High voltage semiconductor device and method of manufacturing same
Номер патента: US20240332375A1
Опубликовано: 03-10-2024
Автор(ы): Jong Ho Lee
Принадлежит: DB HiTek Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-10-2024
Автор(ы): Jong Ho Lee
Принадлежит: DB HiTek Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
High-voltage metal oxide semiconductor device and fabrication method thereof
Номер патента: US20110018071A1. Автор: Kao-Way Tu. Владелец: Niko Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-27.