Production of silicon mask for x-ray lithography
Номер патента: JPS5299778A
Опубликовано: 22-08-1977
Автор(ы): Daizaburo Shinoda, Hidekazu Okabayashi, Jiyunji Matsui
Принадлежит: NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd
Опубликовано: 22-08-1977
Автор(ы): Daizaburo Shinoda, Hidekazu Okabayashi, Jiyunji Matsui
Принадлежит: NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd
Backing material for x-ray optical components
Номер патента: RU2264995C2. Автор: Удо ДИНГЕР,Франк АЙЗЕРТ,Мартин ВАЙЗЕР,Конрад КНАПП,Ина МИТРА,Ханс МОРИАН. Владелец: Карл Цейсс Смт Аг. Дата публикации: 2005-11-27.