METHOD FOR PRODUCING IMAGERALLY STRUCTURED RESIST LAYERS AND DRY FILM RESIST SUITABLE FOR THIS METHOD
Номер патента: DE3340154A1
Опубликовано: 15-05-1985
Автор(ы): Albert Dr. 6701 Otterstadt Elzer, Hans Dr. 6706 Wachenheim Schupp
Принадлежит: BASF SE
Опубликовано: 15-05-1985
Автор(ы): Albert Dr. 6701 Otterstadt Elzer, Hans Dr. 6706 Wachenheim Schupp
Принадлежит: BASF SE
Dry film resist sheet and method of manufacturing the same
Номер патента: US20140106278A1. Автор: Hye Jin Cho,Suk Jin Ham,Kyoung Soon Park,Sung Hee LIM. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.