. Дата публикации: 2014-10-20.

Shower head for sanitary shower

Номер патента: RU2271871C2. Автор: Франц ШОРН. Владелец: Хансгроэ Аг. Дата публикации: 2006-03-20.

Device for uniform broadband planting seeds of vegetable crops

Номер патента: RU2501204C2. Автор: Леонид Михайлович Максимов,Павел Леонидович Максимов,Андрей Аркадьевич Кунавин. Владелец: Леонид Михайлович Максимов. Дата публикации: 2013-12-20.

Opener for uniform broadband sowing seeds

Номер патента: RU2554450C2. Автор: Леонид Михайлович Максимов,Павел Леонидович Максимов,Андрей Аркадьевич Кунавин,Валерий Александрович Широбоков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ижевская государственная сельскохозяйственная академия". Дата публикации: 2015-06-27.

Thermal turbine gas expander unit in gas distribution system (gds)

Номер патента: RU2330968C2. Автор: Николай Павлович Иванников. Владелец: Николай Павлович Иванников. Дата публикации: 2008-08-10.

Electromagnetic control system of valves of gas distributing mechanism of internal combustion engine (versions)

Номер патента: RU2554256C1. Автор: Игорь Евгеньевич Колокольников. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БИНОТЕК". Дата публикации: 2015-06-27.

Cap-type gas distributing grate

Номер патента: RU2320922C9. Автор: бин Анатолий Андреевич Скр,Анатолий Андреевич Скрябин,Валерий Петрович Щуренко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-исследовательский и проектно-конструкторский центр ПО "Бийскэнергомаш" (ООО "НИЦ ПО "Бийскэнергомаш"). Дата публикации: 2008-06-10.

Gas turbine expansion power plant of gas-distributing station

Номер патента: RU2557834C2. Автор: Владимир Александрович Грабовец,Владимир Львович Фиников,Константин Юрьевич Шабанов,Владимир Васильевич Бирюк,Владимир Анатольевич Субботин,Леонид Павлович Шелудько. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Самара". Дата публикации: 2015-07-27.

Shower head assembly with control device

Номер патента: MY146722A. Автор: Voon Quek Vee. Владелец: Qpm Ind Sdn Bhd. Дата публикации: 2012-09-14.

Gas-distributing valve

Номер патента: RU2377460C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Юрий Семенович Соломонов,Владимир Иванович Черепов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московский институт теплотехники". Дата публикации: 2009-12-27.

Gas-distributing valve

Номер патента: RU2560097C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Кирилл Геннадьевич Домнин,Виктор Иванович Петрусев. Владелец: Акционерное общество "Корпорация "Московский институт теплотехники"(АО"Корпорация "МИТ"). Дата публикации: 2015-08-20.

Hot gas gas-distributing valve

Номер патента: RU2355931C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Юрий Семенович Соломонов,Владимир Иванович Черепов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московский институт теплотехники". Дата публикации: 2009-05-20.

Method for uniform extraction stratified reservoir

Номер патента: RU2597596C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Вадим Валерьевич Ахметгареев,Венера Асгатовна Таипова. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2016-09-10.

Method of driving a gas-distributing valve of an internal combustion engine with a liquid reciprocating electric drive

Номер патента: RU2741163C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2021-01-22.

Diagnostic device of gas distributing mechanism of internal combustion engine

Номер патента: RU2550235C2. Автор: Василий Андреевич Борисенко,Сергей Александрович Барышников. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Челябинская государственная агроинженерная академия" (ФГБОУ ВПО ЧГАА). Дата публикации: 2015-05-10.

Method of gas distributing station operation

Номер патента: RU2525041C1. Автор: Айрат Маратович Гафуров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2014-08-10.

Method of operation of combined gas-turbine unit of gas distribution system

Номер патента: RU2557823C2. Автор: Айрат Маратович Гафуров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2015-07-27.

Gas-distributing mechanism

Номер патента: RU2343295C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Сергей Александрович Морозов,Олег Владимирович Зубарев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина". Дата публикации: 2009-01-10.

Mechanism of gas distributing

Номер патента: RU2316655C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Андрей Анатольевич Зайцев,Роман Олегович Сираев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина". Дата публикации: 2008-02-10.

Valve gas distributing gear

Номер патента: RU2345228C2. Автор: Анатолий Викторович Поздеев. Владелец: Анатолий Викторович Поздеев. Дата публикации: 2009-01-27.

Reversing method of internal combustion engine with reversing starter and actuating mechanism of gas distributing valve and fuel injector with charging of its pneumatic accumulator by compressed air

Номер патента: RU2536651C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2014-12-27.

Gas-distributing valve

Номер патента: RU2466320C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Владимир Иванович Черепов. Владелец: Открытое акционерное общество "Корпорация "Московский институт теплотехники". Дата публикации: 2012-11-10.

Gas-distributing mechanism

Номер патента: RU2268373C1. Автор: Евгений Васильевич Сливинский,Олег Андреевич Пивоваров. Владелец: Елецкий государственный университет им. И.А. Бунина. Дата публикации: 2006-01-20.

Gas-distributing valve

Номер патента: RU2498135C1. Автор: Олег Александрович Лобанов,Валентина Павловна Тумановская,Владимир Иванович Черепов,Александр Дмитриевич Чекушин. Владелец: Открытое акционерное общество "Корпорация "Московский институт теплотехники". Дата публикации: 2013-11-10.

Gas distributing device for mass transfer apparatus

Номер патента: RU2329849C1. Автор: Мансур Инсафович Фарахов,Марат Наильевич Ахлямов,Ильяс Масгутович Шигапов,Ленар Ильдарович Асибаков,Ильдар Борисович Салимгареев,Рустам Музагитович Хасанов,Иль с Масгутович Шигапов,мов Марат Наильевич Ахл. Владелец: ООО "Инженерно-внедренческий центр "ИНЖЕХИМ". Дата публикации: 2008-07-27.

Gas distribution grate for fluid bed apparatus

Номер патента: RU2468859C2. Автор: Валерий Анатольевич Себалло,Геннадий Сергеевич Черкез,Николай Михайлович Винников,Николай Федорович Воробьев,Александр Георгиевич Кузьмин,Рустам Алвыз Оглы Аскеров,Владимир Мордухович Мазлин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Зиракс" (ООО "Зиракс"). Дата публикации: 2012-12-10.

Microwave oven cavity excitation system providing controlled electric field shape for uniformity of energy distribution

Номер патента: CA1175109A. Автор: Peter H. Smith. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1984-09-25.

Gas-distributing station

Номер патента: RU2428621C1. Автор: Сергей Геннадьевич Емельянов,Николай Сергеевич Кобелев,Татьяна Васильевна Алябьева,Андрей Николаевич Кобелев,Сергей Сергеевич Федоров,Виктор Васильевич Лысых,Ольга Александровна Гнездилова,Юлия Владимировна Вертакова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего Профессионального образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗ ГУ). Дата публикации: 2011-09-10.

Automatic dual action apparatus and method for uniformly coating the inside of tubular extensions

Номер патента: CA1245050A. Автор: Dalton L. Roberson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1988-11-22.

An integrally constructed instant hot water heater shower head

Номер патента: MY125588A. Автор: Lai Yoong Woon. Владелец: Lai Yoong Woon. Дата публикации: 2006-08-30.

Method to prevent concussion of piston groups against cylinder ends in double-cylinder free-piston power unit with external combustion chamber with help of gas distribution valves

Номер патента: RU2548527C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2015-04-20.

Gas-distributing mechanism of profile type of internal combustion engine

Номер патента: RU2551451C2. Автор: Александр Алексеевич Семенов. Владелец: Александр Алексеевич Семенов. Дата публикации: 2015-05-27.

Temperature massage shower head

Номер патента: RU2221650C1. Автор: Л.Ф. Порядков,дков Л.Ф. Пор. Владелец: Порядков Леонид Федорович. Дата публикации: 2004-01-20.

Device for uniform distribution of reactive power

Номер патента: RU2359310C1. Автор: Геннадий Евграфович Кувшинов,Наталья Николаевна Мазалева,Юрий Михайлович Горбенко. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Дальневосточный государственный технический университет (ДВПИ им. В.В. Куйбышева). Дата публикации: 2009-06-20.

Device for uniform vertical vessel filling with powder material

Номер патента: RU2317934C1. Автор: Мансур Инсафович Фарахов,Фархад Абдряуфович Байгузин,Сергей Александрович Ирдинкин,Рустам Музагитович Хасанов,Фархад Абдр уфович Байгузин. Владелец: ООО "Инженерно-внедренческий центр "ИНЖЕХИМ". Дата публикации: 2008-02-27.

Combined shower head and handheld shower

Номер патента: CA174948S. Автор: . Владелец: Delta Faucet Co. Дата публикации: 2017-09-27.

Combined shower head and handheld shower

Номер патента: CA174949S. Автор: . Владелец: Delta Faucet Co. Дата публикации: 2017-09-27.

Shower head with arm

Номер патента: CA99455S. Автор: . Владелец: Emhart LLC. Дата публикации: 2003-03-25.

Gas-distributing station

Номер патента: RU2431077C1. Автор: Сергей Геннадьевич Емельянов,Николай Сергеевич Кобелев,Татьяна Васильевна Алябьева,Сергей Борисович Григорьев,Владимир Николаевич Гадалов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего Профессионального образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗ ГУ). Дата публикации: 2011-10-10.

Mechanism of gas distribution of phases of internal combustion rotor engine

Номер патента: RU2482300C1. Автор: Антон Антонович Кривицкий. Владелец: Антон Антонович Кривицкий. Дата публикации: 2013-05-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.