저압 화학 증기 증착장치

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Metal organic chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240167159A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2024118468A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: WO2024118472A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: US20240175133A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: US20240175132A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Apparatus for low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US5441570A. Автор: Chul-Ju Hwang. Владелец: Jein Technics Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: EP4208583A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: CA3193161A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10480065B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

Vertical chemical vapor deposition apparatus having nozzle for spraying reaction gas toward wafers

Номер патента: US20090159004A1. Автор: Takahiro Yoshioka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

Species controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US20170327950A1. Автор: Keith Daniel Humfeld,De'Andre James Cherry. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-16.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Exhaust system for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4608063A. Автор: Takashi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4539933A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-09-10.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Chemical vapor deposition system cleaner

Номер патента: US5109562A. Автор: John W. Albrecht. Владелец: C V D System Cleaners Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: CA1216419A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-01-13.

Single ended ultra-high vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd) reactor

Номер патента: US5181964A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-01-26.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: SE2250842A1. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Choolakkal Arun Haridas. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-05.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A2. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-11.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: US20240060178A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: EP4328351A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A3. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-02-29.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US5871586A. Автор: John A. Crawley,Victor J. Saywell. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-16.

Gas delivering apparatus for chemical vapor deposition

Номер патента: US6123776A. Автор: Kuen-Jian Chen,Horng-Bor Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical vapor deposition manifold

Номер патента: US6024799A. Автор: Karl Anthony Littau,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US8778079B2. Автор: Michael J. Begarney,Frank J. Campanale. Владелец: Valence Process Equipment Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: CA1268688A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-08.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: US4705700A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-10.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: US4694778A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

Chemical vapor deposition chamber having an adjustable flow flange

Номер патента: US6080241A. Автор: Tingkai Li,Dane C. Scott,Brian Wyckoff. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US7217326B2. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-15.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20040200413A1. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-10-14.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US4638762A. Автор: Montri Viriyayuthakorn,Myung K. Kim. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Chemical vapor deposition apparatus for flat display

Номер патента: CN101016622A. Автор: 金南珍,金俊洙. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Multiple Chamber System for Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond and Related Materials

Номер патента: US20230392255A1. Автор: William Holber. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230105104A1. Автор: Jinsan Moon,Wonbae Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-04-06.

Wafer carrier for metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: EP3907308A1. Автор: Yuxi Wan,Zetao PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

Chemical vapor deposition process for producing diamond

Номер патента: US11905594B2. Автор: Neil Fox,Hugo DOMINGUEZ ANDRADE,Thomas B SCOTT,Edward JD MAHONEY,Alexander CROOT. Владелец: University of Bristol. Дата публикации: 2024-02-20.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Method of making a titanium dioxide oxygen sensor element by chemical vapor deposition

Номер патента: US4504522A. Автор: William J. Kaiser,Eleftherios M. Logothetis. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1985-03-12.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US4547404A. Автор: Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film

Номер патента: US5209182A. Автор: Tomohiro Ohta,Eiichi Kondoh,Kenichi Otsuka,Tohru Mitomo,Hiroshi Sekihashi. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-05-11.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1087040A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: Vale Canada Ltd. Дата публикации: 1980-10-07.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4250210A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: International Nickel Co Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Deposition of silicon nitride by plasma-enchanced chemical vapor deposition

Номер патента: US5508067A. Автор: Atsushi Tabata,Tatsuya Sato,Naoaki Kobayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Chemical vapor deposition method

Номер патента: US3565676A. Автор: Robert A Holzl. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1971-02-23.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: US5071677A. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,John L. Margrave,C. Judith Chu. Владелец: Houston Advanced Research Center HARC. Дата публикации: 1991-12-10.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: WO1992019791A1. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,Judith C. Chu,John L. Margrave. Владелец: Houston Advanced Research Center. Дата публикации: 1992-11-12.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane

Номер патента: US5191099A. Автор: Everett C. Phillips,Wayne L. Gladfelter. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1993-03-02.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US11851763B2. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical vapor deposition of perovskite thin films

Номер патента: US20190074439A1. Автор: Xiao Chen,Parag Banerjee,Peifu Cheng,Yoon Myung. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2019-03-07.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US20240076779A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-03-07.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment

Номер патента: PL2778254T3. Автор: Vladimir Gorokhovsky,William Grant,Edward Taylor. Владелец: Vapor Technologies Inc. Дата публикации: 2016-07-29.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US11661655B2. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-05-30.

Metal organic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP3652358A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-05-20.

Method for purge clean of low pressure furnace

Номер патента: US20230265557A1. Автор: Yuhong LANG,Xinxing TU. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Low pressure induction carburization

Номер патента: US20170130316A1. Автор: Alan J. Gomez. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2017-05-11.

Few-particle-induced low-pressure teos process

Номер патента: US20020058398A1. Автор: Yi Chung,Ching-Cheng Hsieh,Pei-Feng Sun,Jen Chang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2002-05-16.

Temperature-controlled purge gate valve for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20090205563A1. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Plasma-activated chemical vapor deposition of fluoridated cyclic siloxanes

Номер патента: US5230929A. Автор: Gerardo Caporiccio,Riccardo D'agostino,Pietro Favia. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1993-07-27.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Method for etching and controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US4468283A. Автор: Irfan Ahmed. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

Inverted positive vertical flow chemical vapor deposition chamber

Номер патента: CA1209330A. Автор: James D. Parsons. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1986-08-12.

Equipment for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20070002277A. Автор: 나민재. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-01-05.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US11885018B2. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-01-30.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof

Номер патента: US20210355581A1. Автор: Hongping Zhao,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2021-11-18.

High density low pressure plasma sprayed focal tracks for x-ray anodes

Номер патента: WO2008094539A2. Автор: Albert Sickinger,Rajan Bamola. Владелец: Rajan Bamola. Дата публикации: 2008-08-07.

High density low pressure plasma sprayed focal tracks for X-ray anodes

Номер патента: US20080181366A1. Автор: Albert Sickinger,Rajan Bamola. Владелец: Surface Modification Systems Inc. Дата публикации: 2008-07-31.

Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US10208398B2. Автор: Daisuke Muto,Jun NORIMATSU. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-02-19.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US6903462B2. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US20090039517A1. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Pyrolytic chemical vapor deposition of silicone films

Номер патента: US6045877A. Автор: Karen K. Gleason,Michael C. Kwan. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2000-04-04.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: EP3870355A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2021-09-01.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: CA3117377A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2020-04-30.

Low-pressure distribution system and method

Номер патента: WO2020248043A1. Автор: Benoit Boucher,François R. COTE. Владелец: 11814192 Canada Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: US20210402362A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2021-12-30.

Low-pressure ultraviolet emitter with multiple threads

Номер патента: RU2689980C1. Автор: Ян Борис ЛЁЗЕНБЕК. Владелец: Ксилем Ай Пи Менеджмент С.А Р.Л.. Дата публикации: 2019-05-30.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Manufacturing ultramicrocellular polymer foams at low pressure

Номер патента: EP1114086A1. Автор: Y. Paul Handa,Zhiyi Zhang. Владелец: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA. Дата публикации: 2001-07-11.

Manufacturing ultramicrocellular polymer foams at low pressure

Номер патента: WO2000012596A1. Автор: Y. Paul Handa,Zhiyi Zhang. Владелец: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA. Дата публикации: 2000-03-09.

Highly tunable dry adhesion of soft hollow pillars through sidewall buckling under low pressure

Номер патента: US20240093065A1. Автор: Wanliang Shan,Guangchao Wan. Владелец: SYRACUSE UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-21.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Chemical vapor deposition reactor in polysilicon production process

Номер патента: US20240084480A1. Автор: David Keck,Chad Fero. Владелец: Advanced Material Solutions. Дата публикации: 2024-03-14.

Method for preparing high-strength coral aggregate concrete under low pressure condition

Номер патента: US20210163359A1. Автор: Jin Yi,Lei Wang,Ping Chen,Dapeng Yu. Владелец: GUILIN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2021-06-03.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Chemical vapor deposition graphene foam electrodes for pseudo-capacitors

Номер патента: US9263196B2. Автор: Thomas A. Yager. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-02-16.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

High temperature and low pressure superconductor

Номер патента: WO2023064019A2. Автор: Liyanagamage R. Dias. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-04-20.

Device for generating high pressure ozone water by using low pressure ozone gas source

Номер патента: US20160039692A1. Автор: Mingyung Hsu. Владелец: Biotek Environmental Science Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Device for generating high pressure ozone water by using low pressure ozone gas source

Номер патента: US09695074B2. Автор: Mingyung Hsu. Владелец: Biotek Environmental Science Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Vacuum freezing process with multiple phase transformations of low pressure vapor

Номер патента: US4420318A. Автор: Sing-Wang Cheng,Chen-yen Cheng. Владелец: Cheng Sing Wang. Дата публикации: 1983-12-13.

Vacuum freezing process with multiple phase transformations of low pressure vapor

Номер патента: CA1189014A. Автор: Sing-Wang Cheng,Chen-yen Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-06-18.

Internal coating of a glass tube by plasma pulse-induced chemical vapor deposition

Номер патента: US5059231A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Hartmut Bauch. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-10-22.

Vapor phase epitaxial growth method by organometallic chemical vapor deposition

Номер патента: CA1242623A. Автор: Yoshinobu Matsuda,Akio Sasaki,Shigeo Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: US20160329456A1. Автор: Moon Chun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-10.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: WO2016182824A1. Автор: Moon Chun. Владелец: SunPower Corporation. Дата публикации: 2016-11-17.

Low pressure method annealing diamonds

Номер патента: WO2009045445A9. Автор: Russell J. Hemley,Ho-Kwang Mao,Chih-shiue Yan,Yu-fei MENG. Владелец: CARNEGIE INSTITUTION OF WASHINGTON. Дата публикации: 2010-05-14.

High efficiency / low pressure catalytic cracking spray nozzle assembly

Номер патента: RU2671748C2. Автор: Марк ЛАКРУА. Владелец: Спрэинг Системс Ко.. Дата публикации: 2018-11-06.

Method of production of 3-dimethylaminopropylamine at low pressure

Номер патента: RU2326108C2. Автор: Грегори Дж. УОРД,Брайан К. БЛАНЧАРД. Владелец: Солютиа Инк.. Дата публикации: 2008-06-10.

High pressure-low pressure steam system for extended claus sulfur recovery plant

Номер патента: CA2026555C. Автор: Paul T. Pendergraft. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 1998-06-02.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Chemical vapor deposition method for fabricating two-dimensional materials

Номер патента: EP3443138A1. Автор: Nigel Pickett,Ombretta Masala,Nicky Prabhudas SAVJANI. Владелец: Nanoco Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Water-cooled mold for low-pressure casting of aluminum alloy wheel

Номер патента: US20190291173A1. Автор: Changhai Li,LIN ZHU,Hongbiao Li,Baojun Shi. Владелец: CITIC Dicastal Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Method and apparatus for producing a low pressure gas discharge lamp

Номер патента: WO1996011885A1. Автор: Julian Pascoe Grenfell. Владелец: Stt Badalex Limited. Дата публикации: 1996-04-25.

Low pressure process for the manufacture of 2-(aminomethyl)-1-cyclopentylamine

Номер патента: EP1644315A1. Автор: Ronald L. Amey,Jr. Ronald H. Mattson. Владелец: Invista Technologies SARL USA. Дата публикации: 2006-04-12.

Aluminum alloy for low-pressure casting

Номер патента: US20190233920A1. Автор: Akihiro Minagawa,Toshio Ushiyama. Владелец: Uacj Foundry & Forging Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Dry etching of transparent electrodes in a low pressure plasma reactor

Номер патента: WO1998000874A1. Автор: John P. Holland,Alex T. Demos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-01-08.

Fining glass using high temperature and low pressure

Номер патента: AU2020375792A1. Автор: Zhongming Wang,Scott Weil. Владелец: Owens Brockway Glass Container Inc. Дата публикации: 2021-12-23.

Low-pressure discharge lamp having improved efficiency

Номер патента: WO2007069120A3. Автор: Thomas Juestel,Jacqueline Merikhi. Владелец: Jacqueline Merikhi. Дата публикации: 2007-10-18.

Fining glass using high temperature and low pressure

Номер патента: ZA202110891B. Автор: Wang Zhongming,Weil Scott. Владелец: Owens Brockway Glass Container. Дата публикации: 2023-11-29.

Fining Glass Using High Temperature and Low Pressure

Номер патента: US20210292209A1. Автор: Zhongming Wang,Scott Weil. Владелец: Owens Brockway Glass Container Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Fining glass using high temperature and low pressure

Номер патента: CA3144526A1. Автор: Zhongming Wang,Scott Weil. Владелец: Owens Brockway Glass Container Inc. Дата публикации: 2021-05-06.

Fining glass using high temperature and low pressure

Номер патента: EP4051644A1. Автор: Zhongming Wang,Scott Weil. Владелец: Owens Brockway Glass Container Inc. Дата публикации: 2022-09-07.

Fining glass using high temperature and low pressure

Номер патента: WO2021086819A1. Автор: Zhongming Wang,Scott Weil. Владелец: Owens-Brockway Glass Container Inc.. Дата публикации: 2021-05-06.

Urea production process and plant with heat integration in low pressure recovery section

Номер патента: CA3124342C. Автор: Fredericus Henricus Maria Buitink,Rahul Patil. Владелец: Stamicarbon BV. Дата публикации: 2023-01-03.

Process for transporting particulate material from a low pressure zone to a gas-containing elevated pressure zone

Номер патента: US4548529A. Автор: Maarten J. VAN DER Burgt. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 1985-10-22.

Low-pressure heat pipes and heat transfer methods using low-pressure for heat pipes

Номер патента: WO2022061127A1. Автор: Tao Liu,YONG ZHOU,Enxin LIN. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2022-03-24.

Low-pressure heat pipes and heat transfer methods using low-pressure for heat pipes

Номер патента: US20220107138A1. Автор: Tao Liu,YONG ZHOU,Enxin LIN. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Low-pressure heat pipes and heat transfer methods using low-pressure for heat pipes

Номер патента: EP4214457A1. Автор: Tao Liu,YONG ZHOU,Enxin LIN. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2023-07-26.

Process for the manufacture of wax-like oxidation products from solid low pressure polyolefines

Номер патента: GB951308A. Автор: . Владелец: Farbwerke Hoechst AG. Дата публикации: 1964-03-04.

Solving production downtime with parallel low pressure sensors

Номер патента: US5808204A. Автор: Shen-Yan Chang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1998-09-15.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Low-pressure turbine of gas turbine motor

Номер патента: RU2342547C2. Автор: Жак БАРТ,Бруно БЁТИН,Филипп БУИЙЕР. Владелец: Снекма Моторс. Дата публикации: 2008-12-27.

Household electric appliance with high/low-pressure function

Номер патента: EP3875762A1. Автор: Shiqing Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-08.

Household electric appliance with high/low-pressure function

Номер патента: US20210396220A1. Автор: Shiqing Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-23.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Control system of low pressure fuel pump for gasoline direct injection engine and method thereof

Номер патента: US09938949B2. Автор: Jeong Ho Kim,Heesup Kim. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2018-04-10.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Low-pressure chamber rotary compressor and air conditioner

Номер патента: US20240271621A1. Автор: Yingxue LUO. Владелец: Guangzhou Deshan Cnc Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Annular barrier and well system for low pressure zone

Номер патента: RU2728157C2. Автор: Рикарду Ревис ВАСКИС. Владелец: Веллтек Ойлфилд Солюшнс АГ. Дата публикации: 2020-07-28.

Pressure exchanger low pressure flow control

Номер патента: US20200063545A1. Автор: Rod William Shampine. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Utilizing high pressure subsea reservoir energy to support low-pressure subsea production wells

Номер патента: WO2023149867A1. Автор: Nikhil DAYANAND. Владелец: Chevron U.S.A. INC.. Дата публикации: 2023-08-10.

Method of low pressure bleed

Номер патента: US09650967B2. Автор: Gregory L. Defrancesco. Владелец: Hamilton Sundstrand Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Gas turbine engine with low pressure compressor stages

Номер патента: US11994034B2. Автор: Ghislain Plante,Ian Macfarlane. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Gas turbine engine with low pressure compressor stages

Номер патента: CA3055857A1. Автор: Ian A. Macfarlane,Ghislain Plante. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2020-04-11.

Two-spool design for a turboshaft engine with a high-pressure compressor connected to a low-pressure turbine

Номер патента: US09964033B2. Автор: Remy Princivalle. Владелец: Turbomeca SA. Дата публикации: 2018-05-08.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: EP4417800A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Jeffrey Clements,Pranav KAMAT. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-21.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240337228A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-10-10.

Motorized pressure exchanger with a low-pressure centerbore

Номер патента: US12104622B2. Автор: Alexander Patrick THEODOSSIOU. Владелец: Energy Recovery Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Turbofan jet engine with low pressure shaft passing outside of core engine

Номер патента: US09828911B2. Автор: Sascha Burghardt. Владелец: Rolls Royce Deutschland Ltd and Co KG. Дата публикации: 2017-11-28.

Gas turbine engine with low-pressure compressor bypass

Номер патента: CA3166957A1. Автор: Daniel Coutu. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2023-01-21.

Low-pressure gas discharge lamp comprising halides of indium and sodium

Номер патента: WO2006111902A3. Автор: Robert Scholl. Владелец: Robert Scholl. Дата публикации: 2007-03-08.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240280058A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240287940A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-29.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240287941A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-29.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240280056A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240280057A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US20240280055A1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US12123357B2. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-10-22.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US12123358B2. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D. Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-10-22.

Low-pressure drip irrigation watering system

Номер патента: RU2719029C1. Автор: Михаил Иванович Голубенко. Владелец: Михаил Иванович Голубенко. Дата публикации: 2020-04-16.

Visualization and enhancement of latent fingerprints using low pressure dye vapor deposition

Номер патента: US8507028B2. Автор: Calvin Thomas Knaggs. Владелец: Linde North America Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Valve having high pressure and low pressure seals

Номер патента: EP2394078A1. Автор: Richard A. Bucher,Kerry L. Dewitt,Richard R. Weston,Heng Yung. Владелец: Victaulic Co. Дата публикации: 2011-12-14.

Gas turbine engine with mount for low pressure turbine section

Номер патента: EP2920445A1. Автор: Frederick M. Schwarz,Jorn A. Glahn. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Low-pressure casting furnace system

Номер патента: US20200316680A1. Автор: Oliver Johnson,Ted KAHAIAN. Владелец: Tooling and Equipment International Inc. Дата публикации: 2020-10-08.

High flow low pressure suction device

Номер патента: EP3687884A1. Автор: Ujjawal AGGARWAL. Владелец: Wcb Robotics Inc. Дата публикации: 2020-08-05.

Low pressure shaft

Номер патента: US09951688B2. Автор: Andrzej Gorecki. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2018-04-24.

Low-pressure water head unit, especially for water atomization during snow making

Номер патента: WO2020036500A3. Автор: Jarosław Henryk WARDAS. Владелец: Wardas Jaroslaw Henryk. Дата публикации: 2020-05-14.

Starter for Low-Pressure Discharge Lamps

Номер патента: US20080129228A1. Автор: Axel Girstenbreu,Stefano Florian. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 2008-06-05.

Vehicle low pressure brake arrangement

Номер патента: US09656638B2. Автор: Yngve Haland,Erik Rydsmo,Christian Svensson,Dan Bråse. Владелец: Autoliv Development AB. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and device for pinpointing of turbojet low-pressure fuel pump and turbojet with said device

Номер патента: RU2528219C2. Автор: Жонатан БЕНИТА. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2014-09-10.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Low-pressure dryer and low-pressure drying method

Номер патента: US6986214B2. Автор: Takahiro Kitano,Hiroshi Shinya,Tomohide Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-17.

Low-pressure dryer and low-pressure drying method

Номер патента: US20030172542A1. Автор: Takahiro Kitano,Hiroshi Shinya,Tomohide Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-09-18.

Metal and metal silicide nitridization in a high density, low pressure plasma reactor

Номер патента: EP1016130A1. Автор: Ching-Hwa Chen,Yun-Yen Jack Yang,Yea-Jer Arthur Chen. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Method and ballast for feeding a uv light low pressure radiator

Номер патента: US20030057868A1. Автор: Dirk Riepe,Jan Rudkowski. Владелец: Wedeco AG. Дата публикации: 2003-03-27.

High-pressure to low-pressure line set joining tool for air conditioning and refrigeration systems and methods

Номер патента: US20220128284A1. Автор: Ryan Irons. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-28.

Low pressure molded article and method for making same

Номер патента: US20240192510A1. Автор: Stephen Andrew Steger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-13.

Low pressure continuous dense phase convey system using a non-critical air control system

Номер патента: WO2011140077A2. Автор: Jonathan Thorn. Владелец: Mac Equipment, Inc.. Дата публикации: 2011-11-10.

Method and ballast for feeding a uv light low pressure radiator

Номер патента: AU4046201A. Автор: Dirk Riepe,Jan Boris Rudkowski. Владелец: Wedeco AG. Дата публикации: 2001-10-23.

Separation system between the high-pressure chamber and the low-pressure chamber in a volumetric pump

Номер патента: EP2211059A3. Автор: Stefano Copelli,Vittorio Andreis. Владелец: Fluid O Tech SRL. Дата публикации: 2014-08-06.

Low pressure discharge lamp comprising a metal halide

Номер патента: WO2005117065A3. Автор: Rainer Hilbig,Johannes Baier,Achim Gerhard Rolf Koerber,Robert Peter Scholl,Stefan Schwan. Владелец: Stefan Schwan. Дата публикации: 2007-04-05.

Spray foams made from low pressure plural component applicator systems

Номер патента: US12059699B2. Автор: David H. Faulkner,James F. Peterson,Thomas Joseph Peters. Владелец: Spray Foam Systems LLC. Дата публикации: 2024-08-13.

MEMS microphone with low pressure region between diaphragm and counter electrode

Номер патента: US09986344B2. Автор: Alfons Dehe,Andreas Froemel. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-05-29.

Mattress system including low pressure communication air chamber

Номер патента: US09814642B2. Автор: William Purdy,Robert Purdy. Владелец: Molnycke Health Care AB. Дата публикации: 2017-11-14.

Multi-stage turbocharger system with off-engine low pressure stage

Номер патента: US09790847B2. Автор: David P. Genter,David P. Richter,Andrew Kitchen. Владелец: Cummins Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Low pressure starter device for pneumatic pumps

Номер патента: US20220082095A1. Автор: Alberto Gonzalez-Moratiel Alvarez. Владелец: Samoa Industrial SA. Дата публикации: 2022-03-17.

Low pressure starter device for pneumatic pumps

Номер патента: CA3127164A1. Автор: Alberto Gonzalez-Moratiel Alvarez. Владелец: Samoa Industrial SA. Дата публикации: 2020-07-30.

Low-pressure starter device for pneumatic pumps

Номер патента: AU2020211110A1. Автор: Alberto Gonzalez-Moratiel Alvarez. Владелец: SAMOA INDUSTRIAL S A. Дата публикации: 2021-07-29.

Low pressure starter device for pneumatic pumps

Номер патента: US11913442B2. Автор: Alberto Gonzalez-Moratiel Alvarez. Владелец: Samoa Industrial SA. Дата публикации: 2024-02-27.

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

Low-pressure direct steam generator

Номер патента: WO2019212441A3. Автор: Mustafa Gümüs. Владелец: Guemues Mustafa. Дата публикации: 2020-02-27.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Engine having low pressure EGR system and control method thereof

Номер патента: US09726090B2. Автор: Dong Hee Han,Joowon Lee,Hyun Jun Lim,Seung Hwan Kim,Kwanhee Choi,Jong II Park. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-08-08.

Apparatus and methods of forming a gas cluster ion beam using a low-pressure source

Номер патента: WO2008118738A2. Автор: Scott Lane. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2008-10-02.

Low-pressure automatic programmable artificial snow making plant

Номер патента: AU4582893A. Автор: Davide Cagnolati. Владелец: TAZZARI SPORT DIVISION Srl. Дата публикации: 1994-03-03.

Devices and methods for low pressure tumor embolization

Номер патента: US09844383B2. Автор: Michael P. Allen. Владелец: Embol X Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Double-nozzle injector capable of spraying evenly at medium and low pressure

Номер патента: US09770729B2. Автор: Hong Li,Shouqi YUAN,Junping LIU,Xingye ZHU. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2017-09-26.

Systems and methods for unload and low pressure therapy

Номер патента: RU2465019C2. Автор: Ларри Тэб РЭНДОЛЬФ. Владелец: КейСиАй ЛАЙСЕНЗИНГ, ИНК.. Дата публикации: 2012-10-27.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Sub-assembly for a low-pressure compressor of an aircraft turbine engine

Номер патента: US20240229659A9. Автор: Stéphane Hiernaux. Владелец: SAFRAN AERO BOOSTERS SA. Дата публикации: 2024-07-11.

Low pressure drop check valve

Номер патента: EP1711731A1. Автор: William T. Flynn. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 2006-10-18.

Sonic Low Pressure Spray Drying

Номер патента: US20120308526A1. Автор: Binh Pham,Satoshi Ohtake,Luisa Yee,Russell Andrew Martin. Владелец: Aridis Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2012-12-06.

Counter rotating low pressure compressor and turbine each having a gear system

Номер патента: WO2013187944A2. Автор: Gabriel L. Suciu,Brian D. Merry. Владелец: UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-19.

Counter rotating low pressure compressor and turbine each having a gear system

Номер патента: EP2820267A2. Автор: Gabriel L. Suciu,Brian D. Merry. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2015-01-07.

Simplified engine bleed supply with low pressure environmental control system for aircraft

Номер патента: US09964036B2. Автор: Gabriel L. Suciu,Frederick M. Schwarz. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Low-pressure removal of photoresist and etch residue

Номер патента: WO2006073622A3. Автор: Eiichi Nishimura,Vaidyanathan Balasubramaniam,Masaaki Hagihara,Koichiro Inazawa. Владелец: Inazawa Rie. Дата публикации: 2006-11-09.

Low pressure enclosure vehicles having supplemental oxygen systems

Номер патента: EP4059800A1. Автор: John Terence Barker. Владелец: BE Aerospace Inc. Дата публикации: 2022-09-21.

Low pressure generator for gas turbine engine

Номер патента: US20220176900A1. Автор: Michael J. Armstrong,Donald Klemen. Владелец: Rolls Royce North American Technologies Inc. Дата публикации: 2022-06-09.

Low-pressure gas discharge lamp with gas filling containing tin

Номер патента: US20050242737A1. Автор: Rainer Hilbig,Robert Scholl,Johannes Baier,Achim Koerber. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-11-03.

Low-pressure gas burner

Номер патента: US12050010B2. Автор: John Joseph Sutherland,Justin Edward Bouchard,Jeffrey David Nelson. Владелец: Questor Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Low pressure exhaust gas recirculation apparatus

Номер патента: US09709009B2. Автор: Shinsuke Miyazaki,Akira Furukawa,Osamu Shimane,Kazushi Sasaki,Eiji Takemoto. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Steam turbine with redundant low pressure section

Номер патента: US11852039B1. Автор: Klaus Brun,Adam Reed Neil,Stephen Todd Omatick. Владелец: Elliott Co. Дата публикации: 2023-12-26.

Well string for drilling through low pressure zone

Номер патента: RU2712903C2. Автор: Пол ХЕЙЗЕЛ. Владелец: Веллтек Ойлфилд Солюшнс АГ. Дата публикации: 2020-01-31.

Aircraft gas turbine engine with control vanes for counter rotating low pressure turbines

Номер патента: CA2435360C. Автор: Robert Joseph Orlando,Thomas Ory Moniz. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2010-11-09.

Low-pressure chamber rotary compressor and air conditioner

Номер патента: EP4325058A1. Автор: Yingxue LUO. Владелец: Guangzhou Deshan Cnc Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

High-Pressure GDI Pump With Low-Pressure Bypass

Номер патента: US20230313770A1. Автор: Robert G. Lucas,Srinu Gunturu,Michael Homby. Владелец: Stanadyne LLC. Дата публикации: 2023-10-05.

Controlled pressure raising system of low-pressure gas

Номер патента: RU2714589C1. Автор: Андрей Юрьевич Беляев. Владелец: Андрей Юрьевич Беляев. Дата публикации: 2020-02-18.

Low Pressure Bolt Carrier Group

Номер патента: US20200124365A1. Автор: Sa{hacek over (s)}a Bratic. Владелец: Sa{hacek over (s)}a Bratic. Дата публикации: 2020-04-23.

Directed vapor deposition and assembly of polymer micro - and nanostructures

Номер патента: WO2023081751A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN,Tien Hong NGUYEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-11.

Low-pressure chamber providing preset air pressure

Номер патента: US20180207632A1. Автор: Sung Wook Park,Hyok Jin CHO,Hee Jun SEO,Guee Won MOON. Владелец: Korea Aerospace Research Institute KARI. Дата публикации: 2018-07-26.

Low pressure reverse osmosis and nanofiltration membranes and method for the production thereof

Номер патента: EP1345673A2. Автор: John Edward Tomaschke. Владелец: Hydranautics Corp. Дата публикации: 2003-09-24.

Low-pressure mercury vapour discharge lamp

Номер патента: EP1044462A1. Автор: Adrianus J. H. P. Van Der Pol,Johannes H. Roes. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2000-10-18.

Method and arrangement for low-pressure locking of a gas-filled device

Номер патента: EP1019995A1. Автор: Risto Lainimo,Hannu Olli,Nils Osterholm. Владелец: ABB Transmit Oy. Дата публикации: 2000-07-19.

Method and arrangement for low-pressure locking of a gas-filled device

Номер патента: AU1881697A. Автор: Risto Lainimo,Hannu Olli,Nils Osterholm. Владелец: ABB Transmit Oy. Дата публикации: 1997-09-10.

Method and arrangement for low-pressure locking of a gas-filled device

Номер патента: EP1019995B1. Автор: Risto Lainimo,Hannu Olli,Nils Osterholm. Владелец: ABB TECHNOLOGY AG. Дата публикации: 2008-08-13.

Low pressure mercury vapor discharge lamp containing an amalgam

Номер патента: WO1993018542A1. Автор: Mark W. Grossman. Владелец: Flowil International Lighting (Holding) B.V.. Дата публикации: 1993-09-16.

Low pressure cryogenic fluid sampling system

Номер патента: US12055465B2. Автор: Siegfried Georg Mueller. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-06.

High resolution excitation/isolation of ions in a low pressure linear ion trap

Номер патента: US20090121126A1. Автор: Bruce A. Collings,Yves J.C. Leblanc. Владелец: MDS Analytical Technologies Canada. Дата публикации: 2009-05-14.

Low-pressure mercury vapour discharge lamp and lamp system

Номер патента: US20230115738A1. Автор: Jan Winderlich,Franz-Josef Schilling,Holger Kurz,Anna Maria SHARMA. Владелец: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH. Дата публикации: 2023-04-13.

Low-pressure system including dry steam and ultrasound for cleaning smoking accessories

Номер патента: US20210145049A1. Автор: Eric Talner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-20.

Rotor high-and-low pressure power apparatus and working method thereof

Номер патента: US20170051633A1. Автор: Yuanjun Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-02-23.

System and method for a fluidic barrier on the low pressure side of a fan blade

Номер патента: US09915149B2. Автор: Edward C. Rice. Владелец: Rolls Royce North American Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Low pressure polishing method and apparatus

Номер патента: US09796067B2. Автор: Simon Palushaj. Владелец: DIAMABRUSH LLC. Дата публикации: 2017-10-24.

Low pressure polishing method and apparatus

Номер патента: US09776305B2. Автор: Simon Palushaj. Владелец: DIAMABRUSH LLC. Дата публикации: 2017-10-03.

Rotor high-and-low pressure power apparatus and working method thereof

Номер патента: US09726046B2. Автор: Yuanjun Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-08.

Automatic check valve of low pressure

Номер патента: RU2697783C1. Автор: Андрей Александрович Зотов. Владелец: Андрей Александрович Зотов. Дата публикации: 2019-08-19.

Low-profile low pressure therapeutic system

Номер патента: RU2461370C2. Автор: Роберт Пейтон УИЛКЕС. Владелец: КейСиАй Лайсензинг Инк.. Дата публикации: 2012-09-20.

Low pressure gas burner

Номер патента: CA1039641A. Автор: Ferris G. Swann,Martin J. Beckmann. Владелец: PORTA TEST Manufacturing Ltd. Дата публикации: 1978-10-03.

System for braking a low pressure spool in a gas turbine engine

Номер патента: CA2920610C. Автор: Olivier Bibor,Patrick Gates. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Motorized pressure exchanger with a low-pressure centerbore

Номер патента: US20240018977A1. Автор: Alexander Patrick THEODOSSIOU. Владелец: Energy Recovery Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Low-pressure chamber providing preset air pressure

Номер патента: US10632459B2. Автор: Sung Wook Park,Hyok Jin CHO,Hee Jun SEO,Guee Won MOON. Владелец: Korea Aerospace Research Institute KARI. Дата публикации: 2020-04-28.

Turbomachinery engines with high-speed low-pressure turbines

Номер патента: US12012901B1. Автор: Bhaskar Nanda MONDAL,Pranav R. Kamat,Jeffrey D Clements. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-06-18.

Improvements in Governing Turbines Operated by High and Low Pressure Elastic Fluid.

Номер патента: GB191305317A. Автор: . Владелец: Bergmann Elektricitaets Werke AG. Дата публикации: 1913-07-03.

Method of converting multiple-stage steam or gas turbines for high and low pressure

Номер патента: GB249492A. Автор: . Владелец: Maschinenfabrik Oerlikon AG. Дата публикации: 1926-07-01.

Steam-power plant comprising high-pressure and low-pressure boilers and high-pressure and low-pressure prime movers

Номер патента: GB481398A. Автор: . Владелец: WILLEM VERWEY. Дата публикации: 1938-03-10.

Motorized pressure exchanger with a low-pressure centerbore

Номер патента: WO2022186981A1. Автор: Alex Theodossiou. Владелец: Energy Recovery, Inc.. Дата публикации: 2022-09-09.

Motorized pressure exchanger with a low-pressure centerbore

Номер патента: EP4301989A1. Автор: Alexander Patrick THEODOSSIOU. Владелец: Energy Recovery Inc. Дата публикации: 2024-01-10.

Gas turbine engine with low-pressure compressor bypass

Номер патента: US11814969B2. Автор: Daniel Coutu. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for precharging a low-pressure accumulator of a motor vehicle braking system

Номер патента: US7896448B2. Автор: Alexander Bareiss. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2011-03-01.

Fluid mixing apparatus using liquid fuel and high- and low- pressure fluid streams

Номер патента: US20210199300A1. Автор: Jonathan Dwight Berry. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2021-07-01.

Method and device for selecting low-pressure mercury discharge lamps

Номер патента: US5883711A. Автор: Marco Haverlag,Franciscus J. Van Dam,Engelbertus C. P. Vossen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1999-03-16.

Low pressure battery vent

Номер патента: US5916704A. Автор: Stanley Lewin,Mark Cholach. Владелец: Ultralife Batteries Inc. Дата публикации: 1999-06-29.

Method of cooling low-pressure steam turbine under ventilation conditions

Номер патента: RU2085751C1. Автор: Келлер Херберт,Бергманн Дитмар. Владелец: Сименс АГ. Дата публикации: 1997-07-27.

Improvements in or relating to power plants comprising a primary high-pressure steamplant and a low-pressure steam plant

Номер патента: GB388707A. Автор: . Владелец: Sulzer Ag. Дата публикации: 1933-03-02.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020058413A1. Автор: Anand Srinivasan,Raj Narasimhan,Sujit Sharon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Chemically vapor deposited saw guides

Номер патента: US5415069A. Автор: Jerry Collins,John Hoover,Al Latham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-05-16.

Device and method for low pressure compresssion and valve for use in the system

Номер патента: WO2004108051A2. Автор: Noam Calderon,Amit Ben Dror. Владелец: C-Boot Ltd. Дата публикации: 2004-12-16.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Fluid mixing apparatus using high- and low-pressure fluid streams

Номер патента: US11828467B2. Автор: Wei Zhao,Jonathan Dwight Berry,Michael John Hughes. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-11-28.

Fan and low pressure compressor geared to low speed spool of gas turbine engine

Номер патента: US11982238B2. Автор: Michael E. McCune,William G. Sheridan. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: WO2013135631A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: MEMC Electronic Materials S.p.A.. Дата публикации: 2013-09-19.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2825350A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Low-pressure mercury vapor discharge lamp

Номер патента: US20040130257A1. Автор: Peter Seinen,Josephus Van Der Eyden. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2004-07-08.

Low pressure exhaust gas recirculation system for supercharged diesel engines

Номер патента: EP1283953A2. Автор: Alexander Gorel,John Lawrence Calabrese. Владелец: Engelhard Corp. Дата публикации: 2003-02-19.

Cooling system for a transportation vehicle arranged to be transported in a low-pressure environment

Номер патента: AU2021391064A9. Автор: Bauke Jan KOOGER,Gert SPEK. Владелец: Hardt Ip BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Cooling system for a transportation vehicle arranged to be transported in a low-pressure environment

Номер патента: CA3199553A1. Автор: Bauke Jan KOOGER,Gert SPEK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-06-09.

Cooling system for a transportation vehicle arranged to be transported in a low-pressure environment

Номер патента: AU2021391064A1. Автор: Bauke Jan KOOGER,Gert SPEK. Владелец: Hardt Ip BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Cooling system for a transportation vehicle arranged to be transported in a low-pressure environment

Номер патента: EP4255747A1. Автор: Bauke Jan KOOGER,Gert SPEK. Владелец: Hardt Ip BV. Дата публикации: 2023-10-11.

Low-pressure mercury vapor discharge lamp and display device

Номер патента: EP1747574A1. Автор: Rolf E. De Man. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2007-01-31.

Low-Pressure Discharge Lamp

Номер патента: US20080143233A1. Автор: Thomas Noll,Holger Hein,Paul Lange. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 2008-06-19.

Low-pressure sodium vapor discharge lamps

Номер патента: US3646378A. Автор: Urbaan Paul Marguerit Goossens. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1972-02-29.

Angioplasty, self-expanding, stent catheter with low pressure anchor and/or marker balloon assembly and method

Номер патента: US20170326344A1. Автор: Nadar A. Dakak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-16.

Auto inflator having dissolvable element under low pressure

Номер патента: GB2278911B. Автор: Glenn H Mackal. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-09-10.

Coupler for low pressure piping system

Номер патента: WO2004023021A1. Автор: James F. Smith,John P. Bishop,Gregory A. Calderone,Lelan J. Dick. Владелец: H-P Products, Inc.. Дата публикации: 2004-03-18.

Low pressure river power plant

Номер патента: EP2737203A1. Автор: Robert Storbekk,Karl-Einar Mundal. Владелец: Minihydro Norge As. Дата публикации: 2014-06-04.

Auxiliary amalgam for a low pressure discharge lamp

Номер патента: EP2777064A1. Автор: Ottokar Gyulasi,Peter Lucz,Balazs Torok,Peter Ivan Poczik. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2014-09-17.

Electrodeless low-pressure discharge lamp

Номер патента: US5804911A. Автор: Petrus H. Antonis,Winand H. A. M. Friederichs,Petrus J. M. Fransen,Nicasius G. T. Van Gennip. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1998-09-08.

Low-pressure turbine

Номер патента: US20240271542A1. Автор: Brandon W. Miller,Arda Unsal,Paul Pezzi. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-15.

Treatment of low pressure glaucoma and ischemic retinal degeneration with loxapine

Номер патента: WO1993014759A1. Автор: George C. Y. Chiou. Владелец: The Texas A&M University System. Дата публикации: 1993-08-05.

Electronic ballast for at least one low-pressure discharge lamp

Номер патента: US20010007410A1. Автор: Günter MARENT,Stefan Koch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-12.

Low-pressure mercury vapor discharge lamp and display device

Номер патента: WO2005109468A1. Автор: Rolf E. De Man. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2005-11-17.

Side mold and low-pressure hub casting mold

Номер патента: EP3950171A1. Автор: Zhihua Zhu,ZHEN Li,Hanqi Wu,Zuo Xu,Guoyuan Xiong. Владелец: CITIC Dicastal Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-09.

Clampable, recyclable thermoplastic fuel tubing for low-pressure applications

Номер патента: US20240017517A1. Автор: Dennis M. D'Hondt. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2024-01-18.

Vacuum system, low-pressure vacuum process device, and cutoff member

Номер патента: US20230008620A1. Автор: Tao Chen. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-01-12.

Method of dimensioning and operating a low pressure discharge lamp

Номер патента: WO1990008399A1. Автор: Armin Eich,Sigurd Kohler,Helmut M. Loy. Владелец: GTE Licht GmbH. Дата публикации: 1990-07-26.

Treatment of low pressure glaucoma and ischemic retinal degeneration with metoclopramide

Номер патента: WO1993014764A1. Автор: George C. Y. Chiou. Владелец: The Texas A&M University System. Дата публикации: 1993-08-05.

Low-pressure discharge lamp

Номер патента: CA2599283A1. Автор: Thomas Noll,Holger Hein,Paul Lange. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-31.

Electrodeless low pressure lamp with multiple ferrite cores and induction coils

Номер патента: WO2003036683A2. Автор: Shinichi Anami,Robert Chandler,Oleg Popov. Владелец: Matsushita Electric Works, Ltd.. Дата публикации: 2003-05-01.

Low Pressure Blow-Off Assemblies and Related Methods

Номер патента: US20090215377A1. Автор: Edward Kelly Ball. Владелец: Process Air Solutions LLC. Дата публикации: 2009-08-27.

Low pressure gear pump

Номер патента: AU2023220159A1. Автор: David A. Mork,Paul R. English. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Low pressure directional stop bypass device

Номер патента: WO2010011266A1. Автор: Jeffrey William Mainzer. Владелец: OPERATIONS TECHNOLOGY DEVELOPMENT, NFP. Дата публикации: 2010-01-28.

Drive scheme for low pressure gas discharge lamps

Номер патента: EP1057378A1. Автор: Bjorn Gysell,Jerzy Hoja,Bengt Palmquist,Waldemar Tlaga. Владелец: PLS SYSTEMS AB. Дата публикации: 2000-12-06.

Auto inflator having dissolvable element under low pressure

Номер патента: GB9409049D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-06-22.

Apparatus for low-pressure casting of metallic products

Номер патента: US20220324016A1. Автор: Stefano CALVANI,Fabio Mlakar. Владелец: Imr Engineering & Technologies Srl. Дата публикации: 2022-10-13.

Wellbore casing repair safety tool for low-pressure hydrocarbon wells

Номер патента: US20210131218A1. Автор: David Hart. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-06.

System for the structure, control, and energy management of low-pressure cells for aerostatic lift

Номер патента: US20210309337A1. Автор: James Douglas Little. Владелец: Anuma Aerospace LLC. Дата публикации: 2021-10-07.

Flushable low pressure regulator

Номер патента: EP3619420A1. Автор: Stephen Hutchins,Stephen Joseph MACLANE. Владелец: Delphi Technologies IP Ltd. Дата публикации: 2020-03-11.

Low-pressure mercury vapor discharge lamp

Номер патента: WO2002099843A1. Автор: Johannes T. J. Van Haastrecht,Petrus C. Lauwerijssen,Marinus C. M. Neelen. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2002-12-12.

Flushable low pressure regulator

Номер патента: WO2018202590A1. Автор: Stephen Hutchins,Stephen Joseph MACLANE. Владелец: Delphi France Sas. Дата публикации: 2018-11-08.

Exhausting device of low-pressure aluminum alloy wheel casting mold

Номер патента: US20170312819A1. Автор: Lu Chen,Changhai Li,Hongbiao Li,Longtao Kang,Kaiqing Wang,Xiwei Xue. Владелец: CITIC Dicastal Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Rotor arrangement for a low-pressure turbine of a turbomachine

Номер патента: US20240328319A1. Автор: Ilse Fleischer. Владелец: MTU Aero Engines AG. Дата публикации: 2024-10-03.

Big bore low pressure surface wellhead housing systems

Номер патента: US20240328274A1. Автор: Peter Egbe,Oladele Owoeye. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-10-03.

Low-pressure-loop exhaust recirculation apparatus of engine

Номер патента: US09945328B2. Автор: Takehide Nakamura,Mamoru Yoshioka. Владелец: Aisan Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Low pressure shut off for a pneumatic tool

Номер патента: US09827641B2. Автор: Pascal Bourcier,Edouard Da Palma. Владелец: Apex Brands Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Low pressure turbine provided with splitters at the last stator array, in particular for a gas turbine engine

Номер патента: US09702253B2. Автор: Ennio Spano,Davide TORZO. Владелец: GE Avio SRL. Дата публикации: 2017-07-11.

Low-pressure EGR valve

Номер патента: US09670882B2. Автор: Andreas Kuske,Christian Winge Vigild,Daniel Roettger. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-06-06.

Low pressure valve, for controlling exhaust gas recirculation

Номер патента: US09638140B2. Автор: Bernd Bareis. Владелец: Gustav Wahler GmbH and Co KG. Дата публикации: 2017-05-02.

Hydraulic module comprising high and low pressure accumulators, for a hybrid vehicle

Номер патента: US09616740B2. Автор: Pascal Gateau,Nelson Fiorini. Владелец: Technoboost SAS. Дата публикации: 2017-04-11.

Systems and methods for increasing the efficiency of low pressure axial fans

Номер патента: GB2569243A. Автор: Dasari Dileep,Zhong Sun Yong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-12.

Angiographic injector system with automatic high/low pressure switching

Номер патента: CA2307611C. Автор: Robert F. Wilson,Jiyan Liu,Doug Duchon,Thomas Paulson. Владелец: ACIST Medical Systems Inc. Дата публикации: 2008-09-23.

Dual function low pressure cutout for refrigeration system

Номер патента: US3796062A. Автор: R Stewart. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1974-03-12.

Low pressure warning device for scuba divers

Номер патента: US4800373A. Автор: Allan Mayz. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-01-24.

Low pressure actuator for dry sprinkler system

Номер патента: US20010025711A1. Автор: William Reilly. Владелец: Reilly William Joseph. Дата публикации: 2001-10-04.

Low pressure low cost automotive type fuel injection system

Номер патента: US4526152A. Автор: Laszlo Hideg,Paul L. Koller,Rogelio G. Samson. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1985-07-02.

A low pressure water reactor and a method for controlling a low pressure water reactor

Номер патента: CA3227898A1. Автор: Azrudi BIN MUSTAPHA @ PA,Keith Henry ARDRON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-09.

Method of designing a low-pressure chamber

Номер патента: US11285470B2. Автор: Sung Wook Park,Hyok Jin CHO,Hee Jun SEO,Guee Won MOON. Владелец: Korea Aerospace Research Institute KARI. Дата публикации: 2022-03-29.

Method of operating a fuel cell stack at low pressure and low power conditions

Номер патента: CA2629087A1. Автор: Boguslaw M. Wozniczka,Kevin M. Colbow,Alfred N.F. Wong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-24.

A low pressure water reactor and a method for controlling a low pressure water reactor

Номер патента: AU2022324667A1. Автор: Azrudi BIN MUSTAPHA @ PA,Keith Henry ARDRON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-14.

Low-pressure chamber providing preset air pressure

Номер патента: US20200206728A1. Автор: Sung Wook Park,Hyok Jin CHO,Hee Jun SEO,Guee Won MOON. Владелец: Korea Aerospace Research Institute KARI. Дата публикации: 2020-07-02.

A process and a device for generating low pressure superheated steam

Номер патента: WO2018042357A1. Автор: Meetali Sameer KUMAR. Владелец: Reliance Industries Ltd. Дата публикации: 2018-03-08.

Air duct airflow sensor with internal low-pressure detector

Номер патента: US12000721B2. Автор: Jean H. SCHOLTEN. Владелец: Tyco Fire and Security GmbH. Дата публикации: 2024-06-04.

A low pressure water reactor and a method for controlling a low pressure water reactor

Номер патента: EP4381525A1. Автор: Azrudi BIN MUSTAPHA @ PA,Keith Henry ARDRON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-12.

Low-pressure plasma system with sequential control process

Номер патента: US20170011888A1. Автор: Christof-Herbert Diener. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-12.

Low-pressure plasma system with sequential control process

Номер патента: US9741547B2. Автор: Christof-Herbert Diener. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Multilayer films comprising low pressure, low density polyethylene

Номер патента: CA1175622A. Автор: Stuart J. Kurtz,John Anthony. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1984-10-09.

Improvements in mechanism for feeding granular or powdered material from a relatively low pressure to a higher pressure

Номер патента: GB693381A. Автор: . Владелец: Incandescent Heat Co Ltd. Дата публикации: 1953-07-01.

Low pressure casting process and apparatus

Номер патента: US5725043A. Автор: Richard L. Schaefer,Carl W. D. Schaefer,James M. Williamson,Norman L. Miller. Владелец: Frank W Schaefer Inc. Дата публикации: 1998-03-10.

Apparatus and method to add kinetic energy to a low pressure waste gas flare burner

Номер патента: CA1233107A. Автор: Robert E. Schwartz,Michael R. Keller. Владелец: John Zink Co. Дата публикации: 1988-02-23.

Low pressure non-barrier type, valved dispensing can

Номер патента: USRE35843E. Автор: George B. Diamond,Ralph Helmrich. Владелец: Dispensing Containers Corp. Дата публикации: 1998-07-14.

Low pressure warning for hydraulic system of platform float suspension

Номер патента: CA2199164C. Автор: Thomas Daryl Bebernes. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2000-05-16.

Slim type pressure-gradient-driven low-pressure thermosiphon plate

Номер патента: US8973646B2. Автор: Kuei-feng Chiang,Yun-Jun Gu,Shyy-Woei Chang. Владелец: Asisa Vital Components Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-10.

Method of forming a zone condenser with a single low pressure double flow turbine

Номер патента: US4567729A. Автор: Gravatt K. Roddis. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1986-02-04.

Means for calibrating pressure switches at extra-low pressure settings

Номер патента: USRE30207E. Автор: William H. Jones,Lawrence A. Kolze. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1980-02-05.

Low-pressure water head unit, especially for water atomization during snow making

Номер патента: WO2020036500A2. Автор: Jarosław Henryk WARDAS. Владелец: Wardas Jaroslaw Henryk. Дата публикации: 2020-02-20.

High and low pressure turbocharger system with compressed gas tank

Номер патента: US9890696B2. Автор: Göran ALMKVIST,Jonas J. BJORKHOLTZ. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Cold recapping curing by low pressure and low temperature

Номер патента: CA2653275A1. Автор: Shunli Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Mold for low pressure casting

Номер патента: RU2697491C1. Автор: Юта СУГИЯМА,Кендзи МИДЗУКОСИ. Владелец: Ниссан Мотор Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-08-14.

Burner for very low pressure gases

Номер патента: CA1103574A. Автор: Robert D. Reed. Владелец: John Zink Co. Дата публикации: 1981-06-23.

Low pressure, low cost accumulator and method of making the same

Номер патента: CA1123312A. Автор: Alfonse A. Jacobellis. Владелец: Greer Hydraulics Inc. Дата публикации: 1982-05-11.

Low-pressure casing for a brake booster

Номер патента: US4655119A. Автор: Jochen Burgdorf,Rolf Weiler. Владелец: ITT Industries Inc. Дата публикации: 1987-04-07.

Low pressure ngl plant configurations

Номер патента: CA2495261C. Автор: John Mak. Владелец: Fluor Corp. Дата публикации: 2009-04-14.

Process of air evacuation of foods under ultra-low pressure

Номер патента: US3843810A. Автор: G Fehmerling. Владелец: FEHMERLING ASS. Дата публикации: 1974-10-22.

High pressure injection molding nozzle with low pressure manifold

Номер патента: CA2698484C. Автор: Edward Joseph Jenko. Владелец: HUSKY INJECTION MOLDING SYSTEMS LTD. Дата публикации: 2013-12-31.

Method for the manufacture of product comprising foamed plastic material and using a low-pressure chamber

Номер патента: CA1220312A. Автор: Terje Bakkelunn. Владелец: ROVAC TECHNOLOGY AB. Дата публикации: 1987-04-14.

High-low pressure responsive pilot valve structure

Номер патента: US3760845A. Автор: E Atkinson. Владелец: ACF Industries Inc. Дата публикации: 1973-09-25.

Multilayer film having a layer of low pressure, low density heterogeneous ethylene copolymers

Номер патента: CA1178760A. Автор: John Anthony. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1984-12-04.

System to control low pressure turbine temperatures

Номер патента: US4149386A. Автор: Stephen P. Glaudel,Michael C. Luongo,Donald N. Tapper. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1979-04-17.

Low pressure molded article and method for making same

Номер патента: US11927760B2. Автор: Stephen Andrew Steger. Владелец: Snap Inc. Дата публикации: 2024-03-12.

System and method for low pressure low flow dilution extraction gas sampling

Номер патента: US11852569B2. Автор: Sean D. Mitchell. Владелец: CEMTEK Systems Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Shut-off mechanism for low pressure lines connected to high pressure lines in nuclear reactors

Номер патента: US3825084A. Автор: W Mueller,H Fruth. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1974-07-23.

Novel low-pressure gas pressure reducing valve

Номер патента: AU2021200499A1. Автор: Michael Hsiao. Владелец: Tai Shan Illida Gas Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Low pressure continuous dense phase convey system using a non-critical air control system

Номер патента: EP2566798A2. Автор: Jonathan Thorn. Владелец: Mac Equipment Inc. Дата публикации: 2013-03-13.

A Zero Output Heating System for Low Pressure Cylinders

Номер патента: LU503774B1. Автор: Xiaoming Guo,Youjun Wang,Bingjun Si,Jiyuan He. Владелец: Huaneng Xinhua Power Generation Co ltd. Дата публикации: 2023-09-29.

Spray foams made from low pressure plural component applicator systems

Номер патента: US20230405616A1. Автор: David H. Faulkner,James F. Peterson,Thomas Joseph Peters. Владелец: Spray Foam Systems LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Low pressure and hyperpressure warning device for automotive tire

Номер патента: US20060090559A1. Автор: Zhixiong Yang. Владелец: Zhilong Tech Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-04.

Gravity-fed low pressure cryogenic liquid delivery system

Номер патента: CA1222232A. Автор: Howard D. Brodbeck,Martin A. Krongold. Владелец: MG Industries Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Fluid delivery system with high and low pressure hand manifold

Номер патента: CA2888247C. Автор: Michael A. Spohn,Michael James Swantner,Barry L. Mcdaniel. Владелец: Bayer HealthCare LLC. Дата публикации: 2021-02-02.

Low pressure safety relief valve

Номер патента: US4425938A. Автор: Walter W. Powell,Donald M. Papa. Владелец: Anderson Greenwood and Co. Дата публикации: 1984-01-17.

Annular barrier and downhole system for low pressure zone

Номер патента: MY191643A. Автор: Ricardo Reves Vasques. Владелец: Welltec Oilfield Solutions AG. Дата публикации: 2022-07-05.

Gas high-low pressure control apparatus

Номер патента: US4503875A. Автор: Gerald J. Murphy,Walter E. Pilie',Glenn Garaudy. Владелец: AUTOCON Inc. Дата публикации: 1985-03-12.

Low pressure die casting

Номер патента: GB1491945A. Автор: . Владелец: SOAG MACH Ltd. Дата публикации: 1977-11-16.

Low pressure pool cleaner

Номер патента: CA1234258A. Автор: Herman E. Frentzel. Владелец: Arneson Products Inc. Дата публикации: 1988-03-22.

Gas pressure regulator having high and low pressure shutoff means

Номер патента: CA1037344A. Автор: Theodore A. St. Clair. Владелец: Textron Inc. Дата публикации: 1978-08-29.

High speed, high temperature three-way valve for switching high pressure fluids under low pressure control

Номер патента: CA1264139A. Автор: Robert D. Barree. Владелец: Marathon Oil Co. Дата публикации: 1990-01-02.

Method for controlling low-pressure fuel pump and fuel supply system therefor

Номер патента: US20200018245A1. Автор: Yong-Sik Kim. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Method for testing gas wells in low pressured gas formations

Номер патента: US5621170A. Автор: Jerrald L. Saulsberry. Владелец: Gas Research Institute. Дата публикации: 1997-04-15.

Low pressure gas sample apparatus and method

Номер патента: US3915013A. Автор: Gottlieb C Gaeke. Владелец: Ethyl Corp. Дата публикации: 1975-10-28.

Method and device for enhancing the distribution of water from a sprinkler operated at low pressure

Номер патента: CA1103725A. Автор: Edward M. Troup. Владелец: Rain Bird Corp. Дата публикации: 1981-06-23.

Reusable one piece low pressure seal

Номер патента: US5876040A. Автор: Danny L. Adams,Ira I. Miles. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-03-02.

Low pressure engine

Номер патента: US4036017A. Автор: Israel Siegel. Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-07-19.

Low pressure shut off device contained within a pneumatic tool

Номер патента: US4813492A. Автор: Paul A. Biek. Владелец: Dresser Industries Inc. Дата публикации: 1989-03-21.

Two cycle engine with low pressure crankcase fuel injection

Номер патента: CA1323530C. Автор: Richard E. Staerzl. Владелец: Brunswick Corp. Дата публикации: 1993-10-26.

Low pressure refrigerant contaminant tester

Номер патента: CA1326140C. Автор: Nancy Marie Otto. Владелец: Carrier Corp. Дата публикации: 1994-01-18.

High-low pressure chamber sealing arrangement of a volute compressor

Номер патента: US6059549A. Автор: Guang-Der Tarng,Lung-Tsai Chang. Владелец: Rechi Precision Co Ltd. Дата публикации: 2000-05-09.

Configurations and methods of generating low-pressure steam

Номер патента: CA2770596C. Автор: Jeffrey Scherffius. Владелец: Fluor Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-03.

LOW PRESSURE GAS TRANSFER DEVICE

Номер патента: US20120001351A1. Автор: Neville Mark. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System of Governing Low-pressure Turbines Driving Generators Coupled in Parallel with others of the same kind.

Номер патента: GB190818579A. Автор: Auguste Rateau. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-12-03.

Improvements in Low-pressure Boilers for Use in Heating by Steam, and in Furnaces therefor.

Номер патента: GB189807001A. Автор: Jules Grouvelle,Henri Arquembourg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-07-23.

Low pressure hydrodealkylation of ethylbenzene and xylene isomerization

Номер патента: MY118377A. Автор: Roger F Vogel,Gerald J Nacamuli. Владелец: Chevron Chem Co. Дата публикации: 2004-10-30.

Chemical vapor deposition of metal compound coatings utilizing metal sub-halide

Номер патента: CA1224091A. Автор: M. Javid Hakim. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1987-07-14.

An Improved Low Pressure Gas Governor for Incandescent and other Burners.

Номер патента: GB190005979A. Автор: Mabel Barrow Billing. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-03-30.

High pressure revamp of low pressure distillate hydrotreating process units

Номер патента: CA2758909C. Автор: William Ernest Lewis,William M. Gregory. Владелец: ExxonMobil Research and Engineering Co. Дата публикации: 2016-02-09.

Masking techniques in chemical vapor deposition

Номер патента: CA1199715A. Автор: Robert D. Burnham. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1986-01-21.

Sectional Boiler with Vertical Annular Tubes for Hot-water or Low-pressure Steam Heating Apparatus

Номер патента: GB190718829A. Автор: Enrico Roggero. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-01-16.

Improvements in Slow Combustion Stoves for Heating with Low Pressure Steam or Hot Water.

Номер патента: GB190429499A. Автор: Wilhelm Pfahl. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-02-23.

Low pressure air assisted fuel injection apparatus for engine

Номер патента: MY103201A. Автор: HUANG Huei-Huay,Rong-Fang Hong Mr. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 1993-05-29.

Improvements in Low-pressure Gas Lighting Apparatus.

Номер патента: GB189923398A. Автор: William Thomas Sugg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-04-28.

Improvements in Hot Water and Low Pressure Steam Boilers.

Номер патента: GB190323788A. Автор: . Владелец: JOHN EDWARD HARTLEY. Дата публикации: 1904-10-13.

Improvements in and relating to Heat Accumulators for Supplying Low Pressure Fluid for Motive and other Purposes

Номер патента: GB190800358A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1908-12-03.

Low pressure low power device to clean carpeted interiors of airplanes

Номер патента: SG180040A1. Автор: Leng Tee Chan,Fook Kee Michael Wong. Владелец: Conco Aero Maintenance Pte Ltd. Дата публикации: 2012-05-30.

Low pressure and run-flat warning system for a pneumatic tire

Номер патента: CA1153677A. Автор: Berge Sarkissian. Владелец: Uniroyal Inc. Дата публикации: 1983-09-13.