Apparatus to improve substrate temperature uniformity
Номер патента: US09957615B2
Опубликовано: 01-05-2018
Автор(ы): Gwo-Chuan Tzu, Kazuya DAITO, Sang-Hyeob Lee
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-05-2018
Автор(ы): Gwo-Chuan Tzu, Kazuya DAITO, Sang-Hyeob Lee
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Susceptor pocket profile to improve process performance
Номер патента: US20030049580A1. Автор: Matthew Goodman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.