Charged particle induction from ionosphere to ground

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Charged particle induction from ionosphere to ground

Номер патента: US20160029467A1. Автор: Glenn E. Lane. Владелец: GLENN LANE FAMILY Ltd LIABILITY LP. Дата публикации: 2016-01-28.

Process and apparatus for separating negatively charged particles from positively charged particles in a medium

Номер патента: GB1136224A. Автор: . Владелец: ROY ROBERT SNYDER. Дата публикации: 1968-12-11.

Charged particle beam power transmission system

Номер патента: US11955813B2. Автор: Gregory E. Leyh. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-04-09.

Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems

Номер патента: US09867272B2. Автор: Yue Shi,Amit Lal,Serhan Ardanuc,June-Ho HWANG,Farhan RANA. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-09.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Accelerator for charged particles

Номер патента: RU2603352C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2016-11-27.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A3. Автор: Anthony Renau,Joseph C Olson,Russell J Low,Piotr R Lubicki. Владелец: Piotr R Lubicki. Дата публикации: 2009-06-11.

Charged particle acceleration apparatus and method

Номер патента: WO2007133225A3. Автор: Jonathan Gorrell,Mark Davidson,Michael E Maines,Paul K Hart. Владелец: Virgin Islands Microsystems. Дата публикации: 2009-04-16.

Electromagnet and charged particle accelerator

Номер патента: US20240008165A1. Автор: Yujiro Tajima,Ryuki YOKOTA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Method and system of beam injection to charged particle storage ring

Номер патента: US09655226B2. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LABORATORY Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and device for changing the direction of movement of a beam of accelerated charged particles

Номер патента: US09779905B2. Автор: Muradin Abubekirovich Kumakhov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle acceleration device

Номер патента: US20160035449A1. Автор: Seth J. Putterman,Jonathan Hird,Brian Naranjo. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2016-02-04.

Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems

Номер патента: US20180343734A1. Автор: Yue Shi,Amit Lal,Serhan Ardanuc,June-Ho HWANG,Farhan RANA. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-11-29.

Beam position monitor for charged particles passing through a chamber

Номер патента: US11410831B2. Автор: Rémi Nicolas. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2022-08-09.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240177963A1. Автор: Masaru Matsushima,Go Miya,Masaki Mizuochi,Yuki UCHIOKE,Katsumi Kambe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Method and apparatus for controlling charged particles

Номер патента: WO2008039505A3. Автор: Robert W Bussard. Владелец: Robert W Bussard. Дата публикации: 2008-08-28.

Charged particle generator

Номер патента: EP2517539A1. Автор: Susan Smith,Christopher Prior,Shinji Machida,Neil Bliss,Bruno Muratori,Robert Cywinski. Владелец: Science and Technology Facilities Council. Дата публикации: 2012-10-31.

Charged particle beam treatment apparatus and method of adjusting path length of charged particle beam

Номер патента: US20150270098A1. Автор: Shinji Iwanaga. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Rotatable targeting magnet apparatus and method of use thereof in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US09757594B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Particle charging apparatus and method of charging particles

Номер патента: US5973904A. Автор: David Y. H. Pui,Da-Ren Chen. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1999-10-26.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US11810752B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam generation

Номер патента: WO2023102545A2. Автор: Hyunwook Park,Nakri DAO,Kim Richard OVERSTREET. Владелец: MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED. Дата публикации: 2023-06-08.

Electrically charged particles collection device and method

Номер патента: RU2608577C1. Автор: Оливер ХАЙД,Тимоти ХЬЮЗ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2017-01-23.

Multi-field charged particle cancer therapy method and apparatus

Номер патента: CA2725498C. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-30.

Apparatus and method for isotope production based on a charged particle accelerator

Номер патента: US20190075645A1. Автор: Yong Jiang,Jay L. Hirshfield. Владелец: Omega-P R&d Inc. Дата публикации: 2019-03-07.

Multi-field charged particle cancer therapy method and apparatus

Номер патента: CA2754345C. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Zakrytoe Aktsionernoe Obshchestvo Protom. Дата публикации: 2015-06-23.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Detecting charged particle events at high dose rates

Номер патента: EP4390462A1. Автор: Bart Janssen,Auke van der Heide,Jaap Mulder. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-26.

Detecting charged particle events at high dose rates

Номер патента: US20240212974A1. Автор: Bart Janssen,Auke van der Heide,Jaap Mulder. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle device, charged particle irradiation method, and analysis device

Номер патента: US20180174795A1. Автор: Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-06-21.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Defective pixel management in charged particle microscopy

Номер патента: US11742175B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Michiel Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-29.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240242921A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle apparatus

Номер патента: WO2024068252A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US9153418B2. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-06.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US20150076349A1. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Scanning charged particle microscope

Номер патента: US20110254944A1. Автор: Tohru Ishitani,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-10-20.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4409617A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Charged particle inspection method and charged particle system

Номер патента: US09324537B2. Автор: Rainer Knippelmeyer,Stefan Schubert,Thomas Kemen. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2016-04-26.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle spectrometer and method for calibration

Номер патента: SE545450C2. Автор: Takahiro Hashimoto,Tomas WIELL. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2023-09-12.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US12080515B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Reduction of power consumption for a charged particle system

Номер патента: US20240120171A1. Автор: Maarten Bischoff,Casper Smit,Corné VAN ROOIJ,Jamie Mc Cormack,Marcel Veerhoek,Joost Dierkse. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-11.

Reduction of power comsumption for a charged particle system

Номер патента: EP4354484A1. Автор: Maarten Bischoff,Casper Smit,Jamie McCormack,Corné VAN ROOIJ,Marcel Veerhoek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device

Номер патента: US09922796B1. Автор: Jürgen Frosien,Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Charged particle lithography system and beam generator

Номер патента: US09653261B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Projection-type charged particle optical system and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: US20160141162A1. Автор: Kota Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-05-19.

Transmission charged particle microscope with an electron energy loss spectroscopy detector

Номер патента: US20240258067A1. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Projection-type charged particle optical system and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: US20170117127A1. Автор: Kota Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-27.

Charged particle analysers and methods of separating charged particles

Номер патента: EP2436023A1. Автор: Alexander Makarov,Anastassios Giannakopulos. Владелец: Thermo Fisher Scientific Bremen GmbH. Дата публикации: 2012-04-04.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Projection-type charged particle optical system and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: WO2015133558A1. Автор: Kota Iwasaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-09-11.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Charged particle microscope for examining a specimen, and method of determining an aberration of said charged particle microscope

Номер патента: US12080512B2. Автор: Lubomír Tuma. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-09-03.

Beam optical component having a charged particle lens

Номер патента: WO2005071709A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2005-08-04.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Projection-type charged particle optical system and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: US09570276B2. Автор: Kota Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Particle detector for detecting charged particles

Номер патента: EP4118425A1. Автор: Alexander Laue,Michel Aliman. Владелец: Leybold GmbH. Дата публикации: 2023-01-18.

Particle detector for detecting charged particles

Номер патента: WO2021180653A1. Автор: Alexander Laue,Michel Aliman. Владелец: Leybold GmbH. Дата публикации: 2021-09-16.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: EP4391009A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-26.

Multiple charged particle beam inspection apparatus and multiple charged particle beam inspection method

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Charged particle optical system and charged particle apparatus

Номер патента: EP4333017A1. Автор: Motofusa Ishikawa,Tomoya Uchida,Yuta Komatsu,Baku Ogasawara,Takakuni Goto,Shunta KUSU. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-06.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Method for manufacturing a head for irradiating a target with a beam of charged particles

Номер патента: US20240221970A1. Автор: Wilfried Vervisch. Владелец: Aix Marseille Universite. Дата публикации: 2024-07-04.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: WO2024132486A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Composite Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20150221468A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Charged Particle Detector and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20180261425A1. Автор: Makoto Sakakibara,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Kaori Shirahata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Charged particle counting device, manufacturing method thereof, and charged particle counting system

Номер патента: US20190171924A1. Автор: Changcheng JU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Charged particle counting device, manufacturing method thereof, and charged particle counting system

Номер патента: US10872288B2. Автор: Changcheng JU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-22.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Charged particle optical system and charged particle apparatus

Номер патента: US20240212969A1. Автор: Motofusa Ishikawa,Tomoya Uchida,Yuta Komatsu,Baku Ogasawara,Takakuni Goto,Shunta KUSU. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged Particle Instrument Equipped with Optical Microscope

Номер патента: US20080296499A1. Автор: Jacob Simon Faber. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2008-12-04.

Bandpass charged particle energy filtering detector for charged particle tools

Номер патента: US11749495B2. Автор: Michael Steigerwald,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Techniques for narrowing zero loss peaks in monochromated charged particles sources

Номер патента: US20240249905A1. Автор: Alexander Henstra,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-07-25.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Apparatus and method for trapping charged particles and performing controlled interactions between them

Номер патента: US8426809B2. Автор: Muir KUMPH. Владелец: UNIVERSITAET INNSBRUCK. Дата публикации: 2013-04-23.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: US12123841B2. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US12068130B2. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NexGenSemi Holdings Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Projection-type charged particle optical system and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: US09679756B2. Автор: Kota Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242922A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle optical device, objective lens assembly, detector, detector array, and methods

Номер патента: EP4341979A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-27.

Charged particle optical device, objective lens assembly, detector, detector array, and methods

Номер патента: US20240087844A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250331A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240288389A1. Автор: Peter Paul HEMPENIUS,Niels Johannes Maria BOSCH,Marco Jan-Jaco Wieland,Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle detector assembly

Номер патента: US20240272312A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-15.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

Apparatus and method relating to charged particles

Номер патента: EP1090411A2. Автор: Derek Aitken. Владелец: Superion Ltd. Дата публикации: 2001-04-11.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Device for manipulating charged particles

Номер патента: US09812308B2. Автор: Roger Giles,Alexander Berdnikov,Alina Andreyeva. Владелец: Shimadzu Research Laboratory Europe Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Charged particle-beam device and specimen observation method

Номер патента: US09466460B2. Автор: Taku Sakazume,Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Aligning charged particle beams

Номер патента: WO2010039339A3. Автор: Raymond Hill. Владелец: Carl Zeiss Smt Inc.. Дата публикации: 2010-06-10.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Apparatus and method relating to charged particles

Номер патента: WO1999066535A2. Автор: Derek Aitken. Владелец: Superion Limited. Дата публикации: 1999-12-23.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Charged particle detection for spectroscopic techniques

Номер патента: US12117406B2. Автор: Bryan Barnard,Pavel Stejskal. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Charged particle-optical device, charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240234081A9. Автор: Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-11.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP2834832A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2015-02-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle system, method of processing a sample using a multi-beam of charged particles

Номер патента: EP4260357A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-18.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: US20200258712A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-13.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: EP3047502A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Magnetic Lens, Method for Focusing Charged Particles and Charged Particle Energy Analyzer

Номер патента: US20110012018A1. Автор: Bryan Barnard,Christopher Glenister. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2011-01-20.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: WO2015042051A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-03-26.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: EP3698394A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-26.

Isolation of charged particle optics from vacuum chamber deformations

Номер патента: EP3198626A1. Автор: Gershon Perelman. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2017-08-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus

Номер патента: EP1197986A3. Автор: Ondrej L. Krivanek,Niklas Dellby,Andrew R. Lupini. Владелец: Nion Co. Дата публикации: 2004-04-07.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230290606A1. Автор: Yusuke Nakamura,Shunsuke Mizutani,Muneyuki Fukuda,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Charged particle beam source and charged particle beam system

Номер патента: EP4254465A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317400A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Multiple charged particle beam writing apparatus and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US20220107569A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242920A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US20240249912A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Magnetic lens, method for focusing charged particles and charged particle energy analyzer

Номер патента: US8164066B2. Автор: Bryan Barnard,Christopher Glenister. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2012-04-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle detector

Номер патента: US20240280517A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-22.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam lithography method

Номер патента: US09947509B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: US09715992B2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Aernout Christiaan Zonnevylle,Nalan Liv. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle microscope device and image capturing method

Номер патента: US09460889B2. Автор: Kenji Nakahira,Atsushi Miyamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Isolation of charged particle optics from vacuum chamber deformations

Номер патента: US09449805B2. Автор: Gershon Perelman. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Innovative imaging technique in transmission charged particle microscopy

Номер патента: US20190228949A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Michiel Franken,Lingbo Yu. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-07-25.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: US20240047171A1. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-08.

Multi-beam charged particle imaging system with reduced charging effects

Номер патента: WO2024099587A1. Автор: Stefan Schubert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-05-16.

Charged particle beam device

Номер патента: US20040238752A1. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US6963069B2. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-11-08.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US8497475B2. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-07-30.

Charged-particle microscope with astigmatism compensation and energy-selection

Номер патента: US09741525B1. Автор: Alexander Henstra,Lubomír Tuma,Bohuslav Sed'a. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Diaphragm mounting member and charged particle beam device

Номер патента: US09633817B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Emitter for emitting charged particles

Номер патента: EP4182960A1. Автор: Jurgen VAN SOEST. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-05-24.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP3942590A1. Автор: Jacob Pieter Hoogenboom,Sander DEN HOEDT. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-01-26.

Charged particle implantation for transistor symmetry

Номер патента: WO2006063046A3. Автор: Jiejie Xu,Said Ghneim,Jeffrey Loewecke,James D Bernstein,Lance S Robertson. Владелец: Lance S Robertson. Дата публикации: 2006-08-10.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Systems and methods for providing a beam of charged particles

Номер патента: US20210265125A1. Автор: Evgeny Papeer,Assaf Shaham,Ynon Hefets,Indranuj Dey,Alexander Bespaly,Shai TSIPSHTEIN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-08-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391143A1. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: US20190096630A1. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: WO2016076718A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-05-19.

Application management for charged particle microscope devices

Номер патента: EP4333020A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-03-06.

Charged particle sensors including wide bandgap materials

Номер патента: EP4386811A1. Автор: Libor Novak,Jan Lásko,Radek Smolka,Petr Glajc,Branislav Straka,Vojtêch Mahel. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-19.

Method and system for plasma assisted low vacuum charged particle microscopy

Номер патента: EP3882950A1. Автор: James Bishop,Milos Toth,Daniel Totonjian,Chris Elbadawi,Charlene Lobo. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2021-09-22.

Charged particle assessment tool, inspection method and image

Номер патента: US20230304949A1. Автор: Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method of operation of a charged particle beam device

Номер патента: WO2022028633A1. Автор: FILIP Vojtech. Владелец: Tescan Brno. Дата публикации: 2022-02-10.

Systems and methods for providing a beam of charged particles

Номер патента: WO2020012247A3. Автор: Evgeny Papeer,Assaf Shaham,Ynon Hefets,Indranuj Dey,Alexander Bespaly,Shai TSIPSHTEIN. Владелец: Ynon Hefets. Дата публикации: 2020-07-23.

Electronic device and methode for implementing logic functions and for guiding charged particles

Номер патента: US20130335118A1. Автор: Ron Naaman,Erez Halahmi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-19.

Electronic device and method for implementing logic functions and for guiding charged particles

Номер патента: WO2012101581A1. Автор: Ron Naaman,Erez Halahmi. Владелец: Novatrans Group SA. Дата публикации: 2012-08-02.

Transresistance amplifier for a charged particle detector

Номер патента: EP1510002A1. Автор: Andrew Philip The Maltings ARMIT. Владелец: Leo Electron Microscopy Ltd. Дата публикации: 2005-03-02.

Transresistance amplifier for a charged particle detector

Номер патента: WO2003103138A1. Автор: Andrew Philip Armit. Владелец: Leo Electron Microscopy Limited. Дата публикации: 2003-12-11.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242919A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US20120043462A1. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US20200355633A1. Автор: Tomas Tuma,Jan Klusacek,Jiri Petrek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-11-12.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods

Номер патента: US20240264099A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-08.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272768A1. Автор: Masaaki Komatsu,Shin Imamura,Shuhei Yabu,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US20240297012A1. Автор: Makoto Suzuki,Hiroki Kawada,Atsuko SHINTANI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Electronic method for controlling charged particles to obtain optimum electrokinetic behavior

Номер патента: WO1998036466A1. Автор: Floyd L. Williamson. Владелец: Williamson Floyd L. Дата публикации: 1998-08-20.

Auto-tuning stage settling time with feedback in charged particle microscopy

Номер патента: US20230238207A1. Автор: Erik Franken,Yuchen Deng,Holger Kohr,Bart van Knippenberg. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-07-27.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods

Номер патента: EP4420148A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged-particle optical device

Номер патента: US20240321547A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-26.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system

Номер патента: EP2556527A1. Автор: Rainer Knippelmeyer. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2013-02-13.

Charged particle beam device, simulation method, and simulation device

Номер патента: US09966225B2. Автор: Makoto Sakakibara,Junichi Tanaka,Daisuke Bizen,Hiroya Ohta. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-05-08.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Charged particle image measuring device and imaging mass spectrometry apparatus

Номер патента: US09754772B2. Автор: Hiroyuki Hashimoto,Kota Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Sample holder and charged particle device

Номер патента: US09721752B2. Автор: Takeshi Sato,Hiroaki Matsumoto,Yasuhira Nagakubo,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Charged particle beam device

Номер патента: US12142457B2. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09343265B2. Автор: Hisayuki Takasu,Asako Kaneko,Hirobumi Mutou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system

Номер патента: US09336981B2. Автор: Rainer Knippelmeyer. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Charged-particle analyzer

Номер патента: US4135088A. Автор: Isao Ishikawa,Katsuhisa Usami,Michiyasu Itoh. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1979-01-16.

Charged particle device, detector, and methods

Номер патента: US20230005706A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130105690A1. Автор: Satoshi Takada,Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Charged particle imaging system and use thereof

Номер патента: WO2022221948A1. Автор: Rodney HERRING. Владелец: HERRING Rodney. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4352773A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Apparatus for contamination reduction in charged particle beam systems

Номер патента: WO2024160448A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-08.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Apparatus for contamination reduction in charged particle beam systems

Номер патента: EP4439623A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4156227A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged-particle beam apparatus with fast focus correction and methods thereof

Номер патента: WO2023237277A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Wei-Yu Chang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: WO2024013042A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4354485A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Semiconductor charged particle detector and methods thereof

Номер патента: WO2024028076A1. Автор: Sven Jansen,Padmakumar RAMACHANDRA RAO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-08.

Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

Номер патента: WO2023198397A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Method and apparatus for realizing air charged particle wave with required frequency

Номер патента: CA3128266C. Автор: Yanbing Liu,Qijia LIU,Qirui Liu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-22.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Charged-particle apparatus

Номер патента: WO2023110316A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-06-22.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Systems and methods of energy discrimination of backscattered charged-particles

Номер патента: WO2024115029A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Charged particle beam inspection apparatus and method

Номер патента: WO2024132808A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Xuechen ZHU,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240212966A1. Автор: Masahiro Fukuta,Tomoya IGARI,Takshi DOI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle processing for forming pattern boundaries at a uniform thickness

Номер патента: US20020177055A1. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Charged particle microscope scan masking for three-dimensional reconstruction

Номер патента: US11741730B2. Автор: Pavel Potocek,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-29.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7449692B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-11.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

An illumination control device for a charged particle analyser

Номер патента: WO2022177487A1. Автор: Mikael OLOFSSON. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2022-08-25.

Structure for Particle Acceleration And Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240242918A1. Автор: Kenji Tanimoto,Shuhei Ishikawa,Ryo Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150060690A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Battery pack with structure for suppressing entry of charged particles

Номер патента: US20240207867A1. Автор: Taro Matsushita. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09548183B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Discharging method for charged particle beam imaging

Номер патента: US09460887B2. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Charged particle beam instrument and sample container

Номер патента: US09449784B2. Автор: Tatsuo Naruse. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Charged-particle-beam device and method for correcting aberration

Номер патента: US9484182B2. Автор: Takaho Yoshida,Hisanao Akima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Charged particle beam device and image generation method

Номер патента: EP4148766A1. Автор: Kazuki Yagi,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI,Bryan W Reed. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230377837A1. Автор: Yuko Sasaki,Yasuhiro Shirasaki,Yohei Nakamura,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Shota MITSUGI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11798776B2. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230238205A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Charged particle spectrometer and method for calibration

Номер патента: WO2022203566A1. Автор: Takahiro Hashimoto,Tomas WIELL. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2022-09-29.

Charged particle spectrometer and method for calibration

Номер патента: EP4314902A1. Автор: Takahiro Hashimoto,Tomas WIELL. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2024-02-07.

Charged Particle Source and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210296076A1. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Charged particle apparatus

Номер патента: EP4345861A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-03.

Multi-beam charged particle source with alighment means

Номер патента: US20240096585A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP3977499A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240145208A1. Автор: Erwin Slot,Bertil OSTERBERG Mans Johan. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle beam treatment apparatus

Номер патента: US20190027339A1. Автор: Nagaaki Kamiguchi. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged Particle Beam Device and Image Generation Method

Номер патента: US20230072991A1. Автор: Kazuki Yagi,Bryan W. Reed,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Charged particle gun and charged particle beam device

Номер патента: GB2605035A. Автор: Sasaki Tomoyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Charged particle source and charged particle beam device

Номер патента: US11990311B2. Автор: Kazuhiro Honda,Masahiro Fukuta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Multi-beam charged particle source with alignment means

Номер патента: EP4049300A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2022-08-31.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230845A1. Автор: Kohei Suzuki,Yuji Kasai,Shunsuke Mizutani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Apparatus and method for irradiating a surface of a sample using charged particle beams

Номер патента: NL2016853B1. Автор: KRUIT Pieter,Wouter Hagen Cornelis,Scotuzzi Marijke. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2017-12-11.

Stencil mask, charged particle irradiation apparatus and the method

Номер патента: EP1505438A3. Автор: Osada Tomoyuki,Takeshi Shibata,Tsutomu Nishihashi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2006-01-11.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9812289B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9514915B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

3d mapping of samples in charged particle microscopy

Номер патента: EP4012745A1. Автор: Jaroslav Kamenec. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-06-15.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US9362085B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US8000939B2. Автор: Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20240242932A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged Particle Device

Номер патента: US20150179394A1. Автор: Tsutomu Saito,Kenji Aoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-25.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242933A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle device

Номер патента: US20140197331A1. Автор: Wataru Suzuki,Shinya Kitayama,Hirohisa Enomoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-07-17.

Device for detecting charged particles or radiation

Номер патента: US20230266485A1. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Laila Ambar Sari,Takumu IWANAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7652249B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160365223A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190228947A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Electrostatic lens for controlling beam of charged particles

Номер патента: SE1900143A1. Автор: Mikael OLOFSSON. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2021-03-01.

Charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20180350554A1. Автор: Takeshi Sunaoshi,Haruhiko Hatano,Yoshihisa Orai,Takashi MIZUO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Charged-particle microscopy with enhanced electron detection

Номер патента: US20150155131A1. Автор: Albertus Aemillius Seyno Sluijterman,Eric Gerardus Theodoor Bosch. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-06-04.

Combined aperture holder, beam blanker and vacuum feed through for electron beam, ion beam charged particle devices

Номер патента: US20070069149A1. Автор: Earl Weltmer. Владелец: SCANSERVICE Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Charged-particle microscopy imaging method

Номер патента: EP2557586A3. Автор: Cees Kooijman,Faysal Boughorbel,Eric Bosch,Frank De Jong,Ben Lich. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-04-10.

Charged particle beam apparatus and aberration corrector

Номер патента: US20170162362A1. Автор: Takaho Yoshida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Charged particle beam system

Номер патента: EP3901983A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-27.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20100102224A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-04-29.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged Particle Beam Apparatus and Sample Observation Method

Номер патента: US20190279838A1. Автор: Kunji Shigeto,Mitsugu Yamashita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Magnetic field free sample plane for charged particle microscope

Номер патента: EP4020519A1. Автор: Alexander Henstra,Peter Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-06-29.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160233052A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-11.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US20170207064A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: US20220381654A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-01.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: EP4095940A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-11-30.

Scanning type charged particle beam microscope

Номер патента: US20020017606A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-14.

Large geometric factor charged particle spectrometer

Номер патента: US20030042416A1. Автор: Luke Goembel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

An illumination control device for a charged particle analyser

Номер патента: US20240310309A1. Автор: Mikael OLOFSSON. Владелец: Scienta Omicron AB. Дата публикации: 2024-09-19.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20210313142A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160013010A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-14.

Method of processing a sample, and charged particle assessment system

Номер патента: US20240339290A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland,Jurgen VAN SOEST,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240331971A1. Автор: Jurgen VAN SOEST,Vincent Sylvester KUIPER,Yinglong LI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Method of processing a sample with a charged particle assessment system

Номер патента: EP4453991A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland,Jurgen VAN SOEST,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-30.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09991086B2. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Method of generating electric field for manipulating charged particles

Номер патента: US09887075B2. Автор: John Brian Hoyes. Владелец: Micromass UK Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US09881770B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle microscope with vibration detection / correction

Номер патента: US09875879B2. Автор: Albert Visscher,Jeroen De Boeij,Johannes Antonius Maria van den Oetelaar. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2018-01-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US09859100B2. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle filter

Номер патента: US09837242B2. Автор: Alan RONEMUS. Владелец: Thermo Electron Scientific Instruments LLC. Дата публикации: 2017-12-05.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09805907B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09715993B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Charged particle filter

Номер патента: US09697984B2. Автор: Alan RONEMUS. Владелец: Thermo Electron Scientific Instruments LLC. Дата публикации: 2017-07-04.

Blanking system for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09697981B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09556521B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09453281B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged-particle beam device

Номер патента: US09443695B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Takeyoshi Ohashi,Noritsugu Takahashi,Osamu Komuro. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Multi-beam charged particle microscope design with mirror for field curvature correction

Номер патента: NL2035277A. Автор: Singer Wolfgang,Schmid Thomas,Zeidler Dirk. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-01-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210175047A1. Автор: Ichiro Fujimura,Hiroki Kannami,Hironori Itabashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: WO2021144468A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic Ip B.V.. Дата публикации: 2021-07-22.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Charged particle beam device

Номер патента: US11823861B2. Автор: Junichi Katane,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Circuit for transporting charged particles

Номер патента: WO2023017186A1. Автор: Jonatan Kutchinsky,Søren ANDRESEN,Joost van der Heijden,Ferdinand Kuemmeth,Merlin VON SOOSTEN,Anders KÜHLE. Владелец: Qdevil Aps. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged particle detector for microscopy

Номер патента: WO2024078821A1. Автор: Ilse VAN WEPEREN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US10504695B2. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-10.

System of mobile charged particle detectors and methods of spent nuclear fuel imaging

Номер патента: US20200144023A1. Автор: Konstantin Borozdin. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2020-05-07.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230274907A1. Автор: Hideo Morishita,Junichi Katane,Tatsuro Ide,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

Номер патента: US12001521B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: EP4090955A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-11-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9455119B2. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150270096A1. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Charged particle beam device and phase plate

Номер патента: US20180330916A1. Автор: Arthur Malcolm Blackburn. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: US12033830B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US11728131B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-15.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US12125669B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US5324950A. Автор: Tadashi Otaka,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-06-28.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9737734B2. Автор: Susan L. Michaud,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9907981B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Charged particle energy analyzers

Номер патента: US5185524A. Автор: Simon C. Page. Владелец: Kratos Analytical Ltd. Дата публикации: 1993-02-09.

Charged particle beam device

Номер патента: US5235188A. Автор: Petrus M. Mul. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Composite charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210151283A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Charged Particle Beam Device and Specimen Observation Method

Номер патента: US20230343549A1. Автор: Makoto Suzuki,Masashi Wada,Masahiro Fukuta,Tomoyo Sasaki,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: EP4235731A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: EP3332417A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-13.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: WO2018068506A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Methods for confirming charged-particle generation in an instrument, and related instruments

Номер патента: AU2023226786A1. Автор: James Arthur VANGORDON. Владелец: Biomerieux Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle lithography system with sensor assembly

Номер патента: US20150179398A1. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS,Jan Andries Meijer,Carel Ferdinand Daudey. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-06-25.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20220254603A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20220059319A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Multiple charged particle beam writing method and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230420217A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Charged particle assessment system and method of aligning a sample in a charged particle assessment system

Номер патента: US20240128045A1. Автор: Erwin Slot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle detection system

Номер патента: US20210280387A1. Автор: Eli Cheifetz,Armin Schon,Dmitry Shur. Владелец: El Mul Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11315753B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-04-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210313140A1. Автор: Minoru Yamazaki,Yuzuru MIZUHARA,Noritsugu Takahashi,Daisuke Bizen,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150083910A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged particle detection system

Номер патента: US20200312609A1. Автор: Eli Cheifetz,Armin Schon,Dmitry Shur. Владелец: El Mul Technologies Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US20230274908A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US11990315B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-05-21.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362930A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged Particle Microscope System and Measurement Method Using Same

Номер патента: US20150235804A1. Автор: Katsuhiro Sasada,Chie Shishido,Mayuka Osaki,Maki Kimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-20.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230178325A1. Автор: Noriaki Arai,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Bandpass charged particle energy filtering detector for charged particle tools

Номер патента: EP4338189A1. Автор: Michael Steigerwald,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240062986A1. Автор: Tomohito Nakano,Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji,Naho TERAO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Method and device for spatial charged particle bunching

Номер патента: US20240112882A1. Автор: Michael John Zani,Jeffrey Winfield Scott,Mark Joseph Bennahmias. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged beam apparatus

Номер патента: US20180182596A1. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Beam blanker and method for blanking a charged particle beam

Номер патента: US20180151327A1. Автор: Christof Baur,Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-31.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11710615B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Charged particle energy analyzer

Номер патента: US4546254A. Автор: Hiroshi Yamauchi. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 1985-10-08.

Charged particle beam irradiation apparatus and irradiation method using the apparatus

Номер патента: US6323498B1. Автор: Kaneo Kageyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-27.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Charged particle beam lithography system and target positioning device

Номер патента: US9082584B2. Автор: Guido De Boer,Jerry Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-07-14.

Charged particle beam irradiation method, method of manufacturing semiconductor device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050121610A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250332A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2019164391A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2019-08-29.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20140021366A1. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged-Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20200185189A1. Автор: Makoto Sakakibara,Makoto Suzuki,Daisuke Bizen,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240055220A1. Автор: Yuka II. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11239046B2. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11928801B2. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317406A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yuto Kawashima,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240071716A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20110031387A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US11961701B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: US11817292B2. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-14.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: EP4272238A1. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-08.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220261973A1. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Multi-column charged particle optics assembly

Номер патента: EP1745492A1. Автор: N. William Parker,S. Daniel Miller,Victor Galande. Владелец: Multibeam Systems Inc. Дата публикации: 2007-01-24.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9892887B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210134555A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged particle source

Номер патента: US20130087716A1. Автор: XIONG Liu,Matthias Langer,Wolfram BÜHLER. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: WO2023180016A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged Particle Beam Apparatus and Focus Adjusting Method Therefor

Номер патента: US20230230798A1. Автор: Keisuke Igarashi,Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Mai YOSHIHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Charged particle beam apparatus and control method

Номер патента: US20220115203A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Daisuke Bizen,Ryota Watanabe,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP3756209A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2020-12-30.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190304740A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged particle detection for spectroscopic techniques

Номер патента: GB2592558A. Автор: Stejskal Pavel,BARNARD Bryan. Владелец: VG Systems Ltd. Дата публикации: 2021-09-08.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US12009175B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210090851A1. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230005700A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Kazuma Tanii. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US20220189729A1. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Method of Adjusting Charged Particle Optical System and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240145211A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20180138010A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20160111246A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Method of adjusting charged particle optical system and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4362056A1. Автор: Shigeyuki Morishita,Yuji Kohno. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Charged-particle microscope providing depth-resolved imagery

Номер патента: EP2648208A3. Автор: Pavel Potocek,Faysal Boughorbel,Xiaodong Zhuge,Eric Bosch,Ben Lich. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-03-23.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US20180233324A1. Автор: Hirohito Anze. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Apparatus for providing a protective layer for charged-particle-beam processing

Номер патента: EP1918981B1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-02-16.

Direct detection and imaging of charged particles from a radiopharmaceutical

Номер патента: EP3716852A1. Автор: KUNAL Vyas,David Tuch. Владелец: Lightpoint Medical Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Electrostatic deflection of charged particles

Номер патента: GB9025273D0. Автор: . Владелец: Linx Printing Technologies Ltd. Дата публикации: 1991-01-02.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Protective Layer For Charged Particle Beam Processing

Номер патента: US20120107521A1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2012-05-03.

Charged particle source

Номер патента: WO1998020513A1. Автор: Alan V. Hayes,Boris L. Druz,Victor Kanarov,Salvatore A. Distefano,Emmanuel N. Lakios. Владелец: VEECO INSTRUMENTS, INC.. Дата публикации: 1998-05-14.

Charged particle energy analyser

Номер патента: WO1993010554A2. Автор: Ian Robert Holton. Владелец: Fisons, Plc. Дата публикации: 1993-05-27.

Device for forming a quasi-neutral beam of oppositely charged particles

Номер патента: US09776742B2. Автор: Dmytro Rafalskyi,Ane Aanesland. Владелец: ECOLE POLYTECHNIQUE. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle beam microprobe apparatus

Номер патента: US4670652A. Автор: Masahide Okumura,Satoru Fukuhara,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-06-02.

Apparatus for chopping a charged particle beam

Номер патента: US4626690A. Автор: Hideo Todokoro,Tsutomu Komoda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-12-02.

Charged particle beam processing method

Номер патента: EP2221849A3. Автор: Katsuhiro Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-06-13.

Component for manipulating a stream of charged particles

Номер патента: US20110001056A1. Автор: Kevin Hunter,Richard Stresau,Wayne Sheils. Владелец: SGE ANALYTICAL SCIENCE PTY LTD. Дата публикации: 2011-01-06.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing failure of blanking circuit

Номер патента: US10460902B2. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Charged-particle irradiation unit for a charged-particle diffractometer

Номер патента: WO2024046987A1. Автор: Francesco Garbuglia. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-03-07.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Charged particle beam device

Номер патента: US11798780B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US11984295B2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-14.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190237297A1. Автор: Takahito Nakayama,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Charged particle system and method for measuring deflection fields in a sample

Номер патента: US10332720B2. Автор: Kazuya Yamazaki. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-06-25.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2013151421A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: DELMIC B.V.. Дата публикации: 2013-10-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220328281A1. Автор: Makoto Sakakibara,Akira Ikegami,Hajime Kawano,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220359150A1. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240194439A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US9240305B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-19.

Charged-particle beam lithography apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090057571A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Charged particle beam emitting assembly

Номер патента: CA2303148C. Автор: Allan Sanderson. Владелец: Welding Institute England. Дата публикации: 2008-06-03.

Charged-particle optical systems and pattern transfer apparatus comprising same

Номер патента: US6060711A. Автор: Hiroyasu Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

Active charged particle tomography

Номер патента: US09817150B2. Автор: Michael James Sossong. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Charged-particle beam irradiation device

Номер патента: US20140058186A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Charged particle tomography with improved momentum estimation

Номер патента: US09588064B2. Автор: Thomas Taylor,Sean Simon,Priscilla KURNADI. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09566453B2. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Charged particle generator and functional fabric having a charged particle emission function

Номер патента: US20080319518A1. Автор: Masakazu Komuro. Владелец: Nac Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-25.

Method of converging charged particles and device therefor

Номер патента: WO2024149979A1. Автор: Dimitrios Sideris. Владелец: GENETIC MICRODEVICES LIMITED. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle thrust engine

Номер патента: US20090288385A1. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-26.

Methods of converging charged particles, reacting substances and separating substances, and devices therefor

Номер патента: GB2626158A. Автор: Sideris Dimitrios. Владелец: Genetic Microdevices Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Charged particle thrust engine

Номер патента: EP1797319A2. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-20.

Charged particle thrust engine

Номер патента: WO2007008234A2. Автор: Walter Timmons Cardwell, Jr.,Tristram Walker Metcalfe, III. Владелец: Cardwell Walter Timmons Jr. Дата публикации: 2007-01-18.

Charged particle trap apparatus

Номер патента: GB2627794A. Автор: MALINOWSKI Maciej,Ballance Chris,Allcock David. Владелец: Oxford Ionics Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Charged particle trap apparatus

Номер патента: GB2627795A. Автор: MALINOWSKI Maciej,Ballance Chris,Allcock David. Владелец: Oxford Ionics Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Charged particle trap apparatus

Номер патента: WO2024180338A1. Автор: David Allcock,Maciej MALINOWSKI,Chris BALLANCE. Владелец: Oxford Ionics Limited. Дата публикации: 2024-09-06.

Charged particles

Номер патента: US09403987B2. Автор: Bernd Lamatsch,Pascal Hayoz,Philippe Bugnon,Laurent Michau,Urs Lehmann,Margherita Fontana,Stephan Burkhardt. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-08-02.

A method for manipulating charged particles

Номер патента: WO2021205145A1. Автор: Jochen Wolf,Chris BALLANCE,Tom HARTY. Владелец: Oxford Ionics Limited. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged particle track detector

Номер патента: US20190243010A1. Автор: Ryosuke Ota. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2019-08-08.

System for charged particle therapy verification

Номер патента: US12036427B2. Автор: Ilker Meric,Kristian Smeland Ytre-Hauge. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2024-07-16.

A method for manipulating charged particles

Номер патента: US20230114436A1. Автор: Jochen Wolf,Chris BALLANCE,Tom HARTY. Владелец: Oxford Ionics Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged particle trap apparatus

Номер патента: WO2024180337A1. Автор: David Allcock,Maciej MALINOWSKI,Chris BALLANCE. Владелец: Oxford Ionics Limited. Дата публикации: 2024-09-06.

Gantry and apparatus for focussing beams of charged particles

Номер патента: US12059581B2. Автор: Luca BOTTURA. Владелец: European Organization for Nuclear Research CERN. Дата публикации: 2024-08-13.

Electrifier for holding charge particles, and image forming apparatus

Номер патента: US20020061207A1. Автор: Jun Hirabayashi,Harumi Ishiyama,Yasunori Chigono. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-23.

Charged-particle distribution measuring apparatus

Номер патента: US4992742A. Автор: Shigeo Sasaki,Kazuo Yoshida,Yoshio Yamane,Soichiro Okuda,Fumiharu Yabunaka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1991-02-12.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20210299480A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle trap operation

Номер патента: WO2024009077A1. Автор: David Allcock,Maciej MALINOWSKI,Raghavendra Srinivas,Chris BALLANCE. Владелец: Oxford Ionics Limited. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged-particle-beam analysis device and analysis method

Номер патента: US09752997B2. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Energy degrader and charged particle beam irradiation system equipped therewith

Номер патента: US09390826B2. Автор: Takamasa Ueda,Takuya Miyashita. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Charged particle beam irradiating apparatus

Номер патента: US20100072389A1. Автор: Toshiaki Ochi,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

System of mobile charged particle detectors and methods of spent nuclear fuel imaging

Номер патента: EP3942591A1. Автор: Konstanin BOROZDIN. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

System and methods of charged particle detectors for blast furnace imaging

Номер патента: AU2022289487A1. Автор: Sean Simon,Anthony Crego. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

System and methods of charged particle detectors for blast furnace imaging

Номер патента: WO2022261335A1. Автор: Sean Simon,Anthony Crego. Владелец: Decision Sciences International Corporation. Дата публикации: 2022-12-15.

Method for charging particles suspended in gases

Номер патента: US4574004A. Автор: Andreas Schmidt-Ott,Hans-Christoph Siegmann. Владелец: Siegmann Hans Christoph. Дата публикации: 1986-03-04.

Electrostatic modulator for controlling flow of charged particles

Номер патента: US3796490A. Автор: Gerald L Pressman. Владелец: Electroprint Inc. Дата публикации: 1974-03-12.

Charged particle beam irradiation system

Номер патента: EP4052758A1. Автор: Takashi Yamaguchi,Masayuki Araya,Shouhei MIZUTANI,Yuya SUGAMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

System and methods of charged particle detectors for blast furnace imaging

Номер патента: EP4352435A1. Автор: Sean Simon,Anthony Crego. Владелец: Decision Sciences International Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle measuring apparatus

Номер патента: US20030158678A1. Автор: Takashi Nozaki,Jun Kikuchi,Haruhisa Matsumoto,Hideki Koshiishi,Shigeru Takehisa. Владелец: MEISI ELECTRIC Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-21.

Charged particle measuring apparatus

Номер патента: US6710352B2. Автор: Takashi Nozaki,Jun Kikuchi,Haruhisa Matsumoto,Hideki Koshiishi,Shigeru Takehisa. Владелец: National Space Development Agency of Japan. Дата публикации: 2004-03-23.

Charged particle trap operation

Номер патента: GB2620393A. Автор: SRINIVAS Raghavendra,MALINOWSKI Maciej,Ballance Chris,Allcock David. Владелец: Oxford Ionics Ltd. Дата публикации: 2024-01-10.

A gantry and apparatus for focussing beams of charged particles

Номер патента: CA3100404C. Автор: Luca BOTTURA. Владелец: European Organization for Nuclear Research CERN. Дата публикации: 2024-06-18.

IC analysis system having charged particle beam apparatus for improved contrast image

Номер патента: US5640539A. Автор: Akira Goishi,Masayuki Kurihara,Koshi Ueda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Charged particle detecting device and gamma camera

Номер патента: WO2015119065A1. Автор: Kazuyoshi Ishii. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-08-13.

Source of charged particles

Номер патента: US11984237B1. Автор: Mikhail Aleksandrovich Meshchaninov,Dmitrii Yanovich Agasarov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-14.

Charged particle generator, charging device, and image forming apparatus

Номер патента: US20120051790A1. Автор: Chikaho Ikeda,Masao Ohmori,Takanori MORINO. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Containing/transporting charged particles

Номер патента: US09543052B2. Автор: Gerald Peter Jackson. Владелец: HBAR TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle containment apparatus

Номер патента: US4387982A. Автор: Michael R. Stanley. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1983-06-14.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US20200016431A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: EP3600544A1. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2020-02-05.

Systems and methods for magnetic field localization of charged particle beam end point

Номер патента: US11904183B2. Автор: Stuart Julian Swerdloff. Владелец: Elekta Pty Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Dual rotation charged particle imaging / treatment apparatus and method of use thereof

Номер патента: US10143854B2. Автор: W. Davis Lee,Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-04.

Separation of a liquid containing charged particles or/and polarizable molecules

Номер патента: US3790461A. Автор: G Yeh. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-02-05.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US8941086B2. Автор: Satoru YAJIMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-01-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20100288946A1. Автор: Hisashi Harada,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2010-11-18.

Transport of suspended charged particles using traveling electrostatic surface waves

Номер патента: US4896174A. Автор: Richard G. Stearns. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1990-01-23.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle accelerating device

Номер патента: RU2236094C1. Автор: А.С. Богомолов. Владелец: Богомолов Алексей Сергеевич. Дата публикации: 2004-09-10.