Lithographic apparatus and method for optimizing an illumination source using photolithographic simulations
Номер патента: EP1473596A2
Опубликовано: 03-11-2004
Автор(ы): Steven George Hansen
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-11-2004
Автор(ы): Steven George Hansen
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for compensating for an exposure error, a device manufacturing method, a substrate table, a lithographic apparatus, a control system, a method for measuring reflectivity and a method for measuring a dose of EUV radiation
Номер патента: US09983489B2. Автор: Bob Streefkerk,Henricus Jozef Castelijns,Marcel Beckers,Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Leon Martin Levasier,Siegfried Alexander Tromp,Adrianus Hendrik Koevoets,Peter Schaap,Hubertus Antonius Geraets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-29.