Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Chemical mechanical planarization of low dielectric constant materials

Chemical mechanical planarization of low dielectric constant materials

Номер патента: US6416685B1
Опубликовано: 09-07-2002
Автор(ы): Dan Towery, Fan Zhang, Feng Liu
Принадлежит: Honeywell International Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Aqueous compositions of low dishing silica particles for polysilicon polishing

Номер патента: TW201927993A. Автор: 吉田光一,馬修 凡漢翰,納雷許庫馬 潘塔,科瓦德沃Ｅ 特泰,吉田享平. Владелец: 美商羅門哈斯電子材料Ｃｍｐ控股公司. Дата публикации: 2019-07-16.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Method for chemical-mechanical polish (CMP) planarizing of cooper containing conductor layers

Номер патента: US5780358A. Автор: CHU RON-FU,Mei Sheng Zhou. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1998-07-14.

Method and slurry composition for chemical-mechanical polish (CMP) planarizing of copper containing conductor layers

Номер патента: US5863307A. Автор: Mei Sheng Zhou,Ron-Fu Chu. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1999-01-26.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Selective high dielectric constant material etchant

Номер патента: EP1828070A2. Автор: John Starzynski. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-09-05.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Ultra low dielectric layer

Номер патента: US20170092534A1. Автор: Willi Volksen,Teddie P. Magbitang,Hiroyuki Miyazoe,Geraud J. Dubois,Robert L. Bruce,Gregory Fritz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-30.

Method of manufacturing an ultra low dielectric layer

Номер патента: US09773698B2. Автор: Willi Volksen,Teddie P. Magbitang,Hiroyuki Miyazoe,Geraud J. Dubois,Robert L. Bruce,Gregory Fritz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Articles including ultra low dielectric layers

Номер патента: US20170365511A1. Автор: Willi Volksen,Teddie P. Magbitang,Hiroyuki Miyazoe,Geraud J. Dubois,Robert L. Bruce,Gregory Fritz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-21.

Low dielectric constant films derived by sol-gel processing of a hyperbranched polycarbosilane

Номер патента: WO2004003938A2. Автор: Ning Lu,Leonard Vincent Interrante. Владелец: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE. Дата публикации: 2004-01-08.

Low dielectric constant films derived by sol-gel processing of a hyperbranched polycarbosilane

Номер патента: WO2004003938A3. Автор: Ning Lu,Leonard Vincent Interrante. Владелец: Leonard Vincent Interrante. Дата публикации: 2004-06-24.

Compositions of low-k dielectric sols containing nonmetallic catalysts

Номер патента: EP2915185A1. Автор: Mark L.F. Phillips,Travis Savage. Владелец: SBA Materials Inc. Дата публикации: 2015-09-09.

Compositions of low-k dielectric sols containing nonmetallic catalysts

Номер патента: US20160111275A1. Автор: Mark L.F. Phillips,Travis Savage. Владелец: SBA Materials Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Low dielectric constant materials and method

Номер патента: US6051321A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-18.

Polycarbosilane adhesion promoters for low dielectric constant polymeric materials

Номер патента: EP1243003A1. Автор: Tian-An Chen,Hui-Jung Wu,Anna M. George,Lau S. Y. Kreistler. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 2002-09-25.

Low dielectric constant siliceous film manufacturing composition and methods for producing cured film and electronic device using the same

Номер патента: WO2021028297A1. Автор: Kensuke Aida,Kazuya Arima,Issei Sakurai. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-02-18.

Patternable low dielectric constant materials and their use in ulsi interconnection

Номер патента: US20080063880A1. Автор: Qinghuang Lin,Ratnam Sooriyakumaran. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-03-13.

Composition for forming low dielectric constant resin, low dielectric member, and electronic device using same

Номер патента: EP4239000A1. Автор: Takeshi Fujiwara,Koki Sago. Владелец: JNC Corp. Дата публикации: 2023-09-06.

Low dielectric constant siliceous film manufacturing composition and methods for producing cured film and electronic device using the same

Номер патента: EP4010441A1. Автор: Kensuke Aida,Kazuya Arima,Issei Sakurai. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-06-15.

Low dielectric constant siliceous film manufacturing composition and methods for producing cured film and electronic device using the same

Номер патента: US20220267532A1. Автор: Kensuke Aida,Kazuya Arima,Issei Sakurai. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-08-25.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Hydrophobic Low-Dielectric-Constant Film and Preparation Method Therefor

Номер патента: MY196443A. Автор: Jian Zong. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-11.

SILOXANE EPOXY POLYMERS FOR LOW-κ DIELECTRIC APPLICATIONS

Номер патента: WO2005105894A2. Автор: Shyam P. Murarka,Ramkrishna Ghoshal,Toh-Ming Lu,Pei-I Wang. Владелец: Polyset Company, Inc.. Дата публикации: 2005-11-10.

A method of producing semiconductor devices comprising low dielectric constant thin films

Номер патента: WO2024079392A1. Автор: Juha Rantala,Thomas GÄDDA,Kimmo Karaste,Jagadish SALUNKE,Hanna LUUSUA,Zhongmei HAN. Владелец: Pibond Oy. Дата публикации: 2024-04-18.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Low κ dielectric inorganic/organic hybrid films and method of making

Номер патента: US7153580B2. Автор: John Felts,Peter Rose,Eugene Lopata. Владелец: Aviza Technology Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Template derivative for forming ultra-low dielectric layer and method of forming ultra-low dielectric layer using the same

Номер патента: US8354350B2. Автор: Chan Bae Kim,Sang Tae Ahn,Hyeon Ju An,Eun Jeong Kim,Ja Chun Ku,Hyo Seok Lee,Sung Kyu MIN,Chai O Chung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2013-01-15.

Template derivative for forming ultra-low dielectric layer and method of forming ultra-low dielectric layer using the same

Номер патента: US8507665B2. Автор: Chan Bae Kim,Sang Tae Ahn,Hyeon Ju An,Eun Jeong Kim,Ja Chun Ku,Hyo Seok Lee,Sung Kyu MIN,Chai O Chung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Template derivative for forming ultra-low dielectric layer and method of forming ultra-low dielectric layer using the same

Номер патента: US20120231634A1. Автор: Chan Bae Kim,Sang Tae Ahn,Hyeon Ju An,Eun Jeong Kim,Ja Chun Ku,Hyo Seok Lee,Sung Kyu MIN,Chai O Chung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-09-13.

Template derivative for forming ultra-low dielectric layer and method of forming ultra-low dielectric layer using the same

Номер патента: US20120231635A1. Автор: Chan Bae Kim,Sang Tae Ahn,Hyeon Ju An,Eun Jeong Kim,Ja Chun Ku,Hyo Seok Lee,Sung Kyu MIN,Chai O Chung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-09-13.

Low-dielectric constant polyimide insulation coating and enameled wire

Номер патента: US20180053580A1. Автор: Wei-Fang Su,Ya-Ting Chang,Chi-Feng Hung,Ting-I Lu,Ying-Ju Lin,Ming-Han Chiang,Hui-Ju Tsai. Владелец: Ta Ya Electric Wire and Cable Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-22.

Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor

Номер патента: WO2021096577A1. Автор: XIANG Yuan,Young Shin Kim,Xiao Xun Xie. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2021-05-20.

Antenna cover including a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor

Номер патента: EP4059089A1. Автор: XIANG Yuan,Young Shin Kim,Xiao Xun Xie. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2022-09-21.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Low dielectric constant insulating film resin composition, method of forming low dielectric constant insulating film, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US20010036689A1. Автор: Masakazu Muroyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Electron beam modification of CVD deposited films, forming low dielectric constant materials

Номер патента: US7309514B2. Автор: Matthew Ross,Jingjun Yang,Heike Thompson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-12-18.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Low dielectric constant fluorine and carbon-containing silicon oxide dielectric material characterized by improved resistance to oxidation

Номер патента: US20030207750A1. Автор: Vladimir Zubkov,Sheldon Aronowitz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-06.

Method of forming low dielectric constant insulation film for semiconductor device

Номер патента: US20030124874A1. Автор: Nobuo Matsuki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-03.

Low dielectric organosilicate polymer composite

Номер патента: WO2005019303A1. Автор: Moonhor Ree,Weontae Oh,Byeongdu Lee,Yong-Taek Hwang. Владелец: Postech Foundation. Дата публикации: 2005-03-03.

An ultralow dielectric constant material as an intralevel or interlevel dielectric in a semiconductor device

Номер патента: WO2004001815A1. Автор: Vishnubhai V. Patel,Alfred Grill. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2003-12-31.

Gate thin-film insulating material of high dielectric constant and its manufacturing method (alternatives)

Номер патента: RU2305346C2. Автор: Екатерина Дмитриевна Политова,Наталь Владимировна Голубко,Наталья Владимировна Голубко. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова" (НИФХИ им. Л.Я. Карпова). Дата публикации: 2007-08-27.

Low-dielectric heat dissipation film composition and low-dielectric heat dissipation film

Номер патента: US11608438B2. Автор: Yuki Kudo,Yoshihiro Tsutsumi,Hiroyuki Iguchi,Yoshinori Takamatsu,Atsushi Tsuura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-21.

Low-dielectric heat dissipation film composition and low-dielectric heat dissipation film

Номер патента: US20200325334A1. Автор: Yuki Kudo,Yoshihiro Tsutsumi,Hiroyuki Iguchi,Yoshinori Takamatsu,Atsushi Tsuura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-15.

Low dielectric resin composition, molded article, film, multilayer film and flexible printed wiring board

Номер патента: US11993740B2. Автор: Masayoshi Kido,Yuichi Imamura,Keisuke Oguma. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization

Номер патента: US5928492A. Автор: Glenn A. Roberson, Jr.,Gary L. Corlett. Владелец: Lucid Treatment Systems Inc. Дата публикации: 1999-07-27.

Methods and apparatus for deposition of low-k films

Номер патента: US11990332B2. Автор: Lin Yang,Ning Li,Yijun Liu,Li-Qun Xia,Mihaela Balseanu,Mark Saly,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Zhelin SUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Method for cleaning deposition chambers for high dielectric constant materials

Номер патента: EP1536035A3. Автор: Bing Ji,Stephen Andrew Motika,Dingjun Wu,Eugene Joseph Karwacki Jr.. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-07-13.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Method And Apparatus For Deposition Of Low-K Films

Номер патента: US20180301333A1. Автор: Ning Li,Li-Qun Xia,Mihaela Balseanu,Mark Saly,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Zhelin SUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-18.

Low dielectric constant curable compositions

Номер патента: US12116494B2. Автор: John P. Baetzold,Claire Hartmann-Thompson,Evan L Schwartz. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-10-15.

Low dielectric composite material and laminate and printed circuit board thereof

Номер патента: US09872382B2. Автор: Hao Chen,Chen-Yu Hsieh,Changyuan LI,Lianhui CAI,Xiangnan LI. Владелец: ELITE ELECTRONIC MATERIAL (ZHONG SHAN) Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Package structure having solder mask layer with low dielectric constant and method of fabricating the same

Номер патента: US20220240367A1. Автор: Kuo-Wei Li,Ming-Hao Wu. Владелец: Unimicron Technology Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Substrate containing low-Dk-core glass fibers having low dielectric constant (Dk) cores for use in printed circuit boards (PCBs), and method of making same

Номер патента: US09986637B2. Автор: Joseph Kuczynski,Bruce J. Chamberlin,Paula M. Nixa. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Low dielectric constant polymer containing dinaphthyl and hexafluorocyclobutyl ether unit, preparation method and use

Номер патента: US20160060394A1. Автор: Chao Yuan,Kai Li,Qiang Fang,Yinchun LIU,Kaikai JIN,Shen DIAO. Владелец: Shanghai Institute of Organic Chemistry of CAS. Дата публикации: 2016-03-03.

SUBSTRATE CONTAINING LOW-Dk-CORE GLASS FIBERS HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT (Dk) CORES FOR USE IN PRINTED CIRCUIT BOARDS (PCBs), AND METHOD OF MAKING SAME

Номер патента: US20160242280A1. Автор: Joseph Kuczynski,Bruce J. Chamberlin,Paula M. Nixa. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-08-18.

Low dielectric resin composition and an article of manufacture prepared therefrom

Номер патента: EP4314174A1. Автор: Alessandro Napoli,Kenneth Black Scobbie,Susanne ELMER,Michael Yin WONG,Christof STORZ. Владелец: Huntsman Advanced Materials Licensing Switzerland GmbH. Дата публикации: 2024-02-07.

Low dielectric resin composition and an article of manufacture prepared therefrom

Номер патента: US20240182613A1. Автор: Alessandro Napoli,Kenneth Black Scobbie,Susanne ELMER,Michael Yin WONG,Christof STORZ. Владелец: Huntsman Advanced Materials Licensing Switzerland GmbH. Дата публикации: 2024-06-06.

Low dielectric resin composition and an article of manufacture prepared therefrom

Номер патента: CA3214121A1. Автор: Alessandro Napoli,Kenneth Black Scobbie,Susanne ELMER,Michael Yin WONG,Christof STORZ. Владелец: Huntsman Advanced Materials Licensing Switzerland GmbH. Дата публикации: 2022-10-06.

Bi-layer capping of low-k dielectric films

Номер патента: WO2008036810A2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Ping Xu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-03-27.

Method for forming low dielectric constant fluorine-doped layers

Номер патента: US7579271B2. Автор: Ting Cheong Ang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2009-08-25.

Method for forming a region of low dielectric constant nanoporous material using a microemulsion technique

Номер патента: US20030092251A1. Автор: Wang Yang,Lap Chan,Alex See,Soo Pheng,Siew Kong. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2003-05-15.

INTEGRATION OF LOW ⊂ THIN FILMS AND Ta INTO Cu DAMASCENE

Номер патента: WO2002069395B1. Автор: Chung J Lee. Владелец: Dielectric Systems Inc. Дата публикации: 2004-07-08.

Method for curing low dielectric constant film using direct current bias

Номер патента: WO2004063422A2. Автор: Li-Qun Xia,Maosheng Zhao,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Lihua Li,Tzu-Fang Huang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2004-07-29.

Plasma processes for depositing low dielectric constant films

Номер патента: EP1607493A3. Автор: Wai-Fan Yau,David Cheung,Yung-Cheng Lu,Farhad Moghadam,Shin-puu Jeng,Robert P. Mandal,Kuo-Wei Liu,Ralf B. Willecke,Tetsuya Ishikawa,Mike Barnes,Tze Poon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-07-04.

Thermal CVD process for depositing a low dielectric constant carbon-doped silicon oxide film

Номер патента: EP1050600A1. Автор: Frederic Gaillard,Li-Qun Xia,Fabrice Geiger,Ellie Yieh,Tian Lim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-11-08.

Method for preparing a nanoporous ultra-low dielectric thin film including a high-temperature ozone treatment and a nanoporous ultra-low dielectric thin film prepared by the same method

Номер патента: US09679761B2. Автор: Bum Suk Kim,Bo Ra Shin,Hee Woo Rhee,Kyu Yoon CHOI. Владелец: Sogang University. Дата публикации: 2017-06-13.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Solvent systems for low dielectric constant polymeric materials

Номер патента: WO1999038910A1. Автор: Tian-An Chen,Kreisler S. Y. Lau,Qiang Zhao. Владелец: Alliedsignal, Inc.. Дата публикации: 1999-08-05.

Purge heater design and process development for the improvement of low k film properties

Номер патента: US6709721B2. Автор: Ellie Yieh,Shankar Venkataraman,Chen-An Chen,Juan Carlos Rocha-Alvarez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-03-23.

Methods for forming low-κ dielectric materials

Номер патента: WO2024226342A1. Автор: Muthukumar Kaliappan,Li-Qun Xia,Xiaobo Li,Chi-I Lang,Shankar Venkataraman,Bo Xie,Michael Haverty,Shanshan Yao,Rui Lu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films

Номер патента: US20050153574A1. Автор: Robert Mandal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Non-thermal process for forming porous low dielectric constant films

Номер патента: EP1420439A2. Автор: Mark Leonard O'Neill,Eugene Joseph Karwacki, Jr.,Raymond Nicholas Vrtis,Jean Louise Vincent,Aaron Scott Lukas,Mark Daniel Bitner. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Non-thermal process for forming porous low dielectric constant films

Номер патента: EP1420439A3. Автор: Mark Leonard O'Neill,Eugene Joseph Karwacki, Jr.,Raymond Nicholas Vrtis,Jean Louise Vincent,Aaron Scott Lukas,Mark Daniel Bitner. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2006-04-26.

Systems and methods for depositing low-κ dielectric films

Номер патента: WO2024044462A1. Автор: Yijun Liu,Li-Qun Xia,Xiaobo Li,Bo Xie,Lakmal C. Kalutarage,Ruitong Xiong,Michael Haverty,Rui Lu,Shruba Gangopadhyay,Lauren Bagby. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-29.

Systems and methods for depositing low-κ dielectric films

Номер патента: WO2022060613A1. Автор: Yijun Liu,Li-Qun Xia,Bo Xie,Ruitong Xiong,Sure Ngo,Kang S. Yim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-03-24.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Method for reducing dielectric constant of film using direct plasma of hydrogen

Номер патента: US20130029498A1. Автор: Akinori Nakano. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2013-01-31.

Low dielectric constant materials and methods of preparation thereof

Номер патента: EP1373358A1. Автор: Kreisler Honeywell International Inc. LAU,Feng Quan Honeywell International Inc. LIU,Boris Honeywell International Inc. KOROLEV,Emma Honeywell International Inc. BROUK,Ruslan Honeywell International Inc. ZHEREBIN,Roger Honeywell International Inc. LEUNG,David Honeywell International Inc. NALEWAJEK,Paul HONEYWELL INTERNATIONAL INC. APEN. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2004-01-02.

Linked periodic networks of alternating carbon and inorganic clusters for use as low dielectric constant materials

Номер патента: US20080108774A1. Автор: Michael Raymond Ayers. Владелец: Roskilde Semiconductor Llc. Дата публикации: 2008-05-08.

Process modules for transport polymerization of low dieletric constant thin films

Номер патента: WO2003089680A2. Автор: Atul Kumar,Binh Nguyen,Chung J. Lee,Michael Solomensky,Oanh Nguyen,Wei Shiang Charles Lee,James Yu Chung Chang. Владелец: Dielectric Systems, Inc.. Дата публикации: 2003-10-30.

Silicon carbide electrical insulator material of low dielectric constant

Номер патента: US4544642A. Автор: Kunihiro Maeda,Tadahiko Miyoshi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-10-01.

Low-dielectric wollastonite based low-temperature co-fired ceramic material and preparation method therefor

Номер патента: US20240246863A1. Автор: Jin Li,Jianjun Lu,Shan SHI,Jianxi TONG,Zugao YU,Jingang TAN. Владелец: Jiaxing Glead Electronics Co ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Low dielectric constant film and preparation method thereof

Номер патента: US11904352B2. Автор: Jian Zong. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Low dielectric constant ceramic substrate

Номер патента: US4891344A. Автор: Masahiro Sugimoto,Yasumasa Wakasugi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1990-01-02.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Porogens, Porogenated Precursors and Methods for Using the Same to Provide Porous Organosilica Glass Films with Low Dielectric Constants

Номер патента: US20130095255A1. Автор: Mark Leonard O'Neill,Raymond Nicholas Vrtis,Mary Kathryn Haas,Jean Louise Vincent,Aaron Scott Lukas. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-04-18.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Build-up film with low dielectric loss, preparation method therefor and circuit substrate structure

Номер патента: US12098230B2. Автор: Yi Wang,DE Wu,Shuhang Liao,Junxing Su. Владелец: Wuhan Choice Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Device for application of functional layers of thin-film solar cells on substrate by deposition in plasma of low-frequency induction discharge of low-pressure transformer

Номер патента: RU2582077C2. Автор: Игорь Максимович Уланов,Артем Юрьевич Литвинцев,Михаил Витальевич Исупов,Павел Александрович Мищенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2016-04-20.

Deposition of rutile films with very high dielectric constant

Номер патента: US9222170B2. Автор: Dipankar Pramanik,Sergey Barabash. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-12-29.

Dielectric having high-dielectric constant, method of manufacturing the same, target material for manufacturing the dielectric, electronic device including the dielectric, and electronic apparatus including the electronic device

Номер патента: US20230178584A1. Автор: Hyungjun Kim,Jooho Lee,Yongsung Kim,Yong-hee Cho,Boeun PARK,Jeongil BANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

PLZT capacitor and method to increase the dielectric constant

Номер патента: US09842695B2. Автор: Manuel Ray Fairchild,Ralph S. Taylor,Tae H. Lee,Uthamalingam Balachjandran. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Build-up film with low dielectric loss, preparation method therefor and circuit substrate structure

Номер патента: US20240182619A1. Автор: Yi Wang,DE Wu,Shuhang Liao,Junxing Su. Владелец: Wuhan Choice Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Temperature-stable, low-dielectric constant material with an ultra-low loss tangent

Номер патента: US12065381B2. Автор: Michael David Hill,Srinivas Polisetty. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate with a low dielectric constant material and method of molding

Номер патента: WO2015171584A1. Автор: Mary Elizabeth Sullivan Malervy,Josh Harris Golden,Aleksandar Kolev ANGELOV. Владелец: TYCO ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2015-11-12.

Borate Microwave Dielectric Ceramic with Low Dielectric Constant, and Preparation Method Thereof by Cold Sintering

Номер патента: US20240286910A1. Автор: Yan Shen,FENG Shi,YUE Xu,Xiangyu WANG,Jinbo Zhao,Fuzhou Song,Shuai LV,Lingcui Zhang. Владелец: Qilu University of Technology. Дата публикации: 2024-08-29.

Impedance matching in very high dielectric constant isolator/circulator junctions

Номер патента: US09935351B2. Автор: Michael David Hill,David Bowie Cruickshank,Iain Alexander MACFARLANE. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Impedance matching in very high dielectric constant isolator/circulator junctions

Номер патента: US09640849B2. Автор: Michael David Hill,David Bowie Cruickshank,Iain Alexander MACFARLANE. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

High dielectric constant type ceramic composition

Номер патента: CA1108842A. Автор: Hitoshi Tanaka,Kiyoshi Furukawa,Nobuaki Kikuchi,Shinobu Fujiwara,Osamu Iizawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 1981-09-15.

Negative dielectric constant material based on ion conducting materials

Номер патента: US20140287904A1. Автор: Cheol Park,Peter T. Lillehei,Joycelyn S. Harrison,Jin Ho Kang,Keith L. Gordon. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2014-09-25.

Impedance matching in very high dielectric constant isolator/circulator junctions

Номер патента: US20180323486A1. Автор: Michael David Hill,David Bowie Cruickshank,Iain Alexander MACFARLANE. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2018-11-08.

Enhanced Q high dielectric constant material for microwave applications

Номер патента: US09755293B2. Автор: Michael David Hill. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Low temperature co-fired ceramics with low dielectric loss for millimeter-wave application

Номер патента: US8507393B2. Автор: Jeong Hyun PARK,Jin Gu Kang,Young Jin Choi,Jae Gwan Park. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2013-08-13.

Silicon nitride having low dielectric constant

Номер патента: US4708943A. Автор: Howard Mizuhara,Martin Y. Hsieh. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1987-11-24.

Co-firing of low firing temperature dielectric materials with high bismuth garnet ferrites for miniaturized isolators and circulators

Номер патента: US11936088B2. Автор: Michael David Hill,David Bowie Cruickshank,Jeffrey Alan Shunkwiler,John Jianzhong Jiang,David Martin Firor,Srinivas Polisetty. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Co-firing of low firing temperature dielectric materials with high bismuth garnet ferrites for miniaturized isolators and circulators

Номер патента: US20230291085A1. Автор: Michael David Hill,David Bowie Cruickshank,Jeffrey Alan Shunkwiler,John Jianzhong Jiang,David Martin Firor,Srinivas Polisetty. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Glass ceramic materials having controllable temperature coefficients of dielectric constant

Номер патента: US4396721A. Автор: William N. Lawless. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-08-02.

Process for lowering the dielectric constant of polyimides using diamic acid additives

Номер патента: CA1334362C. Автор: Diane M. Stoakley,Anne K. St. Clair. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1995-02-14.

Low temperature co-fired ceramics with low dielectric loss for millimeter-wave application

Номер патента: US20120202675A1. Автор: Jeong Hyun PARK,Jin Gu Kang,Young Jin Choi,Jae Gwan Park. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2012-08-09.

Electrical connector formed from a polymer composition having a low dielectric constant and dissipation factor

Номер патента: WO2021050220A1. Автор: Young Shin Kim,Xinyu Zhao. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2021-03-18.

Negative dielectric constant material based on ion conducting materials

Номер патента: US9734932B2. Автор: Cheol Park,Peter T. Lillehei,Joycelyn S. Harrison,Jin Ho Kang,Keith L. Gordon. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2017-08-15.

Enhanced q high dielectric constant material for microwave applications

Номер патента: US20150158771A1. Автор: Michael David Hill. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2015-06-11.

Enhanced q high dielectric constant material for microwave applications

Номер патента: EP3077349A1. Автор: Michael David Hill. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2016-10-12.

Enhanced q high dielectric constant material for microwave applications

Номер патента: WO2015085270A1. Автор: Michael David Hill. Владелец: SKYWORKS SOLUTIONS, INC.. Дата публикации: 2015-06-11.

Method for preparing dielectric having low dielectric loss and dielectric prepared thereby

Номер патента: US20200299197A1. Автор: Sung-Yoon Chung,Ji-Sang An. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2020-09-24.

Dielectric material having a low dielectric loss factor for high-frequency use

Номер патента: US5885916A. Автор: Koichi Tanaka,Hiroshi Maruyama,Kenichi Tajima,Hideki Uchimura,Shoji Kohsaka. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 1999-03-23.

Elastomer composites with high dielectric constant

Номер патента: US20200035376A1. Автор: Evangelos Manias,Bo Li,David Eric RYAN. Владелец: Eaton Intelligent Power Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Elastomer composites with high dielectric constant

Номер патента: PH12018502267A1. Автор: Evangelos Manias,Bo Li,David Eric RYAN. Владелец: Eaton Intelligent Power Ltd. Дата публикации: 2019-09-23.

Frequency-stable low-dielectric microwave dielectric ceramic material and preparation method thereof

Номер патента: US20230416155A1. Автор: Qiang Liu,Dan Huang,Jinhua Xu,Shunguo LIU,Jianxi TONG,Xuebin SHI. Владелец: Jiaxing Glead Electronics Co ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

High dielectric constant ceramic material and method of manufacturing the same

Номер патента: US4767732A. Автор: Osamu Furukawa,Seiichi Yoshida,Motomasa Imai,Mitsuo Harata. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-08-30.

Planarization of organic silicon low dielectric constant material by chemical mechanical polishing

Номер патента: TW462085B. Автор: Ding-Jang Jang,Bo-Tsuen Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-11-01.

Liquid Crystalline Polymer Composition having a Low Dielectric Constant

Номер патента: US20230407181A1. Автор: Xiaowei Zhang,Xinyu Zhao. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Liquid crystalline polymer composition having a low dielectric constant

Номер патента: WO2023249878A1. Автор: Xiaowei Zhang,Xinyu Zhao. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2023-12-28.

Connected medical device containing a liquid crystalline polymer composition having a low dielectric constant

Номер патента: EP4351413A1. Автор: Young Shin Kim,Philip T. Wilson,Don DEMELLO. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Connected medical device containing a liquid crystalline polymer composition having a low dielectric constant

Номер патента: WO2022245717A1. Автор: Young Shin Kim,Philip T. Wilson,Don DEMELLO. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2022-11-24.

Method for continuous ultrasonic preparation of low-temperature organic heat carrier based on phenylalkane and device for its implementation

Номер патента: RU2712456C1. Автор: Алексей Викторович Гладилин,Андрей Григорьевич Семенов. Владелец: Акционерное общество "Акустический институт имени академика Н.Н. Андреева". Дата публикации: 2020-01-29.

Production Method of Low Dimensional Nano-Material

Номер патента: US20200062599A1. Автор: Wei-Hung Chiang,Hao-Hsuan Chien. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2020-02-27.

Production method of low dimensional nano-material

Номер патента: US10947120B2. Автор: Wei-Hung Chiang,Hao-Hsuan Chien. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2021-03-16.

Downhole fluids with high dielectric constant and high dielectric strength

Номер патента: MY183665A. Автор: Paul F Rodney. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2021-03-07.

Downhole fluids with high dielectric constant and high dielectric strength

Номер патента: CA2982556C. Автор: Paul F. Rodney. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2021-03-02.

Downhole fluids with high dielectric constant and high dielectric strength

Номер патента: CA2982556A1. Автор: Paul F. Rodney. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Manufacturing method of the materials and the parts with low dielectric constant and low dielectric loss by inkjet printing

Номер патента: US20240316948A1. Автор: Jong Hee Kim,Seongkeun IH. Владелец: Crhm Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Optically clear pressure sensitive adhesives with a low dielectric constant

Номер патента: WO2024110817A1. Автор: Sung-Tso LIN. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2024-05-30.

Coatings having filler-polymer compositions with combined low dielectric constant, high resistivity, and optical density properties and controlled electrical resistivity, devices made therewith, and methods for making same

Номер патента: US09982158B2. Автор: Eugene N. Step,Qingling Zhang,Geoffrey D. Moeser,Agathagelos Kyrlidis,Andriy Korchev,Pavel A. Kossyrev,Jeremy K. Huffman. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Coatings having filler-polymer compositions with combined low dielectric constant, high resistivity, and optical density properties and controlled electrical resistivity, devices made therewith, and methods for making same

Номер патента: US09790393B2. Автор: Eugene N. Step,Qingling Zhang,Geoffrey D. Moeser,Agathagelos Kyrlidis,Andriy Korchev,Pavel A. Kossyrev,Jeremy K. Huffman. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Low dielectric silica powder, resin composition containing the silica powder, and method for manufacturing low dielectric silica powder

Номер патента: US12098290B2. Автор: Toshio Shiobara,Hajime Itokawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Extrusion coating of low density polyethylene and heat-sealed article made therefrom

Номер патента: RU2656028C1. Автор: Аули Нуммила-Пакаринен,Микко Пелтовуори,Маттиас БЕГКВИСТ. Владелец: Бореалис Аг. Дата публикации: 2018-05-30.

Control of nanoparticles dispersion stability through dielectric constant tuning, and determination of intrinsic dielectric constant of surfactant-free nanoparticles

Номер патента: US20230287195A1. Автор: Hung-Jue Sue,Masahiro Miyamoto,Xi Zhang,Haiqing YAO. Владелец: Kaneka Americas Holding Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Low dielectric silica powder, resin composition containing the silica powder, and method for manufacturing low dielectric silica powder

Номер патента: US20240174863A1. Автор: Toshio Shiobara,Hajime Itokawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Low dielectric silica powder, resin composition containing the silica powder, and method for manufacturing low dielectric silica powder

Номер патента: US20210371666A1. Автор: Toshio Shiobara,Hajime Itokawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

Low-dielectric phosphorus-containing polyester composite and method of manufacturing the same

Номер патента: US9790361B2. Автор: Tung-Ying Hsieh,Qi Shen,Jung-Che Lu,Ti-Kai YU. Владелец: Jiangsu Yoke Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Extrusion coating of low density polyethylene and heat-sealed article made therefrom

Номер патента: RU2656028C9. Автор: Аули Нуммила-Пакаринен,Маттиас Бергквист,Микко Пелтовуори. Владелец: Бореалис Аг. Дата публикации: 2018-10-02.

Compositions of low-temperature curable coatings

Номер патента: RU2730918C1. Автор: Кристофер А. ДАКО,Крейг А. УИЛСОН,Хунин ЧЖОУ,Венкатачалам ЭСВАРАКРИШНАН,Джо-Энн Е. БАЙС,Майкл Дж. САНДАЛА,Каролин А.К. НОВАК,Хён Ук НО,Ричард Ф. САЙПЕТ,Эгле ПОДЗЮКИНАЙТЕ,Джастин М. ДЖОНС,Герберт ТИЛЬМАН. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2020-08-26.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Low dielectric constant material having thermal resistance, insulation film between semiconductor layers using the same, and semiconductor device

Номер патента: US20060091382A1. Автор: Noboru Mikami,Sei Tsunoda,Hideharu Nobutoki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-05-04.

High temperature short time curing of low dielectric constant materials using rapid thermal processing techniques

Номер патента: EP1364397A2. Автор: Rahul Sharangpani,Sing-Pin Tay. Владелец: Mattson Thermal Products Inc. Дата публикации: 2003-11-26.

High temperature short time curing of low dielectric constant materials using rapid thermal processing techniques

Номер патента: WO2002067314A2. Автор: Rahul Sharangpani,Sing-Pin Tay. Владелец: Mattson Thermal Products Inc.. Дата публикации: 2002-08-29.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Method for stabilizing low dielectric constant materials

Номер патента: US20020115305A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Sheng Yang,Yung-Tsung Wei,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Method for fabricating a low dielectric constant material layer

Номер патента: US20020182849A1. Автор: Cheng-Yuan Tsai,Tsung-Tans Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US09905463B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V. V. S. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Minimizing coating defects in low dielectric constant films

Номер патента: US6667249B1. Автор: Tien-I Bao,Yu-Hui Chen,Yao-Yi Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-12-23.

Method for forming interconnect structure with low dielectric constant

Номер патента: US20030119306A1. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-26.

Low dielectric constant carbon-containing silicon oxide dielectric material for use in integrated circuit structures

Номер патента: EP1039520A3. Автор: Valeriy Sukharev,Vladimir Zubkov,Sheldon Aronowitz. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Restoring low dielectric constant film properties

Номер патента: US20090317971A1. Автор: May Yu,Alexandros T. Demos,Mehul Naik,Zhenjiang Cui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-24.

Method to improve mechanical strength of low-K dielectric film using modulated UV exposure

Номер патента: US8715788B1. Автор: Easwar Srinivasan,David Mordo,Haiying Fu,Seon-Mee Cho,Ananda K. Bandyopadhyay. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2014-05-06.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US20180082895A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V.V.S. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US10229852B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V. V. S. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-03-12.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US20180090375A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V.V.S. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-29.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US10699951B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V. V. S. Surisetty. Владелец: Elpis Technologies Inc. Дата публикации: 2020-06-30.

Self-aligned low dielectric constant gate cap and a method of forming the same

Номер патента: US20170170068A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Injo OK,Charan V.V.S. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Method for forming low dielectric constant layer

Номер патента: US20020132494A1. Автор: Wen-Yi Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-09-19.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Techniques for improved low dielectric constant film processing

Номер патента: US11756796B2. Автор: Qi Gao,Martin Seamons,Shan Tang,Kyuha Shim,Rajesh Prasad,Deven Raj Mittal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Bias plasma deposition for selective low dielectric insulation

Номер патента: US5990557A. Автор: Steven Avanzino,Darrell M. Erb,Robin Cheung,Rich Klein,Pervaiz Sultan. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-11-23.

Diffusion barrier with low dielectric constant and semiconductor device containing same

Номер патента: US20040115407A1. Автор: Alfred Grill,Stephen Gates,Stephan Cohen,Vishnubhai Patel. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-06-17.

Method of manufacturing semiconductor device including ultra low dielectric constant layer

Номер патента: US20090280637A1. Автор: Kyoung-Woo Lee,Hong-jae Shin,Jae-Hak Kim,Jae-ouk Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-11-12.

Low-dielectric constant cryptocrystal layers and nanostructures

Номер патента: CA2602365C. Автор: Seref Kalem. Владелец: Scientific and Technological Research Council of Turkey TUBITAK. Дата публикации: 2017-05-09.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for etch-based planarization of a substrate

Номер патента: US09991133B2. Автор: Lior HULI,Cheryl Pereira,Nihar Mohanty. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Compositions for preparing low dielectric materials containing solvents

Номер патента: EP1577935A2. Автор: John Francis Kirner,James Edward MacDougall,Scott Jeffrey Weigel,Thomas Albert Braymer,Shrikant Narendra Khot,Brian Kieth Peterson. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-09-21.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Capacitor with high dielectric constant materials

Номер патента: US20030011015A1. Автор: Sam Yang,Gurtej Sandhu,Cem Basceri. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-16.

Low dielectric insulator and semiconductor structures

Номер патента: GB2371043A. Автор: Susan Clay Vitkavage,Kurt George Steiner. Владелец: Agere Systems Guardian Corp. Дата публикации: 2002-07-17.

Method for producing low dielectric coatings from hydrogen silsequioxane resin

Номер патента: US5906859A. Автор: Jeffrey Nicholas Bremmer,Youfan Liu. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1999-05-25.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Device having a high dielectric constant material and a method of manufacture thereof

Номер патента: US20030013269A1. Автор: Avinoam Kornblit,Kalman Pelhos,Vincent Donnelly. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-16.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Pb/Bi-containing high-dielectric constant oxides using a non-P/Bi-containing perovskite as a buffer layer

Номер патента: US5393352A. Автор: Scott R. Summerfelt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-02-28.

Slurryless Mechanical Planarization for Substrate Reclamation

Номер патента: US20090270017A1. Автор: Eric J. White,Graham M. Bates,David Domina,James L. Hardy, JR.. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-29.

High dielectric constant insulators and associated fabrication methods

Номер патента: US7994590B2. Автор: Thomas K. Gaylord,James D. Meindl. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2011-08-09.

Dielectric material with a reduced dielectric constant and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20080054487A1. Автор: Louis Hsu,Chih-Chao Yang,Jack Mandelman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-03-06.

High dielectric constant insulators and associated fabrication methods

Номер патента: US20070176248A1. Автор: Thomas K. Gaylord,James D. Meindl. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Dielectric constant reduction of gate spacer

Номер патента: US20200135887A1. Автор: Chang-Miao Liu,xu-sheng Wu,Hui-Ling SHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Low dielectric resin composition with phosphorus-containing flame retardant and preparation method and application thereof

Номер патента: US09867287B2. Автор: Hao Chen,Chen-Yu Hsieh,Changyuan LI,Lianhui CAI,Xiangnan LI. Владелец: ELITE ELECTRONIC MATERIAL (ZHONG SHAN) Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Composite film comprising low-dielectric resin and para-oriented aromatic polyamide

Номер патента: CA2234317C. Автор: Tsutomu Takahashi,Hiroaki Kumada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-17.

Low dielectric substrate for high-speed millimeter-wave communication

Номер патента: US20230247759A1. Автор: Toshio Shiobara,Yusuke Taguchi,Ryunosuke NOMURA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Low dielectric substrate for high-speed millimeter-wave communication

Номер патента: US12035461B2. Автор: Toshio Shiobara,Yusuke Taguchi,Ryunosuke NOMURA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Low dielectric resin composition, film and circuit board using the same

Номер патента: US10894882B2. Автор: Mao-Feng Hsu,Shou-Jui Hsiang,Ming-Jaan Ho,Szu-Hsiang SU. Владелец: Zhen Ding Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-19.

Poly(p-xylylene)-based polymer having low dielectric constant and low-loss property and insulating material, printed circuit board and functional element using the same

Номер патента: US8829155B2. Автор: Andreas Greiner,Moon-Soo Park,Do-Yeung Yoon,Jun-Rok Oh,Jae-Choon Cho,Keun-Yong Lee. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-09.

Low dielectric resin composition, film and circuit board using the same

Номер патента: US20180265699A1. Автор: Mao-Feng Hsu,Shou-Jui Hsiang,Ming-Jaan Ho,Szu-Hsiang SU. Владелец: Zhen Ding Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-20.

Circuit board using low dielectric resin composition

Номер патента: US20210102067A1. Автор: Mao-Feng Hsu,Shou-Jui Hsiang,Ming-Jaan Ho,Szu-Hsiang SU. Владелец: Zhen Ding Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Circuit board using low dielectric resin composition

Номер патента: US11261328B2. Автор: Mao-Feng Hsu,Shou-Jui Hsiang,Ming-Jaan Ho,Szu-Hsiang SU. Владелец: Zhen Ding Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Low dielectric composite film for copper clad laminate (ccl), and low dielectric copper clad laminte (ccl) comprising same

Номер патента: EP4212336A1. Автор: Woo Hyun CHO,Won Soo Kim,Ji Hong Jeong,Du Yeong Kim. Владелец: Sang A Frontec Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-19.

Dielectric materials having low dielectric constants and methods for their manufacture

Номер патента: GB2171356B. Автор: Daniel D Johnson. Владелец: WL Gore and Associates Inc. Дата публикации: 1989-08-23.

Poly(p-xylylene)-based polymer having low dielectric constant and low-loss property and insulating material, printed circuit board and functional element using the same

Номер патента: US20100048858A1. Автор: Andreas Greiner,Moon-Soo Park,Do-Yeung Yoon,Jun-Rok Oh,Jae-Choon Cho,Keun-Yong Lee. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Low dielectric glass composition, fibers, and article

Номер патента: US11739023B2. Автор: Robert Lurie HAUSRATH,Anthony Vincent Longobardo. Владелец: AGY Holding Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

Low dielectric glass and fiber glass

Номер патента: US09598309B2. Автор: Hong Li. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Low dielectric glass fiber

Номер патента: CA2667439C. Автор: Douglas S. Boessneck,J. Ronald Gonterman,Oleg A. Prokhorenko. Владелец: AGY Holding Corp. Дата публикации: 2012-02-28.

Low-fire, low-dielectric ceramic compositions

Номер патента: US6136734A. Автор: Jau-Ho Jean,Shih-Chun Lin. Владелец: Advanced Ceramic X Corp. Дата публикации: 2000-10-24.

Fluorinated resins with low dielectric constant

Номер патента: US5405677A. Автор: James R. Griffith,Henry S. W. Hu. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1995-04-11.

Low dielectric polyimide composition, polyimide, polyimide film and copper clad laminate using the same

Номер патента: US20190085131A1. Автор: Shou-Jui Hsiang,Szu-Hsiang SU,Nan-Kun Huang,Yu-Wen Kao. Владелец: Zhen Ding Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Low dielectric glass and fiber glass for electronic applications

Номер патента: CA2672222C. Автор: Hong Li,Cheryl A. Richards. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2012-12-18.

Low dielectric glass composition, fibers, and article

Номер патента: US20200216351A1. Автор: Robert Lurie HAUSRATH,Anthony Vincent Longobardo. Владелец: AGY Holding Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Electronic-grade low-dielectric glass fiber cloth treatment agent and preparation method therefor

Номер патента: GB2628253A. Автор: Li Wei,Wei Lin,Zhang Yingying,Fang Qiang,WANG Xiaochen,Xiao Huaqing,Liu Dongfeng,Niu Siqi. Владелец: Taishan Fiberglass Zoucheng Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Dielectric property-lowering agent, low-dielectric resin composition containing same and method for lowering dielectric properties of resin

Номер патента: EP4006081A1. Автор: Takeshi Nyuugaku. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-01.

Dielectric property-lowering agent, low-dielectric resin composition containing same and method for lowering dielectric properties of resin

Номер патента: US20220162396A1. Автор: Takeshi Nyuugaku. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-26.

Thermosetting resin composition having heat resistance and low dielectric loss characteristics, prepreg using same, and copper clad laminate

Номер патента: US09957389B2. Автор: Moo Hyun Kim,Duk Sang Han,Dong Hee JUNG,Jeong Don Kwon,Do Woong HONG. Владелец: Doosan Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Semiconductor device capable of having amorphous carbon fluoride film of low dielectric constant as interlayer insulation material and method of manufacturing the same

Номер патента: US6329295B1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Kazuhiko Endo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-12-11.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Compensating chemical mechanical wafer polishing apparatus and method

Номер патента: US20030100196A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Yang-Jiann Fann,Yih-Hsing Wang,Chaug-Liang Hsu,Jer-Shyong Lai,Chien-Cheng He. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2003-05-29.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Internal hydrogen sources for heat conductive packaging of low dielectric constant semiconductor chips, and method of providing hydrogen therefor

Номер патента: US20030038364A1. Автор: Paul Farrar,Jerome Eldridge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Internal hydrogen sources for heat conductive packaging of low dielectric constant semiconductor chips, and method of providing hydrogen therefor

Номер патента: US20030209702A1. Автор: Paul Farrar,Jerome Eldridge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-13.

Semiconductor integrated circuits (ICs) employing localized low dielectric constant (low-K) material in inter-layer dielectric (ILD) material for improved speed performance

Номер патента: US09773866B2. Автор: Xiangdong Chen,Haining Yang. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Integrated circuits with multiple low dielectric-constant inter-metal dielectrics

Номер патента: WO2000075988A1. Автор: James Lin,Henry Chung,Shi-Qing Wang. Владелец: Alliedsignal Inc.. Дата публикации: 2000-12-14.

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUITS (ICs) EMPLOYING LOCALIZED LOW DIELECTRIC CONSTANT (LOW-K) MATERIAL IN INTER-LAYER DIELECTRIC (ILD) MATERIAL FOR IMPROVED SPEED PERFORMANCE

Номер патента: US20160372544A1. Автор: Xiangdong Chen,Haining Yang. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-12-22.

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUITS (ICs) EMPLOYING LOCALIZED LOW DIELECTRIC CONSTANT (LOW-K) MATERIAL IN INTER-LAYER DIELECTRIC (ILD) MATERIAL FOR IMPROVED SPEED PERFORMANCE

Номер патента: WO2016204938A1. Автор: Xiangdong Chen,Haining Yang. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2016-12-22.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Integration of low-k polymers into interlevel dielectrics using controlled electron-beam radiation

Номер патента: CA2284760A1. Автор: Dong Kyu Choi,Neil H. Hendricks,Lynn Forester,Shi-Qing Wang,Jing Jun Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-10-01.

Method of forming FinFET with low-dielectric-constant gate electrode spacers

Номер патента: US11749755B2. Автор: Ka-Hing Fung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Gate insulator comprising high and low dielectric constant parts

Номер патента: WO2000049643A2. Автор: Jeffrey Lutze. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2000-08-24.

Interconnect structures comprising capping layers with low dielectric constants and methods of making the same

Номер патента: SG192319A1. Автор: Bonilla Griselda,Grunow Stephan,Yun Wang,Chao-Kun Hu,a clevenger Lawrence,Zhiguo Sun,Yiheng XU,Hyeok-Sang Oh,Tien Cheng,A Quon Roger,Wei-Tsui Tseng. Владелец: Globalfoundries Sg Pte Ltd. Дата публикации: 2013-08-30.

Circuit Structure with Low Dielectric Constant Regions

Номер патента: US20090008791A1. Автор: Lawrence A. Clevenger,Wai-Kin Li,Louis C. Hsu,Mathew E. Colburn. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-08.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Low dielectric constant (low-k) dielectric and method of forming the same

Номер патента: US20180068848A1. Автор: Xiangyu GUO,Weiyi Li,Huifeng Zheng,Dongfei Pei,J. Leon Shohet,Joshua Blatz. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2018-03-08.

Circuit structure with low dielectric constant regions

Номер патента: US8772941B2. Автор: Lawrence A. Clevenger,Matthew E. Colburn,Wai-Kin Li,Louis C. Hsu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-07-08.

Low dielectric constant insulating material in 3D memory

Номер патента: US09721964B2. Автор: Guan-Ru Lee. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Method of forming finfet with low-dielectric-constant gate electrode spacers

Номер патента: US20230361214A1. Автор: Ka-Hing Fung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Rf switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US20220223714A1. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Method for manufacturing a low dielectric constant inter-level integrated circuit structure

Номер патента: US5880018A. Автор: Terry Grant Sparks,Bruce Allen Boeck,Jeff Thomas Wetzel. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1999-03-09.

Low dielectric constant insulation layer for integrated circuit structure and method of making same

Номер патента: US5494859A. Автор: Ashok K. Kapoor. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1996-02-27.

Gate insulator comprising high and low dielectric constant parts

Номер патента: WO2000049643A3. Автор: Jeffrey Lutze. Владелец: Philips Semiconductor Inc. Дата публикации: 2001-02-15.

Interconnect structures comprising capping layers with low dielectric constants and methods of making the same

Номер патента: SG159452A1. Автор: Wang Yun,XU Yiheng,Hu Chao-Kun,Sun Zhiguo,OH Hyeok Sang,Griselda Bonilla,Stephan Grunow,Lawrence A Clevenger,Roger A Quon,Cheng Tien,Tseng Wei-Tsui. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2010-03-30.

Variable dielectric constant materials in same layer of a package

Номер патента: US11715688B2. Автор: Aniket Patil,Hong Bok We. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-08-01.

Semiconductor device having low dielectric insulating film and manufacturing method of the same

Номер патента: US20140073090A1. Автор: Osamu Okada,Takeshi Wakabayashi,Ichiro Mihara,Aiko Mizusawa. Владелец: Teramikros Inc. Дата публикации: 2014-03-13.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Semiconductor device having low dielectric insulating film and manufacturing method of the same

Номер патента: US20150318244A1. Автор: Osamu Okada,Takeshi Wakabayashi,Ichiro Mihara,Aiko Mizusawa. Владелец: Tera Probe Inc. Дата публикации: 2015-11-05.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor device having low dielectric insulating film and manufacturing method of the same

Номер патента: US09640478B2. Автор: Osamu Okada,Takeshi Wakabayashi,Ichiro Mihara,Aiko Mizusawa. Владелец: Aoi Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Process for manufacturing a ceramic wiring substrate having a low dielectric constant

Номер патента: US5283081A. Автор: Yuzo Shimada,Yoshinobu Kobayashi,Keiichiro Kata. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1994-02-01.

Rf switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US20240154023A1. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: US20030141595A1. Автор: Anthony Chiu,Harry Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2003-07-31.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor device having low dielectric insulating film and manufacturing method of the same

Номер патента: US20150008579A1. Автор: Osamu Okada,Takeshi Wakabayashi,Ichiro Mihara,Aiko Mizusawa. Владелец: Tera Probe Inc. Дата публикации: 2015-01-08.

RF switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US11901435B2. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: EP1341231A3. Автор: Anthony M. Chiu,Harry Michael Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2006-07-19.

Substrate with Differing Dielectric Constants

Номер патента: US20240145392A1. Автор: Arun Ramakrishnan,Liming Tsau,Kwok Cheung Tsang,Vincent Huang,Reza Sharifi,Dharmendra Saraswat,Sam Zhao,Sam Karikalan,Mayank Mayukh,Jevon Yu. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Method for forming capacitor compatible with high dielectric constant materials having a low contact resistance layer

Номер патента: US5506166A. Автор: Gurtej S. Sandhu,Pierre C. Fazan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-04-09.

Capacitor compatible with high dielectric constant materials having two independent insulative layers and the method for forming same

Номер патента: US5392189A. Автор: Gurtej S. Sandhu,Pierre C. Fazan. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1995-02-21.

Systems and methods for depositing low-κ dielectric films

Номер патента: WO2024044460A1. Автор: Yijun Liu,Li-Qun Xia,Xiaobo Li,Bo Xie,Lakmal C. Kalutarage,Ruitong Xiong,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Michael Haverty,Rui Lu,Shruba Gangopadhyay,Lauren Bagby. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-29.

Capacitor compatible with high dielectric constant materials having a low contact resistance layer and the method for forming same

Номер патента: US20020195642A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Pierre C. Fazan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

FinFET having a gate electrode with sidewall spacers having asymmetric dielectric constants and method of manufacturing

Номер патента: US09941387B2. Автор: Hai Yang Zhang,Zhe Zheng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Ulsi mos with high dielectric constant gate insulator

Номер патента: MY135224A. Автор: Setton Michael. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2008-02-29.

Semiconductor device having high dielectric constant gate insulating layer and its manufacture method

Номер патента: US20060172498A1. Автор: Kazuto Ikeda,Masaomi Yamaguchi,Hiroshi Minakata,Tsunehisa Sakoda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-08-03.

Semiconductor device comprising a high dielectric constant insulating film including nitrogen

Номер патента: US7872312B2. Автор: Hisashi Ogawa. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

High dielectric constant metal gate mos transistor and method for making the same

Номер патента: US20220278217A1. Автор: YONG Li. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-09-01.

Structure and method for interlevel dielectric layer with regions of differing dielectric constant

Номер патента: US20240250018A1. Автор: Anhao CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Method and apparatus for heat-treating high dielectric constant film

Номер патента: US09966254B2. Автор: Hikaru KAWARAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Method and apparatus for heat-treating high dielectric constant film

Номер патента: US09837266B2. Автор: Hikaru KAWARAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Three-dimensional multilayer memory with interconnection of low-resistance silicides and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240349496A1. Автор: Ke Wang,Jack Zezhong Peng. Владелец: Chengdu Pbm Technology Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Semiconductor device having a field effect transistor using a high dielectric constant gate insulating film and manufacturing method of the same

Номер патента: US20060125006A1. Автор: Shigenori Hayashi,Masaaki Niwa,Yoshinao Harada. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-15.

Method for manufacturing high dielectric constant metal gate for nmos and pmos

Номер патента: US20230420304A1. Автор: Wei Zhou,Weiwei Ma,Ran Huang. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Selective fabrication of high capacitance density areas in a low dielectric constant material

Номер патента: US7109125B1. Автор: Bin Zhao,Q. Z. Liu,David Feiler,Phil N. Sherman,Maureen Brongo. Владелец: Newport Fab LLC. Дата публикации: 2006-09-19.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Low dielectric constant interlayer dielectrics in spin torque magnetoresistive devices

Номер патента: US09722174B1. Автор: Sanjeev Aggarwal,Kerry Joseph NAGEL. Владелец: Everspin Technologies Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Semiconductor device having low-dielectric-constant film

Номер патента: US9711629B2. Автор: Yoshihiro Ikura. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Semiconductor device having low-dielectric-constant film

Номер патента: US09711629B2. Автор: Yoshihiro Ikura. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Low dielectric constant insulating material in 3d memory

Номер патента: US20150357342A1. Автор: Guan-Ru Lee. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Semiconductor memory device including select transistor with low dielectric core insulating layer and method of manufacturing the same

Номер патента: US11812613B2. Автор: Gil Bok CHOI,Dae Hwan YUN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Capacitor with high dielectric constant materials and method of making

Номер патента: US20030013263A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Mark Visokay. Владелец: Mark Visokay. Дата публикации: 2003-01-16.

Electrodes for high dielectric constant materials

Номер патента: US5520992A. Автор: Scott R. Summerfelt,Monte A. Douglas. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1996-05-28.

Fluorinated polymers with low dielectric loss for environmental protection in semiconductor devices

Номер патента: US11877505B2. Автор: Michael Roberg,Christo Bojkov,Matthew Essar,Walid Meliane,Terry Hon. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

Pre-oxidizing high-dielectric-constant material electrodes

Номер патента: US5554866A. Автор: Kyung-ho Park,Scott R. Summerfelt,Yasushiro Nishioka,Pijush Bhattacharya. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1996-09-10.

High dielectric constant material at locations of high fields

Номер патента: US20210193791A1. Автор: Russell Croman,Stefan N. Mastovich,Dan B. Kasha,Thomas C. Fowler. Владелец: Silicon Laboratories Inc. Дата публикации: 2021-06-24.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Variable dielectric constant radiation-sensing compositions and method for varying dielectric constant

Номер патента: RU2281540C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-08-10.

Method of forming highly-integrated thin film capacitor with high dielectric constant layer

Номер патента: US5943547A. Автор: Shintaro Yamamichi,Pierre Yves Lesaicherre. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-08-24.

Floating trap non-volatile semiconductor memory devices including high dielectric constant blocking insulating layers and methods

Номер патента: US20030047755A1. Автор: Jung-Dal Choi,Chang-Hyun Lee,Byoung-Woo Ye. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-03-13.

Structures of low-reflectivity for attenuating electromagnetic waves

Номер патента: GB1030483A. Автор: . Владелец: Siemens and Halske AG. Дата публикации: 1966-05-25.

Low dielectric, low loss radomes, materials and methods for making low dielectric, low loss radomes

Номер патента: US20240250416A1. Автор: Douglas S. McBain,Nathan Alan GREENE. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Low dielectric, low loss radomes

Номер патента: EP3949014A1. Автор: Douglas S. McBain,Richard N. Johnson,Hoang Dinh Do. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-09.

Low dielectric, low loss radomes

Номер патента: US11848491B2. Автор: Douglas S. McBain,Richard N. Johnson,Hoang Dinh Do. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Low Dielectric, Low Loss Radome

Номер патента: US20240106111A1. Автор: Richard N. Johnson,Hoang Dinh Do,Doulas S. Mcbain. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Low Dielectric, Low Loss Radomes And Materials For Low Dielectric, Low Loss Radomes

Номер патента: US20230327332A1. Автор: Douglas S. McBain,Hoang Dinh Do,Nathan Alan GREENE. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Variable dielectric constant-based antenna and array

Номер патента: WO2007139736A3. Автор: Dedi David HAZIZA. Владелец: Adventenna Inc. Дата публикации: 2008-10-09.

Variable dielectric constant-based antenna and array

Номер патента: WO2007139736B1. Автор: Dedi David HAZIZA. Владелец: Adventenna Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Method of measuring relative dielectric constant of dielectric substance of powders, cavity resonator used in the same, and application apparatus

Номер патента: EP1528618A1. Автор: Ehata TDK Corporation Katsufumi. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-05-04.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Housing Having Different Dielectric Constants

Номер патента: US20230056932A1. Автор: Xiaoming Luo,Mohammad Nikfal,Hyo Chang (Chris) Yun. Владелец: TE Connectivity Germany GmbH. Дата публикации: 2023-02-23.

Adjustable dielectric constant ceramic window

Номер патента: US20240162010A1. Автор: Dan Marohl,Chin-Yi LIU. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

3d printed electrical connector with tunable dielectric constant

Номер патента: US20220037827A1. Автор: Jessica H.B. Hemond,David Patrick Orris. Владелец: TE Connectivity Services GmbH. Дата публикации: 2022-02-03.

Enhancing dielectric constants of elastomer sheets

Номер патента: US10818433B1. Автор: Sean Jason Keller,Tristan Thomas Trutna,David R. Perek,Vincenzo Casasanta, III. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2020-10-27.

Continuous dielectric constant adaptation radome design

Номер патента: CA3125131C. Автор: Simon Mazoyer,Emmanuel Mimoun,Delphine Descloux. Владелец: Saint Gobain Performance Plastics Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Low dielectric constant materials from plant oils and chicken feathers

Номер патента: WO2004008498A3. Автор: Chang Kook Hong,Richard P Wool. Владелец: Richard P Wool. Дата публикации: 2004-08-12.

Low dielectric constant materials with polymeric networks

Номер патента: EP1303550A1. Автор: Kreisler Honeywell International Inc. LAU,Feng Quan Honeywell International Inc. LIU,Boris Honeywell International Inc. KOROLEV,Emma Honeywell International Inc. BROUK,Ruslan Honeywell International Inc. ZHEREBIN,David Honeywell International Inc. NALEWAJEK. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-04-23.

Low dielectric constant materials with polymeric networks

Номер патента: EP1303550A4. Автор: David Nalewajek,Feng Quan Liu,Boris Korolev,Kreisler Lau,Emma Brouk,Ruslan Zherebin. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-07-30.

Liquid crystal polyester composition of low dielectric constant and low dielectric loss rate with improved fluidity

Номер патента: US11820860B2. Автор: Youn Eung Lee,Jin Kyu Lee,Sun Hwa Jang,Tae-Young Ha,Hyuk Jin Kim. Владелец: Seyang Polymer Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Optically transparent adamantane-containing polyimides and copolyimides based on 5.5'-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl)bis(2-benzofuran-1,3-dione) having low dielectric constant

Номер патента: RU2753691C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Борис Семёнович Орлинсон,Евгений Николаевич Савельев,Елена Александровна Потаенкова,Станислав Владимирович МЕДНИКОВ,Александр Михайлович Пичугин,Мария Николаевна Ковалева,Алина Вячеславовна Киреева,Мария Мария Александровна Наход. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2021-08-19.

Siloxane-based low dielectric constant thin films using cyclo-siloxane and a method for preparing the same

Номер патента: US20120004368A1. Автор: He Seung Lee,Seung Sang Hwang,Kyung Youl Baek,Seung-Sock CHOI,Sungyoun OH,Eun Kyeong KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave dielectric ceramic material with low dielectric constant and low density and preparation method thereof

Номер патента: NL2030388B1. Автор: Huang Jin,ZHANG Hailin,Chen Xiuli,Zhou Huanfu. Владелец: Univ Guilin Technology. Дата публикации: 2023-07-07.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

United states low dielectric sealing glass powder for miniature radio-frequency glass insulator

Номер патента: US12098096B2. Автор: Yong Yang,SHOU PENG,Changqing Li,Weiwei Wang,Jia Ni,Gang Zhou,Pingping Wang,Xin Cao,Qiang Gao,Chong Zhang,Xiaofei Yang,Na HAN,Jinwei Li,Zhenkun KE,Chuanli SHAN,Jiedong Cui,Fengyang ZHAO,Zhaojin Zhong,Lifen Shi. Владелец: CNBM Research Institute for Advanced Glass Materials Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Glass Fiber Composition with Low Dielectric Loss

Номер патента: US20240368028A1. Автор: Yanping Zhang,Zhiyao Tang,Yongyan LI,Jiafang WANG. Владелец: China National Building Material Group Co Ltd CNBM. Дата публикации: 2024-11-07.

Glass fiber composition with low dielectric loss

Номер патента: EP4431476A1. Автор: Yanping Zhang,Zhiyao Tang,Yongyan LI,Jiafang WANG. Владелец: China National Building Material Group Co Ltd CNBM. Дата публикации: 2024-09-18.

Glass material with low dielectric constant and low fiberizing temperature

Номер патента: US20220153628A1. Автор: Chia-Yu Lin. Владелец: Taiwan Glass Industry Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Glass material with low dielectric constant and low fiberizing temperature

Номер патента: US11713273B2. Автор: Chia-Yu Lin. Владелец: Taiwan Glass Industry Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Siloxane-based low dielectric constant thin films using cyclo-siloxane and a method for preparing the same

Номер патента: US20120004368A1. Автор: He Seung Lee,Seung Sang Hwang,Kyung Youl Baek,Seung-Sock CHOI,Sungyoun OH,Eun Kyeong KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2012-01-05.

Low dielectric constant organic dielectrics based on cage-like structures

Номер патента: EP1274755A2. Автор: Kreisler Honeywell International Inc. LAU,Feng Quan Honeywell International Inc. LIU,Boris Honeywell International Inc. KOROLEV,Emma Honeywell International Inc. BROUK,Ruslan Honeywell International Inc. ZHEREBIN,Roger Honeywell International Inc. LEUNG. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-01-15.

Low dielectric constant organic dielectrics based on cage-like structures

Номер патента: WO2001078110B1. Автор: Feng Quan Liu,Boris Korolev,Roger Leung,Kreisler Lau,Emma Brouk,Ruslan Zherebin. Владелец: Ruslan Zherebin. Дата публикации: 2002-05-16.

Low dielectric constant organic dielectrics based on cage-like structures

Номер патента: WO2001078110A3. Автор: Feng Quan Liu,Boris Korolev,Roger Leung,Kreisler Lau,Emma Brouk,Ruslan Zherebin. Владелец: Ruslan Zherebin. Дата публикации: 2002-03-07.

Low dielectric constant organic dielectrics based on cage-like structures

Номер патента: EP1274755A4. Автор: Feng Quan Liu,Boris Korolev,Roger Leung,Kreisler Lau,Emma Brouk,Ruslan Zherebin. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2004-05-12.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Resin composition for low-dielectric material, film for multilayer substrate, multilayer substrate, method for producing resin composition for low-dielectric material, method for producing film for multilayer substrate, and method for producing multilayer substrate

Номер патента: US20240209148A1. Автор: Yoshiyuki Oishi,Yuji Shibasaki,Tadashi Tsukamoto. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Low dielectric sealing glass powder for miniature radio-frequency glass insulator

Номер патента: US20240059605A1. Автор: Yong Yang,SHOU PENG,Changqing Li,Weiwei Wang,Jia Ni,Gang Zhou,Pingping Wang,Xin Cao,Qiang Gao,Chong Zhang,Xiaofei Yang,Na HAN,Jinwei Li,Zhenkun KE,Chuanli SHAN,Jiedong Cui,Fengyang ZHAO,Zhaojin Zhong,Lifen Shi. Владелец: CNBM Research Institute for Advanced Glass Materials Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Siloxane-based low dielectric constant thin films using cyclo-siloxane and a method for preparing the same

Номер патента: US8865852B2. Автор: He Seung Lee,Seung Sang Hwang,Kyung Youl Baek,Seung-Sock CHOI,Sungyoun OH,Eun Kyeong KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2014-10-21.

Nanoporous low dielectric constant polymers with hollow polymer particles

Номер патента: US20020115735A1. Автор: Jim Drage. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-08-22.

Polymeric compositions with high dielectric constant and low dielectric loss

Номер патента: EP3898820A1. Автор: Yunfeng Jiao. Владелец: DuPont Polymers Inc. Дата публикации: 2021-10-27.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Polymeric compositions with high dielectric constant and low dielectric loss

Номер патента: US20220056267A1. Автор: Yunfeng Jiao. Владелец: DuPont Polymers Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Bismaleimide compounds and low dielectric resin composition comprising them

Номер патента: WO2024184163A1. Автор: Alessandro Napoli,Kenneth Black Scobbie,Susanne ELMER,Christof STORZ,Samara RADET. Владелец: Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Low-dielectric thermally curable resin composition and low dielectric material prepared therefrom

Номер патента: US11884759B2. Автор: Myong Jae Yoo,Churl Seung Lee. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-01-30.

Low dielectric loss glasses for electronic devices

Номер патента: EP3911612A1. Автор: Heather Debra Boek,Ling CAI,Adama TANDIA,Lisa Ann Lamberson,Kochuparambil Deenamma Vargheese,Mark Owen Weller,Jennifer Anella Heine. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2021-11-24.

Liquid crystalline polyesters (lcp) and thermoplastic compositions having low dielectric constant (dk) and dissipation factor (df)

Номер патента: EP4255958A1. Автор: Joel POLLINO,Ryan MONDSCHEIN. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2023-10-11.

Liquid Crystalline Polyesters (LCP) and Thermoplastic Compositions having Low Dielectric Constant (Dk) and Dissipation Factor (Df)

Номер патента: US20230399460A1. Автор: Joel POLLINO,Ryan MONDSCHEIN. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2023-12-14.

Low dielectric constants organic-soluble polyimides, and method for manufacturing thereof

Номер патента: US20060178499A1. Автор: Yaw-Terng Chern. Владелец: Home Sun Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Liquid crystalline polyesters (lcp) and thermoplastic compositions having low dielectric constant (dk) and dissipation factor (df)

Номер патента: EP4255956A1. Автор: Joel POLLINO,Ryan MONDSCHEIN,Anthony BOCAHUT. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2023-10-11.

Liquid Crystalline Polyesters (LCP) and Thermoplastic Compositions having Low Dielectric Constant (Dk) and Dissipation Factor (Df)

Номер патента: US20230416453A1. Автор: Joel POLLINO,Ryan MONDSCHEIN,Anthony BOCAHUT. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2023-12-28.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20130023639A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2013-01-24.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Improved low dielectric loss materials with substantially reduced magnesium compounds and higher clay content

Номер патента: GB783997A. Автор: . Владелец: WALTER EDUARD HERBERT BLOCH. Дата публикации: 1957-10-02.

Ceramic insulating material of low dielectric loss and great mechanical strength

Номер патента: GB649936A. Автор: . Владелец: WALTER EDUARD HERBERT BLOCH. Дата публикации: 1951-02-07.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

Cmp pad having polishing layer of low specific gravity

Номер патента: US20230390889A1. Автор: Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20150191578A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2015-07-09.

Treatment agent for electronic-grade low-dielectric fiberglass cloth, and preparation method thereof

Номер патента: US20240240388A1. Автор: Lin Wei,Wei Li,Yingying Zhang,Xiaochen WANG,Qiang Fang,Dongfeng LIU,Huaqing XIAO,Siqi NIU. Владелец: Taishan Fiberglass Zoucheng Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Conversion method of low-quality oil stock

Номер патента: RU2720990C2. Автор: Юхао СЮЙ,Синь Ван,Тао ЛЮ,Дадун ЛИ,Лисунь ДАЙ,Тянь ЛАНЬ,Хун НИ. Владелец: Рисерч Инститьют Оф Петролеум Проусесинг, Синопек. Дата публикации: 2020-05-15.

Method for reconstruction of low-temperature gas separation unit to increase in yield of gas condensate (options)

Номер патента: RU2758754C1. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2021-11-01.

Tire with component comprising cured rubber composition having high dielectric constant and related methods

Номер патента: US20190144639A1. Автор: Craig R. Balnis. Владелец: Bridgestone Americas Tire Operations LLC. Дата публикации: 2019-05-16.

Method and system for improving quality of low-quality oil

Номер патента: RU2759287C2. Автор: Цзюнь ЛУН,Хуаньди ХОУ,Цзыцзюнь ВАН,Хайпин ШЭНЬ,Мин ДУН,Лишунь ДАЙ,Цзяньхун ГУН,Цзигуан ЛИ,Шухун ЧЖАН,Цуйхун ВАН,Юйчэн ШЭ,Юйчжан ВАН,Мэнъин ТАО. Владелец: Рисерч Инститьют Оф Петролеум Процессинг, Синопек. Дата публикации: 2021-11-11.

Hydrogen cryogenic system with column of low-temperature rectification of gas mixture

Номер патента: RU2751758C1. Автор: Юрий Иванович Духанин. Владелец: Юрий Иванович Духанин. Дата публикации: 2021-07-16.

High-dielectric constant zwitterionic liquids

Номер патента: WO2023225050A1. Автор: Ralph H. Colby,Robert J. Hickey,Wenwen MEI. Владелец: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-11-23.

Fuel composition formed from light oil of low-permeability reservoir and fuel oils with high content of sulfur

Номер патента: RU2709515C1. Автор: Мохаммед ВОХАИБИ,Том Ф. ПРУИТТ. Владелец: Маветал Ллс. Дата публикации: 2019-12-18.

Method and device for manufacture of low shrinking thread of aliphatic polyamide and low shrinking thread

Номер патента: RU2680319C1. Автор: Лассад НАСРИ,Роман СТЕПАНЯН,Мартинус Йозеф Мария КЕЛЕРС. Владелец: Трютцшлер ГмбХ унд Ко. КГ. Дата публикации: 2019-02-19.

Rubber resin material with high dielectric constant

Номер патента: US11920036B2. Автор: Hung-Yi Chang,Te-Chao Liao,Chia-Lin Liu,Chien-Kai Wei. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Low-dielectric rubber resin material and low-dielectric metal substrate

Номер патента: US11859083B2. Автор: Hung-Yi Chang,Te-Chao Liao,Chia-Lin Liu,Chien-Kai Wei. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Low-dielectric rubber resin material and low-dielectric metal substrate

Номер патента: US20230046004A1. Автор: Hung-Yi Chang,Te-Chao Liao,Chia-Lin Liu,Chien-Kai Wei. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Installation for modification of low-sort limestone crushed stone

Номер патента: RU2668912C1. Автор: Ирина Юрьевна Глинянова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная корпорация-Экспериментальный МОНОЛИТ". Дата публикации: 2018-10-04.

Method and system of collection, preparation of low-head gas-carbon methane and use of thermal potential of formation fluid (versions)

Номер патента: RU2422630C1. Автор: Александр Мирославович Карасевич,Николай Миронович Сторонский,Владимир Тимофеевич Хрюкин,Александр Александрович Меньщиков,Евгений Алексеевич Пацков. Владелец: Открытое акционерное общество "Газпром". Дата публикации: 2011-06-27.

HOT-ROLLED SHEET OF LOW-ALLOY STEEL WITH THICKNESS FROM 15 TO 165 mm AND METHOD OF ITS PRODUCTION

Номер патента: RU2638479C1. Автор: Андрей Михайлович Корчагин,Вячеслав Викторович Михеев,Олег Николаевич Сычев,Максим Сергеевич Сахаров,Виталий Васильевич Ваурин,Антон Игоревич Смелов. Владелец: Публичное акционерное общество "Северсталь". Дата публикации: 2017-12-13.

Heat-insulating solution of low density

Номер патента: RU2637542C1. Автор: Валерий Станиславович Лесовик,Лилия Хасановна Загороднюк,Евгений Сергеевич Глаголев,Дмитрий Алексеевич Сумской,Елена Вячеславовна Канева,Анна Сергеевна Кучерова,Дмитрий Юрьевич Попов,Василий Васильевич Воронов,Ольга Анатольевна Павленко. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова". Дата публикации: 2017-12-05.

Low dielectric resin substrate

Номер патента: US11802192B2. Автор: Toshio Shiobara,Yusuke Taguchi,Hajime Itokawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Low dielectric resin substrate

Номер патента: US20210403672A1. Автор: Toshio Shiobara,Yusuke Taguchi,Hajime Itokawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Method of processing biomass into cellulose and solution of low-molecular weight oxidation products (versions)

Номер патента: RU2515319C2. Автор: Ольга Тарасовна Касаикина,Леонид Михайлович Писаренко,Игорь Викторович Зиновьев. Владелец: Общество с ограниченной ответственнотью "Целлокорм". Дата публикации: 2014-05-10.

Method of low-melting thermo-adhesive substance layer application onto the horizontally moving complex configuration substrate

Номер патента: RU2655557C1. Автор: Геннадий Маркович Никитин,Сергей Ремович Белоцерковский,Петр Петрович Шарин,Михаил Петрович Лебедев,Роберт Георгиевич Ноговицын,Василий Иванович Попов,Виктор Петрович Атласов. Владелец: Акционерная Компания "АЛРОСА" (публичное акционерное общество) (АК "АЛРОСА" (ПАО)). Дата публикации: 2018-05-28.

Method of electrolytic aluminising articles made of low-carbon steel

Номер патента: RU2603744C1. Автор: Юрий Павлович Зайков,Виталий Валерьевич Пингин,Виктор Христьянович Манн,Александр Михайлович Петров,Дмитрий Анатольевич Виноградов,Юрий Михайлович Штефанюк,Матвей Владимирович Голубев,Вадим Анатольевич Ковров,Владимир Викторович Цветов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт высокотемпературной электрохимии Уральского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2016-11-27.

Method of low-temperature pyrolysis of granulated biomass of vegetable or animal origin

Номер патента: RU2644908C1. Автор: Сергей Николаевич Кузьмин,Владимир Алексеевич Солопов,Рафаил Львович Исьёмин,Александр Валерьевич Михалёв,Олег Юрьевич Милованов. Владелец: Открытое акционерное общество "ПРОДМАШ" (ОАО "ПРОДМАШ"). Дата публикации: 2018-02-14.

Biodegradable polymer composite material based on mixture of polyethylene of low pressure and secondary polypropylene

Номер патента: RU2661230C1. Автор: Вадим Петрович Захаров,Елена Ивановна Кулиш,Марина Викторовна Базунова,Раиль Камилович Фахретдинов,Линар Ризович Галиев,Анна Андреевна Базунова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Башкирский государственный университет". Дата публикации: 2018-07-13.

Case of detonation of relay of low-energy system for initiation of blast

Номер патента: RU2070313C1. Автор: Us],Джозеф Мична Ричард,Томас Дж.Дональдсон,Сендек Энтони. Владелец: Дзе Энсайн-Бикфорд Компани. Дата публикации: 1996-12-10.

Polyethylene composition for production of low-combustibility general-purpose materials

Номер патента: RU2688157C1. Автор: Юлия Александровна Кадыкова,Павел Александрович Бредихин,Роман Михайлович Розов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.). Дата публикации: 2019-05-20.

Method for producing hot-rolled sheets of low-alloy steel

Номер патента: RU2633684C1. Автор: Андрей Михайлович Корчагин,Вячеслав Викторович Михеев,Максим Сергеевич Сахаров,Виталий Васильевич Ваурин,Антон Игоревич Смелов. Владелец: Публичное акционерное общество "Северсталь" (ПАО "Северсталь"). Дата публикации: 2017-10-16.

Method of manufacture of low-alloyable roll strips with enhanced corrosion resistance

Номер патента: RU2675307C1. Автор: Сергей Михайлович Тихонов,Денис Валерьевич Кузнецов,Александр Иванович Зайцев,Артем Викторович Митрофанов,Максим Юрьевич Матросов,Ирина Гавриловна Родионова,Кирилл Алексеевич Барабошкин,Даниил Александрович Киселев,Геннадий Владимирович Серов,Александр Александрович Комиссаров,Елена Павловна Сидорова. Владелец: Публичное акционерное общество "Северсталь" (ПАО "Северсталь"). Дата публикации: 2018-12-18.

Method and device for viscosity-reducing and upgrading of low-grade heavy oil

Номер патента: CA3096210C. Автор: Tao Cheng,Yan Wang,An Ma,Xiao Zhang,Hang YANG,Wu SU,Litao Wang,Shuang Han,Junnan Song,Bohan Zhang,Yindong Liu,Luhai Wang,Jingman Lu,Qingfeng Tan,Changlu Hu,Donghao Yang,Yingchun LIANG,Huiling You. Владелец: Petrochina Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-29.

Method and device for viscosity-reducing and upgrading of low-grade heavy oil

Номер патента: US20210189267A1. Автор: Tao Cheng,Yan Wang,An Ma,Xiao Zhang,Hang YANG,Wu SU,Litao Wang,Shuang Han,Junnan Song,Bohan Zhang,Yindong Liu,Luhai Wang,Jingman Lu,Qingfeng Tan,Changlu Hu,Donghao Yang,Yingchun LIANG,Huiling You. Владелец: Petrochina Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Process for manufacturing a hose of low fuel permeation

Номер патента: EP1065039A3. Автор: Kazuhiro Kato,Atsuo Miyajima,Takahiro Nishiyama. Владелец: Sumitomo Riko Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-08.

Method for the formation of low-substituted hydroxypropyl cellulose particles

Номер патента: US20010009961A1. Автор: Hiroshi Umezawa,Naosuke Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-26.

Method and device for viscosity-reducing and upgrading of low-grade heavy oil

Номер патента: CA3096210A1. Автор: Tao Cheng,Yan Wang,An Ma,Xiao Zhang,Hang YANG,Wu SU,Litao Wang,Shuang Han,Junnan Song,Bohan Zhang,Yindong Liu,Luhai Wang,Jingman Lu,Qingfeng Tan,Changlu Hu,Donghao Yang,Yingchun LIANG,Huiling You. Владелец: Petrochina Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-23.

Process for preparing fluorosulfonic acid having low contents of low-boiling compounds

Номер патента: US20020001562A1. Автор: Andreas Bulan,Dieter Heinz,Michael Batz,Kaspar Hallenberger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Production of low-particulate bisphenol and use thereof in the manufacturing of polycarbonate

Номер патента: US20030055296A1. Автор: Fang Chen,Edward Stokes,James Blubaugh,Gaylord Kissinger,Darlene Nance,Juan Ordonez,Jose Quintana. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-20.

Production of low-particulate bisphenol and use thereof in the manufacturing of polycarbonate

Номер патента: EP1430013A1. Автор: Gaylord Michael Kissinger,Darlene Hope Nance,James Christopher Blubaugh,Edward Brittain Stokes,Juan Rodriguez Ordonez,Fang Christine Chen,Jose Miguel Quintana. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2004-06-23.

Production of low-particulate bisphenol and use thereof in the manufacturing of polycarbonate

Номер патента: WO2003024908A1. Автор: Gaylord Michael Kissinger,Darlene Hope Nance,James Christopher Blubaugh,Edward Brittain Stokes,Juan Rodriguez Ordonez,Fang Christine Chen,Jose Miguel Quintana. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2003-03-27.

Process for the desulphurization of low-medium rank coal

Номер патента: EP2449066A1. Автор: Elisabetta Fois,Agata Pistis,Antonio Anedda. Владелец: Carbosulcis SpA. Дата публикации: 2012-05-09.

A preparation method of low-chloride magnesium oxide

Номер патента: ZA202310347B. Автор: Sun Wei,Liu Weiping,Cheng Junfeng,LIN Shangyong. Владелец: Univ Central South. Дата публикации: 2024-05-30.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Preparation method for copper clad laminate having low dielectric constant and high peel strength, copper clad laminate and application thereof

Номер патента: US20220402255A1. Автор: Hongzhuan Zheng,Yonghua LIANG,Liangwen JIN. Владелец: Jiangmen Dezhongtai Engineering Plastics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

System, apparatus and method for processing data of low-speed service in optical transport network

Номер патента: RU2759514C1. Автор: Вэй СУ. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-11-15.

Method of reverse transformation locking by means of disconnection of switching devices in low-voltage power transmission lines coming from transformer substation and input switching device on low side of transformer substation and signaling and informing personnel of electric grid organization at unauthorized supply of voltage to outgoing from transformer substation power line of low voltage from consumers or to low-voltage buses of transformer substation

Номер патента: RU2710938C1. Автор: Александр Владимирович Виноградов,Алина Васильевна Виноградова,Вадим Евгеньевич Большев,Александр Александрович Панфилов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ" (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2020-01-14.

A method and device for realizing primary-backup protective of low order cross apparatus

Номер патента: EP2017968B1. Автор: Longbing Ran. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-16.

Co-existence of low latency and latency tolerant downlink communication

Номер патента: WO2018036524A1. Автор: Kelvin Kar Kin AU,Mohammadhadi Baligh,Toufiqul Islam. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-03-01.

Detection method of low frequency handshaking signal

Номер патента: US8854050B2. Автор: Jiun-Cheng Hsieh. Владелец: Genesys Logic Inc. Дата публикации: 2014-10-07.

Carbon Graphene Compound Additive to Eliminate ESD and EMI, and Also Manipulate Dielectric Constant

Номер патента: US20230117613A1. Автор: Ving Dee Pu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-04-20.

Method and system for transforming adaptively visual contents according to user s symptom characteristics of low vision impai rment and user s presentation preferences

Номер патента: EP1570374A1. Автор: Jin-woong Kim,Jin-Woo Hong,Je-Ho Nam,Yong-Man Ro,Seung-Ji Yang,Cheon-Seog Kim. Владелец: Hichemtech Inc. Дата публикации: 2005-09-07.

Torque-equalizing fault response for loss of low voltage dc electrical power in electric vehicle

Номер патента: US20230029680A1. Автор: Steven E. Schulz,David Tang,Silva Hiti,Richard M. Breese. Владелец: Rivian IP Holdings LLC. Дата публикации: 2023-02-02.

Torque-equalizing fault response for loss of low voltage dc electrical power in electric vehicle

Номер патента: US20230271503A1. Автор: Steven E. Schulz,David Tang,Silva Hiti,Richard M. Breese. Владелец: Rivian IP Holdings LLC. Дата публикации: 2023-08-31.

Method for disconnection of switching devices in low-voltage power transmission lines outgoing from transformer substation and implementation of signaling and informing of personnel of electric network organization at unauthorized supply of voltage to power supply lines of low voltage outgoing from transformer substation on the side of consumers

Номер патента: RU2714669C1. Автор: Александр Владимирович Виноградов,Алина Васильевна Виноградова,Александр Евгеньевич Семенов,Вадим Евгеньевич Большев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ" (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2020-02-19.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Apparatus and method for tuning the permittivity of ultrahigh dielectric constant materials in an rf coil for mr imaging

Номер патента: US20200319275A1. Автор: Wei Chen,Michael T. Lanagan,Byeong-Yeul Lee,Xiao-Hong Zhu,Hannes M. Wiesner,Qing X. Yang,Sebastian Rupprecht,Navid P. Gandji,Maryam Sarkarat. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 2020-10-08.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemical-mechanical process to reduce the contamination caused by gases and products resulting from the combustion of fossil fuels, petroleum and its by-products

Номер патента: CA2397221A1. Автор: Rafael Vidal Fernandez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-09.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Resonant system and method of determining a dielectric constant of a sample

Номер патента: US09841448B2. Автор: Jeffrey Barber,James C. Weatherall,Barry T. Smith. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Unit of low-temperature dephlegmation with rectification ltdr for complex gas treatment with generation of lng

Номер патента: RU2705160C1. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2019-11-05.

Method for automatic control of low-temperature gas separation at oil and gas condensate fields in the north of the russian federation

Номер патента: RU2755099C1. Автор: Анатолий Кузьмич Арабский,Сергей Иванович Гункин,Этибар Гурбанали оглы Талыбов,Андрей Николаевич ЕФИМОВ,Илья Валериевич Смердин,Александр Александрович Турбин,Владислав Леонидович Пономарев,Алексей Леонидович Агеев,Сергей Петрович Железный,Илья Александрович Дяченко,Михаил Михайлович Партилов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром добыча Ямбург". Дата публикации: 2021-09-13.

Method and apparatus for the measurement of the properties of sheet- or foil-like materials of low electrical conductivity

Номер патента: US4739249A. Автор: Ebbe G. Nyfors,Pertt-Veli Vainikainen,Matti T. Fischer. Владелец: Imatran Voima Oy. Дата публикации: 1988-04-19.

Method and system for electronic detection of conductive or dielectric substance with dielectric constant higher than dielectric constant of air

Номер патента: RU2304285C2. Автор: Збигнев ШЕЛА,Казимеж ЗАЯЦ,Влодзимеж КАЛИТА,Збигнев ЛАССОТА,Михаил ЛАССОТА,Збигнев ШЕЛА (PL),Казимеж ЗАЯЦ (PL),Влодзимеж КАЛИТА (PL),Збигнев ЛАССОТА (PL),Михаил ЛАССОТА (PL). Владелец: Электроничны Закляд Инновацийно-Вдроженевы "Хыбрес" Сп. З О.О.. Дата публикации: 2007-08-10.

Method of thermal treatment of items made out of low-carbon and medium-carbon unalloyed and low-alloyed steel

Номер патента: RU2231563C1. Автор: В.И. Червинский,Н.В. Зимин,О.С. Мартынов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт токов высокой частоты им. В.П. Вологдина". Дата публикации: 2004-06-27.

Method for determining the influence of low-molecular biologically active substances on the affinite of protein-ligand bonding

Номер патента: RU2680408C1. Автор: Фрида Насыровна Гильмиярова,Оксана Анатольевна Гусякова,Алена Анатольевна Ерещенко,Ольга Анатольевна Балдина,Виктория Марковна Радомская,Валерия Игоревна Кузьмичева,Наталия Александровна Колотьева,Инесса Анатольевна Бородина,Наталия Константиновна Игнатова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-02-21.

Method for detection and tracking of low-flying targets

Номер патента: RU2713645C1. Автор: Борис Геннадьевич Майоров. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Рубин" (АО "НПП "Рубин"). Дата публикации: 2020-02-05.

Method and system for reconstructing high resolution versions of low resolution images of a cine loop sequence

Номер патента: US12039697B2. Автор: Jaehyeok Choi. Владелец: GE Precision Healthcare LLC. Дата публикации: 2024-07-16.

Methods and apparatus for determining dielectric constant and resistivity with electromagnetic propagation measurements

Номер патента: US20230375739A1. Автор: Ping Zhang,Dean M. Homan,Wael Abdallah,Shouxiang Ma,Gong Li Wang. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2023-11-23.

Electronic devices and corresponding hybrid methods of low light image enhancement

Номер патента: US12079973B2. Автор: Hong Zhao,Chao Ma,Zhicheng FU,Yunming Wang,Joseph Nasti. Владелец: MOTOROLA MOBILITY LLC. Дата публикации: 2024-09-03.

Gas turbine engine with high-speed turbine section of low pressure

Номер патента: RU2637159C2. Автор: Фредерик М. ШВАРЦ,Габриэль Л. СУСЬЮ,Даниэль Бернард КУПРАТИС,Уильям К. АКЕРМАНН. Владелец: Юнайтед Текнолоджиз Корпорейшн. Дата публикации: 2017-11-30.

Device and method for endoscopic bougienage of low cicatricial strictures of colon

Номер патента: RU2701893C1. Автор: Сергей Александрович Габриэль,Виктор Юрьевич Дынько,Владимир Станиславович Крушельницкий,Владимир Моисеевич Дурлештер,Александр Якубович Гучетль,Алена Таймуразовна Кортиева. Владелец: Алена Таймуразовна Кортиева. Дата публикации: 2019-10-02.

Method for forecasting efficiency of low-intensity laser therapy in secretory astenozospermia

Номер патента: RU2748895C1. Автор: Артем Валерьевич Тишков,Сальман Хасунович Аль-Шукри,Сергей Юрьевич Боровец,Мария Кирилловна Потапова,Аркадий Викторович Соколов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Первый Санкт-Петербургский государственный медицинский университет имени академика И.П. Павлова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-06-01.

Method of electrical treatment and use of low-octane fuel in internal combustion engine and fuel preparation system for its embodiment

Номер патента: RU2373420C1. Автор: Анатолий Николаевич Литвиненко,Вячеслав Вячеславович Артёмов,Алексей Анатольевич Литвиненко,Николай Анатольевич Литвиненко,Денис Рамисович Гафуров. Владелец: Денис Рамисович Гафуров. Дата публикации: 2009-11-20.

Installation for evaluation of low-temperature properties of grease lubricants for heavy-loaded sliding friction units

Номер патента: RU2763855C1. Автор: Валерий Александрович Митягин,Дмитрий Юрьевич Глядяев,Игорь Павлович Чулков,Борис Сергеевич Реморов,Татьяна Петровна Земляная. Владелец: Федеральное автономное учреждение "25 Государственный научно-исследовательский институт химмотологии Министерства обороны Российской Федерации". Дата публикации: 2022-01-11.

Method of detecting the effect of low-molecular biologically active substances on the conformation of protein

Номер патента: RU2698628C1. Автор: Фрида Насыровна Гильмиярова,Валерия Игоревна Кузьмичева,Наталия Александровна Колотьева,Елена Анатольевна Рыскина,Василий Владимирович Ремизов,Дарья Сергеевна Виноградова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-08-28.

Screen-vacuum heat insulation of low-thrust rocket engine

Номер патента: RU2721395C1. Автор: Николай Михайлович Вертаков,Георгий Иванович Казаков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Опытное конструкторское бюро "Факел" ФГУП "ОКБ "Факел". Дата публикации: 2020-05-19.

Method for prediction of efficiency of low-intensity laser therapy in autoimmune infertility in men

Номер патента: RU2752994C1. Автор: Артем Валерьевич Тишков,Сальман Хасунович Аль-Шукри,Сергей Юрьевич Боровец,Мария Кирилловна Потапова,Маргарита Николаевна Слесаревская. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Первый Санкт-Петербургский государственный медицинский университет имени академика И.П. Павлова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-08-11.

Method of thermal treatment of items made out of low-carbon and medium-carbon unalloyed and low-alloyed steel

Номер патента: RU2231564C1. Автор: В.И. Червинский,Н.В. Зимин,О.С. Мартынов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт токов высокой частоты им. В.П. Вологдина". Дата публикации: 2004-06-27.

Method of flaring of low-grade coals in boiler installations

Номер патента: RU2658450C1. Автор: Анатолий Петрович Бурдуков,Виталий Исакович Попов,Евгений Борисович Бутаков,Артём Валерьевич Кузнецов,Егор Николаевич Яганов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2018-06-21.

Use of erythrite and d-tagatose in dietary drinks and food products or in drinks and food products of low-calorie content

Номер патента: RU2334437C2. Автор: Томас ЛИ,Зена БЕЛЛ,Гленн РОЙ,Рейн ХИРС,Джино ОЛЧЕЗЕ,Уилль м МУТИЛАНДЖИ,Уилльям МУТИЛАНДЖИ,Питер ГИВЕН. Владелец: Пепсико, Инк.. Дата публикации: 2008-09-27.

Method for measuring complex dielectric constant of micron powder

Номер патента: LU500723B1. Автор: Xiang Wang,JIN Wang,Hua Zhao,Jia Zhao,Chao Fu,Qing LV,Xiancong Wu,Chungang Liu. Владелец: Univ Hebei Normal. Дата публикации: 2022-04-12.

Detection of low gas pressure without pressure sensors

Номер патента: AU2021250855A1. Автор: Mark K. Cornwall,James Lee Kann,Peter CLEVENGER. Владелец: Itron Inc. Дата публикации: 2022-07-07.

Method of percutaneous video endoscopic intervention on the structures of the spinal canal in the air medium of low pressure

Номер патента: RU2688324C2. Автор: Алексей Иванович Гайворонский,Дмитрий Владимирович Свистов,Максим Николаевич Кравцов,Борис Всеволодович Гайдар. Владелец: Федеральное государственное бюджетное военное образовательное учреждение высшего образования Военно-медицинская академия им. С.М. Кирова Министерства обороны Российской Федерации (ВМедА). Дата публикации: 2019-05-21.

Method of low-ash poultry plasma protein powder production using poultry blood

Номер патента: RU2604190C2. Автор: Цзюнь ЧЖАН,Вэй ЮЙ,Госян ЧЭН,Гоюн Цзянь,Юн ПАНЬ,Дамин ЧЖУ,Минган ЛЮ,Кайбао СЮН. Владелец: Шанхай Дженон Байолоджикал Продакт Ко., Лтд. Дата публикации: 2016-12-10.

Method for development of low-power inclined ore bodies

Номер патента: RU2693807C1. Автор: Игорь Владимирович Соколов,Алексей Алексеевич Смирнов,Юрий Георгиевич Антипин,Артем Андреевич Рожков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт горного дела Уральского отделения Российской академии наук (ИГД УрО РАН). Дата публикации: 2019-07-04.

Flux-cored wire for mechanized and laser-arc welding of low-alloy high-strength steels

Номер патента: RU2713767C1. Автор: Михаил Михайлович Пронин-Валсамаки,Виктор Викторович Гежа,Петр Васильевич Мельников,Владимир Анатольевич Могильников,Василий Николаевич Старцев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт конструкционных материалов "Прометей" имени И.В. Горынина Национального исследовательского центра "Курчатовский институт" (НИЦ "Курчатовский институт" - ЦНИИ КМ "Прометей"). Дата публикации: 2020-02-07.

Development method of low-permeable reservoir of oil deposit

Номер патента: RU2713026C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Вадим Валерьевич Ахметгареев,Алина Илдусовна Арсланова. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" им. В.Д.Шашина. Дата публикации: 2020-02-03.

Method of detecting, measuring range and speed of low altitude low-speed target in pulse-doppler radar stations with high frequency of pulses repetition and inverted linear frequency modulation

Номер патента: RU2697509C2. Автор: Валерий Николаевич Коврегин,Галина Михайловна Коврегина. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2019-08-15.

Installation of low-temperature separation with ntsd dephlegmation for processing natural gas with extracting hydrocarbons c2+ (options)

Номер патента: RU2681897C1. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2019-03-13.

Memantine therapy for alzheimer's disease of low and low to moderate severity

Номер патента: RU2371173C2. Автор: Скотт МАКДОНАЛЬД,Айван ГЕРГЕЛ,Альбрехт ШТЕФФЛЕР,Ханс-Йорг МЕБИУС,Ивонне ВИРТ,Стивен ПОТКИН. Владелец: Мерц Фарма Гмбх Унд Ко. Кгаа. Дата публикации: 2009-10-27.

Method and system for inhibiting freezing of low salinity water in subsea low salinity water injection flowline

Номер патента: RU2675833C2. Автор: Марк Теодор ЛОЭЙЕР,Роалд АРКЕСТЕЙН. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2018-12-25.

Improvements in or relating to apparatus for measuring the dielectric constant of a layer of material such as a film or sheet

Номер патента: GB985428A. Автор: . Владелец: WAYNE KERR LAB Ltd. Дата публикации: 1965-03-10.

Method of detecting oscillations of low-current electromagnetic fields

Номер патента: RU2721874C2. Автор: Хачатур Давидович Мкртчян,Наталья Александровна Глазова. Владелец: Хачатур Давидович Мкртчян. Дата публикации: 2020-05-25.

Liquid complex dielectric constant sensor in a csrr structure and measurement method

Номер патента: NL2032421B1. Автор: Wang Chen,Liu Kai,Liu Xiaoming,Gan Lu,Zhang Dan,WANG Haiyang,WANG Jiajia,Zhu Chenghui. Владелец: Univ Anhui Normal. Дата публикации: 2024-01-23.

Determination of complex dielectric constants from electromagnetic propagation measurements

Номер патента: US20100324826A1. Автор: Martin G. Luling. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 2010-12-23.

Determination of complex dielectric constants from electromagnetic propagation measurements

Номер патента: WO2009083114A2. Автор: Martin G. Luling. Владелец: Schlumberger Holdings Limited. Дата публикации: 2009-07-09.

Passive radar system for detection of low-profile low altitude targets

Номер патента: US20240230874A9. Автор: Pavlo Anatoliyovich Molchanov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of low-frequency seismic data enhancement for improving characterization precision of deep carbonate reservoir

Номер патента: US20210199830A1. Автор: Jie Zhang,HE Xu,Wei Jiang,Xin Luo,Xuehua CHEN. Владелец: Chengdu Univeristy of Technology. Дата публикации: 2021-07-01.

Determining Dielectric Constant and Resistivity with Induction Measurement

Номер патента: US20190353819A1. Автор: John Rasmus,Dean Homan,Gong Li Wang. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Boundary truncation layer method and apparatus for three-dimensional forward modelling of low-frequency

Номер патента: AU2021204490A1. Автор: Hao Ren,Da Lei,Juntao LU,Liangyong YANG. Владелец: Institute of Geology and Geophysics of CAS. Дата публикации: 2022-09-08.

Method and system for stability determination of asphaltenes utilizing dielectric constant measurements

Номер патента: US20190113473A1. Автор: Berna HASCAKIR,Abhishek PUNASE. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2019-04-18.

System and method for monitoring health of low-cost sensors used in soil moisture measurement

Номер патента: EP4090953A1. Автор: Sanat Sarangi,Srinivasu Pappula,Prakruti Vinodchandra BHATT,Prachin Lalit JAIN,Swagatam BOSE CHOUDHURY. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Differential dielectric constant sensing system and method

Номер патента: US20240264093A1. Автор: Muhammad Amin,Rashad RAMZAN,Hattan F. Abutarboush,Omar F. Siddiqui,Daniyal Ali Sehrai,Raghied H. Atta. Владелец: TAIBAH UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-08-08.

Measurement of complex dielectric constant and permeability

Номер патента: US09952269B2. Автор: Kerim Akel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-24.

Method and system for inhibiting freezing of low salinity water in a subsea low salinity water injection flowline

Номер патента: US09951586B2. Автор: Mark Theodoor Looijer,Roald ARKESTEIJN. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 2018-04-24.

Discrimination of low-atomic weight materials using scattering and stopping of cosmic-ray electrons and muons

Номер патента: US09915626B2. Автор: Sankaran Kumar,Michael James Sossong,Gary Blanpied,Craig Morgan,Dustin DORROH. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Method for utilization of low-concentration gas mixtures of combustible gas and air with stable heat energy recovery

Номер патента: US09651249B2. Автор: Tadeusz Machej,Krzysztof Warmuzinski,Krzysztof Gosiewski,Manfred JASCHIK,Anna PAWLACZYK,Marek TAŃCZYK,Krzysztof GIEŁZAK,Artur WOJDYŁA,Leszek MICHALSKI. Владелец: Katalizator Sp zoo. Дата публикации: 2017-05-16.

Surgical treatment method of low-dysplastic spondylolisthesis

Номер патента: RU2690913C1. Автор: Сергей Петрович Маркин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Новосибирский научно-исследовательский институт травматологии и ортопедии им. Я.Л. Цивьяна" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "ННИИТО им. Я.Л. Цивьяна" Минздрава России). Дата публикации: 2019-06-06.

Method for development of low-permeability headers

Номер патента: RU2738558C1. Автор: Айдар Рашитович Якупов. Владелец: Публичное акционерное общество «Татнефть» имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2020-12-14.

Boiler of low power of high-temperature boiler layer with a system of automatic regulation of the combustion process

Номер патента: RU2686130C1. Автор: Николай Александрович Савчук,Александр Васильевич Смирнов,Сергей Валентинович Александров,Алексей Валентинович Бондарев,Эдуард Владиславович Болбышев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТЕПЛОМЕХ". Дата публикации: 2019-04-24.

Method of measuring the density of the flow of neutron radiation of low intensity in static fields of mixed gamma-neutron radiation

Номер патента: RU2676822C1. Автор: Михаил Викторович Яковлев. Владелец: Михаил Викторович Яковлев. Дата публикации: 2019-01-11.

High frequency induction log for determining resistivity and dielectric constant of the earth

Номер патента: US4278941A. Автор: Robert Freedman. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 1981-07-14.

Device for preparation of a sample for analysis of impurities of low-volatile polar substances in liquid media

Номер патента: RU2697575C1. Автор: Сергей Александрович Нечаев,Людмила Артемовна Онучак,Юрий Иванович Арутюнов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КимТэк". Дата публикации: 2019-08-15.

Ai-driven signal enhancement of low-resolution images

Номер патента: WO2024206413A1. Автор: Stanley Hong,Merek SIU,Aathavan KARUNAKARAN,Simon Prince,Anindita Dutta,Rishi Verma,Yina Wang,Jeffrey Gau. Владелец: Illumina, Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Signal capture method and apparatus for the detection of low frequency electric signals in liquids and biological matter

Номер патента: US09709613B2. Автор: Pier Rubesa. Владелец: Association Promethora. Дата публикации: 2017-07-18.

System and method of low pressure control in tissue area

Номер патента: RU2428208C2. Автор: Кристофер Брайан ЛОКК,Марк Стефен Джеймс БИРД. Владелец: КейСиАй Лайсензинг Инк.. Дата публикации: 2011-09-10.

Method and device for production of compressed gaseous product by means of low-temperature air separation

Номер патента: RU2696846C2. Автор: Дмитрий ГОЛУБЕВ. Владелец: Линде Акциенгезелльшафт. Дата публикации: 2019-08-06.

Method for determining strength characteristics of low-carbon steels

Номер патента: RU2685458C1. Автор: Юрий Викторович Лисин,Сергей Михайлович Зуев,Анатолий Николаевич Воронцов,Светлана Николаевна Зуева,Павел Иванович Шотер,Дмитрий Александрович Неганов,Сергей Владимирович Соя. Владелец: Акционерное общество "Транснефть - Диаскан" (АО "Транснефть - Диаскан"). Дата публикации: 2019-04-18.

Method of low-caloric ice-cream production

Номер патента: RU2600760C1. Автор: Людмила Яковлевна Родионова,Тамара Гелаевна Патаркалашвили,Альбина Алексеевна Варивода. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2016-10-27.

Jet printing cartridge of low profile

Номер патента: RU2263583C2. Автор: Рам САНТАНАМ,Дзундзи ЯМАМОТО,Маркус ШОЛЬЦ,Дэниел С. КЛАЙН. Владелец: Хьюлетт-Паккард Компани. Дата публикации: 2005-11-10.

Panel-frame system and method for its application for establishing walls of low-rise buildings

Номер патента: RU2751299C1. Автор: Игорь Григорьевич Свидницкий. Владелец: Игорь Григорьевич Свидницкий. Дата публикации: 2021-07-13.

Use of low-dose oestriol

Номер патента: RU2483734C2. Автор: ФЕРНАНДЕС Альваро АСЕБРОН,ЛОУСАМЕ Долорес БЛАНКО,ДЕЛЬ ПРАДО Хайме МОСКОСО. Владелец: Италфармако, С.А.. Дата публикации: 2013-06-10.

Method of creating global information environment in near-earth space and paradigma, multifunctional space information system based on network of low-orbit spacecraft for implementation thereof

Номер патента: RU2707415C2. Автор: Александр Игоревич Галькевич,Вячеслав Филиппович Фатеев. Владелец: Вячеслав Филиппович Фатеев. Дата публикации: 2019-11-26.

Device for achieving supersonic speeds of low mass shells

Номер патента: RU2668633C1. Автор: Михаил Алексеевич Горбунов,Валерий Юрьевич Клюшников,Ювеналий Алексеевич Крутяков. Владелец: Крутяков Ювеналий Александрович. Дата публикации: 2018-10-02.

Method of low-speed coding and decoding speech signal

Номер патента: RU2631968C2. Автор: Андрей Алексеевич Афанасьев,Евгений Сергеевич Коробовский. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Академия Федеральной службы охраны Российской Федерации" (Академия ФСО России). Дата публикации: 2017-09-29.

Method of operation of auxiliary power plant engine in conditions of low temperatures and device for implementation thereof

Номер патента: RU2737283C1. Автор: Дмитрий Викторович Быков,Константин Витальевич Еманов,Евгений Владимирович Исупов,Дмитрий Сергеевич Курочкин,Андрей Леонидович Терликов. Владелец: Акционерное общество «Уральское конструкторское бюро транспортного машиностроения» (АО «УКБТМ»). Дата публикации: 2020-11-26.

Method for controlling operation of low-toxic combustion chamber module of gas turbine engine

Номер патента: RU2637164C1. Автор: Василий Дмитриевич Васильев,Михаил Николаевич Гутник,Людмила Александровна Булысова,Михаил Михайлович Гутник. Владелец: Открытое акционерное общество "Всероссийский дважды ордена Трудового Красного Знамени теплотехнический научно-исследовательский институт". Дата публикации: 2017-11-30.

Motor bogie of low-floor railway car

Номер патента: RU2694991C2. Автор: Ален РОДЕ. Владелец: Альстом Транспорт Текнолоджис. Дата публикации: 2019-07-18.

Method for determining the trajectory of movement of low-flying targets

Номер патента: RU2667484C1. Автор: Анатолий Николаевич Сергеев,Тамара Ивановна Сухачева,Яков Соломонович Хасин. Владелец: Акционерное общество "Конструкторское бюро "Аметист". Дата публикации: 2018-09-20.

Method for predicting development of alcoholic fetopathy against small and moderate doses of low-alcohol drinks

Номер патента: RU2666941C1. Автор: Любовь Ильинична Колесникова,Наталья Владимировна Протопопова,Исай Моисеевич Михалевич,Анаит Юрьевна Марянян. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Научный центр проблем здоровья семьи и репродукции человека". Дата публикации: 2018-09-13.

Method for waterflooding of low-permeable and super-low-permeable reservoirs

Номер патента: RU2740357C1. Автор: Азат Альбертович Гимазов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Газпромнефть Научно-Технический Центр» (ООО «Газпромнефть НТЦ»). Дата публикации: 2021-01-13.

Method of low-temperature processing of organic solid municipal waste and installation for its implementation

Номер патента: RU2744225C1. Автор: Виктор Васильевич Оболонский,Владимир Семенович Севостьянов,Максим Владимирович Севостьянов,Дмитрий Николаевич Перелыгин,Сергей Николаевич Глаголев,Николай Тихонович Шеин,Роман Юрьевич Шамгулов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова. Дата публикации: 2021-03-03.

Method of low-temperature preparation of low-pressure oil gas at field

Номер патента: RU2637792C1. Автор: Евгений Петрович Запорожец,Никита Андреевич Шостак. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ"). Дата публикации: 2017-12-07.

Device for processing of cigarette paper of low inflammability and cigarette paper making device including latter

Номер патента: RU2573812C1. Автор: Ян-Ил ДЖО,Харг-Джо КВОН,Джун-Йеон ПАРК,Джон-Ох КИМ,Сунь-Чеол КВОН. Владелец: КейТи энд Джи КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2016-01-27.

Use of low frequency generator for storing agricultural products

Номер патента: RU2332836C2. Автор: Константин Сергеевич Кулик,Сергей Николаевич Мартьянов,Николай Иванович Белобородов. Владелец: Сергей Николаевич Мартьянов. Дата публикации: 2008-09-10.

Method of registering approximation of an active object to the spacecraft of orbital reserve in the region of low earth orbits

Номер патента: RU2658203C1. Автор: Михаил Викторович Яковлев. Владелец: Михаил Викторович Яковлев. Дата публикации: 2018-06-19.

Secondary field dielectric constant well logging system and method

Номер патента: CA1228397A. Автор: Donald L. Johnson,Theodore W. Nussbaum,Percy T. Cox,Wayne F. Warren. Владелец: Texaco Development Corp. Дата публикации: 1987-10-20.

Apparatus for detecting fuel dielectric constant

Номер патента: US5313168A. Автор: Kenji Ogawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-17.

Complex dielectric constant well logging means and method for determining the water saturation and the water resistivity of an earth formation

Номер патента: US4774471A. Автор: Jackie C. Sims,Percy T. Cox,Richard S. Simpson. Владелец: Texaco Inc. Дата публикации: 1988-09-27.

Integrated circuits (ic) employing subsystem shared cache memory for facilitating extension of low-power island (lpi) memory and related methods

Номер патента: EP4377765A1. Автор: Girish Bhat,Vipul Gandhi,George PATSILARAS,Subbarao Palacharla,Jeffrey Shabel,Isaac BERK,Kedar Bhole,Sparsh SINGHAI. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-06-05.

Analysis method of absolute molecular weight and molecular weight distribution of low-substituted hydroxypropyl cellulose

Номер патента: US20050130313A1. Автор: Kazuhisa Hayakawa,Sakae Obara,Miyuki Fukasawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-16.

Denoising depth data of low-signal pixels

Номер патента: EP4392926A1. Автор: Sergio ORTIZ EGEA,Augustine CHA. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-07-03.

Systems and methods for improving the detection of low-electromagnetic- profile objects by vehicles

Номер патента: WO2020053650A1. Автор: Ben Zion Beiski. Владелец: Ben Zion Beiski. Дата публикации: 2020-03-19.

Systems and methods for improving the detection of low-electromagnetic- profile objects by vehicles

Номер патента: EP3850395A1. Автор: Ben Zion Beiski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-07-21.

Methods for aseptic packaging of low-acid foods

Номер патента: MY187032A. Автор: Rosanne P Batema. Владелец: MJN US Holdings LLC. Дата публикации: 2021-08-26.

Methods for aseptic packaging of low-acid foods

Номер патента: PH12016501331B1. Автор: Rosanne P Batema. Владелец: MJN US Holdings LLC. Дата публикации: 2016-08-15.

Analysis method of absolute molecular weight and molecular weight distribution of low-substituted hydroxypropyl cellulose

Номер патента: EP1550864A3. Автор: Sakae Obara,Miyuki c/o Specialty Chem. Res. Ctr. Fukasawa,Kazuhisa c/o Specialty Chem. Res. Ctr. Hayakawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-18.

Systems and methods for improving the detection of low-electromagnetic-profile objects by vehicles

Номер патента: CA3095703A1. Автор: Ben Zion Beiski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-19.

Method of information interaction of low-mobile passenger with public transport vehicle and system for implementation thereof

Номер патента: RU2718607C1. Автор: Леонид Львович Аронов. Владелец: Леонид Львович Аронов. Дата публикации: 2020-04-08.

Low-temperature container, low-temperature reservoir and automotive tank for transportation of low-temperature liquid

Номер патента: RU2688295C2. Автор: Цинго МЭН,Сяосян ЧЖОУ,Хуанхэ ЦЮАНЬ,Юнсинь ЛО,Чуньжун ЯО. Владелец: Симс Энрик Инвестмент Холдингс (Шеньчжэнь) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-05-21.

Efficient scheme of holding in orbit of satellite for installations on mixed fuel in case of failure of low-thrust electric engine

Номер патента: RU2711674C2. Автор: Иу-Хун Монте ХО,Джеффри Скотт НОЭЛЬ,Эндрю Генри ДЖАКОБЕ. Владелец: Зе Боинг Компани. Дата публикации: 2020-01-21.

Device for combined fire extinguishing and fire-and-explosion prevention of foam of low and medium multiplicity

Номер патента: RU2693612C1. Автор: Геннадий Николаевич Куприн. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью Нпо "Современные Пожарные Технологии". Дата публикации: 2019-07-03.

Method of increasing water solubility of low-solubility substances

Номер патента: RU2517111C2. Автор: Сюдзи САКУМА,Кейитиро КИКУКАВА,Рёсуке МИЯСАКА. Владелец: Кабусики Кайся Санги. Дата публикации: 2014-05-27.

Application of selective etchback and chemical mechanical polishing on planarization of shallow trench isolation

Номер патента: TW321783B. Автор: Shiun-Ming Jang,Jenn-Hwa Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 1997-12-01.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Method for manufacturing of multilevel copper metallisation with ultralow value of dielectric constant for intralayer insulation

Номер патента: RU2548523C1. Автор: Адиль Салихович Валеев,Геннадий Яковлевич Красников,Владимир Александрович Гвоздев,Павел Игоревич Кузнецов. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (АО "НИИМЭ"). Дата публикации: 2015-04-20.

Method and apparatus for obtaining spatial information and measuring the dielectric constant of an object

Номер патента: US20120001628A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing of improved multilevel copper metallisation using dielectrics with ultra low dielectric constant (ultra low-k)

Номер патента: RU2486632C2. Автор: Адиль Салихович Валеев,Геннадий Яковлевич Красников,Владимир Александрович Гвоздев. Владелец: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон". Дата публикации: 2013-06-27.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Device for measurement of high quantities of complex dielectric constant of low-impedance composite materials at shf

Номер патента: RU2321010C1. Автор: Герман В чеславович Дмитриенко,Герман Вячеславович Дмитриенко,Николай Александрович Трефилов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет". Дата публикации: 2008-03-27.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

HIGH RESOLUTION COMPLEX STRUCTURE AND ALLOSTERIC EFFECTS OF LOW MOLECULAR WEIGHT ACTIVATORS ON THE PROTEIN KINASE PDK1

Номер патента: US20120003668A1. Автор: . Владелец: UNIVERSITAET DES SAARLANDES. Дата публикации: 2012-01-05.

Onboard system for fuel control and measurement with compensation for fuel dielectric constant

Номер патента: RU2532969C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Onboard fuel metering system with compensation for dielectric constant

Номер патента: RU2532967C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Microwave method for metering thickness and complex dielectric constant of insulating coatings

Номер патента: RU2256168C2. Автор: П.А. Федюнин,Д.А. Дмитриев,Н.П. Федоров. Владелец: Тамбовский военный авиационный инженерный институт. Дата публикации: 2005-07-10.

Onboard fuel metering system with compensation for dielectric constant

Номер патента: RU2532965C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Coating of low radiating capacity and coefficient of solar heat leakage, with improved chemical and mechanical characteristics and procedure for this coating

Номер патента: RU2415968C2. Автор: Питер Машвитц,Даньель ДЕКРУПЕ,Доменик КОСТЕР. Владелец: Эй-Джи-Си Флэт Гласс Норт Америке, Инк.. Дата публикации: 2011-04-10.

Onboard fuel control system with compensation for fuel dielectric constant

Номер патента: RU2532968C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Method of low-potential gas recovery

Номер патента: RU2396106C1. Автор: Генрих Карлович Зиберт,Илшат Минуллович Валиуллин,Сергей Алексеевич Михайлов,Алексей Генрихович Зиберт. Владелец: Илшат Минуллович Валиуллин. Дата публикации: 2010-08-10.

Method of bottom-hole zone treatment of low-permeable terrigenous formations (versions)

Номер патента: RU2451175C1. Автор: Денис Александрович Кустышев,Александр Васильевич Кустышев,Дмитрий Александрович Кряквин,Евгений Валентинович Паникаровский,Станислав Николаевич Рахимов,Сергей Александрович Скрылев,Алексей Владимирович Немков,Валентин Валентинович Паникаровский,Валерий Юрьевич Артеменков. Владелец: Открытое акционерное общество "Газпром". Дата публикации: 2012-05-20.

Remote determination of dielectric constant of dielectric object

Номер патента: RU2563581C1. Автор: Андрей Викторович Кузнецов,Валерий Петрович Аверьянов,Игорь Юрьевич Горшков,Станислав Игоревич Воробьев,Игорь Борисович ВОРОБЬЕВ,Виктор Владимирович МЕЩЕРЯКОВ. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АПСТЕК Лабс". Дата публикации: 2015-09-20.

Method of determining dielectric constant of dielectric product

Номер патента: RU2354980C2. Автор: Ринад Исмагилович Волков,Эдуард Иванович Федоров,Юрий Николаевич Салаев,Владимир Алексеевич Малыгин,Наталия Анатольевна Куянова. Владелец: Наталия Анатольевна Куянова. Дата публикации: 2009-05-10.

Method of siliconizing large-size articles and a retort of a device for its implementation with seams of low permeability

Номер патента: RU2705185C1. Автор: Вячеслав Максимович Бушуев,Михаил Владимирович Никитин. Владелец: Михаил Владимирович Никитин. Дата публикации: 2019-11-05.

Method of automatic diagnostics and control of thermal power processing of low stiff axisymmetrical parts, and device for its implementation

Номер патента: RU2466195C1. Автор: Олег Иванович Драчев,Дмитрий Александрович Расторгуев,Геннадий Игоревич Гурьянов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тольяттинский государственный университет". Дата публикации: 2012-11-10.

Procedure for low temperature nitriding in plasma of non-self-maintained arc discharge of low pressure of technically pure titanium bt1-0

Номер патента: RU2434075C1. Автор: Данил Сергеевич Вершинин,Марина Юрьевна Смолякова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный университет". Дата публикации: 2011-11-20.

Method of determining elevation coordinate of low-flying target

Номер патента: RU2444750C2. Автор: Александр Сергеевич Кондратьев,Владимир Алексеевич Балагуровский,Нина Петровна Полищук. Владелец: Открытое акционерное общество "Головное системное конструкторское бюро Концерна ПВО "Алмаз-Антей" имени академика А.А. Расплетина" (ОАО "ГСКБ "Алмаз-Антей"). Дата публикации: 2012-03-10.

Device for pressure-heated treatment of low-hardness shafts

Номер патента: RU2462518C1. Автор: Олег Иванович Драчев,Дмитрий Александрович Расторгуев,Александр Олегович Драчев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тольяттинский государственный университет". Дата публикации: 2012-09-27.

Well source of seismic energy, unit of high voltage electrode and unit of low voltage electrode

Номер патента: RU2385472C2. Автор: Анатолий Александрович Молчанов,Петр Георгиевич Агеев,Евгений Павлович Большаков,Борис Петрович Яценко,Владимир Викторович Сидора,Андрей Анатольевич Алейников. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НОВАС". Дата публикации: 2010-03-27.

Method for prediction of low mineral density of bone tissue in 14-15 year-old teenagers of

Номер патента: RU2380030C1. Автор: Исай Моисеевич Михалевич,Лариса Васильевна Меньшикова,Татьяна Михайловна Максикова. Владелец: Государственное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования "Иркутский государственный институт усовершенствования врачей Федерального агентства по здравоохранению и социальному развитию". Дата публикации: 2010-01-27.

Method of producing nanoparticles of low-molecular chitosan

Номер патента: RU2428432C1. Автор: Вячеслав Алексеевич Кузнецов,Николай Иосифович Купреев,Шехта Матвалли Эльсайед Елазаб Ваел. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Фармхим" (ООО "ФАРМХИМ"). Дата публикации: 2011-09-10.

Tube stock out of low carbon low alloyed steel

Номер патента: RU2337149C1. Автор: Андрей Алексеевич Угаров,Евгений Иванович Гонтарук,Анатолий Адольфович Лехтман,В чеслав Иванович Фомин,Вячеслав Иванович Фомин,Михаил Викторович Бобылев,хов Николай Александрович Шл,Николай Александрович Шляхов. Владелец: Открытое акционерное общество "Оскольский электрометаллургический комбинат". Дата публикации: 2008-10-27.

Production method of low-lactose milk beverage

Номер патента: RU2704856C1. Автор: Иван Фёдорович Горлов,Марина Ивановна Сложенкина,Алина Анатольевна Короткова,Валентина Николаевна Храмова,Ирина Важаевна Мгебришвили,Екатерина Анатольевна Селезнева,Наталья Ивановна Мосолова,Мария Александровна Анцыперова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Поволжский научно-исследовательский институт производства и переработки мясомолочной продукции" (ГНУ НИИММП). Дата публикации: 2019-10-31.

Method of increasing of low-alloy steel corrosion resistance

Номер патента: RU2351692C2. Автор: Виктор Николаевич Кусков,Вячеслав Юрьевич Паульс. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет". Дата публикации: 2009-04-10.

Processing of bottomhole of low-cemented terrigenous bed at abnormally low bed pressure

Номер патента: RU2528803C1. Автор: Денис Александрович Кустышев,Александр Васильевич Кустышев,Евгений Валентинович Паникаровский,Жанна Сергеевна Попова,Александр Александрович Сингуров,Вадим Славикович Джанагаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет" (ТюмГНГУ). Дата публикации: 2014-09-20.

Tire Comprising Carcass Reinforcing Cords of Low Permeability and Textile Threads Associated with the Carcass Reinforcement

Номер патента: US20120000590A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for producing cover hexahedral tubes of low-ductile steel

Номер патента: RU2246363C1. Автор: В.П. Борисов,А.В. Сафьянов,нов А.В. Сафь,А.А. Фёдоров,С.Г. Чикалов,В.И. Тазетдинов,И.И. Вольберг,Л.И. Лапин,И.А. Романцов,С.В. Ненахов,В.А. Головинов,нов М.Р. Хамедз,М.Р. Хамедзянов. Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2005-02-20.

Onboard system for fuel control and measurement with compensation for fuel dielectric constant

Номер патента: RU2532970C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Onboard fuel gage-and-fuel flow rate meter system with compensation for temperature and fuel dielectric constant

Номер патента: RU2533950C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-27.

Onboard system for fuel control and measurement with compensation for fuel dielectric constant

Номер патента: RU2532964C2. Автор: Юрий Иванович Новиков,Николай Мушегович Степанян,Дмитрий Владимирович Земсков,Ольга Евгеньевна Котенева. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2014-11-20.

Method for treatment of low-turbid colored water

Номер патента: RU2258677C1. Автор: Ф.В. Кармазинов,Ю.А. Трухин,М.Г. Новиков,Е.А. Евельсон,А.Б. Андреева,Ю.И. Нефедов. Владелец: Государственное Унитарное Предприятие "Водоканал Санкт-Петербурга". Дата публикации: 2005-08-20.

Device for discharge of low loose heap from hopper

Номер патента: RU2370941C1. Автор: Сергей Дмитриевич Ридный,Геннадий Геннадьевич Шматко. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ставропольский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2009-10-27.

Radar meter of low heights

Номер патента: RU2449310C2. Автор: Борис Михайлович Климашов,Евгений Юрьевич Клепов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2012-04-27.

Method for assessment of complex dielectric constant and magnetic permeability of radio-absorbing materials

Номер патента: RU2046351C1. Автор: С.М. Нестеров,И.А. Скородумов. Владелец: Военный объединенный совет Всероссийского общества изобретения и рационализаторов. Дата публикации: 1995-10-20.

Turbo-jet engine with combined support of low and high pressure turbine

Номер патента: RU2414614C1. Автор: Николай Борисович Демкин,Виктор Алексеевич Белоусов. Владелец: Открытое акционерное общество Авиамоторный научно-технический комплекс "Союз". Дата публикации: 2011-03-20.

Method of protecting surface of low-alloy steel slab before heating in continuous furnace for rolling

Номер патента: RU2579866C1. Автор: Шамиль Борисович Манюров,Александр Валентинович Куклев,Александр Евграфович Титлянов,Александр Германович Радюк. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС". Дата публикации: 2016-04-10.

Method of alumino-thermic production of low-carbon ferro-chromium

Номер патента: RU2291217C2. Автор: Сергей Игоревич Гильварг,Владимир Михайлович Киселев,Сергей Федорович Одиноков,Алексей Геннадьевич Банных. Владелец: Открытое акционерное общество "Ключевский завод ферросплавов". Дата публикации: 2007-01-10.

Method of development of low-permeable oil deposits

Номер патента: RU2547848C2. Автор: Виталий Анварович Байков,Александр Валерьевич Колонских,Олег Владимирович Евсеев,Игорь Семенович Афанасьев. Владелец: Открытое акционерное общество "Нефтяная компания "Роснефть". Дата публикации: 2015-04-10.

Device for measurement of complex permittivity of low- impedance materials at microwave frequencies

Номер патента: RU2247400C1. Автор: Н.А. Трефилов,Г.В. Дмитриенко. Владелец: Ульяновский государственный технический университет. Дата публикации: 2005-02-27.

Melafen as regulator of growth of berberine accumulation in cell culture of low meadowrue

Номер патента: RU2323972C1. Автор: Александр Иванович Коновалов,Валерий Алексеевич Быков,Татьяна Александровна Сокольская,Владимир Савич Резник,Саитгарей Галяувич Фаттахов,Саитгарей Гал увич Фаттахов,Татьяна Алексеевна Савина,Тать на Александровна Сокольска,Тать на Алексеевна Савина,Наталь Степановна Цыбулько,Наталья Степановна Цыбулько. Владелец: Государственное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт лекарственных и ароматических растений ("ВИЛАР") РАСХН. Дата публикации: 2008-05-10.

Design of low-angle or horizontal well with possibility of control of inflow and selective water isolation

Номер патента: RU2480574C1. Автор: Сергей Каснулович Ахмедсафин,Сергей Александрович Кирсанов,Сергей Александрович Скрылев,Алексей Владимирович Немков,Владимир Амиранович Сехниашвили,Роман Петрович Гресько,Владимир Филлипович Штоль,Геннадий Филлипович Петров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром добыча Ямбург". Дата публикации: 2013-04-27.

Method for preparing heparins of low molecular mass

Номер патента: RU2295538C2. Автор: Константин Георгиевич Скрябин,Владимир Александрович Макаров,бин Константин Георгиевич Скр,Владимир Евгеньевич Тихонов,Валерий Петрович Варламов,Наталья Николаевна Дрозд,Наталь Николаевна Дрозд,Галина Евгеньевна Банникова. Владелец: Гематологический научный центр РАМН. Дата публикации: 2007-03-20.

Monolithic foam concrete making of walls of low-rise buildings

Номер патента: RU2592084C2. Автор: Святослав Прокопьевич Сизин. Владелец: Святослав Прокопьевич Сизин. Дата публикации: 2016-07-20.

Method of production of cold rolled band out of low carbon grades of steel

Номер патента: RU2366729C1. Автор: Клавдия Андреевна Лисичкина,Павел Николаевич Смирнов,Эдуард Михайлович Голубчик,Виталий Владимирович Галкин,Валерий Петрович Торохтий. Владелец: Открытое акционерное общество "Магнитогорский металлургический комбинат". Дата публикации: 2009-09-10.

Cement of low water demand and method of making thereof

Номер патента: RU2379240C1. Автор: Вадим Григорьевич Хозин,Олег Викторович Хохряков. Владелец: Сибгатуллин Ильгизар Раифович. Дата публикации: 2010-01-20.

Radiator of low-potential heat release device into outer space (versions)

Номер патента: RU2705538C1. Автор: Николай Николаевич Волков,Лариса Ивановна Волкова,Вадим Всеволодович Миронов,Петр Владимирович Грибков,Андрей Михайлович Кушинский,Самад Саноевич Хамдамов. Владелец: Государственный научный центр Российской Федерации - федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша". Дата публикации: 2019-11-07.

Method for extracting oil deposit in heterogeneous collector of low thickness

Номер патента: RU2290498C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Любовь Михайловна Миронова,Олег Евгеньевич Старов,Васил Мухаметович Хусаинов,Николай Иванович Хаминов,Рустем Шафагатович Тахаутдинов,Азат Хафизович Сафин,Наиль Зангирович Ахметов,Расим Вафиевич Ханипов. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2006-12-27.

Television camera for viewing in conditions of low illumination and/or low brightness of objects

Номер патента: RU2389151C1. Автор: Вячеслав Михайлович Смелков. Владелец: Вячеслав Михайлович Смелков. Дата публикации: 2010-05-10.

Separation of low-boiling component from mix of vapors and device to this end

Номер патента: RU2488427C1. Автор: Маргарита Хаймовна Правдина,Николай Иванович Яворский,Су Ман Кан. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2013-07-27.

Method for production of tree-dimensional image of surface according to data of pulse-modulated doppler radar of low-altitude flight

Номер патента: RU2299448C2. Автор: Владимир Константинович Клочко. Владелец: Рязанская государственная радиотехническая академия. Дата публикации: 2007-05-20.

Method of low-intensive laser therapy of neurotic disorders

Номер патента: RU2440161C2. Автор: Нелли Степановна Вернекина,Борис Сергеевич Положий. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Государственный Научный Центр Социальной и Судебной Психиатрии им. В.П. Сербского" (ФГУ "ГНЦССП Росздрава"). Дата публикации: 2012-01-20.

Device to destroy bridging of low-loose grain heap of combine harvester hopper

Номер патента: RU2421977C1. Автор: Андрей Николаевич Глобин,Сергей Дмитриевич Ридный,Геннадий Геннадьевич Шматко. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ставропольский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2011-06-27.

Method for measurement of elevation angle of low-altitude target and radar for its realization

Номер патента: RU2307375C1. Автор: Сергей Назарович Лужных,Валентин Иванович Кисляков,Анатолий Александрович Титов,Сергей Яковлевич Прудников,ков Валентин Иванович Кисл. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт измерительных приборов" (ОАО "НИИИП"). Дата публикации: 2007-09-27.

Method for obtaining of preparation based on hymatomelanic acids of low-mineralised silt sulphidic muds

Номер патента: RU2641046C1. Автор: Надежда Петровна Аввакумова,Мария Ариевна Кривопалова,Мария Николаевна Глубокова,Елена Евгеньевна Катунина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-01-15.

Method for recovering liquid radioactive waste of low level of activity

Номер патента: RU2313147C1. Автор: Павел Васильевич Козлов,Олег Михайлович Слюнчев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Производственное объединение "Маяк". Дата публикации: 2007-12-20.

Method of orienting, assembling and locking of thrust tool in holder by self-locking retainer with help of low-wear orienting bushes and controlled low-wear thrusts

Номер патента: RU2533799C2. Автор: Анатолий Витальевич Костюченко,Юрий Николаевич Черноскутов. Владелец: Юрий Николаевич Черноскутов. Дата публикации: 2014-11-20.

Method and device for getting stationary combined discharge of low-pressure low-temperature plasma

Номер патента: RU2277763C2. Автор: Анатолий Александрович Сергеев,Елена Петровна Зинина,Нина Федоровна Кислицына,Елена Петровна Зинина (RU),Анатолий Александрович Сергеев (RU),Нина Федоровна Кислицына (RU). Владелец: Закрытое акционерное общество "Контакт-Салют" - дочернее предприятие ФГУП "НПП "Контакт". Дата публикации: 2006-06-10.

Method for separation of broad fraction of low-boiling (c1-c6)-hydrocarbons

Номер патента: RU2254316C1. Автор: В.В. Разумов,Г.Т. Щербань,В.А. Ли,В.М. Никитин,И.А. Магсумов,А.В. Ерхов,А.П. Жаворонков. Владелец: Открытое акционерное общество "Уралоргсинтез". Дата публикации: 2005-06-20.

Method of low-invasive treatment of pararectal fistulas

Номер патента: RU2440164C1. Автор: Олег Ленианович Соловьёв,Алексей Олегович Соловьев,Галина Александровна Соловьева,Мария Олеговна Соловьева,Олег Юрьевич Долгих. Владелец: Олег Юрьевич Долгих. Дата публикации: 2012-01-20.

Fuel supply unit to decomposition chamber of single-component liquid rocket engine of low thrust

Номер патента: RU2704521C1. Автор: Николай Михайлович Вертаков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Опытное конструкторское бюро "Факел" ФГУП "ОКБ "Факел". Дата публикации: 2019-10-29.

Method of low-carbon steel processing in ladle

Номер патента: RU2465341C2. Автор: Юрий Федорович Суханов,Юрий Николаевич Долгих. Владелец: Открытое акционерное общество "Новолипецкий металлургический комбинат". Дата публикации: 2012-10-27.

Method of non-contact measurement of the dielectric constant

Номер патента: RU2442179C2. Автор: Ирен Евгеньевна Кузнецова,Борис Давыдович Зайцев,Александр Магомедович Шихабудинов,Андрей Алексеевич Теплых. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН. Дата публикации: 2012-02-10.

Method of measuring length, thickness and dielectric constant of dielectric coating on metal surface

Номер патента: RU2258214C1. Автор: П.А. Федюнин,Д.А. Дмитриев. Владелец: Тамбовский военный авиационный инженерный институт. Дата публикации: 2005-08-10.

Impeller blade of rotor of compressor of low-pressure gas turbine (versions)

Номер патента: RU2581987C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Еричев,Андрей Валерьевич Узбеков,Евгений Ювенальевич Марчуков,Виктор Викторович Куприк,Ирик Усманович Манапов,Сергей Анатольевич Симонов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Уфимское Моторостроительное Производственное Объединение" (Оао "Умпо"). Дата публикации: 2016-04-20.

Method for choice of treatment tactics for patients with gliomas of low malignancy degrees

Номер патента: RU2441599C1. Автор: Андрей Сергеевич Балканов,Артем Вадимович Рыболовлев,Ирина Александровна Казанцева,Татьяна Григорьевна Бархина,Валерий Петрович Черников,Леонид Евгеньевич Гаганов. Владелец: Государственное учреждение Московский областной научно-исследовательский клинический институт им. М.Ф. Владимирского (ГУ МОНИКИ им. М.Ф. Владимирского). Дата публикации: 2012-02-10.

Method for producing of low-fat butter "yakut haiakh" of animal origin

Номер патента: RU2266009C9. Автор: А.Ф. Абрамов,А.А. Ефимова. Владелец: Государственное научное учреждение Якутский научно-исследовательский институт сельского хозяйства Сибирского отделения РАСХН. Дата публикации: 2006-06-20.

Method of treatment of steel articles out of low hardness steels

Номер патента: RU2571250C1. Автор: Николай Иванович Егоров,Юрий Николаевич Полянчиков,Мария Юрьевна Полянчикова,Олег Анатольевич Курсин,Иван Федорович Кожемякин,Игорь Сергеевич Филатов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2015-12-20.

Measuring device of impulse reactive thrust of low thrust liquid propellant engine

Номер патента: RU2478924C1. Автор: Роберт Андреевич Палазьян,Валерий Юрьевич Рябых,Сергей Юрьевич Теплухин,Борис Иванович Страхов. Владелец: Федеральное казенное предприятие "Научно-испытательный центр ракетно-космической промышленности". Дата публикации: 2013-04-10.

Method to control gas turbine engine with free turbine for power plants of low and medium capacity

Номер патента: RU2476971C1. Автор: Виктор Александрович Гладких,Валерий Владимирович Бурдин,Роальд Симонович Динабург. Владелец: Закрытое Акционерное Общество Научно-Производственная Фирма "Газ-Система-Сервис". Дата публикации: 2013-02-27.

Heat treatment method of welded joints of low carbon ferrite-pearlite steels

Номер патента: RU2299252C1. Автор: Сергей Николаевич Галяткин,Валерий Васильевич Рыбин,Наталья Борисовна Щербинина,Герман Николаевич Филимонов,Михаил Иванович Оленин,Николай Георгиевич Быковский,Александр Илларионович Кучеров,Юрий Юрьевич Носов,Надежда Степановна Евдокимова,Наталья Юрьевна Воробьева,Татьяна Михайловна Гусельникова,Виталий Сергеевич Скутин,Наталь Борисовна Щербинина,ткин Сергей Николаевич Гал,Наталь Юрьевна Воробьева,Роман Александрович Подкорытов,Тать на Васильевна Лазарева,Татьяна Васильевна Лазарева,Тать на Михайловна Гусельникова,Сергей Семенович Галка,Сергей Юрьевич Сурин. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ УНИТАРНОЕ ПРЕДПРИЯТИЕ "ПРОИЗВОДСТВЕННОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "СЕВЕРНОЕ МАШИНОСТРОИТЕЛЬНОЕ ПРЕДПРИЯТИЕ" (ФГУП "ПО "Севмаш"). Дата публикации: 2007-05-20.

Method for correcting negative effect of low temperatures on rat's prostate

Номер патента: RU2527172C1. Автор: Сергей Семенович Целуйко,Оксана Александровна Чередниченко,Ирина Юрьевна Саяпина. Владелец: Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Амурская Государственная Медицинская Академия" Министерства Здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2014-08-27.

Device for investigation of low-frequency magnetic field exposure on kinetics of biochemical processes in biological systems containing magnetic nanoparticles

Номер патента: RU2593238C2. Автор: Александр Викторович Кабанов,Наталья Львовна Клячко,Александр Георгиевич Мажуга,Юрий Иванович Головин,Алексей Васильевич Шуклинов,Александр Алексеевич Самодуров,Сергей Львович Грибановский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тамбовский государственный университет имени Г.Р. Державина". Дата публикации: 2016-08-10.

Method for production of low-carbon ferrochrome

Номер патента: RU2590742C2. Автор: Евгений Федорович Мазуров,Александр Николаевич Серегин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт черной металлургии им. И.П. Бардина". Дата публикации: 2016-07-10.

Procedure for thermal treatment of flat of low carbon ferrite-pearlite steel

Номер патента: RU2427653C1. Автор: Дмитрий Валерьевич Сабреев,Виктор Иванович Стольный,Борис Иванович Бережко,Михаил Иванович Оленин,Николай Георгиевич Быковский,Максим Сергеевич Михайлов-Смольняков,Надежда Васильевна Лебедева. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Центральный Научно-Исследовательский Институт Конструкционных Материалов "Прометей" (Фгуп "Цнии Км "Прометей"). Дата публикации: 2011-08-27.

Method of behavioural psychotherapy of low and medium psychotic patients seeing dentist

Номер патента: RU2455032C1. Автор: Евгения Николаевна Анисимова,Наталия Юрьевна Анисимова,Никита Андреевич Рязанцев,Александр Сергеевич Молчанов,Зарема Магомедовна Гасанова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный медико-стоматологический университет Федерального агентства по здравоохранению и социальному развитию РФ". Дата публикации: 2012-07-10.

Selector of low-altitude air and ground target in on-board radio detection and ranging

Номер патента: RU2329520C1. Автор: Борис Анатольевич Панин,Михаил Борисович Тенин,Лили Анатольевна Радык,Лилия Анатольевна Радык. Владелец: Открытое акционерное общество "Корпорация "Фазотрон - научно-исследовательский институт радиостроения". Дата публикации: 2008-07-20.

Method of washing over sand plug in gas well under conditions of low reservoir pressure

Номер патента: RU2341644C1. Автор: Александр Васильевич Кустышев,Николай Данилович Дубровский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет". Дата публикации: 2008-12-20.

Homogeneous catalytic system for synthesis of low-molecular branched polyethylene and method of preparing low-molecular branched polyethylene

Номер патента: RU2161628C1. Автор: Н.М. Бравая,О.Н. Бабкина,А.Н. Панин,Н.М. Брава,Н.Д. Карпова. Владелец: Институт проблем химической физики РАН. Дата публикации: 2001-01-10.

Television camera for viewing in conditions of low illumination and/or low brightness of objects

Номер патента: RU2481724C1. Автор: Вячеслав Михайлович Смелков. Владелец: Вячеслав Михайлович Смелков. Дата публикации: 2013-05-10.

Shell for laying of low-temperature false thermal target

Номер патента: RU2403531C2. Автор: Владимир Иванович Иванов,Владимир Даулетович Коблев,Евгений Кузьмич Юровский,Виктор Фридрихович Ланг,Анатолий Яковлевич Скударнов,Александр Иванович Демлер. Владелец: Александр Иванович Демлер. Дата публикации: 2010-11-10.

Method of determination of low-permeability beds in well being drilled

Номер патента: RU2499137C2. Автор: Владимир Николаевич Киляков,Игорь Борисович Федотов,Сергей Юрьевич Якубовский,Ирина Владимировна Воронцова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЛУКОЙЛ-Инжиниринг" (ООО "ЛУКОЙЛ-Инжиниринг"). Дата публикации: 2013-11-20.

Tube stock out of low carbon low alloyed steel

Номер патента: RU2336325C1. Автор: Андрей Алексеевич Угаров,Евгений Иванович Гонтарук,Анатолий Адольфович Лехтман,В чеслав Иванович Фомин,Вячеслав Иванович Фомин,Михаил Викторович Бобылев,хов Николай Александрович Шл,Николай Александрович Шляхов. Владелец: Открытое акционерное общество "Оскольский электрометаллургический комбинат". Дата публикации: 2008-10-20.

Processing method of liquid radioactive waste of low level

Номер патента: RU2428758C1. Автор: Виталий Макарович Рябков,Данила Витальевич Рябков,Евгений Викторович Бурлаков. Владелец: Хилько София Васильевна. Дата публикации: 2011-09-10.

Television camera for viewing in conditions of low illumination and/or low brightness of objects

Номер патента: RU2428810C1. Автор: Вячеслав Михайлович Смелков. Владелец: Вячеслав Михайлович Смелков. Дата публикации: 2011-09-10.

Method for treatment of low-grade oxidized zinc ores and concentrates with zinc, manganese, iron, lead, silver, calcium and silicon dioxide recovery

Номер патента: RU2441930C1. Автор: Юрий Николаевич Цой,Хушвахт Маматкулов,Лев Дмитриевич Ким,Парвиз Хушвахтович Маматкулов,Алексей Анатольевич Вежливцев,Шухрат Рахимович Туляганов,Рустам Кадиркулович Мавланкулов. Владелец: Хушвахт Маматкулов. Дата публикации: 2012-02-10.

Rescuer protective suit for work under conditions of low temperatures and radioactive radiation

Номер патента: RU2565534C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2015-10-20.

Dampener of low-frequency oscillations in wires, cables and wire ropes

Номер патента: RU2501138C2. Автор: Александр Николаевич Данилин,Лев Наумович Рабинский,Александр Абрамович Виноградов,Иосиф Иосифович Сергей,Жан-Луи Лильен. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский авиационный институт (национальный исследовательский университет)" (МАИ). Дата публикации: 2013-12-10.

Device for forming weightlessness of low-rigidity mechanical system of spacecraft moving vertically

Номер патента: RU2273592C2. Автор: Геннадий Михайлович Касаткин,Николай Николаевич Иванов,Валерий Николаевич Подзоров,Юрий Николаевич Сеченов,Анатолий Иванович Кирилюк,Валерий Иванович Телегин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Конструкторское бюро "Полет" (ЗАО КБ "Полет"). Дата публикации: 2006-04-10.

Method for producing cover hexahedral tube-blanks of low-ductile boron-containing steel for compacted storage of waste nuclear fuel

Номер патента: RU2317866C2. Автор: Александр Анатольевич Федоров,Леонид Игнатьевич Лапин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Валерий Андреевич Логовиков,Кирилл Николаевич Никитин,Александр Юрьевич Матюшин,Валерий Александрович Головинов,нов Анатолий Васильевич Сафь,Александр Сергеевич Бурин,Сергей Васильевич Ненахов,Вениамин Петрович Борисов. Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2008-02-27.

METHOD OF DETERMINING pH OF LOW-BUFFER MAXIMALLY DILUTED CONDENSATE-TYPE AQUEOUS SOLUTIONS

Номер патента: RU2573453C1. Автор: Борис Михайлович Ларин,Андрей Борисович Ларин,Станислав Викторович Киет,Анастасия Ярославовна Сорокина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ивановский государственный энергетический университет имени В.И. Ленина" (ИГЭУ). Дата публикации: 2016-01-20.

Method for preparation of low-basic anionites

Номер патента: RU2323944C1. Автор: Ен Док Ан,Ариадна Ивановна Зорина,Николай Владимирович Балановский,Геннадий Иванович Ледовских,Александр Васильевич Рощин,Галина Леонидовна Балашова,Виктор Алексеевич Сеньков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Омск-Полимер". Дата публикации: 2008-05-10.

Method of increasing corrosion resistance of low-carbon steel pipes

Номер патента: RU2580256C1. Автор: Татьяна Викторовна Панова,Геннадий Иванович Геринг,Анна Викторовна Помазова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского". Дата публикации: 2016-04-10.

Method for producing of low-fat butter "yakut haiakh" of animal origin

Номер патента: RU2266009C2. Автор: А.Ф. Абрамов,А.А. Ефимова. Владелец: Государственное научное учреждение Якутский научно-исследовательский институт сельского хозяйства Сибирского отделения РАСХН. Дата публикации: 2005-12-20.

Method for prevention of low cardiac output syndrome and complications thereof following cardiac valve replacement

Номер патента: RU2512745C1. Автор: Леонид Семенович Барбараш,Георгий Павлович Плотников,Евгений Валерьевич Григорьев,Борис Львович Хаес,Дмитрий Леонидович Шукевич,Алексей Николаевич Сумин,Станислав Геннадьевич Кокорин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Научно-исследовательский институт комплексных проблем сердечно-сосудистых заболеваний" Сибирского отделения Российской академии медицинских наук (ФГБУ "НИИ КПССЗ" СО РАМН). Дата публикации: 2014-04-10.

Television camera for viewing in conditions of low illumination and/or low brightness of objects

Номер патента: RU2472299C1. Автор: Вячеслав Михайлович Смелков. Владелец: Вячеслав Михайлович Смелков. Дата публикации: 2013-01-10.

Impeller blade of rotor of compressor of low-pressure gas turbine (versions)

Номер патента: RU2581980C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Еричев,Николай Павлович Селиванов,Евгений Ювенальевич Марчуков,Виктор Викторович Куприк,Сергей Анатольевич Симонов,Игорь Александрович Кондрашов,Марина Михайловна Трощенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Уфимское моторостроительное производственное объединение "(ОАО "УМПО"). Дата публикации: 2016-04-20.

Method for making welded articles of low-carbon, low-alloy and plain steels

Номер патента: RU2235628C1. Автор: В.Н. Иванов,С.Г. Гуревич,Г.В. Будкин,Н.В. Зимин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт токов высокой частоты им. В.П. Вологдина". Дата публикации: 2004-09-10.

Carboniser for carbonisation of low carbon steel items

Номер патента: RU2561552C2. Автор: Рустем Ринатович Усманов,Михаил Владимирович Чучкалов,Шамиль Гусманович Шарипов,Артур Рифович Галикеев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Уфа". Дата публикации: 2015-08-27.

Impervious geotextile coating of low-pressure earth dam

Номер патента: RU2531000C2. Автор: Михаил Александрович Бандурин,Виктор Алексеевич Волосухин,Яков Викторович Волосухин,Виталий Александрович Бандурин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Институт безопасности гидротехнических сооружений". Дата публикации: 2014-10-20.

Method of production of low alloyed cold-resistant welded rolled plates with increased corrosion resistant

Номер патента: RU2569619C1. Автор: Сергей Иванович Новоселов,Наталия Павловна Шеремет,Анна Александровна Попова,Наталья Николаевна Сафронова. Владелец: Публичное акционерное общество "Северсталь" (ПАО "Северсталь"). Дата публикации: 2015-11-27.

Method of receiving of protective coating on products made of low-aloy and carbon steel (versions)

Номер патента: RU2355480C2. Автор: Александр Иванович Тверитинов,Алексей Сергеевич Малюгин,Николай Васильевич Давыдкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московское машиностроительное производственное предприятие "Салют". Дата публикации: 2009-05-20.

System of notice about blinding effect of low sun at aircraft crew during landing

Номер патента: RU2565805C2. Автор: Геннадий Валентинович ЗАБОЛОТНИКОВ. Владелец: Геннадий Валентинович ЗАБОЛОТНИКОВ. Дата публикации: 2015-10-20.

Method for development of low-permeable oil deposits using horizontal wells with transversal cracks in hydraulic fracturing

Номер патента: RU2515628C1. Автор: Виталий Анварович Байков,Константин Витальевич Торопов,Александр Валерьевич Колонских,Олег Владимирович Евсеев,Раиль Рамилевич Галеев,Михаил Анатольевич Степанов,Сергей Валерьевич Валеев. Владелец: Открытое акционерное общество "Нефтяная компания "Роснефть". Дата публикации: 2014-05-20.

Method of determining equilibrium constants of reactions of low-soluble salts with soluble complex compounds

Номер патента: RU2323438C1. Автор: Виктор Константинович Чеботарев,Людмила Владимировна Щербакова,кова Инесса Юрьевна Пол,Инесса Юрьевна Полякова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный университет". Дата публикации: 2008-04-27.

Television camera for viewing in conditions of low illumination and/or low brightness of objects

Номер патента: RU2416171C1. Автор: Вячеслав Михайлович Смелков. Владелец: Вячеслав Михайлович Смелков. Дата публикации: 2011-04-10.

Method of reducing lower boundary of low altitude measurement to zero and design of coherent impulse doppler radioaltimetre to this end

Номер патента: RU2412450C2. Автор: Сергей Вениаминович Валов,Владимир Федорович Семухин,Камиль Шайхуллович Сиразитдинов,Владимир Витальевич Мухин. Владелец: ОАО "Уральское проектно-конструкторское бюро "Деталь". Дата публикации: 2011-02-20.

Improvements in Methods of Obtaining Light from Gases of Low Calorific Value

Номер патента: GB190113191A. Автор: John Chamberlain. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-06-25.

Passive method for remote detection of actual dielectric constant portion of oil film spilled over water surface

Номер патента: RU2202779C2. Автор: В.В. Чирков. Владелец: Государственное унитарное предприятие Научно-производственное предприятие "Полет". Дата публикации: 2003-04-20.

Method of utilisation of low-grade heat of oil supply system of steam turbine bearings of heat power plant

Номер патента: RU2560622C1. Автор: Айрат Маратович Гафуров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2015-08-20.

Device for power supply to rooms with the use of low-potential power carriers

Номер патента: RU2292000C1. Автор: Михаил Иванович Калинин,вцев Евгений Павлович Кудр,Евгений Павлович Кудрявцев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственный центр по сверхглубокому бурению и комплексному изучению недр Земли" (ФГУП НПЦ "Недра"). Дата публикации: 2007-01-20.

Method of making tubular blanks for forming hexahedral cover tubes of low- ductile nickel- free boron-containing steel

Номер патента: RU2226133C2. Автор: В.П. Борисов,А.В. Сафьянов,нов А.В. Сафь,А.А. Фёдоров,Л.И. Лапин,И.А. Романцов,С.В. Ненахов,В.В. Игнатьев,В.А. Логовиков,Н.И. Воробьев,Г.А. Братко. Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2004-03-27.

Composition for clay cake removal from face zone of low-permeability terrigenous seam

Номер патента: RU2539058C1. Автор: Игорь Александрович Кустышев,Денис Александрович Кустышев,Александр Васильевич Кустышев,Евгений Валентинович Паникаровский,Лариса Борисовна Калимулина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет" (ТюмГНГУ). Дата публикации: 2015-01-10.

Pneumatic source of low pressure

Номер патента: RU2431817C1. Автор: Александр Николаевич Якунин,Александр Александрович Терехин. Владелец: Закрытое акционерное общество Промышленная группа "Метран". Дата публикации: 2011-10-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.