실리콘 질화막 식각용 조성물 및 이를 이용한 식각 방법
Номер патента: KR20200119668A
Опубликовано: 20-10-2020
Автор(ы): 고상란, 김윤준, 문형랑, 장준영, 조연진, 최정민, 한권우, 황기욱
Принадлежит: 삼성에스디아이 주식회사
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Автор(ы): 고상란, 김윤준, 문형랑, 장준영, 조연진, 최정민, 한권우, 황기욱
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Non-halogenated etchant for etching an indium oxide layer and method of manufacturing a display substrate using the non-halogenated etchant
Номер патента: KR101774484B1. Автор: 유인호,김선일,박지영,김상갑,최신일,권오병,박영철,이석준,임민기,장상훈,진영준,이준우,김상태,김동기,윤영진. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2017-09-05.