Crosslink cyclo-siloxane compound with linear bridging group to form ultra low k dielectric
Номер патента: US20030194495A1
Опубликовано: 16-10-2003
Автор(ы): Ellie Yieh, Li Xia, Lihua Li, Tzu-Fang Huang, Wen Zhu
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-10-2003
Автор(ы): Ellie Yieh, Li Xia, Lihua Li, Tzu-Fang Huang, Wen Zhu
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of forming an ultra-low-k dielectric layer and dielectric layers formed thereby
Номер патента: US10446495B2. Автор: Jongmin Baek,Jiyoung Kim,Sanghoon Ahn,Kyu-hee Han,Taejin Yim,Hyeoksang Oh,Yoonhee KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-15.