Coating on particles by atomic layer deposition

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Powder atomic layer deposition apparatus for blowing powders

Номер патента: US11987883B2. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20240263309A1. Автор: Woo-Seok Jeon,Chulmin BAE,Jaehee SEO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Device and method of atomic-layer deposition of coating on substrate surface

Номер патента: RU2704875C2. Автор: Тимо МАЛИНЕН. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2019-10-31.

Application of coating on fine particles using atomic deposition unit

Номер патента: RU2600042C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС,Пекка Й. СОЙНИНЕН. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2016-10-20.

Casing for applying metal-oxide coating on glass tanks by vapour deposition

Номер патента: RU2633121C2. Автор: Кэтлин ФЕЙХИ. Владелец: Аркема Инк.. Дата публикации: 2017-10-11.

Large scale system for atomic layer deposition

Номер патента: WO2024163509A1. Автор: Andrew BROERMAN,James RAGONESI,Brian Evanko. Владелец: Forge Nano Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for depositing a coating on a yarn in a microwave field

Номер патента: US20230242453A1. Автор: Arnaud DELEHOUZE,Sylvain Lucien JACQUES,Pierre FENETAUD. Владелец: Universite de Bordeaux. Дата публикации: 2023-08-03.

Deposition of ultra-thin functional coatings on flexible materials

Номер патента: CA3239134A1. Автор: Chee Hau TEOH,Jhi Yong LOKE,Kevin Musselman. Владелец: Nfinite Nanotechnology Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Deposition of ultra-thin functional coatings on flexible materials

Номер патента: EP4437159A1. Автор: Chee Hau TEOH,Jhi Yong LOKE,Kevin Musselman. Владелец: Nfinite Nanotechnology Inc. Дата публикации: 2024-10-02.

Method and device for atomic layer deposition

Номер патента: RU2702669C2. Автор: Тимо МАЛИНЕН,Юхана КОСТАМО,Вэй-Минь ЛИ,Теро ПИЛЬВИ. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2019-10-09.

Atomic layer deposition apparatus for coating on fine powders

Номер патента: US11739423B2. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku,Ta-Hao Kuo. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Atomic layer deposition apparatus for coating on fine powders

Номер патента: US20220106685A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku,Ta-Hao Kuo. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Atomic layer deposition apparatus for powders

Номер патента: US12031208B2. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Atomic-layer deposition method using compound gas jet

Номер патента: US20160237564A1. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-08-18.

Atomic-layer deposition apparatus

Номер патента: US09976216B2. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2018-05-22.

Atomic-layer deposition method using compound gas jet

Номер патента: US09528184B2. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Atomic-layer deposition apparatus using compound gas jet

Номер патента: US09506147B2. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-11-29.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US09499908B2. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-11-22.

Coating fabric substrate by deposition of atomic layers

Номер патента: RU2600462C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2016-10-20.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: FI20195591A1. Автор: Pekka Soininen,Pekka J Soininen,Hulda AMINOFF,Ville MIIKKULAINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-12-29.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: WO2020260770A1. Автор: Pekka Soininen,Pekka J. Soininen,Hulda AMINOFF,Ville MIIKKULAINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-12-30.

Atomic layer deposition apparatus for powders

Номер патента: US20220106682A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Atomic-layer deposition apparatus using compound gas jet

Номер патента: US20160237567A1. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-08-18.

Precursor source arrangement and atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US12000043B2. Автор: Pekka Soininen,Pekka J. Soininen,Hulda AMINOFF,Ville MIIKKULAINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-06-04.

Atomic-layer deposition apparatus

Номер патента: US20160237563A1. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2016-08-18.

Atomic-layer deposition apparatus

Номер патента: US20170051404A1. Автор: Kam Chuen Ng,Ronald Steven Cok,Kurt D. Sieber. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2017-02-23.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: FI20195590A1. Автор: Pekka Soininen,Pekka J Soininen,Hulda AMINOFF,Ville MIIKKULAINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-12-29.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Apparatus and method for making atomic layer deposition on fine powders

Номер патента: US09951419B2. Автор: Ying-Bing JIANG,Hongxia Zhang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-24.

Atomic layer deposition with in-situ sputtering

Номер патента: WO2024050252A1. Автор: Pulkit Agarwal,Gengwei Jiang,Pei-Chi Liu,Jonathan Grant BAKER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-07.

Coatings on particles of high energy materials and methods of forming same

Номер патента: US11976016B2. Автор: Arrelaine Dameron,Ryon TRACY,Jessica BURGER,Chris GUMP,Andrew BROERMAN. Владелец: Forge Nano Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US09890454B2. Автор: Suk Won Jung,Myung Soo Huh,Choel Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Particle coating by atomic layer deposition

Номер патента: US20240183031A1. Автор: Fritz Burkhardt,Stefan Huber,Claude Lerf. Владелец: Merz and Benteli Ag. Дата публикации: 2024-06-06.

Particle coating by atomic layer deposition

Номер патента: EP4314381A1. Автор: Fritz Burkhardt,Stefan Huber,Claude Lerf. Владелец: Merz and Benteli Ag. Дата публикации: 2024-02-07.

Methods of forming ruthenium-containing films by atomic layer deposition

Номер патента: EP2291548A1. Автор: Ravi Kanjolia,Neil Boag,Rajesh Odedra,Jeff Anthis. Владелец: Sigma Aldrich Co LLC. Дата публикации: 2011-03-09.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US20160083842A1. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-24.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US09828673B2. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Svt Associates Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: US20240344197A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-17.

Method for atomic layer deposition

Номер патента: US9506144B2. Автор: Hsin-Yi Lee,Ching-Shun Ku. Владелец: NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER. Дата публикации: 2016-11-29.

Atomic layer deposition for continuous, high-speed thin films

Номер патента: US12006570B2. Автор: Angel YANGUAS-GIL,Jeffrey W. Elam,Joseph A. Libera. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2024-06-11.

Process for low temperature atomic layer deposition of Rh

Номер патента: US20020197814A1. Автор: Stefan Uhlenbrock,Eugene Marsh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US09809880B2. Автор: In Kyo KIM,Suk Won Jung,Myung Soo Huh,Choel Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Apparatus and method for atomic layer deposition on substrates

Номер патента: US7754013B2. Автор: Ernst H. A. Granneman. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2010-07-13.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: FI20215853A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-02-14.

An atomic layer deposition reaction chamber and an atomic layer deposition reactor

Номер патента: EP4384649A1. Автор: Pekka Soininen,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Esko Karppanen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-06-19.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: EP4225966A1. Автор: Pekka Soininen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-08-16.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20230374658A1. Автор: Pekka Soininen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-11-23.

Sealing surfaces of components used in plasma etching tools using atomic layer deposition

Номер патента: US20230215703A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Robin Koshy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Atomic layer deposition (ald) device

Номер патента: RU2752059C1. Автор: Марко Пудас,Тимо МАЛИНЕН,Никлас ХОЛМ,Юхана КОСТАМО. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2021-07-22.

Methods for forming a boron nitride film by a plasma enhanced atomic layer deposition process

Номер патента: US20230272527A1. Автор: Atsuki Fukazawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-31.

Atomic layer deposition of metal phosphates and lithium silicates

Номер патента: US9765431B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Timo Hatanpää,Jani Hämäläinen,Jani Holopainen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-09-19.

Improved methods for atomic layer deposition

Номер патента: WO2008010941A3. Автор: Ce Ma,Qing Min Wang,Graham McFarlane,Patrick J Helly. Владелец: Patrick J Helly. Дата публикации: 2008-07-31.

Roll to roll atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20230304153A1. Автор: Jihyun Seo. Владелец: Beilab Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Atomic layer deposition method of depositing an oxide on a substrate

Номер патента: US20060257584A1. Автор: Shuang Meng,Danny Dynka,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-16.

System for atomic layer deposition on flexible substrates and method for the same

Номер патента: WO2017188947A1. Автор: Brian Einstein Lassiter. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-11-02.

Method for atomic layer deposition

Номер патента: US09605344B2. Автор: C. Jeffrey Brinker,Joseph L. Cecchi,Ying-Bing JIANG,Yaqin Fu. Владелец: STC UNM. Дата публикации: 2017-03-28.

Metamaterial and method for forming a metamaterial using atomic layer deposition

Номер патента: EP2971229A1. Автор: Ando Feyh,Gary Yama,Gary O'brien,Fabian Purkl,John Provine. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2016-01-20.

Single source precursors for atomic layer deposition

Номер патента: GB2439996A. Автор: Anthony Copland Jones. Владелец: Epichem Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Nitride film formed by plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition process

Номер патента: US09865455B1. Автор: James Samuel Sims,Kathryn Merced Kelchner. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Atomic layer deposition encapsulation for acoustic wave devices

Номер патента: US20120091855A1. Автор: Merrill Albert Hatcher, JR.,John Robert Siomkos,Jayanti Jaganatha Rao. Владелец: RF Micro Devices Inc. Дата публикации: 2012-04-19.

Atomic layer deposition apparatus and process

Номер патента: US09695510B2. Автор: Gilbert Bruce Rayner, JR.. Владелец: Kurt J Lesker Co. Дата публикации: 2017-07-04.

Oxygen radical enhanced atomic-layer deposition using ozone plasma

Номер патента: US09583337B2. Автор: Arthur W. Zafiropoulo. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Atomic layer deposition method of metal (ii), (0), or (iv) containing film layer

Номер патента: EP4034689A1. Автор: James. D PARISH,Andrew. L JOHNSON. Владелец: University of Bath. Дата публикации: 2022-08-03.

Atomic layer deposition method of metal (ii), (0), or (iv) containing film layer

Номер патента: US20220356576A1. Автор: Andrew L. Johnson,James D. PARISH. Владелец: University of Bath. Дата публикации: 2022-11-10.

Atomic layer deposition method of metal (II), (0), or (IV) containing film layer

Номер патента: GB2587401A9. Автор: D Parish James,L Johnson Andrew. Владелец: University of Bath. Дата публикации: 2024-01-17.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Atomic layer deposition methods

Номер патента: US8163648B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-04-24.

Atomic layer deposition coatings on razor components

Номер патента: US09327416B2. Автор: Neville Sonnenberg,John Madeira. Владелец: Gillette Co LLC. Дата публикации: 2016-05-03.

Methods for increasing growth rate during atomic layer deposition of thin films

Номер патента: US09428842B2. Автор: Viljami Pore. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-08-30.

Methods for depositing carbon conducting films by atomic layer deposition

Номер патента: US20240124977A1. Автор: Jean-Sebastien Materne Lehn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Copper(I) complexes and processes for deposition of copper films by atomic layer deposition

Номер патента: US20080075958A1. Автор: Kyung-ho Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-03-27.

Methods for preparing thin fillms by atomic layer deposition using hydrazines

Номер патента: WO2011115878A4. Автор: Paul Williams,Simon Rushworth. Владелец: SIGMA-ALDRICH CO. LLC. Дата публикации: 2011-12-08.

Atomic layer deposition on optical structures

Номер патента: US20230212739A1. Автор: Ludovic Godet,Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Jinrui GUO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-07-06.

Method of Fabricating a Uniformly Aligned Planar Array of Nanowires Using Atomic Layer Deposition

Номер патента: US20150132489A1. Автор: Steven Howard Snyder. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-05-14.

Atomic layer deposition using tin-based or germanium-based precursors

Номер патента: US20240287677A1. Автор: Jean-Sebastien Materne Lehn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Atomic layer deposition using tin-based or germanium-based precursors

Номер патента: WO2024173112A1. Автор: Jean-Sebastien Materne Lehn. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2024-08-22.

Atomic layer deposition of metal-containing films using surface-activating agents

Номер патента: EP1920081A2. Автор: Jeffery Scott Thompson. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2008-05-14.

Atomic layer deposition method for metal thin films

Номер патента: US11807939B2. Автор: Shintaro Higashi,Naoyuki Takezawa,Fumikazu Mizutani. Владелец: Kojundo Kagaku Kenkyusho KK. Дата публикации: 2023-11-07.

Atomic layer deposition method for metal thin films

Номер патента: US20240060180A1. Автор: Shintaro Higashi,Naoyuki Takezawa,Fumikazu Mizutani. Владелец: Kojundo Kagaku Kenkyusho KK. Дата публикации: 2024-02-22.

Molybdenum (IV) amide precursors and use thereof in atomic layer deposition

Номер патента: US09802220B2. Автор: Peter Nicholas Heys,Rajesh Odedra,Sarah Louise Hindley. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2017-10-31.

Methods of area-selective atomic layer deposition

Номер патента: US20200354834A1. Автор: Rudy J. Wojtecki,Gregory M. Wallraff,Ekmini A. De Silva,Noel Arellano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Method for tuning a deposition rate during an atomic layer deposition process

Номер патента: US20140248772A1. Автор: Jiang Lu,Mei Chang,Paul Ma,Joseph F. Aubuchon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US12077864B2. Автор: Harm C. M. Knoops,Koen de Peuter,Wilhelmus M. M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US09637823B2. Автор: Harm C. M. Knoops,Koen de Peuter,Wilhelmus M. M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-05-02.

Advanced precursors for selective atomic layer deposition using self-assembled monolayers

Номер патента: US20220136106A1. Автор: Stacey F. Bent,Il-Kwon Oh. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2022-05-05.

Atomic layer deposition method of forming an oxide comprising layer on a substrate

Номер патента: US20060003102A1. Автор: Demetrius Sarigiannis,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-05.

Method for tuning a deposition rate during an atomic layer deposition process

Номер патента: WO2010132172A2. Автор: Jiang Lu,Mei Chang,Joseph F. Aubuchon,Paul F. Ma. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-11-18.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US10480078B2. Автор: Harm C. M. Knoops,Koen de Peuter,Wilhelmus M. M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-11-19.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US10072337B2. Автор: Harm C. M. Knoops,Koen de Peuter,Wilhelmus M. M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-09-11.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US20170356087A1. Автор: Koen de Peuter,Harm C.M. Knoops,Wilhelmus M.M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-12-14.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US20200208268A1. Автор: Koen de Peuter,Harm C.M. Knoops,Wilhelmus M.M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-07-02.

Plasma atomic layer deposition

Номер патента: US20180363143A1. Автор: Koen de Peuter,Harm C.M. Knoops,Wilhelmus M.M. Kessels. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-20.

System and method for atomic layer deposition

Номер патента: US20180274096A1. Автор: Ji Hye Kim,Tae Ho Yoon,Hyung Sang Park. Владелец: Isac Research Inc. Дата публикации: 2018-09-27.

An atomic layer deposition apparatus and method

Номер патента: US20240352582A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-24.

Atomic layer deposition powder coating

Номер патента: EP2347031A2. Автор: Christophe Detavernier,Davy Deduytsche,Johan Haemers. Владелец: Universiteit Gent. Дата публикации: 2011-07-27.

Method of coating particles by vapor deposition

Номер патента: US20030059530A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Atomic layer deposition of protective coatings for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12104246B2. Автор: Jennifer Y. Sun,David Fenwick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Powder atomic layer deposition equipment with quick release function

Номер патента: US20230120393A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Powder-atomic-layer-deposition device with knocker

Номер патента: US12123092B2. Автор: Jing-Cheng Lin,Chia-Cheng Ku. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Atomic layer deposition of lithium boron comprising nanocomposite solid electrolytes

Номер патента: US11946139B2. Автор: Anil U. Mane,Jeffrey W. Elam,Devika Choudhury. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Applying vapour phase aluminide coating on airfoil internal cavities using improved method

Номер патента: US8349402B2. Автор: Kin Keong Jek,Balaji R. Garimella. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-08.

Atomic layer deposition equipment and process method

Номер патента: US20220178022A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Ta-Hao Kuo. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-06-09.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20130178070A1. Автор: Ki-Hyun Kim,Ki-Vin Im,Hoon-Sang Choi,Moon-hyeong Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-07-11.

An atomic layer deposition apparatus and an arrangement

Номер патента: US20240337019A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-10.

An atomic layer deposition apparatus and an arrangement

Номер патента: WO2023017214A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Olli-Pekka Suhonen,Mikko TYNI. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-02-16.

An atomic layer deposition apparatus and an arrangement

Номер патента: FI130544B. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2023-11-08.

An atomic layer deposition apparatus and an arrangement

Номер патента: EP4384651A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila,Markus Bosund,Pasi MERILÄINEN,Olli-Pekka Suhonen. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-06-19.

Vacuum chamber and arrangement for atomic layer deposition

Номер патента: US20240026535A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-01-25.

Apparatus and method for atomic layer deposition (ALD)

Номер патента: US11970773B2. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-04-30.

Apparatus and method for atomic layer deposition (ald)

Номер патента: EP3959355A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-03-02.

Apparatus and method for atomic layer deposition (ald)

Номер патента: US20220275512A1. Автор: Pekka Soininen,Matti Malila. Владелец: Hervannan Sauna Oy. Дата публикации: 2022-09-01.

Atomic layer deposition carousel with continuous rotation and methods of use

Номер патента: US09631277B2. Автор: Joseph Yudovsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Atomic-layer-deposition equipment and atomiclayer-deposition method by using the same

Номер патента: US11891694B2. Автор: Jing-Cheng Lin. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Atomic-layer-deposition equipment and atomiclayer-deposition method by using the same

Номер патента: US20230203653A1. Автор: Jing-Cheng Lin. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Coating on basis of titanium oxyde

Номер патента: RU2351688C2. Автор: Лян Е,Лян Е (GB). Владелец: ПИЛКИНГТОН ПЛС. Дата публикации: 2009-04-10.

Multi-layer plasma resistant coating by atomic layer deposition

Номер патента: US12002657B2. Автор: Xiaowei Wu,Guodong Zhan,Jennifer Y. Sun,David Fenwick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Method of forming a layer of material using an atomic layer deposition process

Номер патента: WO2007146537B1. Автор: Neal Rueger,John Smythe. Владелец: John Smythe. Дата публикации: 2008-12-18.

Method of forming a layer of material using an atomic layer deposition process

Номер патента: EP2027304A2. Автор: Neal Rueger,John Smythe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-25.

Techniques and systems for continuous-flow plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD)

Номер патента: US09972501B1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Layer deposition method and layer deposition apparatus

Номер патента: US20240030024A1. Автор: HyungSuk Jung,Hanjin Lim,Intak Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-25.

Mask and Reticle Protection with Atomic Layer Deposition (ALD)

Номер патента: US20220197131A1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Erosion resistant metal oxide coatings deposited by atomic layer deposition

Номер патента: US20230286867A1. Автор: Xiaowei Wu,Michael R. Rice,Jennifer Y. Sun. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Ultrathin atomic layer deposition film accuracy thickness control

Номер патента: US20230298884A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie,Jun Qian,Purushottam Kumar,Seiji Matsuyama. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Textile including fibers deposited with material using atomic layer deposition for increased rigidity and strength

Номер патента: US20130023172A1. Автор: Sang In LEE. Владелец: Synos Technology Inc. Дата публикации: 2013-01-24.

Atomic layer deposition passivation for via

Номер патента: US20170368823A1. Автор: Zhizhang Chen,Mohammed Saad Shaarawi,Roberto A Pugliese, Jr.. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2017-12-28.

Atomic layer deposition passivation for via

Номер патента: EP3231007A1. Автор: Zhizhang Chen,Mohammed Saad Shaarawi,Jr. Roberto A. Pugliese. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2017-10-18.

Substrate web coating by atomic layers deposition

Номер патента: RU2605408C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2016-12-20.

Two-step atomic layer deposition of copper layers

Номер патента: EP1558783A2. Автор: Yoshihide Senzaki. Владелец: Aviza Technology Inc. Дата публикации: 2005-08-03.

Appartus and method for producing sputter-deposited coatings on fluidized particle beds

Номер патента: US20170051392A1. Автор: Eric D. Wetzel,Daniel M. Baechle. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2017-02-23.

Atomic layer deposition of p-type oxide semiconductor thin films

Номер патента: US20160190290A1. Автор: Kenji Nomura,John Hyunchul Hong. Владелец: Qualcomm Mems Technologies Inc. Дата публикации: 2016-06-30.

Method for manufacturing aluminum metal interconnection layer by atomic layer deposition method

Номер патента: US6143659A. Автор: Hyeun-seog Leem. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-11-07.

Atomic layer deposition of p-type oxide semiconductor thin films

Номер патента: EP3241234A1. Автор: Kenji Nomura,John Hyunchul Hong. Владелец: SnapTrack Inc. Дата публикации: 2017-11-08.

Atomic layer deposition of P-type oxide semiconductor thin films

Номер патента: US09685542B2. Автор: Kenji Nomura,John Hyunchul Hong. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Metal powder for thermal application of coats on substrates

Номер патента: RU2280708C2. Автор: Ульф ХОЛЬМКВИСТ,Ханс ХАЛЛЕН. Владелец: Хеганес Аб. Дата публикации: 2006-07-27.

Atomic layer deposition apparatus for coating on fine powders

Номер патента: US20220106684A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku,Ching-Liang Yi. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Atomic layer deposition apparatus for coating on fine powders

Номер патента: US12006571B2. Автор: Jing-Cheng Lin,Jung-Hua Chang,Chia-Cheng Ku,Ching-Liang Yi. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for depositing a nanolaminate film by atomic layer deposition

Номер патента: US6930059B2. Автор: Yoshi Ono,Rajendra Solanki,John F. Conley, Jr.. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2005-08-16.

Copper (II) Complexes for Deposition of Copper Films by Atomic Layer Deposition

Номер патента: US20080044687A1. Автор: Alexander Zak Bradley,Jeffery Scott Thompson,Kyung-ho Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-21.

Atomic layer deposition of p-type oxide semiconductor thin films

Номер патента: WO2016109118A1. Автор: Kenji Nomura,John Hyunchul Hong. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2016-07-07.

Plasma assisted atomic layer deposition titanium oxide for patterning applications

Номер патента: US09673041B2. Автор: Shankar Swaminathan,Frank L. Pasquale,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: WO2010088015A2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-05.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US20140008803A1. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US09466574B2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Atomic layer deposition equipment and process method

Номер патента: US20220119946A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Ching-Liang Yi,Yun-Chi Hsu,Hsin-Yu Yao. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20190019657A1. Автор: Keisuke Washio,Masao Nakata. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2019-01-17.

Atomic layer deposition of silicon carbon nitride based materials

Номер патента: US09837263B2. Автор: Viljami Pore. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-12-05.

Method of production of coating on metal item and/or wafer, coating, metal item and cam that forms this item

Номер патента: RU2335579C2. Автор: Клод МОН. Владелец: Снекма Моторс. Дата публикации: 2008-10-10.

Plant for application of coats on belts

Номер патента: RU2288296C2. Автор: Петер СКУК,Стефан ХАЙН. Владелец: Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2006-11-27.

Post deposition heat treatment of coating on substrate

Номер патента: US20240344167A1. Автор: Jun Shi,Stephanie Gong,Weizhou Li. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Tungsten nitride atomic layer deposition processes

Номер патента: US7745329B2. Автор: Ming Li,Lee Luo,Shulin Wang,Aihua Chen,Ulrich Kroemer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-06-29.

Atomic layer deposition of copper using surface-activating agents

Номер патента: WO2006033731A2. Автор: Jeffrey Scott Thompson. Владелец: E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2006-03-30.

Atomic layer deposition with plasma source

Номер патента: US09868131B2. Автор: Sven Lindfors,Vaino Kilpi,Juhana Kostamo,Wei-Min Li,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2018-01-16.

METHOD OF PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION OF TaC AND TaCN FILMS HAVING GOOD ADHESION TO COPPER

Номер патента: WO2007111780A3. Автор: Tadahiro Ishizaka. Владелец: Tadahiro Ishizaka. Дата публикации: 2008-01-17.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Atomic layer deposition of high k metal oxides

Номер патента: EP1535319A2. Автор: Sang-In Lee,Yoshihide Senzaki,Sang-Kyoo Lee. Владелец: Integrated Process Systems Ltd. Дата публикации: 2005-06-01.

Atomic layer deposition of high k metal oxides

Номер патента: EP1535319A4. Автор: Sang-In Lee,Yoshihide Senzaki,Sang-Kyoo Lee. Владелец: Integrated Process Systems Ltd. Дата публикации: 2008-05-28.

Coating system for metal bands and method for producing metal bands which are coated on one side

Номер патента: US20080020144A1. Автор: Hermann Sturm,Leszek Poletek. Владелец: Wieland Werke AG. Дата публикации: 2008-01-24.

Method of applying metal coating on the surface of powders and substrates

Номер патента: RU2149217C1. Автор: . Владелец: Черник Галина Георгиевна. Дата публикации: 2000-05-20.

Coating system for metal strips and method for producing metal strips partially coated on one side

Номер патента: US20070269602A1. Автор: Hermann Sturm,Leszek Poletek. Владелец: Wieland Werke AG. Дата публикации: 2007-11-22.

Methods of atomic-layer deposition of hafnium oxide/erbium oxide bi-layer as advanced gate dielectrics

Номер патента: US20140291776A1. Автор: Jinhong Tong. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2014-10-02.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: EP4314380A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-02-07.

An atomic layer deposition apparatus

Номер патента: WO2022207978A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2022-10-06.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20240018652A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-01-18.

Atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US11926896B2. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-03-12.

Apparatus and a method for providing nano coating on a surface

Номер патента: US20240084440A1. Автор: Harsh Vardhan Sethi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-14.

Atomic layer deposition for manufacturing whetlerite carbons

Номер патента: US20230364579A1. Автор: Christopher Vizcaino,Richard Mackay,James A. Hern. Владелец: Molecular Products Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Atomic layer deposition apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20080057738A1. Автор: June Woo Lee. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-03-06.

Atomic layer deposition for manufacturing whetlerite carbons

Номер патента: WO2024072491A2. Автор: Christopher Vizcaino,Richard Mackay,James HERN. Владелец: Molecular Products Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Process for forming porous metal coating on surfaces

Номер патента: US09481922B2. Автор: Yitzhak Vanek,Leonardo Mendelovici. Владелец: PERSYS ENGINEERING Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Atomic layer deposition of silicon carbon nitride based materials

Номер патента: US20180082838A1. Автор: Viljami Pore. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-03-22.

Atomic layer deposition of silicon carbon nitride based materials

Номер патента: US20160307751A1. Автор: Viljami Pore. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-10-20.

Textured coating on a component surface

Номер патента: WO2011146278A2. Автор: BAO Feng,Chuong Quang Dam,Dongyun Hua,Shuangbiao Liu. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2011-11-24.

Method to create functional coatings on magnesium

Номер патента: WO2021215940A1. Автор: Christopher William GOODE,Fengyan HOU. Владелец: Cirrus Materials Science Limited. Дата публикации: 2021-10-28.

Method to create functional coatings on magnesium

Номер патента: AU2021260429A1. Автор: Christopher William GOODE,Fengyan HOU. Владелец: Cirrus Materials Science Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Method to create functional coatings on magnesium

Номер патента: EP4139507A1. Автор: Christopher William GOODE,Fengyan HOU. Владелец: Cirrus Materials Science Ltd. Дата публикации: 2023-03-01.

Atomic layer deposition for manufacturing whetlerite carbons

Номер патента: WO2024072491A9. Автор: Christopher Vizcaino,Richard Mackay,James HERN. Владелец: Molecular Products Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Atomic layer deposition for manufacturing whetlerite carbons

Номер патента: WO2024072491A3. Автор: Christopher Vizcaino,Richard Mackay,James HERN. Владелец: Molecular Products Inc.. Дата публикации: 2024-07-18.

Atomic layer deposition apparatus and method

Номер патента: US09512519B2. Автор: Ming-Te Chen,Hsing-Jui Lee,Chia-Yi Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Trivalent chromium-containing composition for use in corrosion resistant coatings on metal surfaces

Номер патента: US09487866B2. Автор: Kirk Kramer,Lisa K. Salet. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2016-11-08.

Atomic layer deposition (ALD) thin film deposition equipment having cleaning apparatus and cleaning method

Номер патента: US20020007790A1. Автор: Young-hoon Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Method of applying coating on blades of heat turbomachine

Номер патента: RU2062303C1. Автор: Коромцаи Тибор,Колеф Сейко. Владелец: Асеа Браун Бовери АГ. Дата публикации: 1996-06-20.

Scandium precursor for sc2o3 or sc2s3 atomic layer deposition

Номер патента: US20230058025A1. Автор: Patricio E. Romero. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-02-23.

Scandium precursor for sc2o3 or sc2s3 atomic layer deposition

Номер патента: US20190202842A1. Автор: Patricio E. Romero. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-07-04.

Scandium precursor for sc2o3 or sc2s3 atomic layer deposition

Номер патента: US20240092804A1. Автор: Patricio E. Romero. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Scandium precursor for SC2O3 or SC2S3 atomic layer deposition

Номер патента: US11866453B2. Автор: Patricio E. Romero. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Method of forming an alloy coating on a strip

Номер патента: US20240158891A1. Автор: Michael Angel Lopez,Nega Setargew,Wayne Andrew Renshaw,Andrew Vincent Micallef,Paul Donaldson. Владелец: BlueScope Steel Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Laser-Assisted Atomic Layer Deposition of 2D Metal Chalcogenide Films

Номер патента: US20180216232A1. Автор: Ganesh Sundaram. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Thermal atomic layer deposition of ternary gallium oxide thin films

Номер патента: US20230167548A1. Автор: Adam Hock,Michael James Foody. Владелец: Illinois Institute of Technology. Дата публикации: 2023-06-01.

High selectivity atomic layer deposition process

Номер патента: US11993845B2. Автор: Srinivas D. Nemani,Jong Choi,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Christopher AHLES. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Solution and procedure for depositing a protective coating on galvanized steel parts, and solution regeneration procedure

Номер патента: IE44108B1. Автор: . Владелец: Int Lead Zinc Res. Дата публикации: 1981-08-12.

Composition and procedure for application of alkoxylane coating on surface of metals

Номер патента: RU2426818C2. Автор: Филип Джон МОРГАН. Владелец: Кастрол Лимитед. Дата публикации: 2011-08-20.

Method for depositing a coating on a substrate

Номер патента: US20230193454A1. Автор: Simon Springer,Stéphane Lauper,Gregory Kissling,Marion Gstalter,Loïc Curchod,Loïc OBERSON,Ahmad Odeh. Владелец: Omega SA. Дата публикации: 2023-06-22.

Methods for depositing anti-coking protective coatings on aerospace components

Номер патента: US11794382B2. Автор: David A. BRITZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Atomic layer deposition with nitridation and oxidation

Номер патента: US20070059945A1. Автор: Nima Mohklesi. Владелец: SanDisk Corp. Дата публикации: 2007-03-15.

Components with an atomic layer deposition coating and methods of producing the same

Номер патента: EP3245315A1. Автор: Kevin Killeen,Elizabeth Carr. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2017-11-22.

Janus membranes via atomic layer deposition

Номер патента: US12012559B2. Автор: Seth B. Darling,Ruben WALDMAN,Hao-Cheng Yang. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2024-06-18.

Atomic layer deposition using multilayers

Номер патента: US20040221798A1. Автор: Arthur Sherman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-11.

Method of applying atomic layer deposition coatings onto porous non-ceramic substrates

Номер патента: US8859040B2. Автор: Bill H. Dodge. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2014-10-14.

Barrier films for plastic substrates fabricated by atomic layer deposition

Номер патента: EP1629543A1. Автор: Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2006-03-01.

Seed layer deposition in microscale features

Номер патента: US09714474B2. Автор: Arthur Keigler,Daniel Goodman,Zhenqiu Liu,Johannes Chiu. Владелец: Tel Nexx Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for fabricating an environmental barrier coating on a ceramic matrix composite

Номер патента: US11866380B2. Автор: Imelda P. Smyth,Sarah A. Frith. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Method for fabricating an environmental barrier coating on a ceramic matrix composite

Номер патента: EP3772501A1. Автор: Imelda P. Smyth,Sarah A. Frith. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2021-02-10.

Method for fabricating an environmental barrier coating on a ceramic matrix composite

Номер патента: US20240010574A1. Автор: Imelda P. Smyth,Sarah A. Frith. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Process for producing thin coatings on film

Номер патента: EP3541866A1. Автор: Cristina Serrat,YuanQiao Rao,Jaclyn MURPHY,Justice ALABOSON. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2019-09-25.

Methods for coating a substrate with magnesium fluoride via atomic layer deposition

Номер патента: US20240247368A1. Автор: Hoon Kim,Jue Wang,Ming-Huang Huang. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Method and device for application of bitumen coat on loose material

Номер патента: RU2268245C2. Автор: Лесли ХОАД. Владелец: Тотал Битумен Юк Лимитед. Дата публикации: 2006-01-20.

Process for producing sintered metal coatings on metal

Номер патента: GB1500109A. Автор: . Владелец: Inco Europe Ltd. Дата публикации: 1978-02-08.

Preparation method for wear-resistant super-hydrophobic coating on surface of sampling needle

Номер патента: EP4088829A1. Автор: Lidong SUN,Kaiqi ZHAO. Владелец: Chongqing University. Дата публикации: 2022-11-16.

Method of electrolytic oxidation for obtaining ceramic coat on surface of metal (versions)

Номер патента: RU2268325C2. Автор: Жак БОВИР. Владелец: Жак БОВИР. Дата публикации: 2006-01-20.

Method for producing a metal-based coating on a film of HARM-structures attached to a support

Номер патента: FI20235231A1. Автор: Ahmed Soliman. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-08-28.

Method for electrodepositing a coating on an interior surface

Номер патента: US20080156647A1. Автор: Owen M. Briles. Владелец: Hamilton Sundstrand Corp. Дата публикации: 2008-07-03.

Method of forming an anti-glare coating on a substrate

Номер патента: US09707592B2. Автор: Songwei Lu. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Plant for electrolytic deposition of metal coat on tapes

Номер патента: RU2228395C2. Автор: Вернер ШИМИОН,Томас ФОЛЬКЕ. Владелец: СМС Шлеманн-Зимаг АГ. Дата публикации: 2004-05-10.

Article having coating on substrate, coating composition, and coating method

Номер патента: US09791598B2. Автор: Yukiko KATAYAMA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor device and method of manufacturing the same by using atomic layer deposition

Номер патента: US20060267081A1. Автор: Jun-Seuck Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-11-30.

Deposition of silica coatings on a substrate

Номер патента: EP1663893A1. Автор: Douglas Nelson,Michael P. Remington, Jr.,Thomas Kemmerley. Владелец: Pilkington North America Inc. Дата публикации: 2006-06-07.

Method for producing a metal-based coating on a film of harm-structures attached to a support

Номер патента: WO2024180047A2. Автор: Ahmed Soliman. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-09-06.

Repair of a coating on a turbine component

Номер патента: US09422814B2. Автор: Glenn Lee,Om Prakash Yadav,Dylan Lim. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Method of fabricating a uniformly aligned planar array of nanowires using atomic layer deposition

Номер патента: US9702059B2. Автор: Steven Howard Snyder. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-11.

Thermally Conductive Nanomaterial Coatings On Flexible Foam Or Fabrics

Номер патента: US20230174838A1. Автор: Mark L. Crawford,Heidi Stojanovic,Aubrey Nicole SCHERREY. Владелец: L&P Property Management Co. Дата публикации: 2023-06-08.

Coating composition for forming a glossy inkjet-receptive coating on a substrate

Номер патента: WO2007018723A3. Автор: David K Hood. Владелец: David K Hood. Дата публикации: 2009-04-23.

Thermally conductive nanomaterial coatings on flexible foam or fabrics

Номер патента: US12043786B2. Автор: Mark L. Crawford,Heidi Stojanovic,Aubrey Nicole SCHERREY. Владелец: L&P Property Management Co. Дата публикации: 2024-07-23.

Situ grown SiC coatings on carbon materials

Номер патента: US09663374B2. Автор: Guillermo R. Villalobos,Michael Hunt,Bryan Sadowski,Jasbinder S. Sanghera,Ishwar D. Aggarwal. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-05-30.

Methods for coating a substrate with magnesium fluoride via atomic layer deposition

Номер патента: EP4004254A1. Автор: Hoon Kim,Jue Wang,Ming-Huang Huang. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-06-01.

Methods for coating a substrate with magnesium fluoride via atomic layer deposition

Номер патента: US11952659B2. Автор: Hoon Kim,Jue Wang,Ming-Huang Huang. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Conformal coating on three-dimensional substrates

Номер патента: EP3146089A1. Автор: Marlies van Bael,Philippe M. Vereecken,An Hardy,Sven Gielis. Владелец: Hasselt Universiteit. Дата публикации: 2017-03-29.

Thermally conductive nanomaterial coatings on flexible foam or fabrics

Номер патента: US20220290026A1. Автор: Mark L. Crawford,Heidi Stojanovic,Aubrey Nicole SCHERREY. Владелец: L&P Property Management Co. Дата публикации: 2022-09-15.

Glass coating on ceramics

Номер патента: RU2490235C2. Автор: Вальтер Генри ХУБЕР. Владелец: Вальтер Генри ХУБЕР. Дата публикации: 2013-08-20.

Solventless method for forming a coating on a medical electrical lead body

Номер патента: EP2473211A1. Автор: James Q. Feng,Larry L. Hum,Tolga Tas,Arienne P. Simon. Владелец: Cardiac Pacemakers Inc. Дата публикации: 2012-07-11.

Low friction coating on vein catheter

Номер патента: US20160184484A1. Автор: Anders Johansson,Jan-Otto Carlsson,Marten Rooth. Владелец: NANEXA AB. Дата публикации: 2016-06-30.

Method of forming conformable nanoscale coatings on substrates

Номер патента: US12060272B2. Автор: Yangchuan Xing,Ahmed M. Jasim. Владелец: University of Missouri System. Дата публикации: 2024-08-13.

Compositions and methods of deposition of thick environmental barrier coatings on CMC blade tips

Номер патента: US10294803B2. Автор: Glen Harold Kirby. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2019-05-21.

Compositions and methods of deposition of thick environmental barrier coatings on cmc blade tips

Номер патента: CA2924194C. Автор: Glen Harold Kirby. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-03-28.

Coating on a surface to transmit electrical current

Номер патента: US20240072473A1. Автор: Isabell Buresch,Jean-Claude Puippe. Владелец: TE Connectivity Solutions GMBH. Дата публикации: 2024-02-29.

Device for eliminating lack of uniformity of coating on edges of electroplated metal strip

Номер патента: US5169505A. Автор: Salvatore Pellizzi,Orlando Rotondi. Владелец: Ilva SpA. Дата публикации: 1992-12-08.

Method of producing coating on reconstituted wood substrate

Номер патента: US5635248A. Автор: Oscar H. Hsu,Gerard M. Currier,Philip H. Moes. Владелец: Akzo Nobel Coatings Inc. Дата публикации: 1997-06-03.

Atomic layer deposited dielectric layers

Номер патента: EP1599899A2. Автор: Leonard Forbes,Kie Y. Ahn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-11-30.

Limited dose atomic layer processes for localizing coatings on non-planar surfaces

Номер патента: US20200161140A1. Автор: Thomas E. Seidel,Michael Current. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-21.

Atomic layer deposition in acoustic wave resonators

Номер патента: WO2023091813A1. Автор: Douglas CARLSON,Rathnait LONG. Владелец: MACOM Technology Solutions Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-05-25.

Thin film coatings on transparent substrates and methods of making and using thereof

Номер патента: US11774637B1. Автор: Hulya Demiryont. Владелец: Eclipse Energy Systems Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Atomic layer deposition of CMOS gates with variable work functions

Номер патента: US20040036129A1. Автор: Leonard Forbes,Kie Ahn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-02-26.

Methods of atomic layer deposition of hafnium oxide as gate dielectrics

Номер патента: WO2013177557A3. Автор: Jinhong Tong. Владелец: Intermolecular, Inc. Дата публикации: 2014-01-16.

Atomic layer deposition on 3d nand structures

Номер патента: US20240266177A1. Автор: YU PAN,Juwen Gao,Xiaolan Ba,Ruopeng DENG,Tianhua YU. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Multifunctional coats on microporous carriers

Номер патента: RU2435631C2. Автор: Дональд ФРИЗ,Маниш К. НАНДИ. Владелец: Гор Энтерпрайз Холдингз, Инк.. Дата публикации: 2011-12-10.

Anode and method for forming a zinc metal anode using molecular layer deposition

Номер патента: CA3123894A1. Автор: Jian Liu,Huibing He. Владелец: University of British Columbia. Дата публикации: 2021-09-16.

Atomic layer etch methods and hardware for patterning applications

Номер патента: US09997371B1. Автор: Adrien Lavoie,Purushottam Kumar,Pulkit Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Thin film coatings on transparent substrates and methods of making and using thereof

Номер патента: US20230393306A1. Автор: Hulya Demiryont. Владелец: Eclipse Energy Systems Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Transition metal dry etch by atomic layer removal of oxide layers for device fabrication

Номер патента: EP3311398A1. Автор: Patricio E. Romero,John J. Plombon. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-25.

Atomic layer deposition bonding layer for joining two semiconductor devices

Номер патента: US12094849B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Kuang-Wei Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method and apparatus for determining a barrier effect of a coating on a substrate

Номер патента: US09778170B2. Автор: Andreas NEUFFER. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2017-10-03.

Application of decorative coating on fiberboard

Номер патента: RU2537867C1. Автор: Норберт КАЛЬВА. Владелец: Флоринг Текнолоджиз Лтд.. Дата публикации: 2015-01-10.

Utilizing atomic layer deposition for programmable device

Номер патента: US20030098461A1. Автор: Tyler Lowrey,Charles Dennison. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-29.

Atomic layer deposition epitaxial silicon growth for tft flash memory cell

Номер патента: US20130200384A1. Автор: Fumitake Mieno. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

X-ray wave diffraction optics constructed by atomic layer epitaxy

Номер патента: US5458084A. Автор: Raymond T. Perkins,James M. Thorne,David D. Allred,James K. Shurtleff. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 1995-10-17.

Methods of atomic layer deposition of hafnium oxide as gate dielectrics

Номер патента: WO2013177557A2. Автор: Jinhong Tong. Владелец: Intermolecular, Inc. Дата публикации: 2013-11-28.

Atomic layer deposition on 3D NAND structures

Номер патента: US11972952B2. Автор: YU PAN,Juwen Gao,Xiaolan Ba,Ruopeng DENG,Tianhua YU. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Method of accurate thickness measurement of boron carbide coating on copper foil

Номер патента: US20160161416A1. Автор: Jeffrey L. Lacy,Murari Regmi. Владелец: Proportional Technologies Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Facility for depositing lubricant coating on hard magnetic disks

Номер патента: WO2008131349A1. Автор: Petersen Carl. Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 2008-10-30.

Post polish anneal of atomic layer deposition barrier layers

Номер патента: US20070004230A1. Автор: SRIDHAR Balakrishnan,Kevin O'Brien,Steven Johnston. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-01-04.

Method of accurate thickness measurement of boron carbide coating on copper foil

Номер патента: US09810635B2. Автор: Jeffrey L. Lacy,Murari Regmi. Владелец: Proportional Technologies Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Device to apply coatings on cylindrical surfaces

Номер патента: RU2477183C1. Автор: Отари Владимирович Коява. Владелец: Отари Владимирович Коява. Дата публикации: 2013-03-10.

Devices and methods for removing a coating on a surface of a submerged pipeline

Номер патента: WO2013066744A2. Автор: Timothy P. Sheehan,Randy D. LEWKOSKI. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2013-05-10.

Systems and methods for identifying a coating on an implant

Номер патента: EP4430384A1. Автор: Leenaporn Jongpaiboonkit,Peter D. Yurek. Владелец: WARSAW ORTHOPEDIC INC. Дата публикации: 2024-09-18.

Method of protecting a layered coating on a discrete pipe joint for subsea use

Номер патента: US09841136B2. Автор: Philippe Benoit Jacques HOFFMANN. Владелец: Acergy France SAS. Дата публикации: 2017-12-12.

Method of shaping a surface coating on a razor blade

Номер патента: US09943879B2. Автор: Yiming Xu,Timothy Doyle,Tomasz HEJMOWSKI,Massimo Nyiry,David Tressel. Владелец: Edgewell Personal Care Brands LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Method of modifying a coating on a medical device

Номер патента: US09724729B2. Автор: Stephen D. Pacetti,Binh Nguyen,John Stankus,Benny Serna,Victoria M. Gong,Anthony S. Andreacchi. Владелец: ABBOTT LABORATORIES. Дата публикации: 2017-08-08.

Atomic layer deposited tantalum containing adhesion layer

Номер патента: US7601637B2. Автор: Steven W. Johnston,Kerry Spurgin,Brennan L. Peterson. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2009-10-13.

Measure of the degree of crystallinity of a polymer coating on a metal substrate

Номер патента: CA3116836A1. Автор: Nathalie LABBE,Morgan FERTE. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2020-06-25.

Measure of the degree of crystallinity of a polymer coating on a metal substrate

Номер патента: EP3899499A1. Автор: Nathalie LABBE,Morgan FERTE. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2021-10-27.

Measure of the degree of crystallinity of a polymer coating on a metal substrate

Номер патента: WO2020128687A1. Автор: Nathalie LABBE,Morgan FERTE. Владелец: ArcelorMittal. Дата публикации: 2020-06-25.

Measure of the degree of crystallinity of a polymer coating on a metal substrate

Номер патента: CA3116836C. Автор: Nathalie LABBE,Morgan FERTE. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2023-08-22.

Atomic layer deposited (ald) oxide semiconductors for integrated circuits (ics)

Номер патента: US20230178441A1. Автор: Peide Ye,Mengwei Si. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-06-08.

Apparatus and method for heat treatment of coatings on substrates

Номер патента: US09750091B2. Автор: James E. Neville,Iftikhar Ahmad,Clayton R. DeCamillis,Robert J Schauer. Владелец: HELLER INDUSTRIES Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Machine for application of coat on sections

Номер патента: RU2515383C1. Автор: Уве ВАГНЕР. Владелец: Дюспол Машиненбау Гмбх. Дата публикации: 2014-05-10.

Transition metal dry etch by atomic layer removal of oxide layers for device fabrication

Номер патента: US20180138054A1. Автор: Patricio E. Romero,John J. Plombon. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

High Aspect Ratio Via Etch Using Atomic Layer Deposition Protection Layer

Номер патента: US20190181041A1. Автор: Xinghua Sun,Yen-Tien Lu,Eric Chih-Fang Liu,Andrew W. METZ. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Designer atomic layer etching

Номер патента: WO2018118655A1. Автор: Keren Jacobs Kanarik. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-06-28.

Non-Wetting Coating on a Fluid Ejector

Номер патента: US20110063369A1. Автор: Yoshimasa Okamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Method coating fibers with particles by fluidization in a gas

Номер патента: US5102690A. Автор: Krishnamurthy Jayaraman,Lawrence T. Drzal,Shridhar Iyer. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 1992-04-07.

Molecular layer deposition

Номер патента: KR20070084683A. Автор: 성명모. Владелец: 국민대학교산학협력단. Дата публикации: 2007-08-27.

Atomic layer deposition of ultrathin tunnel barriers

Номер патента: US20190013463A1. Автор: Judy Z. Wu,Jamie Wilt,Ryan Goul,Jagaran Acharya. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2019-01-10.

Nanoscale sofc electrode architecture engineered using atomic layer deposition

Номер патента: WO2016099607A1. Автор: Yun Chen,Xueyan Song,Kirk Gerdes,Shiwoo Lee. Владелец: WEST VIRGINIA UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-06-23.

Method, device and plant for coating on inner surface of a substrate

Номер патента: RU2683741C1. Автор: Стефан МАССОН. Владелец: Умикоре Аг Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2019-04-01.

Method and device for application of coatings on parts

Номер патента: RU2353511C2. Автор: Рейнхард ХУБЕР. Владелец: Роберт Бюркле ГмбХ. Дата публикации: 2009-04-27.

Tunable doping of carbon nanotubes through engineered atomic layer deposition

Номер патента: US11832458B2. Автор: Christian Lau,Max SHULAKER. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-11-28.

Device for moistening the adhesive coated on stamps, letters, etc.

Номер патента: US4079695A. Автор: Ronald M. Stephens. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-03-21.

APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120003396A1. Автор: . Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurweten schappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.

D 1364 BT SECONDARY COATINGS ON OPTICAL FIBER

Номер патента: US20120003474A1. Автор: CATTRON Wendell Wayne,TORTORELLO Anthony Joseph,SCHMID Steven R.,ZIMMERMAN John M.,MURPHY Edward J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

REAGENT AND METHOD FOR PROVIDING COATINGS ON SURFACES

Номер патента: US20120004339A1. Автор: . Владелец: SURMODICS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of production of coatings on items made out of iron or its alloys

Номер патента: RU2242536C2. Автор: Ю.А. Караник. Владелец: Караник Юрий Апполинарьевич. Дата публикации: 2004-12-20.

Charge to produce coating on tiling

Номер патента: RU2420495C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2011-06-10.

Device for applying coating on inner surface of tube

Номер патента: RU2014907C1. Автор: В.В. Шишкин,Ю.К. Значков. Владелец: Шишкин Виктор Васильевич. Дата публикации: 1994-06-30.

Rail plasma generator to manufacture coats on surfaces of dielectric materials

Номер патента: RU2124069C1. Автор: О.Г. Егоров. Владелец: Егоров Олег Георгиевич. Дата публикации: 1998-12-27.

Method to produce antiskid coating on ceramic tile

Номер патента: RU2425818C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2011-08-10.

Apparatus to apply coating on inner surface of pipeline

Номер патента: RU2030218C1. Автор: В.В. Шишкин. Владелец: Шишкин Виктор Васильевич. Дата публикации: 1995-03-10.