Substrate handling device for a charged particle beam system.

Substrate handling device for a charged particle beam system

Номер патента: TW200605291A
Опубликовано: 01-02-2006
Автор(ы): Tao Zhang
Принадлежит: Nanobeam Ltd

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

System and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11804358B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240079202A1. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Holding and drive device, tool device, supplementary tool device from a modular component handling device, device for handling components and method for application-specific configuration of such a device

Номер патента: DE102017124571B4. Автор: Michele Trigiani,Thomas Rossmann,Sebastian LOHMEIER. Владелец: ASM Assembly Systems GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-01-09.

Substrate handling device

Номер патента: US20240234198A1. Автор: Jed Hsu,Greg Pizzo,Angelo-Jose Banzon,Alan Lee Stone,Joseph Brett. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate handling device for handling a substrate

Номер патента: EP4235761A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Josef HOFAUER. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-08-30.

Charged particle beam device and evaluation method using the charged particle beam device

Номер патента: US20120070066A1. Автор: Hiroyuki Kitsunai,Masaru Matsushima,Shuichi Nakagawa,Go Miya,Seiichiro Kanno. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-03-22.

Substrate handling device for a wafer

Номер патента: MY197493A. Автор: GLEISSNER Andreas,Herbert Oetzlinger,Manuel Eibl. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-06-19.

Optical coupling apparatus for a dual column charged particle beam tool for imaging and forming silicide in a localized manner

Номер патента: US20060076503A1. Автор: Chun-Cheng Tsao. Владелец: Credence Systems Corp. Дата публикации: 2006-04-13.

Electron beam exposure apparatus, device for shaping a beam of charged particles and method for manufacturing the device

Номер патента: TW526522B. Автор: Hiroshi Yano,Harunobu Muto. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-04-01.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2019164391A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2019-08-29.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP3756209A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2020-12-30.

A device for providing an energy filtered charged particle image

Номер патента: WO1986007188A1. Автор: David Warren Turner. Владелец: KRATOS ANALYTICAL LIMITED. Дата публикации: 1986-12-04.

Systems and methods for image enhancement for a multi-beam charged-particle inspection system

Номер патента: US20220199358A1. Автор: Lucas KUINDERSMA,Maikel Robert GOOSEN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-06-23.

Systems and methods for image enhancement for a multi-beam charged-particle inspection system

Номер патента: US11961700B2. Автор: Lucas KUINDERSMA,Maikel Robert GOOSEN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Systems and methods for image enhancement for a multi-beam charged-particle inspection system

Номер патента: WO2020200958A1. Автор: Lucas KUINDERSMA,Maikel Robert GOOSEN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-10-08.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140166869A1. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam writing apparatus and method utilizing a sum of the weighted area density of each figure pattern

Номер патента: US09837247B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and a non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US11961708B2. Автор: Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9455119B2. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150270096A1. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09570267B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Blanking device for multi-beam of charged particle writing apparatus using multi-beam of charged particle and defective beam blocking method for multi-beam of charged particle

Номер патента: US09805905B2. Автор: Hiroshi Yamashita,Hiroshi Matsumoto,Kazuhiro Chiba,Ryoichi Yoshikawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam apparatus, thin film forming method, defect correction method and device forming method

Номер патента: US20130224889A1. Автор: Tatsuya Shimoda,Yasuo Matsuki,Yoshihiro Koyama,Anto Yasaka,Ryo Kawajiri. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20240055218A1. Автор: Yoshikuni GOSHIMA,John William Kay,Chising Lai,Yasuo Sengoku. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US20180233324A1. Автор: Hirohito Anze. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150014549A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Charged particle beam apparatus, abnormality detecting method for da converter unit, charged particle beam writing method, and mask

Номер патента: US20070229337A1. Автор: Akira Noma,Yoshimasa SANMIYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140127914A1. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Charged particle beam apparatus, abnormality detecting method for DA converter unit, charged particle beam writing method, and mask

Номер патента: US7463173B2. Автор: Akira Noma,Yoshimasa SANMIYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-09.

Apparatus for controlling a charged particle beam and a lithographic process in which the apparatus is used

Номер патента: US5663568A. Автор: Warren Kazmir Waskiewicz. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

System and method for inspection by failure mechanism classification and identification in a charged particle system

Номер патента: EP4402540A1. Автор: Antonio Corradi,Hermanus Adrianus Dillen,Pioter Nikolski,Younghoon Song,Achim WOESSNER,Yun A SUNG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-24.

Fluid transfer system in a charged particle system

Номер патента: US20240274400A1. Автор: Jing Zhang,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Vineet Sharma,Shao-Wei Fu,Patriek Adrianus Alphonsus Maria BRUURS,Erheng WANG,Makfir SEFA,Simone Maria SCOLARI,Johannes Andreas Henricus Maria JACOBS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-15.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190228947A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20120006984A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Charged Particle Beam Device and Optical Examination Device

Номер патента: US20200161194A1. Автор: Koichi Taniguchi. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2020-05-21.

Charged particle beam writing apparatus and method therefor

Номер патента: US09552963B2. Автор: Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230343548A1. Автор: Takuma Yamamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Tilting parameters calculating device, sample stage, charged particle beam device, and program

Номер патента: US20200066481A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Inclination angle amount calculation device, sample stand, charged particle beam device, and program

Номер патента: EP3633709A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Combined aperture holder, beam blanker and vacuum feed through for electron beam, ion beam charged particle devices

Номер патента: US20070069149A1. Автор: Earl Weltmer. Владелец: SCANSERVICE Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Crystal orientation figure creating device, charged particle beam device, crystal orientation figure creating method, and program

Номер патента: US20200066480A1. Автор: Naoki Maruyama,Takafumi Amino,Takashige Mori. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4421843A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Duygu Akbulut,Marco Jan-Jaco Wieland,Vincent Sylvester KUIPER,Erwin Slot,Ezgi Sahin,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Method For Fracturing And Forming A Pattern Using Shaped Beam Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160103390A1. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Methods and devices for detecting a distribution of charged-particle density of a charged-particle beam in charged-particle-beam microlithography systems

Номер патента: US20030111618A1. Автор: Noriyuki Hirayanagi,Jin Udagawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography

Номер патента: US09612530B2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: WO2024088718A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Duygu Akbulut,Marco Jan-Jaco Wieland,Vincent Sylvester KUIPER,Erwin Slot,Ezgi Sahin,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-02.

Method and System for Design of Enhanced Edge Slope Patterns for Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160195805A1. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-07-07.

Sealing device for movable vacuum chamber of charged particle beam machine

Номер патента: JPS54113594A. Автор: Keenitsuhi Deiiteru,Haintsu Shiyutaigeruuar Karuru,Anderuru Peeteru,Shiefuerusu Uiruherumu,Menhi Kurausupeeteru,Katsuperusuberugeru Eruuin. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1979-09-05.

METHOD FOR DETERMINING RAY BEAM PARAMETERS OF A CHARGED PARTICLES, MEASURING DEVICE, AND ALSO A DEVICE FOR EMPTING A BEAM OF CHARGED PARTICLES

Номер патента: RU2014142914A. Автор: Уве РАЙСГЕН,Йенс ДЕ-ВРИС,Александер БАКХАУС,Ханс-Петер БАУЕР,Зебастиан УФЕР,Бернд РАЙХЕНБЕРГ,Торстен ШМИТЦ-КЕМПЕН. Владелец: Айксакт Зюстемс Гмбх. Дата публикации: 2016-05-20.

BEAM BLANKING DEVICE FOR A MULTI-BEAMLET CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS

Номер патента: US20210175046A1. Автор: Cook Benjamin John,Horgan Eoin. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-10.

Beam blanking device for a multi-beamlet charged particle beam apparatus

Номер патента: US11120965B2. Автор: Benjamin John Cook,Eoin Horgan. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2021-09-14.

Particle beam forming device

Номер патента: US9574984B2. Автор: Naoki Takeda,Masaya Tabaru,Kazuhiro Koizumi,Noritomo Hirayama,Nobuyuki Takegawa,Takuma Miyakawa. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

A device for providing an energy filtered charged particle image

Номер патента: GB2201832A. Автор: David Warren Turner. Владелец: Kratos Analytical Ltd. Дата публикации: 1988-09-07.

Device for passing a beam of charged particles out into the atmosphere

Номер патента: CH651992A5. Автор: Gennady Ivanovich Razin,Mikhail Pavlovich Sviniin. Владелец: Razin Gennady I. Дата публикации: 1985-10-15.

Device for irradiation with rays of charged particles has irradiation module for irradiation of photoresist films on which antistatic film adheres through radiation of rays of charged particles

Номер патента: DE102006006793A1. Автор: Hideaki Komami. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-09-21.

Device for measuring emission angle of particle beam

Номер патента: US20210134558A1. Автор: Lin Meng,Bin Wang,Ping Zhang,Yong Yin,Hailong Li,Tongkun ZOU,Maoyan WANG,Xuesong YUAN,Huanhuan Lu. Владелец: University of Electronic Science and Technology of China. Дата публикации: 2021-05-06.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: US20190259564A1. Автор: KRUIT Pieter,Naftali Ron. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

Device for detecting and localizing particles of neutral particle beam

Номер патента: RU1804632C. Автор: Дорион Ирен,Мэтржан Серж,Русев Марио. Владелец: Шлюмберже Эндюстри. Дата публикации: 1993-03-23.

Device for stigmatic and achromatic deflection of a particle beam in a plane

Номер патента: CH519838A. Автор: Leboutet Hubert. Владелец: Thomson Csf. Дата публикации: 1972-02-29.

Method and Device for Bunching a Beam of Charged Particles

Номер патента: US20150126797A1. Автор: Heid Oliver,Beasley Paul,Aptaker Peter Simon. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

METHOD AND DEVICE FOR PACKING A BEAM OF CHARGED PARTICLES

Номер патента: RU2014144613A. Автор: Оливер ХАЙД,Питер Саймон АПТАКЕР,Пол БИСЛИ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2016-07-20.

Device for emitting a beam of charged particles

Номер патента: DE102018101147A1. Автор: Makoto Sato,Masato Suzuki,Satoshi Tomimatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

DEVICE FOR FOCUSING A BEAM OF CHARGED PARTICLES.

Номер патента: FR2660485B1. Автор: Sudraud Pierre. Владелец: Orsay Physics SA. Дата публикации: 1992-07-31.

Method and back end device for predictively controlling a charging process for an electric energy store of a motor vehicle

Номер патента: US12090886B2. Автор: Stefan Grubwinkler. Владелец: Vitesco Technologies GmbH. Дата публикации: 2024-09-17.

Method and device for determining detection range of control channel in multi-beam system

Номер патента: US11785585B2. Автор: HUA Xu,Hai Tang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2023-10-10.

Method and device for determining detection range of control channel in multi-beam system

Номер патента: CA3057046C. Автор: HUA Xu,Hai Tang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2021-12-14.

Charged particle device, charged particle assessment apparatus, measuring method, and monitoring method

Номер патента: US20240339292A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam

Номер патента: US09666404B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged particle beam device, system for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US09666406B1. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: US20240355577A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: WO2023017107A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle optics, charged particle beam apparatus, and method for scanning a charged particle beam

Номер патента: US20240290571A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-29.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Beam optical component having a charged particle lens

Номер патента: WO2005071709A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2005-08-04.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: US09601303B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-21.

Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof

Номер патента: US09472373B1. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,John Breuer,Johannes Hopster. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device

Номер патента: US09984848B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Charged-particle beam device for irradiating a charged particle beam on a sample

Номер патента: US09543113B2. Автор: Masashi Fujita,Seiichiro Kanno,Naoya Ishigaki,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09530611B2. Автор: Alexander Groholski,Raymond Hill,John A. Notte, IV,Mark D. DiManna,Robert Conners. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

High throughput multi-beam charged particle inspection system with dynamic control

Номер патента: EP4411782A2. Автор: Michael Behnke,Ingo Müller,Ulrich Bihr,Dirk Zeidler,Andreas Adolf,Nicolas Kaufmann. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for pattern measurement, method for setting device parameters of charged particle radiation device, and charged particle radiation device

Номер патента: US09831062B2. Автор: Makoto Suzuki,Satoru Yamaguchi,Satoshi Takada,Kazuhisa Hasumi,Miki Isawa,Kei Sakai,Masami Ikota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device

Номер патента: US09673017B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: EP4391009A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-26.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: WO2024132486A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1801838A1. Автор: FANG Zhou. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2007-06-27.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: US20190096630A1. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: WO2016076718A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-05-19.

Detector supplement device for spectroscopy setup

Номер патента: US20180350556A1. Автор: Davide Bleiner,Yunieski ARBELO-PENA. Владелец: Eidgenoessische Materialprufungs und Forschungsanstalt EMPA. Дата публикации: 2018-12-06.

Detector supplement device for spectroscopy setup

Номер патента: EP3381044A1. Автор: Davide Bleiner,Yunieski ARBELO-PENA. Владелец: Eidgenoessische Materialprufungs und Forschungsanstalt EMPA. Дата публикации: 2018-10-03.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620328B1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle multi-beam apparatus including a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams

Номер патента: US09607806B2. Автор: Pieter Kruit,Aernout Christiaan Zonnevylle. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for alignment of a light beam to a charged particle beam

Номер патента: US20190013178A1. Автор: Steven Randolph,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman,Milos Toth,Dolf Timmerman,Cameron James Zachreson. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-01-10.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Method of determining a brightness of a charged particle beam, method of determining a size of a source of the charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240126057A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240128043A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Writing error diagnosis method for charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20080067423A1. Автор: Hayato Kimura,Seiichi Tsuchiya,Seiji WAKE,Takuya Matsukawa,Yujin Handa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and device for rastering source redundancy

Номер патента: WO2004044653A2. Автор: David Aviel,Jimmy Vishnipolsky,Radel Ben-Av. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2004-05-27.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: US20200258712A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-13.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240242921A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-18.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: EP3698394A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-26.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4409617A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Method and device for rastering source redundancy

Номер патента: WO2004044653A3. Автор: David Aviel,Jimmy Vishnipolsky,Radel Ben-Av. Владелец: Radel Ben-Av. Дата публикации: 2004-07-29.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

High resolution charged particle beam device and method of operating the same

Номер патента: US09595417B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-14.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20030096179A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Method for depositing a film using a charged particle beam, method for performing selective etching using the same, and charged particle beam equipment therefor

Номер патента: US20070252092A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Muneyuki Fukuda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Charged particle beam source and charged particle beam system

Номер патента: EP4254465A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317400A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US9153418B2. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-06.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US20150076349A1. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154291A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233584A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20010016294A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-08-23.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US11728131B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-15.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09852876B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09824849B2. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Diaphragm mounting member and charged particle beam device

Номер патента: US09633817B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method for detecting signal charged particles in a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US09589763B1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-07.

Method of determining an energy spectrum or energy width of a charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240371600A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged Particle Beam Device and Control Method of Optical System of Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200343072A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged particle beam device and aberration correction method for charged particle beam device

Номер патента: US20190214222A1. Автор: Hideyuki Kazumi,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US11756765B2. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,Abhishek Shendre,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US12080515B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Platform for charged particle apparatus and components within a charged particle apparatus

Номер патента: US20240312756A1. Автор: Hans Butler,Peter Paul HEMPENIUS,Niels Johannes Maria BOSCH,Willem Henk URBANUS,Jasper Hendrik GRASMAN,Joan SANS MERCADER,Patrick Peter Hubert Helena PHILIPS,Gerardus Wilhelmus SARS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-19.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US12125669B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle lithography system and beam generator

Номер патента: US09653261B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US09596746B2. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-14.

Method and system for reducing curtaining in charged particle beam sample preparation

Номер патента: US09488554B2. Автор: Michael Schmidt,Sang Hoon Lee,Stacey Stone,Jeffrey Blackwood,Hyun Hwa Kim. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-08.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged-particle analyzer

Номер патента: US4135088A. Автор: Isao Ishikawa,Katsuhisa Usami,Michiyasu Itoh. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1979-01-16.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Methods and devices for determining times for maintenance activity performed on a charged-particle-beam microlithography apparatus, and microelectronic-device-manufacturing methods comprising same

Номер патента: US6545274B1. Автор: Kenji Morita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

A computer-aided defect correction method of a charged particle beam device, defect correction device of a charged particle beam device and a computer program

Номер патента: WO2024146664A1. Автор: Stanislav Petras,Jan SOPOUSEK. Владелец: Tescan Group, A.S.. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle beam writing apparatus, and method for detecting irregularities in dose of charged particle beam

Номер патента: US20150325407A1. Автор: Hideo Inoue,Hironori Mizoguchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Charged particle apparatus

Номер патента: WO2024068252A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-04.

Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180247788A1. Автор: Yukitaka Shimizu,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Shigeru Kawamata,Hirofumi Sato,Yuki Numata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US20150303019A1. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2015-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam system

Номер патента: EP3901983A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-27.

Electromagnet and charged particle accelerator

Номер патента: US20240008165A1. Автор: Yujiro Tajima,Ryuki YOKOTA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20210313142A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device

Номер патента: US09922796B1. Автор: Jürgen Frosien,Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: US09905394B1. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-27.

Sample holder with light emitting and transferring elements for a charged particle beam apparatus

Номер патента: US09812288B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Kunio Harada,Minami Shouji,Yuusuke Oominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US09514908B2. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2016-12-06.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US09478392B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Method for adjusting charged particle beam device and adjusting beam aperture based on a selected emission condition and charged particle beam device for same

Номер патента: US10176968B2. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Method for calibrating deflectors of a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: WO2023232257A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Robert TRAUNER,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-07.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2022184387A3. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US09916962B2. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium

Номер патента: US09741530B2. Автор: Kenji Nakahira,Maki Tanaka,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Multi-beam current quantity measuring method, multi-charged particle drawing control device, and multi-charged particle beam drawing device

Номер патента: US09734984B2. Автор: Hideyuki Iwata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample

Номер патента: US09673020B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Monochromator and charged particle apparatus including the same

Номер патента: US09425022B2. Автор: TAKASHI Ogawa,Bok Lae CHO,Sang Jung Ahn,In Yong Park,Cheolsu Han. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2016-08-23.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Charged particle processing for forming pattern boundaries at a uniform thickness

Номер патента: US20020177055A1. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Multi-beam charged particle microscope design with detection system for fast charge compensation

Номер патента: WO2024125816A1. Автор: Thomas Schmid,Markus Koch,Dirk Zeidler,Thomas Dieterle,Bjoern Miksch,Felix MENKE. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-06-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US8000939B2. Автор: Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Transmission charged particle microscope with an electron energy loss spectroscopy detector

Номер патента: US20240258067A1. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Charged particle assessment tool, inspection method and image

Номер патента: US20230304949A1. Автор: Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Charged particle beam device and charged particle beam device noise source determination method

Номер патента: US20190341225A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Charged particle beam device with dark field detector

Номер патента: EP2560185A3. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Kazuki ISHIZAWA,Yoshihiro Takahoko,Daichi Nara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam device, image generation method, observation system

Номер патента: US09824854B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Junichi Katane. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method

Номер патента: US09741526B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masako Nishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof

Номер патента: US09702695B2. Автор: Osamu Inoue,Takashi Takahama,Naoshi Itabashi,Miyako Matsui,Takahiro Kawasaki,Hiroki Kawada,Osamu Komuro,Katsumi Setoguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: WO2005024888A3. Автор: Juergen Frosien,Stefan Lanio,Ralf Degenhardt. Владелец: Ralf Degenhardt. Дата публикации: 2005-04-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Charged particle acceleration apparatus and method

Номер патента: WO2007133225A3. Автор: Jonathan Gorrell,Mark Davidson,Michael E Maines,Paul K Hart. Владелец: Virgin Islands Microsystems. Дата публикации: 2009-04-16.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam

Номер патента: US09953798B2. Автор: Brian Patrick Wilfley,Josh Star-Lack,Thomas A CASE. Владелец: Novaray Medical Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09659746B2. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09627172B2. Автор: Shawn Mcvey,John A. Notte, IV,Weijie Huang,FHM-Faridur Rahman. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US09583310B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Signal charged particle deflection device, signal charged particle detection system, charged particle beam device and method of detection of a signal charged particle beam

Номер патента: US9805908B2. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-10-31.

Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems

Номер патента: US20240017301A1. Автор: Marc Smits,Johan Joost Koning,Chris Franciscus Jessica Lodewijk,Hindrik Willem Mook,Ludovic Lattard. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: US20240047171A1. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-08.

System and method for high throughput defect inspection in a charged particle system

Номер патента: EP4118675A1. Автор: Long Ma,Zhonghua Dong,Te-Yu Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-18.

Apparatus for and method of controlling an energy spread of a charged-particle beam

Номер патента: WO2020164951A1. Автор: Shakeeb Bin HASAN,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Device, Sample Stage Unit, and Sample Observation Method

Номер патента: US20150311033A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Charged particle detector assembly

Номер патента: US20240272312A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-15.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method

Номер патента: US09472375B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Charged Particle Beam Device and Method for Adjusting Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20160118218A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-04-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Apparatus for contamination reduction in charged particle beam systems

Номер патента: WO2024160448A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-08.

Beam deflection device, aberration corrector, monochromator, and charged particle beam device

Номер патента: US12062519B2. Автор: Pieter Kruit,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: EP4064323A1. Автор: Pavel Potocek,Bert Freitag,Maurice PEEMEN,Remco Schoenmakes. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-09-28.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US20230035267A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-02-02.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A2. Автор: Anthony Renau,Joseph C. Olson,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2009-03-19.

Apparatus for contamination reduction in charged particle beam systems

Номер патента: EP4439623A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A3. Автор: Anthony Renau,Joseph C Olson,Russell J Low,Piotr R Lubicki. Владелец: Piotr R Lubicki. Дата публикации: 2009-06-11.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US12136532B2. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-11-05.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam inspection apparatus and method

Номер патента: WO2024132808A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Xuechen ZHU,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US20140131573A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-05-15.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230290606A1. Автор: Yusuke Nakamura,Shunsuke Mizutani,Muneyuki Fukuda,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Energy Filter, and Energy Analyzer and Charged Particle Beam Device Provided with Same

Номер патента: US20230298845A1. Автор: Hiroyuki Ito,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250331A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Aligning charged particle beams

Номер патента: WO2010039339A3. Автор: Raymond Hill. Владелец: Carl Zeiss Smt Inc.. Дата публикации: 2010-06-10.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US20240249912A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Particle beam system and method for operating the same

Номер патента: US20140217303A1. Автор: Volker Wieczorek,Josef Biberger,Ralph Pulwey. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-08-07.

Light guide, detector having light guide, and charged particle beam device

Номер патента: US10593512B2. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-17.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US12068130B2. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NexGenSemi Holdings Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of manufacturing an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620329B1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam generating apparatus, charged particle beam apparatus, high voltage generating apparatus, and high potential apparatus

Номер патента: US09548182B2. Автор: Takashi Onishi,Shunichi Watanabe,Minoru Kaneda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US09494516B2. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-15.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US20220216027A1. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2022-07-07.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: EP3332417A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-13.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: WO2018068506A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11791128B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle beam system, method for determining range for automatically searching for focal point position in charged particle beam device, and non-transitory storage medium recording program for causing computer system to determine range for automatically searching for focal position in charged particle beam device

Номер патента: US11195694B2. Автор: Kenji Obara,Kosuke Matsumoto,Takashi NOBUHARA,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-07.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230116466A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: EP4385056A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-06-19.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP2834832A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2015-02-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Shielding member having a charge control electrode, and a charged particle beam apparatus

Номер патента: US8563927B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2013-10-22.

Charged Particle Detector and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20180261425A1. Автор: Makoto Sakakibara,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Kaori Shirahata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272768A1. Автор: Masaaki Komatsu,Shin Imamura,Shuhei Yabu,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Charged particle beam apparatus and method of controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11756764B2. Автор: Kuniyasu Nakamura,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Charged particle beam device enabling facilitated EBSD detector analysis of desired position and control method thereof

Номер патента: US09741531B2. Автор: Tsutomu Saito,Kazuyuki Takeda,Tohru Ando. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: US09715992B2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Aernout Christiaan Zonnevylle,Nalan Liv. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle beam apparatus, image forming method using a charged particle beam apparatus, and image processing apparatus

Номер патента: US09633818B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method for inspecting a specimen and charged particle beam device

Номер патента: WO2021078352A1. Автор: Dieter Winkler,Jürgen Frosien,Pieter Kruit,Ralf Schmid,Benjamin John Cook,Ron Naftali,Roman BARDAY. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2021-04-29.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317406A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yuto Kawashima,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US20210142979A1. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-05-13.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061651A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061650A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US11929232B2. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Beam blanker and method for blanking a charged particle beam

Номер патента: US20180151327A1. Автор: Christof Baur,Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-31.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391143A1. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method of operation of a charged particle beam device

Номер патента: WO2022028633A1. Автор: FILIP Vojtech. Владелец: Tescan Brno. Дата публикации: 2022-02-10.

Energy Filter for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160035533A1. Автор: Shuai Li,Joe Wang,Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-02-04.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US20240297012A1. Автор: Makoto Suzuki,Hiroki Kawada,Atsuko SHINTANI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: US20240288391A1. Автор: John A. Notte,Mark D. DiManna,Terry Griffin,Jeffrey Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module

Номер патента: US20150348742A1. Автор: Michael Albiez,Stefan Meyer,Stewart Bean,Daniel Kirsten. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2015-12-03.

Charged particle beam device and charged particle beam device control method

Номер патента: US09881769B2. Автор: Tsutomu Saitou,Kenji Aoki,Mitsuhiro Nakamura,Kunji Shigeto,Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module

Номер патента: US09741528B2. Автор: Michael Albiez,Stefan Meyer,Erik Essers,Stewart Bean,Daniel Kirsten. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam apparatus and inspection method using the same

Номер патента: US09659744B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Shoji Hotta. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus

Номер патента: US09484181B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle device and method

Номер патента: US20240087835A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11810753B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4167267A1. Автор: Takeshi Kaneko,Isamu Ishikawa,Eiji Okunishi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210020422A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsuhiro Nakamura,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Masahiro Sasajima,Hironori Itabashi,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Particle beam irradiation system and control method therefor, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: EP4197591A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-06-21.

Workpiece holder, semiconductor fabricating apparatus, semiconductor inspecting apparatus, circuit pattern inspecting apparatus, charged particle beam application apparatus, calibrating substrate, workpiece holding method, circuit pattern inspecting method, and charged particle beam application method

Номер патента: US20030146382A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,YASUTSUGU Usami,Hiroyuki Shinada,Shuji Sugiyama,Atsuko Takafuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-08-07.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US20170278673A1. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US9934940B2. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130105690A1. Автор: Satoshi Takada,Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US20200355633A1. Автор: Tomas Tuma,Jan Klusacek,Jiri Petrek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-11-12.

Insulating structure, electrostatic lens, and charged particle beam device

Номер патента: EP4415020A2. Автор: Yasushi Toma,Tsutomu Karimata,Sadashi AOTA,Shinsetsu FUJISAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-14.

Sample holder and charged particle beam system

Номер патента: US12112917B2. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Particle beam transport apparatus

Номер патента: US09818573B2. Автор: Willem Kleeven,Michel Abs,Szymon Zaremba. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2017-11-14.

Electron gun, charged particle gun, and charged particle beam apparatus using electron gun and charged particle gun

Номер патента: US09570268B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Charged particle microscope device and image capturing method

Номер патента: US09460889B2. Автор: Kenji Nakahira,Atsushi Miyamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US09443694B2. Автор: Mitsugu Sato,Shotaro Tamayama,Masaki Takano,Mami Konomi,Shunya Watanabe,Masako Nishimura,Yayoi KONISHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged particle beam device

Номер патента: US12142457B2. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09343265B2. Автор: Hisayuki Takasu,Asako Kaneko,Hirobumi Mutou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis

Номер патента: US20240087837A1. Автор: Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle imaging system and use thereof

Номер патента: WO2022221948A1. Автор: Rodney HERRING. Владелец: HERRING Rodney. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: US11810749B2. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged Particle Beam System and Control Method Therefor

Номер патента: US20230343550A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US20240006149A1. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450934A3. Автор: Marcus Straw,Mark Emerson,Milos Toth. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450935A3. Автор: N. William Parker,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US11961709B2. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-16.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11295928B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-05.

A method for measuring and reducing angular deviations of a charged particle beam

Номер патента: WO2004072631A3. Автор: Zvika Rosenberg,Guy Eytan,Ofer Adan,Charles Archie,Roger Steele Cornell,Jason Mayer,Eric Solecky. Владелец: Eric Solecky. Дата публикации: 2004-10-28.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Takashi Nakamura,Hideki Matsui,Yoshiaki Hattori,Munehiro Ogasawara,Takuya Uemura,Rieko Nishimura,Tatsuya Murofushi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: EP4224511A3. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-09-06.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: EP4224511A2. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-08-09.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: US20240038482A1. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Particle beam irradiation system, control method for particle beam irradiation system, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: US20230253175A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-08-10.

Charged particle beam device and capturing condition adjusting method in charged particle beam device

Номер патента: US10770266B2. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same

Номер патента: US20030111614A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Insulating structure, electrostatic lens, and charged particle beam device

Номер патента: US20240274394A1. Автор: Yasushi Toma,Tsutomu Karimata,Sadashi AOTA,Shinsetsu FUJISAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Particle beam system and the use thereof for flexibly setting the current intensity of individual particle beams

Номер патента: US12119204B2. Автор: Dirk Zeidler,Hans Fritz,Georgo Metalidis,Stefan Schubert,Ralf Lenke. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-10-15.

Charged particle beam device and spherical aberration correction method

Номер патента: US09715991B2. Автор: Yoichi Hirayama,Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4156227A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam system and method of operating thereof

Номер патента: US9305740B2. Автор: Jürgen Frosien,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-04-05.

Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems

Номер патента: US5254856A. Автор: Kazue Takahashi,Tadashi Otaka,Kenji Odaka,Toshiaki Kobari,Mikio Ichihashi,Hironobu Matsui,Shinjiroo Ueda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-10-19.

A projection system for charged particle multi-beams

Номер патента: GB2459279A. Автор: Marco Jan Jaco WIELAND. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2009-10-21.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230352268A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Microscopy imaging method for 3D tomography with predictive drift tracking for multiple charged particle beams

Номер патента: US11923168B2. Автор: Ken Guillaume Lagarec,Michael William Phaneuf. Владелец: Fibics Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791124B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

Номер патента: WO2023198397A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4352773A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11804361B2. Автор: Munehiro Ogasawara,Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11784023B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Charged particle beam system

Номер патента: US11961704B2. Автор: Takashi Doi,Yuzuru Mochizuki,Naoki AKIMOTO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4266346A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233583A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged Particle Beam Apparatus and Focus Adjusting Method Therefor

Номер патента: US20230230798A1. Автор: Keisuke Igarashi,Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Mai YOSHIHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154290A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Composite Charged Particle Beam Detector, Charged Particle Beam Device, and Charged Particle Beam Detector

Номер патента: US20170358421A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240234080A9. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9812289B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9514915B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160365223A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Aperture body, flood column and charged particle tool

Номер патента: US20230005699A1. Автор: Christiaan OTTEN,Jurgen VAN SOEST,Christian Teunissen,Boudewjin Weijert Herman Jan VAN DER KROON. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-05.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160233052A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-11.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US8158312B2. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2012-04-17.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: GB2582242A. Автор: Pearson David,Ferreira Joao,POCHON Sebastien. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2020-09-23.

Charged particle beam device and image generation method

Номер патента: EP4148766A1. Автор: Kazuki Yagi,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI,Bryan W Reed. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: WO2024013042A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230377837A1. Автор: Yuko Sasaki,Yasuhiro Shirasaki,Yohei Nakamura,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Shota MITSUGI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4354485A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180076002A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11798776B2. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Member for charged particle beam device, charged particle beam device and diaphragm member

Номер патента: US20150206705A1. Автор: Noriyuki Sakuma,Yusuke Ominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US11846736B2. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220244412A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Method of axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: EP2669926A3. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-04-27.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: EP1218918A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Charged particle beam treatment apparatus

Номер патента: US20190027339A1. Автор: Nagaaki Kamiguchi. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged Particle Beam Device and Image Generation Method

Номер патента: US20230072991A1. Автор: Kazuki Yagi,Bryan W. Reed,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20170229280A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Charged particle beam treatment apparatus and method of adjusting path length of charged particle beam

Номер патента: US20150270098A1. Автор: Shinji Iwanaga. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Charged particle beam apparatus, scanning electron microscope, and method of operating a charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4295385A1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-12-27.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240062986A1. Автор: Tomohito Nakano,Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji,Naho TERAO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Scintillator for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: EP3998623A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-18.

On-axis illumination and alignment for charge control during charged particle beam inspection

Номер патента: US20180364564A1. Автор: Stefan Lanio,Alex Goldenshtein. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: WO2002009135A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-01-31.

Apparatus and method for irradiating a surface of a sample using charged particle beams

Номер патента: NL2016853B1. Автор: KRUIT Pieter,Wouter Hagen Cornelis,Scotuzzi Marijke. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2017-12-11.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: WO2022266269A9. Автор: Christopher Su-Yan OWN. Владелец: Own Christopher Su Yan. Дата публикации: 2023-02-23.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US9362085B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-07.

Charged particle optical system and charged particle apparatus

Номер патента: EP4333017A1. Автор: Motofusa Ishikawa,Tomoya Uchida,Yuta Komatsu,Baku Ogasawara,Takakuni Goto,Shunta KUSU. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-06.

Pattern writing apparatus using charged particle beam, and program-recorded readable recording medium

Номер патента: US20080067431A1. Автор: Tomoyuki Horiuchi,Takeshi Kurohori. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7652249B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7449692B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-11.

Charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20180350554A1. Автор: Takeshi Sunaoshi,Haruhiko Hatano,Yoshihisa Orai,Takashi MIZUO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US20110033789A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-02-10.

Cryogenic cell for mounting a specimen in a charged particle microscope

Номер патента: US20190131105A1. Автор: Gerbert Jeroen van de Water,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom,Roland W.P JONKERS,Fotios SAKELLARIOU. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-05-02.

Charged particle beam writing apparatus, and apparatus and method for correcting dimension error of pattern

Номер патента: US20090200488A1. Автор: Takayuki Abe,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

An illumination control device for a charged particle analyser

Номер патента: WO2022177487A1. Автор: Mikael OLOFSSON. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2022-08-25.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20100102224A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-04-29.

Charged particle optical system and charged particle apparatus

Номер патента: US20240212969A1. Автор: Motofusa Ishikawa,Tomoya Uchida,Yuta Komatsu,Baku Ogasawara,Takakuni Goto,Shunta KUSU. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged Particle Beam Apparatus and Sample Observation Method

Номер патента: US20190279838A1. Автор: Kunji Shigeto,Mitsugu Yamashita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: US20220381654A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-01.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: EP4095940A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-11-30.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160013010A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-14.

Charged particle beam drawing data production apparatus and charged particle beam drawing system

Номер патента: US5796408A. Автор: Makoto Kanno,Koichi Moriizumi,Kinya Kamiyama,Hironobu Taoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-08-18.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: US12123841B2. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Multi-layer range measurement for characterizing charged particle beams

Номер патента: US09981146B2. Автор: Raymond P. Boisseau,John S. Gordon,Andrew Dart,Julia C. Nett. Владелец: PYRAMID TECHNICAL CONSULTANTS Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Charged particle beam apparatus for measuring surface potential of a sample

Номер патента: US09799486B2. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Sample storage container, charged particle beam apparatus, and image acquiring method

Номер патента: US09564288B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Charged particle beam instrument and sample container

Номер патента: US09449784B2. Автор: Tatsuo Naruse. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Charged particle beam column and method for directing a charged particle beam

Номер патента: WO2003100815A2. Автор: Juergen Frosien,Igor Petrov,Zvika Rosenberg,Pavel Adamec,Ralf Degenhardt,Igor KRYVITZ. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2003-12-04.

Charged-particle beam apparatus with fast focus correction and methods thereof

Номер патента: WO2023237277A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Wei-Yu Chang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-14.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: EP4235731A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20220223371A1. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210175047A1. Автор: Ichiro Fujimura,Hiroki Kannami,Hironori Itabashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160071682A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190115185A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230238205A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US20160150630A1. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Method of axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: US9035550B2. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2015-05-19.

Method for axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: US20140367585A1. Автор: Takeo Sasaki,Hidetaka Sawada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2014-12-18.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210296076A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Multi-beam charged particle source with alighment means

Номер патента: US20240096585A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US20200066484A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US10522325B2. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Particle beam mass spectrometer and particle measurement method by means of same

Номер патента: US20180286655A1. Автор: Sang Jung Ahn,Cheolsu Han,Chang Joon Park,Keu Chan Lee,Seok Rae Yoon. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2018-10-04.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP3977499A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Charged particle beam system, corrector for aberration correction of a charged particle beam, and method thereof

Номер патента: US20240170249A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-05-23.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20150255245A1. Автор: Takaki Ishikawa,Kazunori Somehara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2015-09-10.

Charged particle beam system

Номер патента: US11631569B2. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

Charged particle beam device and control method of optical system of charged particle beam device

Номер патента: EP3731256A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US20230274908A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US11990315B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged particle source and charged particle beam device

Номер патента: US11990311B2. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

Номер патента: US12001521B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

System and method for resolution improvement of charged particles microscopy

Номер патента: US20240186102A1. Автор: Raphael Dahan,Ido KAMINER,Tal Fishman,Michael YANNAI. Владелец: Technion Research and Development Foundation Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Multi-beam charged particle source with alignment means

Номер патента: EP4049300A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2022-08-31.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: US12033830B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

System and method for preparation and delivery of biological samples for charged particle analysis

Номер патента: US11749498B2. Автор: Kun Liu,Joseph Christian,Marcus Straw,Alexander Makarov,Tom Nichols,Dmitry GRINFELD,Jeff KOSMOSKI,Josh Gilbert,Aaron Torok,Alan Bahm. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-09-05.

Reduction of power consumption for a charged particle system

Номер патента: US20240120171A1. Автор: Maarten Bischoff,Casper Smit,Corné VAN ROOIJ,Jamie Mc Cormack,Marcel Veerhoek,Joost Dierkse. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-11.

An illumination control device for a charged particle analyser

Номер патента: US20240310309A1. Автор: Mikael OLOFSSON. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2024-09-19.

Reduction of power comsumption for a charged particle system

Номер патента: EP4354484A1. Автор: Maarten Bischoff,Casper Smit,Jamie McCormack,Corné VAN ROOIJ,Marcel Veerhoek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle detection for spectroscopic techniques

Номер патента: US12117406B2. Автор: Bryan Barnard,Pavel Stejskal. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: EP1517353A3. Автор: Ralf Degenhardt,Jürgen Dr. Frosien,Stefan Dr. Lanio. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2005-03-30.

Charged particle beam apparatus, composite charged particle beam apparatus, and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210118645A1. Автор: Koji Nagahara,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-24.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Woellert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2022-09-01.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US20160064182A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Charged particle beam device

Номер патента: US11823861B2. Автор: Junichi Katane,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Charged particle apparatus

Номер патента: EP4345861A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-03.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240145208A1. Автор: Erwin Slot,Bertil OSTERBERG Mans Johan. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle beam adjustment method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20220068591A1. Автор: Takahito Nakayama,Ryoichi Kakehi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged particle beam detector with adaptive detection area for multiple field of view settings

Номер патента: WO2024094644A1. Автор: Jun Jiang,Kenichi Kanai,Yongxin Wang,Xiaoyu JI,Zhenyang Xia,Yongjian Zhou. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Charged Particle Beam Irradiation Apparatus, Charged Particle Beam Image Acquisition Apparatus, and Charged Particle Beam Inspection Apparatus

Номер патента: US20190304737A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230274907A1. Автор: Hideo Morishita,Junichi Katane,Tatsuro Ide,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US20170309440A1. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

Systems and methods of energy discrimination of backscattered charged-particles

Номер патента: WO2024115029A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240212966A1. Автор: Masahiro Fukuta,Tomoya IGARI,Takshi DOI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Lens for a charged particle beam apparatus, charged particle beam apparatus, and method of focusing a charged particle beam

Номер патента: US20240212968A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam column, charged particle beam chromatic aberration corrector, and method of correcting charged particle beam chromatic aberration

Номер патента: US20240222063A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fuer Halbleiterpueftechnik Mbh. Дата публикации: 2024-07-04.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam

Номер патента: US20150170876A1. Автор: Uwe Luecken,Ivan Lazic,Bart Jozef Janssen,Ross Savage,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-06-18.

Structure for Particle Acceleration And Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240242918A1. Автор: Kenji Tanimoto,Shuhei Ishikawa,Ryo Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Inspection of regions of interest using an electron beam system

Номер патента: US09847209B2. Автор: Alon Litman,Benzion Sender. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09691585B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of performing tomographic imaging of a sample in a charged-particle microscope

Номер патента: US09618460B2. Автор: Remco Schoenmakers,David Foord. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-04-11.

Inspection of regions of interest using an electron beam system

Номер патента: US09466462B2. Автор: Alon Litman,Benzion Sender. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle radiation device and specimen preparation method using said device

Номер патента: US09449786B2. Автор: Satoshi Tomimatsu,Miki Tsuchiya,Yasuhira Nagakubo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US5324950A. Автор: Tadashi Otaka,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-06-28.

Charged-particle-beam device and method for correcting aberration

Номер патента: US9484182B2. Автор: Takaho Yoshida,Hisanao Akima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam device, field curvature corrector, and methods of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2020078610A1. Автор: Benjamin John Cook,Thomas Kemen,Roman BARDAY. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2020-04-23.

Method of determining an energy width of a charged particle beam

Номер патента: US11948771B2. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-02.

Method and device for correcting image errors when scanning a charged particle beam over a sample

Номер патента: WO2024028233A1. Автор: Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-08.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Charged Particle Beam Device and Charged Particle Beam Measurement Method

Номер патента: US20160225583A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Junichiro Tomizawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US20230386696A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle optical device and method

Номер патента: EP4280252A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-22.

Electrode for a charged particle beam lens

Номер патента: WO2012176574A1. Автор: Kazushi Nomura. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-12-27.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US11961701B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: EP3218920A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2017-09-20.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US11810752B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle optical device and method

Номер патента: WO2023202819A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-26.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: EP4264653A1. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-25.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4302318A2. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-01-10.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200335297A1. Автор: Kazuhiro Kishi,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US11961627B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11315753B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-04-26.

Charged particle gun and charged particle beam device

Номер патента: GB2605035A. Автор: Sasaki Tomoyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210313140A1. Автор: Minoru Yamazaki,Yuzuru MIZUHARA,Noritsugu Takahashi,Daisuke Bizen,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle microscope apparatus and image acquisition method of charged particle microscope apparatus

Номер патента: US20140319341A1. Автор: Maki Tanaka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-10-30.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362930A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220359150A1. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US20220189729A1. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Charged particle beam system and a method for inspecting a sample

Номер патента: US20080073531A1. Автор: Igor Petrov,Guy Eitan,Albert Karabekov. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2008-03-27.

Retarding field analyzer integral with particle beam column

Номер патента: EP2725602A3. Автор: David Tuggle,Charles Otis,James McGinn. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-03-16.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11710615B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Charged Particle Device

Номер патента: US20150179394A1. Автор: Tsutomu Saito,Kenji Aoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-25.

Tunable ampere phase plate for charged particle imaging systems

Номер патента: EP3175473A1. Автор: Amir TAVABI,Giulio POZZI,Rafal Edward DUNIN-BORKOWSKI,Vadim MIGUNOV,Aleksei SAVENKO. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH. Дата публикации: 2017-06-07.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A3. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M Bemis,Ronak J Bhatt. Владелец: Ronak J Bhatt. Дата публикации: 2008-08-21.

Charge exchange device for charged particle accelerator

Номер патента: WO2002054412A8. Автор: Paul Murphy,Paul Barrett,Marvin R Lafontaine. Владелец: Varian Semiconductor Equipment. Дата публикации: 2003-08-21.

Charge exchange device for charged particle accelerator

Номер патента: WO2002054412A3. Автор: Paul Murphy,Paul Barrett,Marvin R Lafontaine. Владелец: Varian Semiconductor Equipment. Дата публикации: 2003-05-08.

Multiple charged particle beam system with a mirror mode of operation, method for operating a multi-beam charged particle microscope system with a mirror mode of operation and associated computer program product

Номер патента: US20240371596A1. Автор: Ingo Mueller,Yanko Sarov,Stefan Schubert,Claudia Lumpp. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-11-07.

Integrated light optics and gas delivery in a charged particle lens

Номер патента: US09478390B2. Автор: N. William Parker,Clive Chandler,Mark Utlaut,Steven Randolph,Marcus Straw,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam irradiation apparatus and irradiation method using the apparatus

Номер патента: US6323498B1. Автор: Kaneo Kageyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-27.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US20220189733A1. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-06-16.

Charged particle beam irradiation method, method of manufacturing semiconductor device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050121610A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US9190245B2. Автор: Takayuki Ohnishi,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Mechanism for Adjusting Angle of Incidence on Charged Particle Beam Aperture, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240029992A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Charged Particle Beam Device and Specimen Observation Method

Номер патента: US20230343549A1. Автор: Makoto Suzuki,Masashi Wada,Masahiro Fukuta,Tomoyo Sasaki,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20140021366A1. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged-Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20200185189A1. Автор: Makoto Sakakibara,Makoto Suzuki,Daisuke Bizen,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240055220A1. Автор: Yuka II. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US8183545B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11239046B2. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11928801B2. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240071716A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US20160111252A1. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US20230395352A1. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-07.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: WO2004088709A1. Автор: Josef Sellmair. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-14.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: US7345436B2. Автор: Josef Sellmair. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2008-03-18.

Systems and methods of cooling objective lens of a charged-particle beam system

Номер патента: US11764027B2. Автор: Sven Antoin Johan Hol,Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen,Dennis Herman Caspar Van Banning,Naseh Hosseini. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: US11817292B2. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-14.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: EP4272238A1. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-08.

System and method for inspection by deflector control in a charged particle system

Номер патента: US20240153732A1. Автор: Chih-Hung Wang,Xiaohu Tang,Datong ZHANG,Oliver Desmond Patterson. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-09.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220261973A1. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9892887B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210134555A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190304740A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150083910A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US20110046762A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US12009175B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210090851A1. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged beam apparatus

Номер патента: US20180182596A1. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230005700A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Kazuma Tanii. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20200194214A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: EP3665716A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-17.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299A. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2019-02-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20230335366A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299B1. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-29.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230845A1. Автор: Kohei Suzuki,Yuji Kasai,Shunsuke Mizutani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20180138010A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Tunable ampere phase plate for charged particle imaging systems

Номер патента: US20170229283A1. Автор: Giulio POZZI,Amir Hossein Tavabi,Rafal Edward DUNIN-BORKOWSKI,Vadim MIGUNOV,Aleksei SAVENKO. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH. Дата публикации: 2017-08-10.

Method and system for plasma assisted low vacuum charged particle microscopy

Номер патента: EP3882950A1. Автор: James Bishop,Milos Toth,Daniel Totonjian,Chris Elbadawi,Charlene Lobo. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2021-09-22.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M. Bemis,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-05-22.

Method of operating a particle beam system and computer program product

Номер патента: US20240258065A1. Автор: Ralf Wolleschensky,Yauheni Novikau,Kai Wicker,Dirk Preikszas,Bjoern Gamm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Replaceable module for a charged particle apparatus

Номер патента: US20230107989A1. Автор: Yang-Shan Huang,Marc Smits,Stijn Wilem Herman Karel STEENBRINK,Xuedong Liu,Xuerang Hu,Christiaan OTTEN,Laura DEL TIN,Qingpo Xi,Peter-Paul CRANS,Christan TEUNISSEN,Xinan LUO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Replaceable module for a charged particle apparatus

Номер патента: US20210391139A1. Автор: Yang-Shan Huang,Marc Smits,Xuedong Liu,Xuerang Hu,Christiaan OTTEN,Laura DEL TIN,Qingpo Xi,Peter-Paul CRANS,Christan TEUNISSEN,Xinan LUO,Herman Karel STEENBRINK Stijn Wilem. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-12-16.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9737734B2. Автор: Susan L. Michaud,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9907981B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Charged particle beam system

Номер патента: EP1577927A2. Автор: Diane K. Stewart,Ralph W Knowles,Brian T Kimball. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2005-09-21.

Focusing apparatus for uniform application of charged particle beam

Номер патента: US4276477A. Автор: Harald A. Enge. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Charged particle beam microprobe apparatus

Номер патента: US4670652A. Автор: Masahide Okumura,Satoru Fukuhara,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-06-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US5235188A. Автор: Petrus M. Mul. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Charged particle beam lithography system and target positioning device

Номер патента: US9082584B2. Автор: Guido De Boer,Jerry Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-07-14.

Apparatus for chopping a charged particle beam

Номер патента: US4626690A. Автор: Hideo Todokoro,Tsutomu Komoda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-12-02.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing failure of blanking circuit

Номер патента: US10460902B2. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Charged particle lithography system with sensor assembly

Номер патента: US20150179398A1. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS,Jan Andries Meijer,Carel Ferdinand Daudey. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-06-25.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US20230386784A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,Abhishek Shendre,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle detector, charged particle beam device, and mass spectrometer

Номер патента: US20190027351A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Hajime Kawano,Takashi Ohshima,Tomonobu Tsuchiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US11798780B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20220005667A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-01-06.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20110031387A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Segmented detector for a charged particle beam device

Номер патента: EP3329507A1. Автор: Nicholas C. Barbi,Richard B. Mott,Owen HEALY. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2018-06-06.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: EP4322196A2. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-14.

Charged particle detector for microscopy

Номер патента: WO2024078821A1. Автор: Ilse VAN WEPEREN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle beam exposure method and method for producing charged particle beam exposure data

Номер патента: US20030160192A1. Автор: Atsushi Ando,Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190237297A1. Автор: Takahito Nakayama,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Vibration-suppressing mechanism to be attached to charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US20190145490A1. Автор: Toshihiko Shimizu,Hiroki Takahashi,Hironori Ogawa,Shuichi Nakagawa,Toshihiro Arisaka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240177964A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA,Minami UCHIHO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of deconvoluting and restoring image observed in charged particle beam apparatus, image processing apparatus, and charged particle beam apparatus equipped with image processing apparatus

Номер патента: US20230109872A1. Автор: Ogawa Takashi,In Yong Park,Jun Hyeok HWANG. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged particle beam apparatus and control method

Номер патента: US20220115203A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Daisuke Bizen,Ryota Watanabe,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Charged particle beam device and imaging method

Номер патента: US20230420215A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Method for adjusting optical axis of charged particle radiation and charged particle radiation device

Номер патента: US20110284759A1. Автор: Osamu Nasu,Akemi Kono. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Charged particle beam system

Номер патента: EP4027368A1. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-13.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7935925B2. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-05-03.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220328281A1. Автор: Makoto Sakakibara,Akira Ikegami,Hajime Kawano,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190295815A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yoshihiro Kimura,Yoshinori Momonoi,Kei Sakai,Toshimasa Kameda,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Method for fracturing a pattern for writing with a shaped charged particle beam writing system using dragged shots

Номер патента: WO2011049735A2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2011-04-28.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: EP1751784A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A3. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2006-03-23.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Limited. Дата публикации: 2005-12-15.

Charged particle-optical element, charged particle-optical module, assessment apparatus, chip assembly, method of manufacturing

Номер патента: EP4418302A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland,Yue Ma,Erwin Slot,Laura DEL TIN,Alrik VAN DEN BROM,André Luís Rodrigues Mansano. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-21.

Charged particle-optical element, charged particle-optical module, assessment apparatus, chip assembly, method of manufacturing

Номер патента: WO2024170229A2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland,Yue Ma,Erwin Slot,Laura DEL TIN,Alrik VAN DEN BROM,André Luís Rodrigues Mansano. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-22.

Charged-particle beam lithography apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090057571A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Electrostatic deflector for charged particle optics

Номер патента: EP4303907A1. Автор: Markus DRESCHER,Jette Heyer,Philipp Wessels-Staarmann. Владелец: UNIVERSITAET HAMBURG. Дата публикации: 2024-01-10.

Method of imaging a specimen using a transmission charged particle microscope

Номер патента: US11810751B2. Автор: Peter Tiemeijer,Abhay Kotecha,Jamie McCormack,Rudolf Geurink,Evgeniia PECHNIKOVA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230274909A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Hiroya Ohta,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250332A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US11011345B2. Автор: Naoya Ishigaki,Takumi Hatakeyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-18.

Charged particle beam device

Номер патента: US11501950B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Takanori Kishimoto,Yohei Minekawa,Kohei CHIBA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Charged particle beam device

Номер патента: US11152186B2. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-19.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20110174975A1. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-07-21.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US11664185B2. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US11854765B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-26.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230366841A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20130065184A1. Автор: Rieko Nishimura,Satoshi Nakahashi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-03-14.

Apparatus for and method of controlling an energy spread of a charged-particle beam

Номер патента: US11881374B2. Автор: Shakeeb Bin HASAN,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-23.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US7164141B2. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2007-01-16.

Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method

Номер патента: US20160163501A1. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US20220310353A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-09-29.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US11984295B2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-14.

Focus adjustment method for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: US11776786B2. Автор: Kazunori Tsukamoto,Yuki Chiba. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20050211929A1. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2005-09-29.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US20220102113A1. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20240145214A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: WO2023180016A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391140A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Takanori Kishimoto,Yohei Minekawa,Kohei CHIBA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US11929231B2. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190311875A1. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20180166254A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230178325A1. Автор: Noriaki Arai,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Charged particle beam device and image acquisition method

Номер патента: EP4293701A2. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Charged particle beam device and image acquisition method

Номер патента: EP4293701A3. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20200381211A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-03.

Calibration method and charged particle beam system

Номер патента: US10014156B2. Автор: Naoki Hosogi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-07-03.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220208505A1. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160148785A1. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

A device for transforming between an azimuthal phase and a linear phase in a charged particle beam

Номер патента: WO2024069463A1. Автор: Giovanni Bertoni,Vincenzo Grillo,Enzo ROTUNNO,Alberto RONCAGLIA,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI,Marco Beleggia,Luca BELSITO,Stefano FRABBONI. Владелец: Universita' Degli Studi di Modena e Reggio Emilia. Дата публикации: 2024-04-04.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US20200373122A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: WO2020240322A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2020-12-03.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: US20090085504A1. Автор: Frank Sinclair,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki,Stephen E. Krause. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2009-04-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160336141A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Charged particle assessment tool, inspection method and image

Номер патента: EP4256600A1. Автор: Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-11.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240194439A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Multi-beam charged particle imaging system with reduced charging effects

Номер патента: WO2024099587A1. Автор: Stefan Schubert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and device for changing the direction of movement of a beam of accelerated charged particles

Номер патента: US09779905B2. Автор: Muradin Abubekirovich Kumakhov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged Particle Beam Device and Axis Adjustment Method Thereof

Номер патента: US20230377829A1. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Charged particle beam device and charged particle beam device calibration method

Номер патента: US11848171B2. Автор: Wen Li,Akio Yamamoto,Shunsuke Mizutani,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US11798783B2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-24.

Apparatus for magnetically scanning and/or switching a charged-particle beam

Номер патента: WO2002021565A9. Автор: Nicholas White,Philip Harvey,Edward Bell. Владелец: Diamond Semiconductor Group. Дата публикации: 2003-07-31.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US10504695B2. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-10.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US11574797B2. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2013151421A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: DELMIC B.V.. Дата публикации: 2013-10-10.

Compact charged particle beam plasma multi-frequency antenna

Номер патента: CA3221290A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-12-08.

On system self-diagnosis and self-calibration technique for charged particle beam systems

Номер патента: US20240186106A1. Автор: Bruno La Fontaine,Yongxin Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of Calibrating Beam Position in Charged-Particle Beam System

Номер патента: US20090189062A1. Автор: Kazuya Goto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2009-07-30.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7820978B2. Автор: Kazuya Goto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-10-26.

Charged particle beam device

Номер патента: US11961699B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Hideo Morishita,Junichi Katane,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced thermal deformation of mark-defining member

Номер патента: US20010052578A1. Автор: Teruaki Okino. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US20180330916A1. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US20160284510A1. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US20150074523A1. Автор: Takahiro Inada,Hiroyuki Noda,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Noriko IIZUMI,Yayoi KONISHI,Ryuichiro Tamochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

Electron source, electron gun, and charged particle beam device

Номер патента: US20230352262A1. Автор: Hiroshi Morita,Kenji Tanimoto,Kenji Miyata,Takashi Doi,Shuhei Ishikawa,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga,Daigo KOMESU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Charged particle device

Номер патента: US20140197331A1. Автор: Wataru Suzuki,Shinya Kitayama,Hirohisa Enomoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-07-17.

Holder and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200373119A1. Автор: Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US20140237196A1. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-21.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US20150021495A1. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230137117A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Transresistance amplifier for a charged particle detector

Номер патента: EP1510002A1. Автор: Andrew Philip The Maltings ARMIT. Владелец: Leo Electron Microscopy Ltd. Дата публикации: 2005-03-02.

Transresistance amplifier for a charged particle detector

Номер патента: WO2003103138A1. Автор: Andrew Philip Armit. Владелец: Leo Electron Microscopy Limited. Дата публикации: 2003-12-11.

Data generation method and charged particle beam irradiation device

Номер патента: US11749499B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Data generation method, charged particle beam irradiation device, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230053272A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US9196458B2. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-24.

Probe tip x-y location identification using a charged particle beam

Номер патента: US20230168274A1. Автор: Ronen BENZION,Michael BERKMYRE,Carlo FLORESCA,II Richard E Stallcup. Владелец: Innovatum Instruments Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Charged particle beam apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20170278678A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Charged particle detector

Номер патента: US20240280517A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-22.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11756761B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20220157556A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11239044B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090212239A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-08-27.

Sample holder, method for using sample holder, projection amount adjustment jig, projection amount adjustment method and charged particle beam device

Номер патента: US12080511B2. Автор: Hisayuki Takasu,Megumi Nakamura,Kento Horinouchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240331971A1. Автор: Jurgen VAN SOEST,Vincent Sylvester KUIPER,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-03.

System for imaging a secondary charged particle beam with adaptive secondary charged particle optics

Номер патента: US09953805B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-04-24.

Power supply module and charged particle beam device

Номер патента: US12132411B2. Автор: Wen Li,Ryo Kadoi,Naoya Ishigaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Ion pump and charged particle beam device using the same

Номер патента: US09837243B2. Автор: Souichi Katagiri,Takeshi Kawasaki,Takashi Ohshima,Keigo Kasuya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US09792832B2. Автор: Takahiro Inada,Hiroyuki Noda,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Noriko IIZUMI,Yayoi KONISHI,Ryuichiro Tamochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US09779913B2. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Rotatable targeting magnet apparatus and method of use thereof in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US09757594B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Stage device and charged particle beam apparatus using the stage device

Номер патента: US09627173B2. Автор: Hironori Ogawa,Shuichi Nakagawa,Tsukasa Sugawara,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US09564293B2. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Measurement method, image processing device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US09536170B2. Автор: Junichi Tanaka,Hiroyuki Shindo,Yutaka Hojo,Hiroki Kawada,Takeyoshi Ohashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam device and arithmetic device

Номер патента: US09530614B2. Автор: Tomonori Nakano,Yoichi Ose,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US09466465B2. Автор: Keita IDENO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism

Номер патента: US09431208B2. Автор: Shuichiro Fukutome. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Apparatus and method for removal of selected particles from a charged particle beam

Номер патента: GB2446005A. Автор: Superion Limited. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-30.

Charged particle beam apparatus and charged particle beam irradiation method

Номер патента: US6956211B2. Автор: Takashi Doi,Yoichi Ose,Hideo Todokoro,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi,Noriaki Arai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-18.

Stencil mask and charged particle beam exposure method and apparatus using the stencil mask

Номер патента: US5288567A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Kiichi Sakamoto,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-02-22.

Charged particle beam exposure including a heat blocking partition positioned near deflecting coils

Номер патента: US5338939A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Hisayasu Nishino,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-08-16.

Charged particle beam device and installation method

Номер патента: US10008361B2. Автор: Shinichi Tomita,Mitsuo Akatsu,Hiroyuki Noda,Naoto Koga,Shuhei Yabu,Ai Masuda,Isao Takahira. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-26.

Method of examining a sample using a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11815479B2. Автор: Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO,Tomá{hacek over (s)} Vystav{hacek over (e)}l,Ond{hacek over (r)}ej Machek,Jan Klusá{hacek over (c)}ek,Kristýna Bukvi{hacek over (s)}ová. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200266027A1. Автор: Takahiro Jingu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20200258713A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Kouichi Kurosawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US11756766B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220319807A1. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method

Номер патента: US20230402252A1. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US20210033548A1. Автор: Tomas Tuma,Jan Klusacek,Jiri Petrek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2021-02-04.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220037108A1. Автор: Takahiro Usui,Hiroyuki Chiba,Yuki Suda,Tatsuya Hirato. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210043415A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Takafumi Miwa,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Method of examining a sample using a charged particle microscope, wherein an electron energy-loss spectroscopy (eels) spectrum is acquired

Номер патента: US20200395192A1. Автор: Remco Schoenmakers,Jaydeep Sanjay Belapure. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-12-17.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: WO2022175061A3. Автор: John Notte,Mark Dimanna,Terry Griffin,Jeffrey Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged Particle Beam Device, Method for Processing Sample, and Observation Method

Номер патента: US20210190703A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Charged particle beam device and inclined observation image display method

Номер патента: US20150001393A1. Автор: Shigeru Kawamata,Wataru Kotake,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180342371A1. Автор: Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged particle beam device and installation method

Номер патента: US20170169988A1. Автор: Shinichi Tomita,Mitsuo Akatsu,Hiroyuki Noda,Naoto Koga,Shuhei Yabu,Ai Masuda,Isao Takahira. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20180033592A1. Автор: Tomoo Motosugi,Rumi ITO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-01.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11901155B2. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-13.

Calibration of digital analog converter to control deflectors in charged particle beam system

Номер патента: WO2024002798A1. Автор: Jie Ma,Kuo-Chin Chien. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220037111A1. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-02-03.

Charged particle beam device

Номер патента: US11348758B2. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-31.

Control of exposure in charged-particle-beam microlithography based on beam-transmissivity of the reticle

Номер патента: US20020153496A1. Автор: Noriyuki Hirayanagi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-24.

Method of Adjusting Charged Particle Optical System and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240145211A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Apparatus for and method of local control of a charged particle beam

Номер патента: WO2021001115A1. Автор: Maikel Robert GOOSEN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-01-07.

Method of adjusting charged particle optical system and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4362056A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272769A1. Автор: Atsushi Sawada,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190259567A1. Автор: Akira Nishioka,Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Naruo Watanabe,Masaki Mizuochi,Tomotaka SHIBAZAKI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Sample Holder, Intermembrane Distance Adjustment Mechanism, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240079201A1. Автор: Toshihiko Ogura,Mitsuhiro Nakamura,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Application management for charged particle microscope devices

Номер патента: EP4333020A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-03-06.

Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods

Номер патента: US20240264099A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-08.

Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods

Номер патента: EP4420148A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Inspection method for blanking device for blanking multi charged particle beams

Номер патента: US09880215B2. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Alignment and registration targets for multiple-column charged particle beam lithography and inspection

Номер патента: US09478395B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Gas blowingnozzle of charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus as well as working method

Номер патента: US20050167614A1. Автор: Takashi Kaito. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Inspection method and inspection system using charged particle beam

Номер патента: US7526747B2. Автор: Mari Nozoe,Hiroyuki Shinada,Hidetoshi Nishiyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-04-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US9679740B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: EP4310485A1. Автор: Petr Hlavenka,Jan Klusacek,Marek VANATKA,Ondrej VAVERKA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-24.

Semiconductor charged particle detector and methods thereof

Номер патента: WO2024028076A1. Автор: Sven Jansen,Padmakumar RAMACHANDRA RAO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-08.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20220254603A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20220059319A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20090008568A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Method for distortion measurement and parameter setting for charged particle beam imaging devices and corresponding devices

Номер патента: WO2024023116A1. Автор: Eugen Foca,Dmitry Klochkov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Dual beam systems and methods for decoupling the working distance of a charged particle beam device from focused ion beam geometry induced constraints

Номер патента: WO2023232282A1. Автор: Thomas Korb,Jens Timo NEUMANN,Eugen Foca,Alex Buxbaum,Dmitry Klochkov,Ramani Pichumani. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US11519871B2. Автор: Jan Klusá{hacek over (c)}ek,Tomá{hacek over (s)} Tůma,Ji{hacek over (r)}í Pet{hacek over (r)}ek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-06.

Charged particle beam device and method of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2021073811A1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-04-22.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US11971372B2. Автор: Jan Klusá{hacek over (c)}ek,Tomá{hacek over (s)} Tůma,Ji{hacek over (r)}í Pet{hacek over (r)}ek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-30.

A device for transforming a charged particle beam between a vortex beam condition and a plane wave beam condition

Номер патента: EP3909065A1. Автор: Vincenzo Grillo,Giulio POZZI,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2021-11-17.

Charged particle detection for spectroscopic techniques

Номер патента: GB2592558A. Автор: Stejskal Pavel,BARNARD Bryan. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2021-09-08.

Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multi-beam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam

Номер патента: CA3174201A1. Автор: Laura DINU GURTLER,German AKSENOV. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-16.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20240112882A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220367147A1. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-17.

A device for transforming a charged particle beam between a vortex beam condition and a plane wave beam condition

Номер патента: WO2020144630A1. Автор: Vincenzo Grillo,Giulio POZZI,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JULICH GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US20210202206A1. Автор: Hidekazu Takekoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Detecting charged particle events at high dose rates

Номер патента: EP4390462A1. Автор: Bart Janssen,Auke van der Heide,Jaap Mulder. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-26.

Detecting charged particle events at high dose rates

Номер патента: US20240212974A1. Автор: Bart Janssen,Auke van der Heide,Jaap Mulder. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle device, charged particle irradiation method, and analysis device

Номер патента: US20180174795A1. Автор: Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-06-21.

Charged particle irradiation device, system, method, and program

Номер патента: EP4075924A1. Автор: Shinichi Yamaguchi,Ryuichi Takeuchi,Katsuyuki Takahashi,Chyon Hae KIM,Isao Hiyoshi,Yuki KANETA,Katsuya Kubo,Hidemi Nagata,Koichi Takaki. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2022-10-19.

Charged Particle Beam Device, Charged Particle Beam System, and Adjustment Method

Номер патента: US20230386781A1. Автор: Ayumi Doi,Shuichiro Takahashi,Aoi YAMAUCHI,Zhao JINYU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20160064178A1. Автор: HIROFUMI Morita,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-03.

Defective pixel management in charged particle microscopy

Номер патента: US11742175B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Michiel Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-29.

Charged particle device, detector, and methods

Номер патента: US20230005706A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-05.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US7612346B2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2009-11-03.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US20060017002A1. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2006-01-26.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems

Номер патента: US09867272B2. Автор: Yue Shi,Amit Lal,Serhan Ardanuc,June-Ho HWANG,Farhan RANA. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-09.

Charged-particle apparatus, multi-device apparatus, method of using charged-particle apparatus and control method

Номер патента: US20240331968A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Charged particle beam emitting assembly

Номер патента: CA2303148C. Автор: Allan Sanderson. Владелец: Welding Institute England. Дата публикации: 2008-06-03.

Particle beam system and method for the particle-optical examination of an object

Номер патента: US10535494B2. Автор: Dirk Zeidler,Stefan Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-01-14.

Particle-beam exposure apparatus with overall-modulation of a patterned beam

Номер патента: WO2007112465A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication AG. Дата публикации: 2007-10-11.

Vacuum system for a charged particle beam recording system

Номер патента: CA1253196A. Автор: Andrew A. Tarnowski. Владелец: Image Graphics Inc. Дата публикации: 1989-04-25.

Charged particle beam adjusting method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050236570A1. Автор: Takashi Doi,Yoshihiro Kimura,Noriaki Arai,Fumihiro Sasajima,Hidetoshi Morokuma. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-27.

Specimen stage-moving device for charged-particle beam system

Номер патента: EP1975974A3. Автор: Yoshinori Fujiyoshi,Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-09-29.

Magnetic field applying sample holder; and charged particle beam apparatus using same

Номер патента: EP2797099A3. Автор: Akira Sugawara,Yoshio Takahashi,Tomokazu Shimakura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-01-06.

Adjusting device for a particle beam

Номер патента: US3777211A. Автор: W Kuijpers. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1973-12-04.

Electron source and charged particle beam device

Номер патента: US11929230B2. Автор: Souichi Katagiri,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Akira Ikegami,Aki Takei,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Method of filtering false positives for a pixelated electron detector

Номер патента: EP4266347A1. Автор: Ilse VAN WEPEREN,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-25.

Method and device for carrying out a charging strategy for energy storage

Номер патента: DE102019208071A1. Автор: Lothar Trenkle. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2020-12-10.

Method and back end device for predictively controlling a charging process for an electric energy store of a motor vehicle

Номер патента: WO2020074554A1. Автор: Stefan Grubwinkler. Владелец: Vitesco Technologies GmbH. Дата публикации: 2020-04-16.

Method and Device for Determining Detection Range of Control Channel in Multi-beam System

Номер патента: US20210400666A1. Автор: Xu Hua,Tang Hai. Владелец: . Дата публикации: 2021-12-23.

Method and device for determining detection range of control channel in multi-beam system

Номер патента: AU2017405463A1. Автор: HUA Xu,Hai Tang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2019-10-10.

Method and device for determining detection range of control channel in multi-beam system

Номер патента: EP3873125B1. Автор: Xu Hua,Tang Hai. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2023-09-13.

Method and device for automatically connecting a charging connector to a charging connector socket of a vehicle,

Номер патента: US11745606B2. Автор: Norbert Settele,Andreas Schoob,Jens Kotlarski,Simon Aden. Владелец: Matthias Dagen Jens Kotlarski Tobias Ortmaier Forwardttc Ip Holding GbR. Дата публикации: 2023-09-05.

Handling device for a transfer of products, production machine with such a handling device and method for a transfer of products

Номер патента: US20230303340A1. Автор: Roland Kuhn,Sebastian Schwarz,Raphael Glück,Manuel Wied. Владелец: Syntegon Packaging Technology GmbH. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09776019B2. Автор: Kazuyoshi Saito,Takuya Nomura,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: EP2283705A2. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-16.

Method and system of beam injection to charged particle storage ring

Номер патента: US09655226B2. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LABORATORY Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Particle accelerator and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US12101869B2. Автор: Toshiyuki Shirai,Kota Mizushima. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-24.

Charged particle generator

Номер патента: EP2517539A1. Автор: Susan Smith,Christopher Prior,Shinji Machida,Neil Bliss,Bruno Muratori,Robert Cywinski. Владелец: Science and Technology Facilities Council. Дата публикации: 2012-10-31.

Charged particle beam radiation system, synchrotron, and beam ejection method therefor

Номер патента: US09763316B2. Автор: Takuya Nomura,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi,Satoshi Totake,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

Induction accelerating device and acceleration method of charged particle beam

Номер патента: US20110156617A1. Автор: Kota Torikai,Ken Takayama,Yoshio Arakida,Yoshito Shimosaki. Владелец: Inter University Research Institute Corp High Energy Accelerator Research Organization. Дата публикации: 2011-06-30.

Systems, devices, and methods for initiating beam transport in a beam system

Номер патента: US12010788B2. Автор: Vladislav VEKSELMAN,Alexander Dunaevsky,Suu Duong,Igor Nikolaevich Sorokin. Владелец: TAE Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Particle beam cooling device

Номер патента: US20110074287A1. Автор: Thomas J. Roberts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-31.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: CA3225929A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: AU2022309543A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: EP4371608A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: US20240172354A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Charged particle beam power transmission system

Номер патента: US11955813B2. Автор: Gregory E. Leyh. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-04-09.

Charged particle beam power transmission system

Номер патента: EP3942687A1. Автор: Gregory E. Leyh. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2022-01-26.

Particle beam treatment system and beam position correcting method thereof

Номер патента: US20140235922A1. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Toshihiro Otani,Kengo Sugahara,Shuhei ODAWARA,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda,Katsuhisa Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8384053B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Vladimir Balakin. Дата публикации: 2013-02-26.

Particle beam couplingsystem and method

Номер патента: WO2012048166A3. Автор: Gary Guethlein. Владелец: Lawrence Livermore National Security, LLC. Дата публикации: 2012-07-05.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: WO2009142550A3. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Vladimir Yegorovich Balakin. Дата публикации: 2010-01-07.

Method for manufacturing particle beam therapy system and particle beam therapy system

Номер патента: US20240355497A1. Автор: Yutaka Hirata,Atsushi Miyamoto,Hiromichi RYUTO. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Charged particle emission control device, method, and program

Номер патента: US20220132648A1. Автор: Takuji Furukawa,Kota Mizushima,Munemichi MATSUMOTO,Kohei KOTAKI. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Charged particle emission control device, method, and program

Номер патента: US11968773B2. Автор: Takuji Furukawa,Kota Mizushima,Munemichi MATSUMOTO,Kohei KOTAKI. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: EP2073612A2. Автор: Takahide Nakayama,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

X-ray method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: CA2725315C. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-30.

Charged particle beam acceleration and extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8089054B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Dr Vladmir Balakin. Дата публикации: 2012-01-03.

Accelerator for two particle beams for producing collision

Номер патента: RU2569324C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-11-20.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: US20240324092A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: EP4309730A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-24.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: US20240024702A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-25.

Accelerator control device, accelerator control method, and particle beam therapy device

Номер патента: US20180317311A1. Автор: Takuji Furukawa,Kota Mizushima,Munemichi MATSUMOTO,Katsushi Hanawa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2018-11-01.

Charged particle beam therapy and magnetic resonance imaging

Номер патента: RU2681075C2. Автор: Йоханнес Адрианус ОВЕРВЕГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-01.

Method for mist dispersion and device for its implementation

Номер патента: RU2734550C1. Автор: Алексей Алексеевич Палей. Владелец: Алексей Алексеевич Палей. Дата публикации: 2020-10-20.

Detachable device for connection to the charging station

Номер патента: RU2745169C1. Автор: Константин Ефимович Кокуш,Сергей Владимирович Концебовский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Э-моушен". Дата публикации: 2021-03-22.

Device for determining aim position of charged particle beam, its using method, and treatment device employing device for determining aim position

Номер патента: WO2007080981A1. Автор: Takashi Nakano,Taku Sato,Kazuo Arakawa,Takuro Sakai,Takahiro Satoh,Yasushi Horiuchi,Mitsuhiro Fukuda,Hirofumi Shimada,Hiroyuki Katoh,Masakazu Oikawa,Takashi Agematsu,Ken Yusa,Shoji Kishi. Владелец: JAPAN ATOMIC ENERGY AGENCY. Дата публикации: 2007-07-19.

Device for determining aim position of charged particle beam, its using method and treatment device employing deivce for determining aim position

Номер патента: GB0812582D0. Автор: . Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2008-08-13.

Control method and control device for providing guidance, charging pile and robot

Номер патента: US20240004398A1. Автор: Zhetao Xu,Xiujun YAO,Chenguang GUI. Владелец: Jingdong Technology Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

METHOD AND DEVICE FOR AUTOMATICALY CONNECTING A CHARGING CONNECTOR TO A CHARGING CONNECTOR SOCKET OF A VEHICLE, IN PARTICULAR A LAND VEHICLE

Номер патента: US20210001736A1. Автор: SETTELE Norbert,KOTLARSKI Jens,SCHOOB Andreas,ADEN Simon. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

Distribution device for use in a charging installation of a metallurgical reactor

Номер патента: KR101682054B1. Автор: 에밀리 로날디,가이 틸렌,도미니크 로키,세르지 드빌레,제프 반디비누트. Владелец: 풀 부르스 에스.에이.. Дата публикации: 2016-12-02.

Method and device for autonomously plugging a charging connector into a charging socket of a vehicle

Номер патента: DE102021212485B3. Автор: Zsolt Farkas,Daniel Schulze,Maxim Derksen,Lisa Rangosch,Peter Motzko,Robert Schirmer. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2023-02-23.

Method and device for automatically connecting a charging connection with a charging connection receptacle of a vehicle, in particular a land vehicle

Номер патента: DE102018104759A1. Автор: Norbert Settele,Andreas Schoob,Jens Kotlarski,Simon Aden. Владелец: Forward Ttc GmbH. Дата публикации: 2019-09-05.

Method and device for automatically connecting a charging connector to a charging connector socket of a vehicle, in particular a land vehicle

Номер патента: EP3758975A1. Автор: Norbert Settele,Andreas Schoob,Simon Aden,Jens DR. KOTLARSKI. Владелец: Forward Ttc GmbH. Дата публикации: 2021-01-06.

Vibration isolated table for a charged particle beam apparatus provided with a shock protection element and shock protection element

Номер патента: US20050121592A1. Автор: Johannes Van Der Ven,Albertus Dirks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: US12044638B2. Автор: John A. Notte,Mark D. DiManna,Terry Griffin,Jeff Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-23.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: US20220260508A1. Автор: John A. Notte,Mark D. DiManna,Terry Griffin,Jeff Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-18.