Composition for forming fine resist pattern and pattern formation method using same
Номер патента: EP2905657A1
Опубликовано: 12-08-2015
Автор(ы): Go Noya, Hiroshi Yanagita, Kazuma Yamamoto, Masahiro Ishii, Shigemasa NAKASUGI, Takashi Sekito
Принадлежит: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-08-2015
Автор(ы): Go Noya, Hiroshi Yanagita, Kazuma Yamamoto, Masahiro Ishii, Shigemasa NAKASUGI, Takashi Sekito
Принадлежит: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Composition for forming fine resist pattern, and pattern formation method using same
Номер патента: US09411232B2. Автор: Masakazu Kobayashi,Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara,Kazuma Yamamoto,Noboru SATAKE. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-08-09.