Large area imprint lithography
Номер патента: US09616614B2
Опубликовано: 11-04-2017
Автор(ы): Byung-Jin Choi, Mahadevan GanapathiSubramanian, Michael N. Miller, Se Hyun Ahn, Sidlgata V. Sreenivasan
Принадлежит: Canon Nanotechnologies Inc, Molecular Imprints Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-04-2017
Автор(ы): Byung-Jin Choi, Mahadevan GanapathiSubramanian, Michael N. Miller, Se Hyun Ahn, Sidlgata V. Sreenivasan
Принадлежит: Canon Nanotechnologies Inc, Molecular Imprints Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Imprint lithography apparatus and device manufacturing method therefor
Номер патента: US09718234B2. Автор: Hironori Maeda,Ken Minoda,Kazuhiko Mishima,Seiya Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-01.