Interferometer system, lithography apparatus, and article manufacturing method
Номер патента: US09804510B2
Опубликовано: 31-10-2017
Автор(ы): Ryo Takai, Shinichiro Hirai, Takashi Miura, Takeshi Rokukawa, Zenichi Hamaya
Принадлежит: Canon Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-10-2017
Автор(ы): Ryo Takai, Shinichiro Hirai, Takashi Miura, Takeshi Rokukawa, Zenichi Hamaya
Принадлежит: Canon Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Lithography apparatus, lithography method, and article manufacturing method
Номер патента: US20160139515A1. Автор: Kazushi Mizumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-05-19.