Method of fabricating Micropatterns of Platinum Thin Films by Fluoride-Based Inductively Coupled Plasma Eching
Номер патента: KR101574250B1
Опубликовано: 04-12-2015
Автор(ы): 김남영, 왕종, 요소, 이양
Принадлежит: 광운대학교 산학협력단
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-12-2015
Автор(ы): 김남영, 왕종, 요소, 이양
Принадлежит: 광운대학교 산학협력단
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Fabrication method for multi-zoned and short channel thin film transistors
Номер патента: US09472649B1. Автор: Burhan Bayraktaroglu,Kevin D Leedy. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2016-10-18.