Apparatus and method for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of micro-device workpieces
Номер патента: US7115016B2
Опубликовано: 03-10-2006
Автор(ы): Nagasubramaniyan Chandrasekaran
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-10-2006
Автор(ы): Nagasubramaniyan Chandrasekaran
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles
Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.