Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Charged-Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20200185189A1
Опубликовано: 11-06-2020
Автор(ы): Daisuke Bizen, Makoto Sakakibara, Makoto Suzuki, Uki Ikeda
Принадлежит: Hitachi High Tech Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method for detecting signal charged particles in a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US09589763B1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-07.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11295928B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-05.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11756761B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20220157556A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11239044B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam device and inclined observation image display method

Номер патента: US20150001393A1. Автор: Shigeru Kawamata,Wataru Kotake,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Wien filter and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066022A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: US09601303B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-21.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Charged particle beam apparatus and control method

Номер патента: US20220115203A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Daisuke Bizen,Ryota Watanabe,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220359150A1. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Sample Stage

Номер патента: US20220037110A1. Автор: Hitoshi Sakurai,Daichi Maekawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Charged particle beam device and method for controlling sample stage

Номер патента: EP3945540A1. Автор: Hitoshi Sakurai,Daichi Maekawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-02-02.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising co-condensers for continuous image resolution tuning

Номер патента: US11295927B1. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-04-05.

Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising co-condensers for continuous image resolution tuning

Номер патента: US20220108865A1. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Digital detector, apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising the same, and method thereof

Номер патента: US11328898B2. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-05-10.

Digital detector, apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising the same, and method thereof

Номер патента: US20220108867A1. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Kazuki ISHIZAWA,Yoshihiro Takahoko,Daichi Nara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Composite Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20150221468A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233583A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154290A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: EP4235731A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US20230274908A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US11990315B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20150255245A1. Автор: Takaki Ishikawa,Kazunori Somehara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2015-09-10.

Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20180068826A1. Автор: Takashi Kubo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-03-08.

Multiple charged particle beam inspection apparatus and multiple charged particle beam inspection method

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210020422A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsuhiro Nakamura,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Masahiro Sasajima,Hironori Itabashi,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Composite charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20200266029A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama,Naoko Hirose. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged Particle Beam System and Control Method Therefor

Номер патента: US20230343550A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4266346A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Multi-charged particle beam image acquisition apparatus and multi-charged particle beam image acquisition method

Номер патента: US20210005422A1. Автор: Kazuhiro Nakashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Focus adjustment method for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: US11776786B2. Автор: Kazunori Tsukamoto,Yuki Chiba. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Charged particle optics, charged particle beam apparatus, and method for scanning a charged particle beam

Номер патента: US20240290571A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: US20240355577A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Method of determining an energy spectrum or energy width of a charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240371600A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged Particle Beam Device and Control Method of Optical System of Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200343072A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam inspection apparatus and method

Номер патента: WO2024132808A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Xuechen ZHU,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230290606A1. Автор: Yusuke Nakamura,Shunsuke Mizutani,Muneyuki Fukuda,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: US20190096630A1. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: WO2016076718A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-05-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11784023B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791124B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Charged-particle beam device

Номер патента: US09443695B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Takeyoshi Ohashi,Noritsugu Takahashi,Osamu Komuro. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Method for inspecting a specimen and charged particle beam device

Номер патента: WO2021078352A1. Автор: Dieter Winkler,Jürgen Frosien,Pieter Kruit,Ralf Schmid,Benjamin John Cook,Ron Naftali,Roman BARDAY. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2021-04-29.

Charged particle beam column and method for directing a charged particle beam

Номер патента: WO2003100815A2. Автор: Juergen Frosien,Igor Petrov,Zvika Rosenberg,Pavel Adamec,Ralf Degenhardt,Igor KRYVITZ. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2003-12-04.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Charged particle beam device and control method of optical system of charged particle beam device

Номер патента: EP3731256A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Charged particle beam system and method of operating thereof

Номер патента: US9305740B2. Автор: Jürgen Frosien,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-04-05.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317406A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yuto Kawashima,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11315753B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-04-26.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11710615B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Charged particle beam device

Номер патента: US11798780B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method

Номер патента: US20160163501A1. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Charged particle beam device

Номер патента: US11152186B2. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190311875A1. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Method for axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: US20140367585A1. Автор: Takeo Sasaki,Hidetaka Sawada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2014-12-18.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: EP3218920A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2017-09-20.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US9240305B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-19.

Charged particle beam device

Номер патента: US9679740B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged particle beam application apparatus

Номер патента: US20210005417A1. Автор: Akira Ikegami,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Takashi Dobashi,Yuta Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Charged Particle Beam Device and Sample Analysis Method

Номер патента: US20240170250A1. Автор: Naoki Sakamoto,Masayoshi Yoshioka,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method

Номер патента: US09741526B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masako Nishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

System for imaging a secondary charged particle beam with adaptive secondary charged particle optics

Номер патента: US09953805B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154291A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233584A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Charged particle beam apparatus, composite charged particle beam apparatus, and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210118645A1. Автор: Koji Nagahara,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Energy Filter for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160035533A1. Автор: Shuai Li,Joe Wang,Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-02-04.

Charged particle beam device

Номер патента: US11823861B2. Автор: Junichi Katane,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Charged Particle Beam Irradiation Apparatus, Charged Particle Beam Image Acquisition Apparatus, and Charged Particle Beam Inspection Apparatus

Номер патента: US20190304737A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230005700A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Kazuma Tanii. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US11961699B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Hideo Morishita,Junichi Katane,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle beam device and spherical aberration correction method

Номер патента: US09715991B2. Автор: Yoichi Hirayama,Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Insulating structure, electrostatic lens, and charged particle beam device

Номер патента: US20240274394A1. Автор: Yasushi Toma,Tsutomu Karimata,Sadashi AOTA,Shinsetsu FUJISAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Insulating structure, electrostatic lens, and charged particle beam device

Номер патента: EP4415020A2. Автор: Yasushi Toma,Tsutomu Karimata,Sadashi AOTA,Shinsetsu FUJISAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-14.

Charged particle beam device and installation method

Номер патента: US10008361B2. Автор: Shinichi Tomita,Mitsuo Akatsu,Hiroyuki Noda,Naoto Koga,Shuhei Yabu,Ai Masuda,Isao Takahira. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-26.

Charged particle beam device and installation method

Номер патента: US20170169988A1. Автор: Shinichi Tomita,Mitsuo Akatsu,Hiroyuki Noda,Naoto Koga,Shuhei Yabu,Ai Masuda,Isao Takahira. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Sample loading method and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4027367A3. Автор: Takeshi Kaneko,Naoki Fujimoto,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-10-12.

Sample loading method and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4027367A2. Автор: Takeshi Kaneko,Naoki Fujimoto,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-13.

Split magnetic lens for controlling a charged particle beam

Номер патента: US20020070346A1. Автор: Allan Rubin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2022184387A3. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus

Номер патента: US09484181B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam device, system for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US09666406B1. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09852876B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof

Номер патента: US09472373B1. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,John Breuer,Johannes Hopster. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device

Номер патента: US09984848B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

Номер патента: WO2023198397A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle beam apparatus, scanning electron microscope, and method of operating a charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4295385A1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-12-27.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620328B1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis

Номер патента: US20240087837A1. Автор: Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Woellert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2022-09-01.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4302318A2. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-01-10.

Charged-particle beam apparatus with beam-tilt and methods thereof

Номер патента: US20240021404A1. Автор: Hermanus Adrianus Dillen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Shahedul Hoque. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20140021366A1. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Beam deflection device, aberration corrector, monochromator, and charged particle beam device

Номер патента: US12062519B2. Автор: Pieter Kruit,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Charged particle beam instrument and sample container

Номер патента: US09449784B2. Автор: Tatsuo Naruse. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of manufacturing an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620329B1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20170229280A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210175047A1. Автор: Ichiro Fujimura,Hiroki Kannami,Hironori Itabashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: EP4272238A1. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-08.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200335297A1. Автор: Kazuhiro Kishi,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Takashi Nakamura,Hideki Matsui,Yoshiaki Hattori,Munehiro Ogasawara,Takuya Uemura,Rieko Nishimura,Tatsuya Murofushi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Charged Particle Beam Device and Specimen Observation Method

Номер патента: US20230343549A1. Автор: Makoto Suzuki,Masashi Wada,Masahiro Fukuta,Tomoyo Sasaki,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: US11817292B2. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-14.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20160155610A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Charged particle beam system, corrector for aberration correction of a charged particle beam, and method thereof

Номер патента: US20240170249A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-05-23.

Method and device for correcting image errors when scanning a charged particle beam over a sample

Номер патента: WO2024028233A1. Автор: Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: EP2669926A3. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-04-27.

Method of axial alignment of charged particle beam and charged particle beam system

Номер патента: US9035550B2. Автор: Mitsuru Yamada. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2015-05-19.

Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lenses

Номер патента: US09431209B2. Автор: Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multi-beam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam

Номер патента: CA3174201A1. Автор: Laura DINU GURTLER,German AKSENOV. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-16.

Charged particle beam device and method of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2021073811A1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230411111A1. Автор: Takuma Yamamoto,Takeyoshi Ohashi,Tetsuro KADOWAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20220223371A1. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Multistage-connected multipole, multistage multipole unit, and charged particle beam device

Номер патента: US11769650B2. Автор: Masashi Inada,Hideo Kashima,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi,Yoshinobu OOTAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Charged particle beam system

Номер патента: US11631569B2. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

Charged particle beam system

Номер патента: EP4027368A1. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-13.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: WO2017095908A1. Автор: Chen Zhongwei,Liu Xuedong,REN Weiming,Hu Xuerang. Владелец: HERMES MICROVISION INC.. Дата публикации: 2017-06-08.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09691585B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Charged-particle beam apparatus with fast focus correction and methods thereof

Номер патента: WO2023237277A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Wei-Yu Chang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-14.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charged Particle Detector and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20180261425A1. Автор: Makoto Sakakibara,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Kaori Shirahata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US11854765B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-26.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20240145214A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150083910A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20200381211A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-03.

Charged particle beam device and capturing condition adjusting method in charged particle beam device

Номер патента: US10770266B2. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-08.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Holder and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200373119A1. Автор: Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Lens for a charged particle beam apparatus, charged particle beam apparatus, and method of focusing a charged particle beam

Номер патента: US20240212968A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam system

Номер патента: EP3901983A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-27.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20210313142A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam

Номер патента: US20150170876A1. Автор: Uwe Luecken,Ivan Lazic,Bart Jozef Janssen,Ross Savage,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-06-18.

Charged-particle-beam device and method for correcting aberration

Номер патента: US9484182B2. Автор: Takaho Yoshida,Hisanao Akima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20150340196A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

Charged Particle Beam Device and Axis Adjustment Method Thereof

Номер патента: US20230377829A1. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens

Номер патента: WO2012082171A1. Автор: Zhongwei Chen,Kenichi Kanai,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes-Microvision, Inc.. Дата публикации: 2012-06-21.

Charged particle beam device and evaluation method using the charged particle beam device

Номер патента: US20120070066A1. Автор: Hiroyuki Kitsunai,Masaru Matsushima,Shuichi Nakagawa,Go Miya,Seiichiro Kanno. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-03-22.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: EP4133514A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-02-15.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: CA3173642A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged particle beam system and a method for inspecting a sample

Номер патента: US20080073531A1. Автор: Igor Petrov,Guy Eitan,Albert Karabekov. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2008-03-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11776787B2. Автор: Kazuki Yagi,Yusuke Toriumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4027369A9. Автор: Kazuki Yagi,Yusuke Toriumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4027369A1. Автор: Kazuki Yagi,Yusuke Toriumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-13.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220216033A1. Автор: Kazuki Yagi,Yusuke Toriumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US10629407B2. Автор: Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-04-21.

Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens

Номер патента: EP2652485A1. Автор: Zhongwei Chen,Kenichi Kanai,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-10-23.

Method for scanning a sample by a charged particle beam system

Номер патента: US20200211820A1. Автор: Thomas I. Wallow,Adam Lyons. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-07-02.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190148106A1. Автор: Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US12080515B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US10109456B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2018-10-23.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US12087541B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09691588B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09691586B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09607805B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: WO2017015483A1. Автор: Chen Zhongwei,Hu Xuerang,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: HERMES MICROVISION INC.. Дата публикации: 2017-01-26.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US20230282441A1. Автор: Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US11887807B2. Автор: Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-30.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US20240128044A1. Автор: Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Tilting parameters calculating device, sample stage, charged particle beam device, and program

Номер патента: US20200066481A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Inclination angle amount calculation device, sample stand, charged particle beam device, and program

Номер патента: EP3633709A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Charged particle-beam device and specimen observation method

Номер патента: US09466460B2. Автор: Taku Sakazume,Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US20210384008A1. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Juying Dou. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-12-09.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09922799B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Juying Dou. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Charged particle beam apparatus and method of controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11756764B2. Автор: Kuniyasu Nakamura,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Charged Particle Beam Apparatus and Sample Observation Method

Номер патента: US20190279838A1. Автор: Kunji Shigeto,Mitsugu Yamashita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium

Номер патента: US09741530B2. Автор: Kenji Nakahira,Maki Tanaka,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Sample holder with light emitting and transferring elements for a charged particle beam apparatus

Номер патента: US09812288B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Kunio Harada,Minami Shouji,Yuusuke Oominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample

Номер патента: US09673020B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam device, image generation method, observation system

Номер патента: US09824854B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Junichi Katane. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Device, Sample Stage Unit, and Sample Observation Method

Номер патента: US20150311033A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method

Номер патента: US09472375B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP3977499A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: US12033830B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Energy Filter, and Energy Analyzer and Charged Particle Beam Device Provided with Same

Номер патента: US20230298845A1. Автор: Hiroyuki Ito,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle beam device enabling facilitated EBSD detector analysis of desired position and control method thereof

Номер патента: US09741531B2. Автор: Tsutomu Saito,Kazuyuki Takeda,Tohru Ando. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Diaphragm mounting member and charged particle beam device

Номер патента: US09633817B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US8497475B2. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-07-30.

Method of operation of a charged particle beam device

Номер патента: WO2022028633A1. Автор: FILIP Vojtech. Владелец: Tescan Brno. Дата публикации: 2022-02-10.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US20120043462A1. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US20240297012A1. Автор: Makoto Suzuki,Hiroki Kawada,Atsuko SHINTANI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190295815A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yoshihiro Kimura,Yoshinori Momonoi,Kei Sakai,Toshimasa Kameda,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: US09905394B1. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-27.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for adjusting charged particle beam device and adjusting beam aperture based on a selected emission condition and charged particle beam device for same

Номер патента: US10176968B2. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Charged Particle Beam Device and Method for Adjusting Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20160118218A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-04-28.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: WO2022266269A9. Автор: Christopher Su-Yan OWN. Владелец: Own Christopher Su Yan. Дата публикации: 2023-02-23.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791131B2. Автор: Shuntaro Ito,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Stage apparatus, and charged particle beam apparatus using same

Номер патента: US20150053857A1. Автор: Akira Nishioka,Hiroshi Tsuji,Shuichi Nakagawa,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-02-26.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230274907A1. Автор: Hideo Morishita,Junichi Katane,Tatsuro Ide,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle beam column, charged particle beam chromatic aberration corrector, and method of correcting charged particle beam chromatic aberration

Номер патента: US20240222063A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fuer Halbleiterpueftechnik Mbh. Дата публикации: 2024-07-04.

Charged Particle Beam Device and Charged Particle Beam Measurement Method

Номер патента: US20160225583A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Junichiro Tomizawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210313140A1. Автор: Minoru Yamazaki,Yuzuru MIZUHARA,Noritsugu Takahashi,Daisuke Bizen,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09620332B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09466463B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: WO2005024888A3. Автор: Juergen Frosien,Stefan Lanio,Ralf Degenhardt. Владелец: Ralf Degenhardt. Дата публикации: 2005-04-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230845A1. Автор: Kohei Suzuki,Yuji Kasai,Shunsuke Mizutani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US11011345B2. Автор: Naoya Ishigaki,Takumi Hatakeyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-18.

Member for charged particle beam device, charged particle beam device and diaphragm member

Номер патента: US20150206705A1. Автор: Noriyuki Sakuma,Yusuke Ominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Crystal orientation figure creating device, charged particle beam device, crystal orientation figure creating method, and program

Номер патента: US20200066480A1. Автор: Naoki Maruyama,Takafumi Amino,Takashige Mori. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image acquisition method

Номер патента: EP4293701A2. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Charged particle beam device and image acquisition method

Номер патента: EP4293701A3. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220328281A1. Автор: Makoto Sakakibara,Akira Ikegami,Hajime Kawano,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Charged particle beam device and charged particle beam device calibration method

Номер патента: US11848171B2. Автор: Wen Li,Akio Yamamoto,Shunsuke Mizutani,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230137117A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Charged Particle Beam Device and Image Acquisition Method

Номер патента: US20230402252A1. Автор: Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272769A1. Автор: Atsushi Sawada,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

A device for transforming between an azimuthal phase and a linear phase in a charged particle beam

Номер патента: WO2024069463A1. Автор: Giovanni Bertoni,Vincenzo Grillo,Enzo ROTUNNO,Alberto RONCAGLIA,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI,Marco Beleggia,Luca BELSITO,Stefano FRABBONI. Владелец: Universita' Degli Studi di Modena e Reggio Emilia. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle beam apparatus and processor system

Номер патента: US20230335373A1. Автор: Wen Li,Akio Yamamoto,Shunsuke Mizutani,Naoya Ishigaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450934A3. Автор: Marcus Straw,Mark Emerson,Milos Toth. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: EP2450935A3. Автор: N. William Parker,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Composite charged particle beam apparatus and thin sample processing method

Номер патента: US9190243B2. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-11-17.

Charged Particle Beam Device, Autofocus Processing Method of Charged Particle Beam Device, and Detector

Номер патента: US20220044906A1. Автор: Mitsuhiro Nakamura,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-10.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210241993A1. Автор: Kazuyuki Hirao,Mari Takabatake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US11276550B2. Автор: Kazuyuki Hirao,Mari Takabatake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-15.

Sample exchange device and charged particle beam device

Номер патента: EP3703101A1. Автор: Naoki Fujimoto,Kimitaka Hiyama. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-02.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240177963A1. Автор: Masaru Matsushima,Go Miya,Masaki Mizuochi,Yuki UCHIOKE,Katsumi Kambe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Charged particle beam irradiation apparatus and control method

Номер патента: US20210090855A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Xin Man,Takuma Aso. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP4315386A1. Автор: Weiming Ren,Qingpo Xi,Shichen GU. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Method of determining a brightness of a charged particle beam, method of determining a size of a source of the charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240126057A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130105690A1. Автор: Satoshi Takada,Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

A computer-aided defect correction method of a charged particle beam device, defect correction device of a charged particle beam device and a computer program

Номер патента: WO2024146664A1. Автор: Stanislav Petras,Jan SOPOUSEK. Владелец: Tescan Group, A.S.. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Shigeru Kawamata,Hirofumi Sato,Yuki Numata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems

Номер патента: US5254856A. Автор: Kazue Takahashi,Tadashi Otaka,Kenji Odaka,Toshiaki Kobari,Mikio Ichihashi,Hironobu Matsui,Shinjiroo Ueda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-10-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11798776B2. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230377837A1. Автор: Yuko Sasaki,Yasuhiro Shirasaki,Yohei Nakamura,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Shota MITSUGI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150270096A1. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Charged particle beam source and charged particle beam system

Номер патента: EP4254465A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317400A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9455119B2. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11239046B2. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Measurement method, image processing device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US09536170B2. Автор: Junichi Tanaka,Hiroyuki Shindo,Yutaka Hojo,Hiroki Kawada,Takeyoshi Ohashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210090851A1. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged beam apparatus

Номер патента: US20180182596A1. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Method for alignment of a light beam to a charged particle beam

Номер патента: US20190013178A1. Автор: Steven Randolph,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman,Milos Toth,Dolf Timmerman,Cameron James Zachreson. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-01-10.

Charged Particle Beam Device, Charged Particle Beam System, and Adjustment Method

Номер патента: US20230386781A1. Автор: Ayumi Doi,Shuichiro Takahashi,Aoi YAMAUCHI,Zhao JINYU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US09443694B2. Автор: Mitsugu Sato,Shotaro Tamayama,Masaki Takano,Mami Konomi,Shunya Watanabe,Masako Nishimura,Yayoi KONISHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09343265B2. Автор: Hisayuki Takasu,Asako Kaneko,Hirobumi Mutou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Charged Particle Beam Apparatus and Focus Adjusting Method Therefor

Номер патента: US20230230798A1. Автор: Keisuke Igarashi,Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Mai YOSHIHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20110174975A1. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-07-21.

Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US7935925B2. Автор: Tsutomu Kawai,Yuko Sasaki,Makoto Ezumi,Makoto Nishihara,Toshiaki Yanokura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-05-03.

Method and system for reducing curtaining in charged particle beam sample preparation

Номер патента: US09488554B2. Автор: Michael Schmidt,Sang Hoon Lee,Stacey Stone,Jeffrey Blackwood,Hyun Hwa Kim. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-08.

Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

Номер патента: US12001521B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Method of Adjusting Charged Particle Optical System and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240145211A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of adjusting charged particle optical system and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4362056A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US20200066484A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US10522325B2. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11791128B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-10-17.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230116466A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-13.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061650A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Charged particle gun and charged particle beam device

Номер патента: GB2605035A. Автор: Sasaki Tomoyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US11961701B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Image forming method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070024528A1. Автор: Kouichi Yamamoto,Kunio Nakanishi,Norio Satou,Katsuhiro Sasada,Hiroki Kawada,Sho Takami,Hidetoshi Morokuma,Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-02-01.

Method of determining an energy width of a charged particle beam

Номер патента: US11948771B2. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-02.

Mechanism for Adjusting Angle of Incidence on Charged Particle Beam Aperture, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240029992A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4167267A1. Автор: Takeshi Kaneko,Isamu Ishikawa,Eiji Okunishi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-19.

Charged particle beam device

Номер патента: US5235188A. Автор: Petrus M. Mul. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230352268A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20220005667A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-01-06.

Magnetic field applying sample holder; and charged particle beam apparatus using same

Номер патента: EP2797099A3. Автор: Akira Sugawara,Yoshio Takahashi,Tomokazu Shimakura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-01-06.

Microscopy imaging method for 3D tomography with predictive drift tracking for multiple charged particle beams

Номер патента: US11923168B2. Автор: Ken Guillaume Lagarec,Michael William Phaneuf. Владелец: Fibics Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: US11810749B2. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: EP4224511A3. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-09-06.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: EP4224511A2. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-08-09.

Charged particle beam system, method of operating a charged particle beam system, method of recording a plurality of images and computer programs for executing the methods

Номер патента: US20240038482A1. Автор: Daniel Fischer,Thomas Korb,Eugen Foca,Amir Avishai. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230369012A1. Автор: Satoshi Takada,Naoko Takeda,Natsuki Tsuno,Yuto HATTORI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Charged particle beam system

Номер патента: US11961704B2. Автор: Takashi Doi,Yuzuru Mochizuki,Naoki AKIMOTO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Thin Film Damage Detection Function and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240085352A1. Автор: Toshihiko Ogura,Mitsuhiro Nakamura,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US20150021495A1. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism

Номер патента: US09431208B2. Автор: Shuichiro Fukutome. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Charged Particle Beam Device, Method for Processing Sample, and Observation Method

Номер патента: US20210190703A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Charged particle beam device and imaging method

Номер патента: US20230420215A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US20210202206A1. Автор: Hidekazu Takekoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Method and apparatus for automatically correcting charged-particle beam and method of controlling aberration corrector for charged-particle beam

Номер патента: US7355175B2. Автор: Kazuhiro Honda,Joachim Zach,Shinobu Uno,Natsuko Nakamura. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-04-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220165537A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Motonobu HOMMI,Kei Sakai,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Charged particle beam device

Номер патента: US11869745B2. Автор: Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Daisuke Bizen,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Charged particle beam device

Номер патента: US11694871B2. Автор: Wen Li,Ryo Kadoi,Naoya Ishigaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-04.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220059312A1. Автор: Wen Li,Ryo Kadoi,Naoya Ishigaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-24.

Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20230197400A1. Автор: Mitsuhiro Nakamura,Yusuke Seki,Keisuke TANUMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

A device for transforming a charged particle beam between a vortex beam condition and a plane wave beam condition

Номер патента: EP3909065A1. Автор: Vincenzo Grillo,Giulio POZZI,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2021-11-17.

Calibration method and charged particle beam system

Номер патента: US10014156B2. Автор: Naoki Hosogi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-07-03.

A device for transforming a charged particle beam between a vortex beam condition and a plane wave beam condition

Номер патента: WO2020144630A1. Автор: Vincenzo Grillo,Giulio POZZI,Rafal E. DUNIN-BORKOWSKI,Ebrahim Karimi,Amir H. TAVABI. Владелец: FORSCHUNGSZENTRUM JULICH GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Specimen stage-moving device for charged-particle beam system

Номер патента: EP1975974A3. Автор: Yoshinori Fujiyoshi,Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-09-29.

Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism

Номер патента: US20160056009A1. Автор: Shuichiro Fukutome. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Transport Device and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20220223369A1. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Sample introduction device and charged particle beam instrument

Номер патента: US9349568B2. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-05-24.

Sequencer for combining automated and manual-assistance jobs in a charged particle beam device

Номер патента: EP2693457A3. Автор: Richard Young,Ryan Tanner,Reinier Warschauer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-01-28.

Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems

Номер патента: US20240017301A1. Автор: Marc Smits,Johan Joost Koning,Chris Franciscus Jessica Lodewijk,Hindrik Willem Mook,Ludovic Lattard. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Alignment and registration targets for multiple-column charged particle beam lithography and inspection

Номер патента: US09478395B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising plasma generator, and method thereof

Номер патента: US20220115204A1. Автор: Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Disturbance compensation for charged particle beam devices

Номер патента: WO2024068547A1. Автор: Daniel Schwarz,Bernd Schindler,Maik Haeberlen,Lucas Harmsen,Steffen Balling,Maximilian Gnedel,Daniel Alexander Emmrich,Samuel Klamandt. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US09478392B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle beam apparatus and image forming method of charged particle beam apparatus

Номер патента: US09859094B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Takuma NISHIMOTO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam apparatus, image forming method using a charged particle beam apparatus, and image processing apparatus

Номер патента: US09633818B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: WO2023017107A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20180350554A1. Автор: Takeshi Sunaoshi,Haruhiko Hatano,Yoshihisa Orai,Takashi MIZUO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Charged particle beam device and aberration correction method for charged particle beam device

Номер патента: US20190214222A1. Автор: Hideyuki Kazumi,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Sample storage container, charged particle beam apparatus, and image acquiring method

Номер патента: US09564288B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Method for calibrating deflectors of a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: WO2023232257A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Robert TRAUNER,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-07.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160013010A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-14.

Charged-particle beam device for irradiating a charged particle beam on a sample

Номер патента: US09543113B2. Автор: Masashi Fujita,Seiichiro Kanno,Naoya Ishigaki,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam device with dark field detector

Номер патента: EP2560185A3. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: EP3047502A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: WO2015042051A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US20160064182A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Composite charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210151283A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Transmission charged particle beam apparatus, and method of aligning such a transmission charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230282443A1. Автор: Shanel Ondrej,Martin Schneider,Jan Jisa,Ondrej Baco. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362930A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US20150074523A1. Автор: Takahiro Inada,Hiroyuki Noda,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Noriko IIZUMI,Yayoi KONISHI,Ryuichiro Tamochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

Charged particle beam device

Номер патента: US20040238752A1. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US6963069B2. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-11-08.

Charged particle beam apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20170278678A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Charged particle beam device and charged particle beam device control method

Номер патента: US09881769B2. Автор: Tsutomu Saitou,Kenji Aoki,Mitsuhiro Nakamura,Kunji Shigeto,Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam apparatus, specimen observation system and operation program

Номер патента: US09792832B2. Автор: Takahiro Inada,Hiroyuki Noda,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Noriko IIZUMI,Yayoi KONISHI,Ryuichiro Tamochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US12142457B2. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

System and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11804358B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240079202A1. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220037111A1. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-02-03.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: EP4385056A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-06-19.

Method of aligning a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11901155B2. Автор: Remco Schoenmakers,Ondrej Machek,Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-13.

Light guide, detector having light guide, and charged particle beam device

Номер патента: US10593512B2. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-17.

Multi charged particle beam apparatus, and shape adjustment method of multi charged particle beam image

Номер патента: US9966228B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Charged particle beam adjusting method and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050236570A1. Автор: Takashi Doi,Yoshihiro Kimura,Noriaki Arai,Fumihiro Sasajima,Hidetoshi Morokuma. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200266027A1. Автор: Takahiro Jingu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam device, field curvature corrector, and methods of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2020078610A1. Автор: Benjamin John Cook,Thomas Kemen,Roman BARDAY. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2020-04-23.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: EP3332417A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-13.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: WO2018068506A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US11810752B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam apparatus and sample holding system

Номер патента: US20090309043A1. Автор: Hajime Shimada,Takashi NOBUHARA,Shouji Tomida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-12-17.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US20220189729A1. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210134555A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240062986A1. Автор: Tomohito Nakano,Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji,Naho TERAO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Operation methods of 2d pixelated detector for an apparatus with plural charged-particle beams and mapping surface potentials

Номер патента: US20240079204A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Oleg Krupin,Yongxin Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US11929231B2. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240194439A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Charged particle beam apparatus, and method and program for limiting stage driving range thereof

Номер патента: US10636619B2. Автор: Hiroyuki Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2020-04-28.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US10504695B2. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-10.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US20180330916A1. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Charged particle beam system, method for determining range for automatically searching for focal point position in charged particle beam device, and non-transitory storage medium recording program for causing computer system to determine range for automatically searching for focal position in charged particle beam device

Номер патента: US11195694B2. Автор: Kenji Obara,Kosuke Matsumoto,Takashi NOBUHARA,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-07.

Charged Particle Beam Device and Optical Examination Device

Номер патента: US20200161194A1. Автор: Koichi Taniguchi. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2020-05-21.

Precision substrate material multi-processing using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09881817B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190259567A1. Автор: Akira Nishioka,Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Naruo Watanabe,Masaki Mizuochi,Tomotaka SHIBAZAKI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Sample Holder, Intermembrane Distance Adjustment Mechanism, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240079201A1. Автор: Toshihiko Ogura,Mitsuhiro Nakamura,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20160103945A1. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Probe tip x-y location identification using a charged particle beam

Номер патента: US20230168274A1. Автор: Ronen BENZION,Michael BERKMYRE,Carlo FLORESCA,II Richard E Stallcup. Владелец: Innovatum Instruments Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210296084A1. Автор: Masahiro Kiyohara,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220367147A1. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-17.

Method for distortion measurement and parameter setting for charged particle beam imaging devices and corresponding devices

Номер патента: WO2024023116A1. Автор: Eugen Foca,Dmitry Klochkov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130206986A1. Автор: Makoto Suzuki,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-08-15.

Charged particle beam device

Номер патента: US11501950B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Takanori Kishimoto,Yohei Minekawa,Kohei CHIBA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Beam detector, multi charged particle beam irradiation apparatus, and beam detector adjustment method

Номер патента: US20240071714A1. Автор: Yasutaka Sato,Kiminobu Akeno. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240177964A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA,Minami UCHIHO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391140A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Takanori Kishimoto,Yohei Minekawa,Kohei CHIBA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Method for imaging wafer with focused charged particle beam in semiconductor fabrication

Номер патента: US20160365222A1. Автор: Ting-Tsung CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-15.

Dual beam systems and methods for decoupling the working distance of a charged particle beam device from focused ion beam geometry induced constraints

Номер патента: WO2023232282A1. Автор: Thomas Korb,Jens Timo NEUMANN,Eugen Foca,Alex Buxbaum,Dmitry Klochkov,Ramani Pichumani. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20160086766A1. Автор: Daisuke Kobayashi,Masashi Kimura,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Light Guide, Detector Having Light Guide, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200203120A1. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Specimen loading method, specimen stage, and charged particle beam device

Номер патента: US9916963B2. Автор: Noriyuki Inoue,Yoshiko Takashima. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Specimen Loading Method, Specimen Stage, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170154753A1. Автор: Noriyuki Inoue,Yoshiko Takashima. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-06-01.

Stage device, and charged particle beam device

Номер патента: US20230215684A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi,Tomotaka SHIBAZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Probe tip x-y location identification using a charged particle beam

Номер патента: EP4187573A1. Автор: Ronen BENZION,Richard E STALLCUP II,Michael BERKMYRE,Carlo FLORESCA. Владелец: Innovatum Instruments Inc. Дата публикации: 2023-05-31.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Charged particle beam generating apparatus, charged particle beam apparatus, high voltage generating apparatus, and high potential apparatus

Номер патента: US09548182B2. Автор: Takashi Onishi,Shunichi Watanabe,Minoru Kaneda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Charged particle beam apparatus and inspection method using the same

Номер патента: US09659744B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Shoji Hotta. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180247788A1. Автор: Yukitaka Shimizu,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US8000939B2. Автор: Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Charged particle beam writing apparatus, and method for detecting irregularities in dose of charged particle beam

Номер патента: US20150325407A1. Автор: Hideo Inoue,Hironori Mizoguchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device

Номер патента: US09673017B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09659746B2. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US20170278673A1. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7449692B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-11.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09570267B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US9934940B2. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Composite Charged Particle Beam Detector, Charged Particle Beam Device, and Charged Particle Beam Detector

Номер патента: US20170358421A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

On-axis illumination and alignment for charge control during charged particle beam inspection

Номер патента: US20180364564A1. Автор: Stefan Lanio,Alex Goldenshtein. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-12-20.

Stage device and charged particle beam apparatus using the stage device

Номер патента: US09627173B2. Автор: Hironori Ogawa,Shuichi Nakagawa,Tsukasa Sugawara,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11928801B2. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220261973A1. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Method of deconvoluting and restoring image observed in charged particle beam apparatus, image processing apparatus, and charged particle beam apparatus equipped with image processing apparatus

Номер патента: US20230109872A1. Автор: Ogawa Takashi,In Yong Park,Jun Hyeok HWANG. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240212966A1. Автор: Masahiro Fukuta,Tomoya IGARI,Takshi DOI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09715993B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391143A1. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US20170207064A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09805907B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US09881770B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam microprobe apparatus

Номер патента: US4670652A. Автор: Masahide Okumura,Satoru Fukuhara,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-06-02.

Workpiece holder, semiconductor fabricating apparatus, semiconductor inspecting apparatus, circuit pattern inspecting apparatus, charged particle beam application apparatus, calibrating substrate, workpiece holding method, circuit pattern inspecting method, and charged particle beam application method

Номер патента: US20030146382A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,YASUTSUGU Usami,Hiroyuki Shinada,Shuji Sugiyama,Atsuko Takafuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-08-07.

Multiple charged particle beam writing apparatus, multiple charged particle beam writing method, and computer readable recording media storing program

Номер патента: US20240242931A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09934935B2. Автор: Yasuo Kato,Hideo Inoue,Hayato Kimura,Ryoichi Yoshikawa,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same

Номер патента: US20030111614A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9892887B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190304740A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20180138010A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Scanning type charged particle beam microscope

Номер патента: US20020017606A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-14.

Method of examining a sample using a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11815479B2. Автор: Oleksii KAPLENKO,Mykola KAPLENKO,Tomá{hacek over (s)} Vystav{hacek over (e)}l,Ond{hacek over (r)}ej Machek,Jan Klusá{hacek over (c)}ek,Kristýna Bukvi{hacek over (s)}ová. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210043415A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Takafumi Miwa,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US9362085B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-07.

Cross-talk cancellation in multiple charged-particle beam inspection

Номер патента: US12080513B2. Автор: Wei Fang,BO Wang,Yongxin Wang,Lingling Pu,Zhonghua Dong. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing dac amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20100030522A1. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-02-04.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing DAC amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US8290743B2. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-16.

Charged particle beam device and image generation method

Номер патента: EP4148766A1. Автор: Kazuki Yagi,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI,Bryan W Reed. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Charged Particle Beam Device and Image Generation Method

Номер патента: US20230072991A1. Автор: Kazuki Yagi,Bryan W. Reed,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Beam blanker and method for blanking a charged particle beam

Номер патента: US20180151327A1. Автор: Christof Baur,Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-31.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US20240006149A1. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US11961709B2. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-16.

Monochromator for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20120318978A1. Автор: Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Multiple charged particle beam writing method and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230420217A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Charged particle beam adjustment method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20220068591A1. Автор: Takahito Nakayama,Ryoichi Kakehi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Charged particle beam detector with adaptive detection area for multiple field of view settings

Номер патента: WO2024094644A1. Автор: Jun Jiang,Kenichi Kanai,Yongxin Wang,Xiaoyu JI,Zhenyang Xia,Yongjian Zhou. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Semiconductor inspection device including a counter electrode with adjustable potentials used to obtain images for detection of defects, and inspection method using charged particle beam

Номер патента: US09846133B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Yuki Mori,Natsuki Tsuno,Toshiyuki Ohno,Hiroya Ohta,Renichi Yamada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-12-19.

Discharging method for charged particle beam imaging

Номер патента: US09460887B2. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20180277332A1. Автор: Toshiyuki Iwahori. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-09-27.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11810753B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-07.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061651A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US9190245B2. Автор: Takayuki Ohnishi,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US11664185B2. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: WO2004088709A1. Автор: Josef Sellmair. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-14.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: US7345436B2. Автор: Josef Sellmair. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2008-03-18.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180261421A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Ion source, ion beam processing/observation apparatus, charged particle beam apparatus, and method for observing cross section of sample

Номер патента: US20130284593A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Kaoru Umemura,Satoshi Tomimatsu,Koji Ishiguro,Noriyuki Kaneoka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Vibration damping system for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220208505A1. Автор: Hironori Ogawa,Terunobu Funatsu,Shuichi Nakagawa,Jun Etoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

A method for measuring and reducing angular deviations of a charged particle beam

Номер патента: WO2004072631A3. Автор: Zvika Rosenberg,Guy Eytan,Ofer Adan,Charles Archie,Roger Steele Cornell,Jason Mayer,Eric Solecky. Владелец: Eric Solecky. Дата публикации: 2004-10-28.

Charged particle beam lithography system and target positioning device

Номер патента: US9082584B2. Автор: Guido De Boer,Jerry Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-07-14.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing failure of blanking circuit

Номер патента: US10460902B2. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190237297A1. Автор: Takahito Nakayama,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230274909A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Hiroya Ohta,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230238205A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20060289753A1. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-12-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7208731B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-04-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070152150A1. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-07-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7064324B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-06-20.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210296076A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Charged particle source and charged particle beam device

Номер патента: US11990311B2. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7223976B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-05-29.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20060289754A1. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-12-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050045822A1. Автор: Takashi Onishi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2005-03-03.

Electron source, electron gun, and charged particle beam device

Номер патента: US20230352262A1. Автор: Hiroshi Morita,Kenji Tanimoto,Kenji Miyata,Takashi Doi,Shuhei Ishikawa,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga,Daigo KOMESU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Scanning type charged particle beam microscope

Номер патента: US6683307B2. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2004-01-27.

Sample holder, method for using sample holder, projection amount adjustment jig, projection amount adjustment method and charged particle beam device

Номер патента: US12080511B2. Автор: Hisayuki Takasu,Megumi Nakamura,Kento Horinouchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Sample holder and charged particle beam system

Номер патента: US12112917B2. Автор: Shuichi YUASA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US09466465B2. Автор: Keita IDENO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20200258713A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Kouichi Kurosawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160155608A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US20140131573A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-05-15.

Power supply module and charged particle beam device

Номер патента: US12132411B2. Автор: Wen Li,Ryo Kadoi,Naoya Ishigaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Charged particle beam device and arithmetic device

Номер патента: US09530614B2. Автор: Tomonori Nakano,Yoichi Ose,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US09494516B2. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-15.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230343548A1. Автор: Takuma Yamamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220037108A1. Автор: Takahiro Usui,Hiroyuki Chiba,Yuki Suda,Tatsuya Hirato. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Processing System and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230314128A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Masaya Goto,Kei Sakai,Junichi Kakuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US11348758B2. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-31.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160181062A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-23.

Segmented detector for a charged particle beam device

Номер патента: EP3329507A1. Автор: Nicholas C. Barbi,Richard B. Mott,Owen HEALY. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2018-06-06.

Systems and methods for tuning and calibrating charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2019110572A1. Автор: XIONG Xiao,Chien-Hung Chou,Van-Duc Nguyen,Dongdong WU,Chi Michael MAI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-06-13.

Systems and methods for tuning and calibrating charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200388462A1. Автор: XIONG Xiao,Chien-Hung Chou,Van-Duc Nguyen,Dongdong WU,Chi Michael MAI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-10.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160358745A1. Автор: Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-12-08.

Charged particle beam system

Номер патента: EP1577927A2. Автор: Diane K. Stewart,Ralph W Knowles,Brian T Kimball. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2005-09-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230411108A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Charged particle beam device, computer, and signal processing method for charged particle beam device

Номер патента: US11898974B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Charged-Particle Beam Lithographic System

Номер патента: US20150303027A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Blanking aperture array system and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240029999A1. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

High voltage power supply device and charged particle beam device

Номер патента: US20180366296A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-20.

Dischaging method for charged particle beam imaging

Номер патента: US20100288923A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Scanning charged-particle beam instrument

Номер патента: EP1071112A3. Автор: Atsushi Yamada,Toshiharu Kobayashi,Tsutomu Negishi,Norio Watanabe. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2001-04-18.

Charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20150311036A1. Автор: Keita IDENO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-29.

Stage device and charged particle beam device using the same

Номер патента: US9887064B2. Автор: Akira Nishioka,Nobuyuki Maki,Shuichi Nakagawa,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Stage Device and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20160365219A1. Автор: Akira Nishioka,Nobuyuki Maki,Shuichi Nakagawa,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-12-15.

Drawing data creation method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20170018404A1. Автор: Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-19.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Rotation angle measuring method of multi-charged particle beam image, rotation angle adjustment method of multi-charged particle beam image, and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09466461B2. Автор: Osamu Iizuka,Kenji Ohtoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam apparatus for measuring surface potential of a sample

Номер патента: US09799486B2. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam device and charged particle beam device noise source determination method

Номер патента: US20190341225A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272768A1. Автор: Masaaki Komatsu,Shin Imamura,Shuhei Yabu,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Method for localizing a region of interest in a sample and micromachining the sample using a charged particle beam

Номер патента: NL2032640B1. Автор: Pieter Hoogenboom Jacob,Benjamin Boltje Daan,Benjamin Van Der Wee Ernest. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2024-02-06.

Method for localizing a region of interest in a sample and micromachining the sample using a charged particle beam

Номер патента: WO2024025410A1. Автор: Jacob Pieter Hoogenboom,Daan Benjamin BOLTJE,Ernest Benjamin VAN DER WEE. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2024-02-01.

Assessment apparatus using a plurality of charged particle beams

Номер патента: EP4303908A1. Автор: Peter Paul HEMPENIUS,Martin Frans Pierre Smeets,Niels Johannes Maria BOSCH,Wouter Onno Pril,Erwin Slot,Thomas Izaak Fred HAARTSEN,Jasper Hendrik GRASMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US10109454B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-23.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US20170243714A1. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US11804355B2. Автор: Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242922A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242920A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Aligning charged particle beams

Номер патента: WO2010039339A3. Автор: Raymond Hill. Владелец: Carl Zeiss Smt Inc.. Дата публикации: 2010-06-10.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242933A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam irradiation method, method of manufacturing semiconductor device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050121610A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9812289B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9514915B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160365223A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160233052A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-11.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09548183B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150060690A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Signal charged particle deflection device, signal charged particle detection system, charged particle beam device and method of detection of a signal charged particle beam

Номер патента: US9805908B2. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20160111246A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210066045A1. Автор: Mitsuo Koike,See KEI LEE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11069513B2. Автор: Mitsuo Koike,See KEI LEE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-07-20.

Focusing apparatus for uniform application of charged particle beam

Номер патента: US4276477A. Автор: Harald A. Enge. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Multi-charged-particle-beam writing apparatus and multi-charged-particle-beam writing method

Номер патента: US11901156B2. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US20220102113A1. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US11574797B2. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Apparatus for magnetically scanning and/or switching a charged-particle beam

Номер патента: WO2002021565A9. Автор: Nicholas White,Philip Harvey,Edward Bell. Владелец: Diamond Semiconductor Group. Дата публикации: 2003-07-31.

Mounting substrate, blanking aperture array chip, blanking aperture array system and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20240013999A1. Автор: HIROFUMI Morita,Toshiki Kimura,Kazuhiro Chiba,Hayato Kimura,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam exposure including a heat blocking partition positioned near deflecting coils

Номер патента: US5338939A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Hisayasu Nishino,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-08-16.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7820978B2. Автор: Kazuya Goto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-10-26.

Charged particle beam multiple-pole deflection control circuitry

Номер патента: US5600146A. Автор: Thomas C. Russell,Joseph A. Felker. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1997-02-04.

Apparatus for magnetically scanning and/or switching a charged-particle beam

Номер патента: US20020109099A1. Автор: Nicholas White,Philip Harvey,Edward Bell. Владелец: Diamond Semiconductor Group LLC. Дата публикации: 2002-08-15.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Multiple charged particle beam writing method, and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190198294A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: EP1751784A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A3. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2006-03-23.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Limited. Дата публикации: 2005-12-15.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160336141A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens

Номер патента: EP2652486A1. Автор: Zhongwei Chen,Kenichi Kanai,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-10-23.

Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens

Номер патента: WO2012082169A1. Автор: Zhongwei Chen,Kenichi Kanai,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes-Microvision, Inc.. Дата публикации: 2012-06-21.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-24.

Systems and methods of cooling objective lens of a charged-particle beam system

Номер патента: US11764027B2. Автор: Sven Antoin Johan Hol,Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen,Dennis Herman Caspar Van Banning,Naseh Hosseini. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: EP1218918A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Charged particle beam deflection method with separate stage tracking and stage positional error signals

Номер патента: US20130266894A1. Автор: John C. Wiesner. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2013-10-10.

Immersion lens with magnetic shield for charged particle beam system

Номер патента: WO2002009135A2. Автор: Lee H. Veneklasen,William J. DeVore. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-01-31.

Charged-particle-beam optical systems

Номер патента: US6064071A. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Systems and methods of cleaning electron sources in charged-particle beam systems

Номер патента: EP4453989A1. Автор: Xuedong Liu,Zhidong DU. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-30.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

High resolution charged particle beam device and method of operating the same

Номер патента: US09595417B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-14.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09824849B2. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam apparatus and aberration corrector

Номер патента: US20170162362A1. Автор: Takaho Yoshida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09530611B2. Автор: Alexander Groholski,Raymond Hill,John A. Notte, IV,Mark D. DiManna,Robert Conners. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US5324950A. Автор: Tadashi Otaka,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-06-28.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180076002A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160071682A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190115185A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Charged particle beam apparatus and charged particle beam irradiation method

Номер патента: US6956211B2. Автор: Takashi Doi,Yoichi Ose,Hideo Todokoro,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi,Noriaki Arai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-18.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US9196458B2. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-24.

Ion pump and charged particle beam device using the same

Номер патента: US09837243B2. Автор: Souichi Katagiri,Takeshi Kawasaki,Takashi Ohshima,Keigo Kasuya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Electrode for a charged particle beam lens

Номер патента: WO2012176574A1. Автор: Kazushi Nomura. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-12-27.

Charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: EP1517353A3. Автор: Ralf Degenhardt,Jürgen Dr. Frosien,Stefan Dr. Lanio. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2005-03-30.

Aberration corrector and charged particle beam apparatus using the same

Номер патента: US20150248944A1. Автор: Tomonori Nakano,Hideo Kashima,Naomasa Suzuki,Hiroaki Baba,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-09-03.

Charged particle beam exposure device with aberration correction

Номер патента: GB2369241A. Автор: Kenichi Kawakami. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-05-22.

Charged particle beam exposure device with aberration correction

Номер патента: GB2352323A. Автор: Kenichi Kawakami. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2001-01-24.

Unipotential lens assembly for charged particle beam tubes and method for applying correction potentials thereto

Номер патента: CA1140197A. Автор: Kenneth J. Harte,David C. Bono,Marvin Fishbein. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1983-01-25.

Vacuum system for a charged particle beam recording system

Номер патента: CA1253196A. Автор: Andrew A. Tarnowski. Владелец: Image Graphics Inc. Дата публикации: 1989-04-25.

Charged particle beam lens and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20140166894A1. Автор: Takahisa Kato,Yutaka Setomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged particle beam lens and exposure apparatus using the same

Номер патента: WO2012124322A1. Автор: Takahisa Kato,Yutaka Setomoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-09-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Charged particle multi-beam apparatus including a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams

Номер патента: US09607806B2. Автор: Pieter Kruit,Aernout Christiaan Zonnevylle. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1801838A1. Автор: FANG Zhou. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2007-06-27.

Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam

Номер патента: US09666404B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A3. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M Bemis,Ronak J Bhatt. Владелец: Ronak J Bhatt. Дата публикации: 2008-08-21.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US09596746B2. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-14.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M. Bemis,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-05-22.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140166869A1. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US09916962B2. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multi-beam current quantity measuring method, multi-charged particle drawing control device, and multi-charged particle beam drawing device

Номер патента: US09734984B2. Автор: Hideyuki Iwata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US09601315B2. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus and method for irradiating a surface of a sample using charged particle beams

Номер патента: NL2016853B1. Автор: KRUIT Pieter,Wouter Hagen Cornelis,Scotuzzi Marijke. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2017-12-11.

Structure for Particle Acceleration And Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240242918A1. Автор: Kenji Tanimoto,Shuhei Ishikawa,Ryo Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US09583310B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A2. Автор: Anthony Renau,Joseph C. Olson,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2009-03-19.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A3. Автор: Anthony Renau,Joseph C Olson,Russell J Low,Piotr R Lubicki. Владелец: Piotr R Lubicki. Дата публикации: 2009-06-11.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US8237139B2. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-08-07.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20100290023A1. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09991086B2. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Method for depositing a film using a charged particle beam, method for performing selective etching using the same, and charged particle beam equipment therefor

Номер патента: US20070252092A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Muneyuki Fukuda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242919A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090212239A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-08-27.

Charged particle beam writing apparatus and method utilizing a sum of the weighted area density of each figure pattern

Номер патента: US09837247B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Multi-charged-particle-beam writing method, multi-charged-particle-beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US12046447B2. Автор: Taku Yamada,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Methods and devices for determining times for maintenance activity performed on a charged-particle-beam microlithography apparatus, and microelectronic-device-manufacturing methods comprising same

Номер патента: US6545274B1. Автор: Kenji Morita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Blanking system for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09697981B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11804361B2. Автор: Munehiro Ogasawara,Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: WO2015138362A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2015-09-17.

Gas blowingnozzle of charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus as well as working method

Номер патента: US20050167614A1. Автор: Takashi Kaito. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Charged particle beam writing apparatus, and apparatus and method for correcting dimension error of pattern

Номер патента: US20090200488A1. Автор: Takayuki Abe,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Charged particle beam drawing data production apparatus and charged particle beam drawing system

Номер патента: US5796408A. Автор: Makoto Kanno,Koichi Moriizumi,Kinya Kamiyama,Hironobu Taoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-08-18.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US09953800B2. Автор: Hideo Inoue,Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Yoshiaki Onimaru. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US09859100B2. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Charged particle beam apparatus, abnormality detecting method for da converter unit, charged particle beam writing method, and mask

Номер патента: US20070229337A1. Автор: Akira Noma,Yoshimasa SANMIYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Charged particle beam apparatus, abnormality detecting method for DA converter unit, charged particle beam writing method, and mask

Номер патента: US7463173B2. Автор: Akira Noma,Yoshimasa SANMIYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-09.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US20160150630A1. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Multi charged particle beam evaluation method, multi charged particle beam writing method, inspection method for aperture array substrate for multi charged particle beam irradiation apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230402253A1. Автор: HIROFUMI Morita,Yoshikuni GOSHIMA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Methods and systems for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: US20200051781A1. Автор: Akira Fujimura,Michael J. Meyer,Thang Nguyen,Ajay Baranwal,Suhas Pillai. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US20170309440A1. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US20060017002A1. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2006-01-26.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US11961627B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US7612346B2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2009-11-03.

Microfabricated template for multiple charged particle beam calibrations and shielded charged particle beam lithography

Номер патента: WO2000067291A2. Автор: Kim Y. Lee,Marian Mankos,Ho-Seob Kim,Lawrence Muray,T. H. P. Chang. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2000-11-09.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US20230386696A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Apparatus and methods for reducing Coulombic blur in charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6545282B2. Автор: Hiroyasu Simizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Charged-particle-beam microlithography apparatus and methods including optical corrections made during subfield exposures

Номер патента: US20010052579A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Teruaki Okino,Noriyuki Hirayanagi,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-12-20.

Charged particle beam processing method

Номер патента: EP2221849A3. Автор: Katsuhiro Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-06-13.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US8183545B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US20110046762A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US12009175B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Charged particle beam irradiation apparatus and irradiation method using the apparatus

Номер патента: US6323498B1. Автор: Kaneo Kageyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-27.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US20160111252A1. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Apparatus for chopping a charged particle beam

Номер патента: US4626690A. Автор: Hideo Todokoro,Tsutomu Komoda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-12-02.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20110031387A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography

Номер патента: US09612530B2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Irradiation system with ion beam/charged particle beam

Номер патента: US7423276B2. Автор: Takanori Yagita. Владелец: SEN Corp. Дата публикации: 2008-09-09.

Charged particle beam exposure method and method for producing charged particle beam exposure data

Номер патента: US20030160192A1. Автор: Atsushi Ando,Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US20090057576A1. Автор: Takayuki Abe,Tetsuo Yamaguchi,Fumio Hide. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160148785A1. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US7759659B2. Автор: Takayuki Abe,Tetsuo Yamaguchi,Fumio Hide. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-07-20.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US7164141B2. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2007-01-16.

Charged particle beam photolithography machine, standard substrate for correcting misalignment factor of charged particle beam photolithography machine, correcting method for charged particle beam photolithography machine, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20050211929A1. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2005-09-29.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20180166254A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: US20090085504A1. Автор: Frank Sinclair,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki,Stephen E. Krause. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2009-04-02.

Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced thermal deformation of mark-defining member

Номер патента: US20010052578A1. Автор: Teruaki Okino. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US20160284510A1. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Data generation method, charged particle beam irradiation device, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230053272A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Method and system for forming high precision patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20130205264A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US8158312B2. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2012-04-17.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US09779913B2. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US09564293B2. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US09558315B2. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Multi charged particle beam writing apparatus and method for correcting a current distribution of groups of charged particle beams

Номер патента: US9543119B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Stencil mask and charged particle beam exposure method and apparatus using the stencil mask

Номер патента: US5288567A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Kiichi Sakamoto,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-02-22.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20170103869A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-13.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US11756765B2. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,Abhishek Shendre,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US20110033789A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-02-10.

Data generation method and charged particle beam irradiation device

Номер патента: US11749499B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography

Номер патента: US09715169B2. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US11756766B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220319807A1. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180342371A1. Автор: Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20180033592A1. Автор: Tomoo Motosugi,Rumi ITO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140127914A1. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Control of exposure in charged-particle-beam microlithography based on beam-transmissivity of the reticle

Номер патента: US20020153496A1. Автор: Noriyuki Hirayanagi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-24.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US11908659B2. Автор: HIROFUMI Morita,Toshiki Kimura,Mitsuhiro Okazawa,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20090008568A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Method for generating backscattering intensity on the basis of lower layer structure in charged particle beam exposure, and method for fabricating semiconductor device utilizing this method

Номер патента: US20050040344A1. Автор: Kozo Ogino,Morimi Osawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Method for generating backscattering intensity on the basis of lower layer structure in charged particle beam exposure, and method for fabricating semiconductor device utilizing this method

Номер патента: US7205078B2. Автор: Kozo Ogino,Morimi Osawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-04-17.

Electron source and charged particle beam device

Номер патента: US11929230B2. Автор: Souichi Katagiri,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Akira Ikegami,Aki Takei,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged particle beam drawing apparatus and electrical charging effect correction method thereof

Номер патента: US20130032707A1. Автор: Hitoshi Higurashi,Noriaki Nakayamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-02-07.

Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: US10290467B2. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2019-05-14.

Charged particle beam pattern-transfer method utilizing non-uniform dose distribution in stitching region

Номер патента: US6162581A. Автор: Mamoru Nakasuji,Teruaki Okino. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-12-19.

Charged particle beam optical system

Номер патента: US6078054A. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20170200582A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Apparatus and method for calculating drawing speeds of a charged particle beam

Номер патента: US9589766B2. Автор: Hideyuki Tsurumaki. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20140359542A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-12-04.

Coverage calculating method, charged particle beam writing method, coverage calculating device, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20230369015A1. Автор: Kenichi Yasui,Yasuo Kato. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150014549A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20160260581A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-08.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20180108513A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-04-19.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190304748A1. Автор: Hideo Inoue,Ryoichi Yoshikawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20020028398A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-03-07.

Irradiation system with ion beam/charged particle beam

Номер патента: EP1662542A2. Автор: Masaki Ishikawa,Michiro Sugitani,Junichi Murakami,Mitsukuni Tsukihara,Takashi Nishi,Tetsuya Kudo,Mitsuaki Kabasawa,Takanori Yagita. Владелец: SEN Corp. Дата публикации: 2006-05-31.

Method of Calibrating Beam Position in Charged-Particle Beam System

Номер патента: US20090189062A1. Автор: Kazuya Goto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2009-07-30.

Methods for detecting incidence orthogonality of a patterned beam in charged-particle-beam (CPB) microlithography, and CPB microlithography systems that perform same

Номер патента: US20030085363A1. Автор: Teruaki Okino. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-05-08.

Method and System for Design of Enhanced Edge Slope Patterns for Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160195805A1. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-07-07.

Blanking aperture array and charged particle beam exposure method

Номер патента: US5262341A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Shunsuke Fueki,Kiichi Sakamoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-11-16.

Charged particle beam exposure method utilizing subfield proximity corrections

Номер патента: US6087052A. Автор: Yasuo Manabe,Hiromi Hoshino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-07-11.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US7049611B2. Автор: Tadashi Komagata. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2006-05-23.

Method for charged particle beam exposure with fixed barycenter through balancing stage scan

Номер патента: US5981118A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Nobuyuki Yasutake,Kazushi Ishida,Yoshihisa Ooae,Akiyoshi Tsuda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-11-09.

Charged particle beam drawing method and apparatus

Номер патента: US8188449B2. Автор: Shigehiro Hara,Jun Yashima,Akihito Anpo,Hitoshi Higurashi,Susumu Oogi,Hayato SHIBATA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-29.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US20230386784A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,Abhishek Shendre,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Blanking aperture array apparatus, charged particle beam lithography apparatus, and electrode testing method

Номер патента: US10068750B2. Автор: Masayoshi Ono. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-04.

Method and system of reducing charged particle beam write time

Номер патента: US11886166B2. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,Abhishek Shendre,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Charged particle beam drawing method and apparatus

Номер патента: US20110012031A1. Автор: Shigehiro Hara,Jun Yashima,Akihito Anpo,Hitoshi Higurashi,Susumu Oogi,Hayato SHIBATA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-01-20.

Methods for dividing a pattern in a segmented reticle for charged-particle-beam microlithography and reticles produced by such methods

Номер патента: US20020115309A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-22.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US9659745B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20150279617A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Data generation method, charged particle beam irradiation device, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11942305B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-26.

Charged particle beam drawing apparatus, format check apparatus and format check method

Номер патента: US20140319384A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-10-30.

Charged particle beam drawing apparatus, format check apparatus and format check method

Номер патента: US9715994B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for making partial full-wafer pattern for charged particle beam lithography

Номер патента: US6277530B1. Автор: Yasuhisa Yamada. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-08-21.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: US20200373122A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Method and system for determining a charged particle beam exposure for a local pattern density

Номер патента: WO2020240322A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2020-12-03.

Data generation method and charged particle beam irradiation device

Номер патента: US20220093360A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7652249B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20100102224A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-04-29.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Multiple charged particle beam writing apparatus and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US20220107569A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam lithography method

Номер патента: US09947509B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Shielding member having a charge control electrode, and a charged particle beam apparatus

Номер патента: US8563927B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2013-10-22.

Method for fracturing a pattern for writing with a shaped charged particle beam writing system using dragged shots

Номер патента: WO2011049735A2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2011-04-28.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20240242932A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US20150303019A1. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2015-10-22.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US09514908B2. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2016-12-06.

Charged particle beam apparatus, thin film forming method, defect correction method and device forming method

Номер патента: US20130224889A1. Автор: Tatsuya Shimoda,Yasuo Matsuki,Yoshihiro Koyama,Anto Yasaka,Ryo Kawajiri. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US11846736B2. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220244412A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230366841A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09824859B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09822443B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09556521B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09453281B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting same

Номер патента: US11740546B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09466464B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam treatment apparatus

Номер патента: US20190027339A1. Автор: Nagaaki Kamiguchi. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged particle beam treatment apparatus and method of adjusting path length of charged particle beam

Номер патента: US20150270098A1. Автор: Shinji Iwanaga. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US9673114B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Pattern writing apparatus using charged particle beam, and program-recorded readable recording medium

Номер патента: US20080067431A1. Автор: Tomoyuki Horiuchi,Takeshi Kurohori. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11774860B2. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20200278612A1. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190228947A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Multi-layer range measurement for characterizing charged particle beams

Номер патента: US09981146B2. Автор: Raymond P. Boisseau,John S. Gordon,Andrew Dart,Julia C. Nett. Владелец: PYRAMID TECHNICAL CONSULTANTS Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US20220216027A1. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2022-07-07.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and a non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US11961708B2. Автор: Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced coulomb effects

Номер патента: US20020187411A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Sumito Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-12.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20120006984A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Multi charged particle beam adjustment method, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US11804360B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240055220A1. Автор: Yuka II. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle detector, charged particle beam device, and mass spectrometer

Номер патента: US20190027351A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Hajime Kawano,Takashi Ohshima,Tomonobu Tsuchiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US20180233324A1. Автор: Hirohito Anze. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Apparatus for providing a protective layer for charged-particle-beam processing

Номер патента: EP1918981B1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-02-16.

Protective Layer For Charged Particle Beam Processing

Номер патента: US20120107521A1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2012-05-03.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: GB2582242A. Автор: Pearson David,Ferreira Joao,POCHON Sebastien. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2020-09-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Charged particle beam drawing method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20130065184A1. Автор: Rieko Nishimura,Satoshi Nakahashi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-03-14.

Vibration-suppressing mechanism to be attached to charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US20190145490A1. Автор: Toshihiko Shimizu,Hiroki Takahashi,Hironori Ogawa,Shuichi Nakagawa,Toshihiro Arisaka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20240055218A1. Автор: Yoshikuni GOSHIMA,John William Kay,Chising Lai,Yasuo Sengoku. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Scintillator for charged particle beam device and charged particle beam device

Номер патента: EP3998623A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-05-18.

Charged-particle beam lithography apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090057571A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230030651A1. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210183614A1. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20180307144A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Writing data generating method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200117095A1. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-16.

Methods for making reticle blanks, and for making reticles therefrom, for charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6355385B1. Автор: Shin-Ichi Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-03-12.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US20140237196A1. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-21.

Sample preparation for charged particle beam imaging

Номер патента: WO2024184398A1. Автор: Thomas Korb,Hyun Hwa Kim,Lakshmi Sravani MANTHA. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and method therefor

Номер патента: US09552963B2. Автор: Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Inspection method and inspection system using charged particle beam

Номер патента: US7526747B2. Автор: Mari Nozoe,Hiroyuki Shinada,Hidetoshi Nishiyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-04-28.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US8969837B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-03.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140361193A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-12-11.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20110253911A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-10-20.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: WO2013003102A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2013-01-03.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: US20190279841A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: EP2724197A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-04-30.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US7923704B2. Автор: Hitoshi Sunaoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-12.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US20090001293A1. Автор: Hitoshi Sunaoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-01.

Charged particle beam optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, control apparatus, control method, information generation apparatus, information generation method and device manufacturing method

Номер патента: US20200051780A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Charged particle beam optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, control apparatus, control method, information generation apparatus, information generation method and device manufacturing method

Номер патента: US20210225611A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2021-07-22.

Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography

Номер патента: US20140162466A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-06-12.

Method and system of reducing charged particle beam write time

Номер патента: WO2020128869A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2020-06-25.

Method and system of reducing charged particle beam write time

Номер патента: US20200201286A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Multicolumn charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170323760A1. Автор: Shinichi Kojima,Akio Yamada,Takamasa Sato,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Charged particle beam optical system, exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: US20200051774A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Device for measuring and quantitative profiling of charged particle beams

Номер патента: AU2003274679A1. Автор: Vinod Chandra Sahni,Shripad Rajaram Halbe. Владелец: India Atomic Energy Department of. Дата публикации: 2005-02-15.

Device for measuring and quantitative profiling of charged particle beams

Номер патента: WO2005013313A1. Автор: Vinod Chandra Sahni,Shripad Rajaram Halbe. Владелец: Secretary, Department of Atomic Energy. Дата публикации: 2005-02-10.

Method and system of reducing charged particle beam write time

Номер патента: US20210116884A1. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable,Nagesh Shirali,William E. Guthrie,Ryan Pearman. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Device for measuring and quantitative profiling of charged particle beams

Номер патента: EP1649487A1. Автор: Vinod Chandra Sahni,Shripad Rajaram Halbe. Владелец: India Atomic Energy Department of. Дата публикации: 2006-04-26.

Method and System for Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20130040241A1. Автор: Takahisa Hasegawa,Taichi Kiuchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20100084554A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-04-08.

Charged particle beam lithography apparatus, inspection apparatus and inspection method of pattern writing data

Номер патента: US20130264478A1. Автор: Yasuo Kato,Shigehiro Hara,Akihito Anpo,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Reticles for charged-particle beam microlithography

Номер патента: US6403268B1. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-06-11.

Charged-particle beam pattern writing method and apparatus with a pipeline process to transfer data

Номер патента: US7786453B2. Автор: Shinji Sakamoto,Shigehiro Hara,Hitoshi Higurashi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-08-31.

Reticle manipulators and related methods for conveying thin, circular reticles as used in charged-particle-beam microlithography

Номер патента: EP1398668A3. Автор: Hidekazu C/O Nikon Corporation Kikuchi,Akihiro C/O Nikon Corporation Yamamoto. Владелец: Sendai Nikon Corp. Дата публикации: 2008-12-10.

Reticles for charged-particle-beam microlithography that exhibit reduced warp at pattern-defining regions, and semiconductor-device-fabrication methods using same

Номер патента: US6459090B1. Автор: Yoshihiko Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-01.

Method for design and manufacture of a reticle using a two-dimensional dosage map and charged particle beam lithography

Номер патента: US8017286B2. Автор: Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2011-09-13.

Writing data generating method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US11789372B2. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Backscattered electron detector, apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising the same, and method thereof

Номер патента: US11854763B1. Автор: Wei Fang,Xiaoming Chen,Zhongwei Chen,Daniel Tang,Liang-Fu Fan. Владелец: Borries Pte Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Drawing data creation method and charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US10199199B2. Автор: Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-02-05.

Method and handling apparatus for placing patterning device on support member for charged particle beam imaging

Номер патента: US7868303B2. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan,Hsuan-Bin HUANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2011-01-11.

Method and handling apparatus for placing patterning device on support member for charged particle beam imaging

Номер патента: US20100090107A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan,Hsuan-Bin HUANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-04-15.

Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof

Номер патента: US09702695B2. Автор: Osamu Inoue,Takashi Takahama,Naoshi Itabashi,Miyako Matsui,Takahiro Kawasaki,Hiroki Kawada,Osamu Komuro,Katsumi Setoguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: US20220381654A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-01.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: EP4095940A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-11-30.

Method For Fracturing And Forming A Pattern Using Shaped Beam Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160103390A1. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Compact charged particle beam plasma multi-frequency antenna

Номер патента: CA3221290A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-12-08.

Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography

Номер патента: US9465297B2. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Test structure for charged particle beam inspection and method for fabricating the same

Номер патента: US20100102316A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2010-04-29.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20160334700A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork,Eldar Khaliullin,Anatoly Aadamov. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20130283219A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork,Eldar Khaliullin,Anatoly Aadamov. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-10-24.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: EP2283705A2. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-16.

Charged particle beam radiation system, synchrotron, and beam ejection method therefor

Номер патента: US09763316B2. Автор: Takuya Nomura,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi,Satoshi Totake,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8384053B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Vladimir Balakin. Дата публикации: 2013-02-26.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: WO2009142550A3. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Vladimir Yegorovich Balakin. Дата публикации: 2010-01-07.

Charged particle beam power transmission system

Номер патента: US11955813B2. Автор: Gregory E. Leyh. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-04-09.

Charged particle beam power transmission system

Номер патента: EP3942687A1. Автор: Gregory E. Leyh. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2022-01-26.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: EP2073612A2. Автор: Takahide Nakayama,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

Linear motors and stages comprising same that produce reduced magnetic fields at an optical axis for charged-particle-beam lithography

Номер патента: US20020047321A1. Автор: Atsushi Yamada. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-04-25.

Induction accelerating device and acceleration method of charged particle beam

Номер патента: US20110156617A1. Автор: Kota Torikai,Ken Takayama,Yoshio Arakida,Yoshito Shimosaki. Владелец: Inter University Research Institute Corp High Energy Accelerator Research Organization. Дата публикации: 2011-06-30.

Charged particle beam acceleration and extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8089054B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Dr Vladmir Balakin. Дата публикации: 2012-01-03.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: EP4309730A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-24.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: US20240024702A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-25.

Charged particle beam accelerator

Номер патента: RU2234204C1. Автор: А.Д. Канарейкин,Е.А. Ненашева. Владелец: Ненашева Елизавета Аркадьевна. Дата публикации: 2004-08-10.

Use of magnetic elements to shape and defocus charged particle beams

Номер патента: EP4308222A1. Автор: Joshua MCNEUR. Владелец: Varian Medical Systems Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Use of magnetic elements to shape and defocus charged particle beams

Номер патента: WO2022197484A1. Автор: Joshua MCNEUR. Владелец: Varian Medical Systems, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Charged particle beam therapy and magnetic resonance imaging

Номер патента: RU2681075C2. Автор: Йоханнес Адрианус ОВЕРВЕГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-01.

Charged-particle beam irradiation device

Номер патента: US20140058186A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09566453B2. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Vibration isolated table for a charged particle beam apparatus provided with a shock protection element and shock protection element

Номер патента: US20050121592A1. Автор: Johannes Van Der Ven,Albertus Dirks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

IC analysis system having charged particle beam apparatus for improved contrast image

Номер патента: US5640539A. Автор: Akira Goishi,Masayuki Kurihara,Koshi Ueda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A2. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-02-11.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A3. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-04-07.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20210299480A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged-particle-beam analysis device and analysis method

Номер патента: US09752997B2. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Energy degrader and charged particle beam irradiation system equipped therewith

Номер патента: US09390826B2. Автор: Takamasa Ueda,Takuya Miyashita. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Charged-particle beam irradiation device, charged-particle beam irradiation method, and computer readable medium

Номер патента: US20120049091A1. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Charged particle beam irradiating apparatus

Номер патента: US20100072389A1. Автор: Toshiaki Ochi,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

Charged-particle beam therapy apparatus and method for controlling charged-particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20150265855A1. Автор: Masanori Tachibana,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Charged particle beam irradiation system

Номер патента: EP4052758A1. Автор: Takashi Yamaguchi,Masayuki Araya,Shouhei MIZUTANI,Yuya SUGAMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20100288946A1. Автор: Hisashi Harada,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2010-11-18.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US8941086B2. Автор: Satoru YAJIMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-01-27.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US20200016431A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: EP3600544A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-02-05.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US20220134132A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US11904183B2. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: WO2018182429A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Mask for projection system using charged particle beam

Номер патента: US5728492A. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Charged-particle-beam projection-lens system exhibiting reduced blur and geometric distortion, and microlithography apparatus including same

Номер патента: US20010038080A1. Автор: Atsushi Yamada,Koichi Kamijo,Hiroyasu Simizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-08.

Mask for charged particle beam exposure, and method of forming the same

Номер патента: US20050008946A1. Автор: Kenichi Morimoto,Yoshinori Kinase,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-01-13.

Charged particle beam test system

Номер патента: US6163159A. Автор: Masahiro Seyama. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2000-12-19.

Method and system for forming high accuracy patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: WO2012051082A2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2012-04-19.

Charged particle beam scanning apparatus

Номер патента: CA1104728A. Автор: Katsuhiro Ono. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-07-07.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with multiple exposure passes

Номер патента: US20130284947A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Charged particle beam device

Номер патента: EP3779403A1. Автор: Toshie Yaguchi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Pattern Height Measurement Device and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170211929A1. Автор: Katsuhiro Sasada,Hiroki Kawada,Takenori Hirose,Shou Takami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Charged particle beam welding with beam deflection around weld pool retainers

Номер патента: US4223199A. Автор: Karl-Heinz Steigerwald,Wilhelm Scheffels. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1980-09-16.

Method and System for Forming High Accuracy Patterns Using Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20140223393A1. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-08-07.

Masks for charged-particle beam microlithography

Номер патента: US5798194A. Автор: Mamoru Nakasuji,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Charged particle beam device

Номер патента: US7838829B2. Автор: Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-11-23.

Methods for fabricating reticle blanks for use in making charged-particle-beam microlithography reticles, and reticle blanks and reticles formed using such methods

Номер патента: US6428937B1. Автор: Norihiro Katakura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US8288725B2. Автор: Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20110062327A1. Автор: Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Ionizing charge-particle beam current transducer

Номер патента: RU2012168C1. Автор: Г.И. Сергеев,В.А. Москалев. Владелец: Научно-исследовательский институт интроскопии Томского политехнического университета. Дата публикации: 1994-04-30.

Method for cooling charge-particle beam

Номер патента: RU2058676C1. Автор: Икегами Хидецугу. Владелец: Икегами Хидецугу. Дата публикации: 1996-04-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.