A method for modeling metrology data over a substrate area and associated apparatuses
Номер патента: WO2024199865A1
Опубликовано: 03-10-2024
Автор(ы): Olivier Hubert Janjaap NIJHOUT, Oscar BALCELLS QUINTANA, Ralph Brinkhof, Roy Werkman, Stijn Oskar Matisse HINTERDING, Thijs Willem Gerrit VAN DER HEIJDEN
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-10-2024
Автор(ы): Olivier Hubert Janjaap NIJHOUT, Oscar BALCELLS QUINTANA, Ralph Brinkhof, Roy Werkman, Stijn Oskar Matisse HINTERDING, Thijs Willem Gerrit VAN DER HEIJDEN
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Masking arrangement and method for producing integrated circuit arrangements
Номер патента: US20060073397A1. Автор: Johannes Freund,Michael Stetter. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-04-06.