METHOD FOR MANUFACTURING SINGLE-CRYSTAL SEMICONDUCTOR LAYER, STRUCTURE COMPRISING SINGLE-CRYSTAL SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING STRUCTURE
Номер патента: US20210242012A1
Опубликовано: 05-08-2021
Автор(ы): JUNG Jin Won, Kim Jong Chan, LEE Lynn, Sung Myung Mo
Принадлежит: IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-08-2021
Автор(ы): JUNG Jin Won, Kim Jong Chan, LEE Lynn, Sung Myung Mo
Принадлежит: IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Formation of single crystal semiconductors using planar vapor liquid solid epitaxy
Номер патента: US11784045B2. Автор: Martin Christopher Holland. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.