辐射吸收聚合物及含该聚合物的成膜组合物和抗反射涂层
Номер патента: CN1150219C
Опубликовано: 19-05-2004
Автор(ы): , ߴı���, 常田明彦, 康文兵, 木村健, 田中初幸, 荒卷华世
Принадлежит: Clariant Finance BVI Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-05-2004
Автор(ы): , ߴı���, 常田明彦, 康文兵, 木村健, 田中初幸, 荒卷华世
Принадлежит: Clariant Finance BVI Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group
Номер патента: US09760006B2. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-12.