Method for manufacturing semiconductor HEMT device with stoichiometric silicon nitride layer
Номер патента: US9514930B2
Опубликовано: 06-12-2016
Автор(ы): Kozo Makiyama
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-12-2016
Автор(ы): Kozo Makiyama
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor HEMT device with stoichiometric silicon nitride layer
Номер патента: US9224668B2. Автор: Kozo Makiyama. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-12-29.