Reflective mask and fabricating method thereof
Номер патента: US20230229072A1
Опубликовано: 20-07-2023
Автор(ы): Pei-Cheng Hsu, Tsiao-Chen Wu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-07-2023
Автор(ы): Pei-Cheng Hsu, Tsiao-Chen Wu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Reflective mask and fabricating method thereof
Номер патента: US20220146924A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.