使用原子层沉积(ald)法在基底上形成含钛层的方法
Номер патента: CN101959897A
Опубликовано: 26-01-2011
Автор(ы): A·曹纳, A·潘沙尔, C·拉绍, C·迪萨拉, J-M·吉拉尔, N·布拉斯科, S·伽蒂诺, Z·王
Принадлежит: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-01-2011
Автор(ы): A·曹纳, A·潘沙尔, C·拉绍, C·迪萨拉, J-M·吉拉尔, N·布拉斯科, S·伽蒂诺, Z·王
Принадлежит: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming a titanium-containing layer on a substrate using an atomic layer deposition (ald) process
Номер патента: WO2009106433A1. Автор: Christian Dussarrat,Jean-Marc Girard,Nicolas Blasco,Audrey Pinchart,Christophe Lachaud,Satoko GATINEAU,Ziyun Wang. Владелец: L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2009-09-03.