• Главная
  • Crosslink cyclo-siloxane compound with linear bridging group to form ultra low k dielectric

Crosslink cyclo-siloxane compound with linear bridging group to form ultra low k dielectric

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Apparatus and Methods for Low K Dielectric Layers

Номер патента: US20130072031A1. Автор: Yu-Yun Peng,Keng-Chu Lin,Joung-Wei Liou,Hui-Chun Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.

Hi-k dielectric layer deposition methods

Номер патента: US20060270247A1. Автор: Kenneth Stein,Douglas Coolbaugh,Ebenezer Eshun,Kunal Vaed. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-11-30.

Low-k dielectric damage repair by vapor-phase chemical exposure

Номер патента: US20140004717A1. Автор: Alexandros T. Demos,Kelvin Chan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-01-02.

Low-k dielectric damage repair by vapor-phase chemical exposure

Номер патента: WO2014007924A1. Автор: Alexandros T. Demos,Kelvin Chan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-09.

High-K dielectric gate material uniquely formed

Номер патента: US20040089887A1. Автор: Vladimir Zubkov,Sheldon Aronowitz,Grace Sun. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2004-05-13.

Process for producing low-k dielectric films

Номер патента: EP1642329B1. Автор: Adolf KÜHNLE,Carsten Jost,Hartwig Rauleder,Hartmut Fischer,Klaas Timmer,Corne Rentrop,Roelant Van Dam. Владелец: EVONIK DEGUSSA GmbH. Дата публикации: 2011-10-05.

Low-k dielectric films

Номер патента: WO2021030309A1. Автор: Kang Sub Yim,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Shaunak Mukherjee,William J. Durand. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Method and system for forming a high-k dielectric layer

Номер патента: US20060228898A1. Автор: Gerrit Leusink,Masanobu Igeta,Cory Wajda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-10-12.

Method and structure for a large-grain high-K dielectric

Номер патента: US09590063B2. Автор: Rama I. Hegde. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Low-k films

Номер патента: US20210388499A1. Автор: Ning Li,Mihaela Balseanu,Shuaidi ZHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-16.

Methods for depositing high-k dielectrics

Номер патента: US20100330772A1. Автор: Imran Hashim,Sandra Malhotra,Sunil Shanker,Edward Haywood,Xiangxin Rui. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2010-12-30.

Methods For Depositing High-K Dielectrics

Номер патента: US20130056852A1. Автор: Sandra G. Malhotra,Imran Hashim,Sunil Shanker,Xiangxin Rui,Edward L. Haywood. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2013-03-07.

Methods for depositing high-K dielectrics

Номер патента: US8574985B2. Автор: Imran Hashim,Sandra Malhotra,Sunil Shanker,Edward Haywood,Xiangxin Rui. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2013-11-05.

Low-k ald gap-fill methods and material

Номер патента: US20220037146A1. Автор: Adrien Lavoie,Purushottam Kumar,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Ian John CURTIN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Process chamber for etching low k and other dielectric films

Номер патента: US09666414B2. Автор: Ellie Yieh,Dmitry Lubomirsky,Srinivas Nemani,Sergey G. BELOSTOTSKIY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Method for manufacturing a low-k layer

Номер патента: US20130288045A1. Автор: Ben-Zu Wan,Hsin-Yan LU. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2013-10-31.

High-k dielectric films and methods of producing using titanium-based -diketonate precursors

Номер патента: EP2281073A1. Автор: Peter Nicholas Heys,Paul Raymond Chalker. Владелец: Sigma Aldrich Co LLC. Дата публикации: 2011-02-09.

Precursors and flowable cvd methods for making low-k films to fill surface features

Номер патента: SG11201903865TA. Автор: Manchao Xiao,Richard Ho,Daniel Spence. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2019-05-30.

Precursors and flowable cvd methods for making low-k films to fill surface features

Номер патента: EP3535436A1. Автор: Manchao Xiao,Daniel P. Spence,Richard Ho. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2019-09-11.

Precursors and flowable cvd methods for making low-k films to fill surface features

Номер патента: WO2018085093A1. Автор: Manchao Xiao,Daniel P. Spence,Richard Ho. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2018-05-11.

Low-k Feature Formation Processes and Structures Formed Thereby

Номер патента: US20210226024A1. Автор: Chung-Chi Ko,Wan-Yi Kao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Low-k Feature Formation Processes and Structures Formed Thereby

Номер патента: US20200119151A1. Автор: Chung-Chi Ko,Wan-Yi Kao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Low-k Feature Formation Processes and Structures Formed Thereby

Номер патента: US20230275136A1. Автор: Chung-Chi Ko,Wan-Yi Kao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Compositions of low-K dielectric sols containing nonmetallic catalysts

Номер патента: US09589789B2. Автор: Travis Savage,Mark L. F. Phillips. Владелец: SBA Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Compositions of low-k dielectric sols containing nonmetallic catalysts

Номер патента: EP2915185A1. Автор: Mark L.F. Phillips,Travis Savage. Владелец: SBA Materials Inc. Дата публикации: 2015-09-09.

Compositions of low-k dielectric sols containing nonmetallic catalysts

Номер патента: US20160111275A1. Автор: Mark L.F. Phillips,Travis Savage. Владелец: SBA Materials Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Integration of ALD/CVD barriers with porous low k materials

Номер патента: US7244683B2. Автор: Ling Chen,Nikolaos Bekiaris,Hua Chung,Christophe Marcadal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-07-17.

Devices comprising high-k dielectric layer and methods of forming same

Номер патента: US20160284540A1. Автор: Yiqun Liu,Jin Ping Liu,Sandeep Gaan,Shishir Ray,Fabio D'ADDAMIO. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Devices comprising high-K dielectric layer and methods of forming same

Номер патента: US9673039B2. Автор: Yiqun Liu,Jin Ping Liu,Sandeep Gaan,Shishir Ray,Fabio D'ADDAMIO. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Cu-low K cleaning and protection compositions

Номер патента: US09490142B2. Автор: Jiali Wu,Kellsie Shan. Владелец: Qualsig Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Method and solution for preparing SEM samples for low-K materials

Номер патента: US20030157802A1. Автор: Jane-Bai Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-08-21.

Low k dielectric deposition via UV driven photopolymerization

Номер патента: US09916977B2. Автор: Patrick A. Van Cleemput,Jonathan D. Mohn,Nicholas Muga Ndiege. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Low-K晶圆切割保护液、制备方法、用途和切割保护方法

Номер патента: CN117402670. Автор: 侯军,张楠,褚雨露,于天佳. Владелец: Zhejiang Aoshou Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Low-K晶圆切割保护液、制备方法、用途和切割保护方法

Номер патента: CN117402670A. Автор: 侯军,张楠,褚雨露,于天佳. Владелец: Zhejiang Aoshou Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Ultra-low k dielectric layer and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200357632A1. Автор: Yiqi GONG. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-12.

Ultra-low k dielectric layer and manufacturing method thereof

Номер патента: US11309180B2. Автор: Yiqi GONG. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-19.

Low-k dielectric damage prevention

Номер патента: US20220367259A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Chen-Yi Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Method for improving adhesion between porous low k dielectric and barrier layer

Номер патента: US09721892B2. Автор: Ming Zhou. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Vapor phase repair and pore sealing of low-k dielectric materials

Номер патента: US20110020955A1. Автор: James DeYoung. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-27.

Methods of forming semiconductor devices including low-k dielectric layer

Номер патента: US09633836B2. Автор: Kyu-hee Han,Seung-Hyuk Choi,Sang-hoon Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

Interconnect system with improved low-K dielectrics

Номер патента: US12080547B2. Автор: Yi-Wei Chiu,Yu Lun Ke,Joung-Wei Liou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Interconnect system with improved low-k dielectrics

Номер патента: US20240363336A1. Автор: Yi-Wei Chiu,Yu Lun Ke,Joung-Wei Liou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Methods of forming semiconductor devices including low-k dielectric layer

Номер патента: US20140370704A1. Автор: Kyu-hee Han,Seung-Hyuk Choi,Sang-hoon Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-18.

Methods for repairing low-k dielectrics using carbon plasma immersion

Номер патента: US09478437B2. Автор: Peter I. Porshnev,Daping Yao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for improving adhesion between porous low k dielectric and barrier layer

Номер патента: US20170309513A1. Автор: Ming Zhou. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-10-26.

Laminate low K film

Номер патента: US20040077179A1. Автор: Steven Reder,Michael Berman,Rennie Barber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-22.

Method for forming ultra-shallow junction

Номер патента: US20220254903A1. Автор: Jian Yang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Zeolite—sol gel nano-composite low k dielectric

Номер патента: US7674390B2. Автор: Hai Deng. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-03-09.

Integrated circuit having ultralow-k dielectric layer

Номер патента: SG144066A1. Автор: Liu Huang,Lim Sin Leng,Johnny Widodo. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-07-29.

Low-K dielectric gapfill by flowable deposition

Номер патента: US09412581B2. Автор: Jingmei Liang,Mukund Srinivasan,Young S. Lee,Kiran V. Thadani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Integrated Circuit Having Ultralow-K Dielectric Layer

Номер патента: US20080153310A1. Автор: Huang Liu,Johnny Widodo,Sin Leng Lim. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2008-06-26.

Integrated circuit having ultralow-k dielectric layer

Номер патента: SG162775A1. Автор: Liu Huang,Lim Sin Leng,Johnny Widodo. Владелец: Globalfoundries Singapore Pte. Дата публикации: 2010-07-29.

Treatment of low k films with a silylating agent for damage repair

Номер патента: US7541200B1. Автор: Bart J. van Schravendijk,Justin F. Gaynor. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-06-02.

Super critical drying of low k materials

Номер патента: WO2002017373A1. Автор: Bharath Rangarajan,Bhanwar Singh,Ramkumar Subramanian. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2002-02-28.

Method for modifying high-k dielectric thin film and semiconductor device

Номер патента: US20090302433A1. Автор: Koji Akiyama,Shintaro Aoyama,Kazuyoshi Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-10.

Methods for formation of low-k aluminum-containing etch stop films

Номер патента: US09633896B1. Автор: Pramod Subramonium,Nagraj Shankar,Daniel Damjanovic. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Semiconductor device including multilayer stack including seed layer and high-k dielectric layer

Номер патента: US11664413B2. Автор: Se Ho LEE,Dong Ik SUH. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-05-30.

Reliability caps for high-k dielectric anneals

Номер патента: US20190019682A1. Автор: Shariq Siddiqui,Rohit Galatage,Chung-Ju Yang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-01-17.

Forming nitrogen-containing low-K gate spacer

Номер патента: US11948841B2. Автор: Chung-Chi Ko,Wan-Yi Kao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Capacitor comprising anti-ferroelectric layers and high-k dielectric layers

Номер патента: US20240313040A1. Автор: Se Hun Kang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Capacitor comprising anti-ferroelectric layers and high-k dielectric layers

Номер патента: US12034035B2. Автор: Se Hun Kang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Structure of porous low-k layer and interconnect structure

Номер патента: US8350246B2. Автор: Chien-Chung Huang,Mei-Ling Chen,Yu-Tsung Lai,Su-Jen Sung,Kuo-Chih Lai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-01-08.

Uniform dielectric layer and method to form same

Номер патента: US20010024886A1. Автор: Trung Doan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-27.

半导体表面共价接枝无氟纳米孔洞low k介电薄膜方法

Номер патента: CN112201565. Автор: 李明,曹亮亮,吴蕴雯. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2021-01-08.

Hot plate cure process for BCB low k interlevel dielectric

Номер патента: US6066574A. Автор: LU You,Christof Streck,Dawn Hopper. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-05-23.

Low-k dielectric aerogel and preparation method therefor

Номер патента: US20230098015A1. Автор: Jean-Hong CHEN,Shiu-Shiu Chen. Владелец: Taiwan Aerogel Technology Material Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Low-k dielectric aerogel and preparation method therefor

Номер патента: US12054585B2. Автор: Jean-Hong CHEN,Shiu-Shiu Chen. Владелец: Taiwan Aerogel Technology Material Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Recleaning process for metal plug that minimizes damage to low K dielectric

Номер патента: EP1081750A3. Автор: Kenny King-Tai Ngan,Barney M. Cohen,Suraj Rengarajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-02-05.

Curing Low-k Dielectrics for Improving Mechanical Strength

Номер патента: US20090250792A1. Автор: Shwang-Ming Jeng,Keng-Chu Lin,Joung-Wei Liou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2009-10-08.

Method For Reducing Reactive Ion Etch Lag in Low K Dielectric Etching

Номер патента: US20180358227A1. Автор: Christopher Cole,Angelique D. Raley,Andrew W. METZ. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Method of forming a semiconductor device having a high-k dielectric

Номер патента: WO2006112948A1. Автор: Olubunmi O. Adetutu,David C. Gilmer,Hsing H. Tseng. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR. Дата публикации: 2006-10-26.

MOSFET with ultra low drain leakage

Номер патента: US09887265B2. Автор: Devendra K. Sadana,Jeehwan Kim,Keith E. Fogel,Joel P. de Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

MOSFET with ultra low drain leakage

Номер патента: US09536945B1. Автор: Devendra K. Sadana,Jeehwan Kim,Keith E. Fogel,Joel P. de Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

带有Low-k膜的晶片的分割方法

Номер патента: CN110197811A. Автор: 村上健二,武田真和,荣田光希,田村健太. Владелец: Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-03.

带有Low-k膜的晶片的分割方法

Номер патента: CN110197811. Автор: 村上健二,武田真和,荣田光希,田村健太. Владелец: Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-03.

Replacement low-k spacer

Номер патента: US20170194499A1. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Replacement low-k spacer

Номер патента: US9985135B2. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Replacement low-k spacer

Номер патента: US09892926B2. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Replacement low-k spacer

Номер патента: US09660050B1. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor structure including low-k spacer material

Номер патента: US20180219096A1. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Semiconductor structure including low-k spacer material

Номер патента: US20190148557A1. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Structure and method to form III-V, Ge and SiGe fins on insulator

Номер патента: US09754968B2. Автор: Shogo Mochizuki,Alexander Reznicek. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Ion implantation to form trench-bottom oxide of mosfet

Номер патента: US20220199806A1. Автор: Lei Zhong,Wei Zou,David J. Lee,Qintao Zhang,Samphy Hong,Felix Levitov. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Fingered capacitor with low-k and ultra-low-k dielectric layers

Номер патента: US20200357881A1. Автор: YU Chen,Cheong Min Hong,Chunshan YIN. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2020-11-12.

Semiconductor processing system with ultra low-k dielectric

Номер патента: SG144033A1. Автор: HSIA Liang Choo,ZHANG Bei Chao,Yasri Yudhistira,Johnny Widodo. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-07-29.

Side wall pore sealing for low-k dielectrics

Номер патента: WO2006100632A1. Автор: Willem Frederik Adrianus Besling. Владелец: NXP B.V.. Дата публикации: 2006-09-28.

Side wall pore sealing for low-k dielectrics

Номер патента: EP1864322B1. Автор: Willem F.A. Société Civile SPID BESLING. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2011-06-01.

Low-k dielectric interconnect systems

Номер патента: US09768061B1. Автор: Chung-Chi Ko,Po-Cheng Shih,Chia Cheng Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Interconnect with high quality ultra-low-k dielectric

Номер патента: US20200258776A1. Автор: Kangguo Cheng. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Side wall pore sealing for low-k dielectrics

Номер патента: EP1864322A1. Автор: Willem F.A. Société Civile SPID BESLING. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2007-12-12.

Self Forming Metal Fluoride Barriers for Fluorinated Low-K Dielectrics

Номер патента: US20100244252A1. Автор: Florian Gstrein,Christopher J. Jezewski,Daniel J. Zierath. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Repairing and restoring strength of etch-damaged low-k dielectric materials

Номер патента: SG173321A1. Автор: James DeYoung. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-08-29.

Low-k dielectric interconnect systems

Номер патента: US20180005882A1. Автор: Chung-Chi Ko,Po-Cheng Shih,Chia Cheng Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Method for tunably repairing low-k dielectric damage

Номер патента: US20110097821A1. Автор: James DeYoung,Stephen M. Sirard,Odette Turmel. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2011-04-28.

Method of patterning a low-k dielectric film

Номер патента: WO2014011382A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Dmitry Lubomirsky,Qingjun Zhou,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Jeremiah T. Pender. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-16.

Dual damascene process utilizing a low-k dual dielectric

Номер патента: EP1292978A2. Автор: Erdem Kaltalioglu,Michael Stetter,Andy Cowley. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2003-03-19.

Dual damascene process utilizing a low-k dual dielectric

Номер патента: WO2001099184A3. Автор: Erdem Kaltalioglu,Michael Stetter,Andy Cowley. Владелец: Infineon Technologies Corp. Дата публикации: 2002-06-27.

Method of Forming Ultra Shallow Junction

Номер патента: US20140302656A1. Автор: TianJin XIAO. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-10-09.

Methods to form multi threshold-voltage dual channel without channel doping

Номер патента: US09735061B1. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min-Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Structural reinforcement of highly porous low k dielectric films by ild posts

Номер патента: EP1405337A2. Автор: Lawrence D. Wong. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-07.

Composite manganese nitride/low-K dielectric cap

Номер патента: US09711456B2. Автор: Donald F. Canaperi,Takeshi Nogami,Son V. Nguyen,Deepika Priyadarshini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Structure and Method for a Low-K Dielectric With Pillar-Type Air-Gaps

Номер патента: US20230369228A1. Автор: Tien-I Bao,Chung-Ju Lee,Chih Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Method of patterning a low-k dielectric film

Номер патента: WO2014120576A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Sean S. Kang,Chia-Ling Kao. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-08-07.

Field effect transistor with a hybrid gate spacer including a low-k dielectric material

Номер патента: US11908940B2. Автор: Szuya S. LIAO,Pratik A. Patel. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Backside via with a low-k spacer

Номер патента: US20240363428A1. Автор: Mei-Yun Wang,Po-Yu Huang,Fu-Kai Yang,Chen-Ming Lee,I-Wen Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Sealing pores of low-k dielectrics using CxHy

Номер патента: US7135402B2. Автор: Tien-I Bao,Keng-Chu Lin,Shwang-Ming Cheng,Ming Ling Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2006-11-14.

Dual damascene process utilizing a low-k dual dielectric

Номер патента: WO2001099184A2. Автор: Erdem Kaltalioglu,Michael Stetter,Andy Cowley. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-12-27.

Low-k damage repair and pore sealing agents with photosensitive end groups

Номер патента: US09502255B2. Автор: George Andrew Antonelli,Andrew John McKerrow. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for etching low k dielectrics

Номер патента: WO1999052135A1. Автор: YAN Ye,Chun Yan,Diana Xiaobing Ma,Gary C. Hsueh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-10-14.

Die edge seal employing low-K dielectric material

Номер патента: US9406625B2. Автор: Zhijie Wang,Zhigang Bai,Dehong Ye,Huchang Zhang,Jiyong Niu. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2016-08-02.

Die edge seal employing low-k dielectric material

Номер патента: US20150371957A1. Автор: Zhijie Wang,Zhigang Bai,Dehong Ye,Huchang Zhang,Jiyong Niu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-12-24.

Ultralow-K dielectric-gap wrapped contacts and method

Номер патента: US11978661B2. Автор: Mark D. Levy,Felix P. Anderson,Siva P. Adusumilli,Fuad H. Al-Amoody,Spencer H. Porter. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Barrier film integrity on porous low k dielectrics by application of a hydrocarbon plasma treatment

Номер патента: US7242098B2. Автор: Thomas Joseph Abell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-07-10.

Methods for removing photoresist from semiconductor structures having high-k dielectric material layers

Номер патента: US20080176388A1. Автор: Richard J. Carter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-24.

Laser processing of workpieces containing low-k dielectric material

Номер патента: EP2030224A1. Автор: Brian W. Baird. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2009-03-04.

Method of forming ultra shallow junctions

Номер патента: MY130338A. Автор: Narayanan Meyyappan. Владелец: SilTerra Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2007-06-29.

Ultra-low power basic blocks and their uses

Номер патента: WO2002050911A1. Автор: Denis Flandre,Vincent Dessard,Stéphane Adriaensen. Владелец: UNIVERSITE CATHOLIQUE DE LOUVAIN. Дата публикации: 2002-06-27.

Ultra-low power basic blocks and their uses

Номер патента: EP1344253A1. Автор: Denis Flandre,Vincent Dessard,Stéphane Adriaensen. Владелец: Universite Catholique de Louvain UCL. Дата публикации: 2003-09-17.

Transistor with a low-k sidewall spacer and method of making same

Номер патента: US09666679B2. Автор: DANIEL Benoit,Clement Gaumer. Владелец: STMicroelectronics Crolles 2 SAS. Дата публикации: 2017-05-30.

High K dielectric de-coupling capacitor embedded in backend interconnect

Номер патента: US20020036336A1. Автор: Qi Xiang,WEI Long. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-28.

Low-K dual damascene integration process

Номер патента: US6323123B1. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai,Anseime Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-11-27.

METAL GATE AND HIGH-K DIELECTRIC DEVICES WITH PFET CHANNEL SiGe

Номер патента: US20110068369A1. Автор: Kangguo Cheng,Bruce B. Doris,Keith Kwong Hon Wong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

METAL GATE AND HIGH-K DIELECTRIC DEVICES WITH PFET CHANNEL SiGe

Номер патента: US20120267685A1. Автор: Kangguo Cheng,Bruce B. Doris,Keith Kwong Hon Wong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-10-25.

Metal gate and high-K dielectric devices with PFET channel SiGe

Номер патента: US8796773B2. Автор: Kangguo Cheng,Bruce B. Doris,Keith Kwong Hon Wong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-08-05.

Mechanisms for monitoring impurity in high-K dielectric film

Номер патента: US09553160B2. Автор: Wei Zhang,Yen-Yu Chen,Chang-Sheng Lee,Wei-Jen Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Crystallization of High-K Dielectric Layer

Номер патента: US20240097039A1. Автор: Chien-Chang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Poly finger fabrication for hci degradation improvement of ultra-low-ron ednmos

Номер патента: US20190252521A1. Автор: Lin Wei,Upinder Singh,Raj Verma Purakh. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2019-08-15.

Fabrication technique for forming ultra-high density integrated circuit components

Номер патента: US20230154751A1. Автор: Xi-Wei Lin,Victor Moroz. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2023-05-18.

Fabrication technique for forming ultra-high density integrated circuit components

Номер патента: WO2022015930A1. Автор: Xi-Wei Lin,Victor Moroz. Владелец: Synopsys, Inc.. Дата публикации: 2022-01-20.

Method for integration of dual metal gates and dual high-k dielectrics in cmos devices

Номер патента: US20120094447A1. Автор: Qiuxia Xu,Gaobo Xu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2012-04-19.

降低多孔low-k材料的k值的互连工艺

Номер патента: CN104867866A. Автор: 雷通. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-08-26.

Method for etching porous organosilica low-k materials

Номер патента: US20140291289A1. Автор: Mikhaïl Baklanov,Shigeru Tahara,Frederic LAZZARINO,Mikhail Krishtab. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Method of improving the interlayer adhesion property of low-k layers in a dual damascene process

Номер патента: US20020173158A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

一种保护low-k介质的有源芯片硅通孔制作方法

Номер патента: CN115000005. Автор: 曹立强,戴风伟. Владелец: National Center for Advanced Packaging Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-02.

一种保护low-k介质的有源芯片硅通孔制作方法

Номер патента: WO2023226547A1. Автор: 曹立强,戴风伟. Владелец: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司. Дата публикации: 2023-11-30.

Method to form narrow structures using double-damascene process

Номер патента: EP1206798A1. Автор: Emi Ishida,Scott Luning,Tim Thurgate. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-05-22.

Method to form narrow structures using double-damascene process

Номер патента: WO2001011675A1. Автор: Emi Ishida,Scott Luning,Tim Thurgate. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2001-02-15.

一种Low-K wafer结构及其工艺方法

Номер патента: CN115332191A. Автор: 徐烨锋,王红晓,王修垒. Владелец: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-11.

Backside via with a low-k spacer

Номер патента: US12068200B2. Автор: Mei-Yun Wang,Po-Yu Huang,Fu-Kai Yang,Chen-Ming Lee,I-Wen Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Reducing neighboring word line in interference using low-k oxide

Номер патента: US09831118B1. Автор: Yingda Dong,Liang PANG,Jayavel Pachamuthu,Ching-Huang Lu. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-11-28.

Semiconductor devices with self-aligned contacts and low-k spacers

Номер патента: US09543426B2. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Semiconductor device with low-K spacers

Номер патента: US09425280B2. Автор: Xunyuan Zhang,Xiuyu Cai,Ruilong Xie. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

Method to form localized relaxed substrate by using condensation

Номер патента: US20170221903A1. Автор: Pierre Morin,Nicolas Loubet. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-08-03.

Method to form localized relaxed substrate by using condensation

Номер патента: US20160211376A1. Автор: Pierre Morin,Nicolas Loubet. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2016-07-21.

一种Low-K wafer结构及其工艺方法

Номер патента: CN115332191. Автор: 徐烨锋,王红晓,王修垒. Владелец: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-11.

Integration process to form microelectronic or micromechanical structures

Номер патента: US09755016B2. Автор: Wai-Kin Li,Samuel S. Choi. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods to form high density through-mold interconnections

Номер патента: US09741692B2. Автор: Debendra Mallik,Omkar G. Karhade,Nitin A. Deshpande,Eric J. Li,Edvin Cetegen,Bassam M. Ziadeh. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Methods to form merged spacers for use in fin generation in IC devices

Номер патента: US09627389B1. Автор: Lei Yuan,Youngtag Woo,Srinivasa Banna. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Directed self assembly of block copolymers to form vias aligned with interconnects

Номер патента: US09530688B2. Автор: Robert Bristol,Swaminathan Sivakumar,Paul A. Nyhus. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Novel integration process to form microelectronic or micromechanical structures

Номер патента: US20160322458A1. Автор: Wai-Kin Li,Samuel S. Choi. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-11-03.

Ultra low power transistor for 40nm processes

Номер патента: GB2524486A. Автор: David Vigar,Dave Verity,Rainer Herberholz. Владелец: Cambridge Silicon Radio Ltd. Дата публикации: 2015-09-30.

Method to form selective strained si using lateral epitaxy

Номер патента: SG143174A1. Автор: Luo Zhijiong,CHONG Yung Fu,Judson R Holt. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-06-27.

一种应用于low-k开槽设备的三轴联动精密平台

Номер патента: CN109449116A. Автор: 李斌,施心星,邱鸿毅. Владелец: SUZHOU LUMI LASER SCIENCE & TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-08.

Robust low-k bottom spacer for vfet

Номер патента: US20200279780A1. Автор: Kangguo Cheng,Pietro Montanini,Hiroki Niimi. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Method to form a fin structure on deep trenches for a semiconductor device

Номер патента: US20230317771A1. Автор: Huang Liu,Liang Li,Chunhui Low. Владелец: HeFeChip Corp Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Methods of pore sealing and metal encapsulation in porous low k interconnect

Номер патента: WO2004105124A1. Автор: Dung-Ching Perng. Владелец: Jsr Micro, Inc.. Дата публикации: 2004-12-02.

Semiconductor element with bonding layer having low-k dielectric material

Номер патента: US20240332227A1. Автор: Cyprian Emeka Uzoh,Oliver Zhao. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor element with bonding layer having low-k dielectric material

Номер патента: WO2024206337A1. Автор: Cyprian Emeka Uzoh,Oliver Zhao. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Integrating formation of a replacement gate transistor and a non-volatile memory cell using a high-k dielectric

Номер патента: US20130330893A1. Автор: Mehul D. Shroff,Mark D. Hall. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-12.

Compliant passivated edge seal for low-k interconnect structures

Номер патента: WO2005067598A2. Автор: Daniel Edelstein,Lee M. Nicholson. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2005-07-28.

Structure and method to form a FinFET device

Номер патента: US09525069B2. Автор: Effendi Leobandung,Andres Bryant,Tenko Yamashita,Jeffrey B. Johnson. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Structure and method to form a finfet device

Номер патента: US20170047350A1. Автор: Effendi Leobandung,Andres Bryant,Tenko Yamashita,Jeffrey B. Johnson. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-02-16.

Structure and method to form a finfet device

Номер патента: US20150303272A1. Автор: Effendi Leobandung,Andres Bryant,Tenko Yamashita,Jeffrey B. Johnson. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Method for Producing MIM Capacitors with High K Dielectric Materials and Non-Noble Electrodes

Номер патента: US20130285205A1. Автор: Pragati Kumar,Hanhong Chen. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Optical systems and methods of characterizing high-k dielectrics

Номер патента: US20220003678A1. Автор: Harry A. Atwater,Philippe C. ADELL. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2022-01-06.

Optical systems and methods of characterizing high-k dielectrics

Номер патента: EP3344972A1. Автор: Philippe C. ADELL,Harry A. ATWATERE. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2018-07-11.

Optical systems and methods of characterizing high-k dielectrics

Номер патента: US11808706B2. Автор: Harry A. Atwater,Philippe C. ADELL. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-11-07.

Ultra-low voltage ultraviolet photodetector

Номер патента: WO2024072325A1. Автор: Yuhan PU,Yung-Chii LIANG. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2024-04-04.

Model for optical dispersion of high-K dielectrics including defects

Номер патента: US09405290B1. Автор: Leonid Poslavsky,Natalia Malkova. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-08-02.

Method of fabricating a flash memory comprising a high-K dielectric and a metal gate

Номер патента: US8822286B2. Автор: WEI Xia,Xiangdong Chen,Frank Hui. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2014-09-02.

Ultra-low drain-source resistance power MOSFET

Номер патента: US09887266B2. Автор: Martin Hernandez,Deva Pattanayak,Kyle Terrill,Kuo-In Chen,Sharon Shi,Qufei Chen,The-Tu Chau. Владелец: Vishay Siliconix Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Electrical Test Structure for Devices Employing High-K Dielectrics or Metal Gates

Номер патента: US20130140564A1. Автор: Robert C. Lutz. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-06-06.

Fin structures and multi-Vt scheme based on tapered fin and method to form

Номер патента: US09583625B2. Автор: Min-Hwa Chi,Xusheng Wu,Edmund Kenneth Banghart. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Ultra low-voltage circuits

Номер патента: US20200321948A1. Автор: Matthew Johnston,Tejasvi Anand,Soumya Bose. Владелец: Oregon State University. Дата публикации: 2020-10-08.

Method to form a capacitor having multiple pillars for advanced DRAMS

Номер патента: US5650351A. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1997-07-22.

A method of detection Low-K processing chip lamination problem

Номер патента: CN110223930A. Автор: 杜新. Владелец: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Method for detecting layering problem of Low-K process chip

Номер патента: CN110223930B. Автор: 杜新. Владелец: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-03.

Semiconductor device with low-k spacer

Номер патента: US11877437B2. Автор: Seung Mi Lee,Beom Ho Mun,Ji Won Choi,Eun Jeong Kim,Jong Kook Park,Kyoung Tak KIM,Yun Hyuck Ji. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Ultra-low threshold voltage transistor cell layout

Номер патента: EP4345881A1. Автор: Yanbin LUO,Paul Packan,Tao Chu,Minwoo Jang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-04-03.

Semiconductor device with low-k spacer

Номер патента: US20240130109A1. Автор: Seung Mi Lee,Beom Ho Mun,Ji Won Choi,Eun Jeong Kim,Jong Kook Park,Kyoung Tak KIM,Yun Hyuck Ji. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Ultra-low voltage transistor cell design using gate cut layout

Номер патента: US20240113118A1. Автор: Paul A. Packan,Yanbin LUO,Tao Chu,Minwoo Jang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Ultra low loss dielectric thermosetting resin composition and high performance laminates manufactured therefrom

Номер патента: US09596753B2. Автор: Sajal Das,Patrick Shipman. Владелец: NOVOSET LLC. Дата публикации: 2017-03-14.

Ultra low loss dielectric thermosetting resin compositions and high performance laminates manufactured therefrom

Номер патента: US09332637B2. Автор: Sajal Das,Patrick Shipman. Владелец: NOVOSET LLC. Дата публикации: 2016-05-03.

Process to form compound with indolocarbazole moieties

Номер патента: CA2529245C. Автор: Beng S. Ong,Yiliang Wu,Yuning LI. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2010-02-02.

Plasma display panel with a low k dielectric layer

Номер патента: US20020190651A1. Автор: Dan Maydan,Quanyuan Shang,Takako Takehara,Kam Law,William Harshbarger,Taekyung Won. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-12-19.

Plasma display panel with a low k dielectric layer

Номер патента: EP1415318A2. Автор: Dan Maydan,Quanyuan Shang,Takako Takehara,William R. Harshbarger,Kam S. Law,Taekyung Won. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-06.

Etching high k dielectric films with reduced likelihood of delamination

Номер патента: US20130065023A1. Автор: ABBAS Ali,Hansley Regan Rampersad. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-03-14.

Magnetic antennas for ultra low frequency and very low frequency radiation

Номер патента: US09755765B2. Автор: James C. Zellner,Benjamin Dolgin,Steven Cotten. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2017-09-05.

Ultra-low-temperature device and method for refrigerating object to be refrigerated using the same

Номер патента: US09709313B2. Автор: Takashi Miki. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Ultra low profile pcb embeddable electrical connector assemblies for power and signal transmission

Номер патента: WO2016044393A1. Автор: Sudarshan Krishnamoorthy. Владелец: HELION CONCEPTS, INC.. Дата публикации: 2016-03-24.

Ultra-low profile monopole antenna for 2.4GHz band

Номер патента: US09761945B2. Автор: Eleazar Zuniga. Владелец: Taoglas Group Holdings Ltd Ireland. Дата публикации: 2017-09-12.

Planar antenna with linear and circular polarisation

Номер патента: GB2389233A. Автор: Gennadi Yevtyushkin,Won-Sang Yoon. Владелец: Samsung Thales Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-03.

Magnetic antennas for ultra low frequency and very low frequency radiation

Номер патента: US20150372771A1. Автор: James C. Zellner,Benjamin Dolgin,Steven Cotten. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2015-12-24.

Magnetic antennas for ultra low frequency and very low frequency radiation

Номер патента: WO2015200081A1. Автор: James C. Zellner,Benjamin Dolgin,Steven Cotten. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2015-12-30.

Ultra-low-profile low frequency antenna

Номер патента: US11881638B2. Автор: Jorge Rodriguez,Antonio Rojas Cuevas,Francisco Ezequiel NAVARRO PÉREZ,Claudio Cañete Cabeza,Sergio Cobos Reyes. Владелец: PREMO SA. Дата публикации: 2024-01-23.

Ultra-low-profile low frequency antenna

Номер патента: EP3959732A1. Автор: Jorge Rodriguez,Antonio Rojas Cuevas,Francisco Ezequiel NAVARRO PÉREZ,Claudio Cañete Cabeza,Sergio Cobos Reyes. Владелец: PREMO SA. Дата публикации: 2022-03-02.

Raman fiber laser employing ultra-low reflectance fiber bragg grating

Номер патента: US20230216264A1. Автор: Yanxin Li,Xuewen Shu,Jiancheng Deng. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2023-07-06.

Membrane electrode with ultra-low oxygen mass transfer resistance

Номер патента: US12057610B2. Автор: Chao Wang,Xiaojing Cheng,Junliang Zhang,Guanghua Wei,Yutong Liu. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2024-08-06.

Ultra-low rin fiber light source

Номер патента: EP1854187A2. Автор: Timothy L. Spicer,Sidney X. Huang. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-11-14.

Method to form an inductive component

Номер патента: US12080472B2. Автор: Cheng-Hao Chang,Pei-I Wei,Shing Tak Li. Владелец: Cyntec Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Ultra-low power beamforming wireless power transfer system

Номер патента: US12034310B2. Автор: Aatmesh Shrivastava. Владелец: Northeastern University Boston. Дата публикации: 2024-07-09.

Ultra low emission solid state relay

Номер патента: EP3611840A3. Автор: Sergio Orozco. Владелец: Sensata Technologies Inc. Дата публикации: 2020-04-15.

Deposition of low-k films

Номер патента: US11970777B2. Автор: Ning Li,Mark Saly,Thomas Knisley,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Mihaela A. Balseanu,Shuaidi ZHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-30.

Deposition of low-k films

Номер патента: US20220154337A1. Автор: Ning Li,Mark Saly,Thomas Knisley,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Mihaela A. Balseanu,Shuaidi ZHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-19.

Deposition of low-k films

Номер патента: US20220325412A1. Автор: Ning Li,Mark Saly,Thomas Knisley,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Mihaela A. Balseanu,Shuaidi ZHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Nanoporous low-k films with infiltrated porosity

Номер патента: WO2007047822A3. Автор: Steven M Bilodeau,Chongying Xu,Jeffrey F Roeder,Philip S H Chen,Daniel J Vesyck. Владелец: Daniel J Vesyck. Дата публикации: 2009-05-07.

Method for laser-induced growth of nano-units to form oriented, chiral, and complex structures

Номер патента: US20220126364A1. Автор: Xiaolin Lu,Tao Ding. Владелец: Wuhan University WHU. Дата публикации: 2022-04-28.

Ultra-low VOC compositions and methods

Номер патента: US09738815B2. Автор: Dario Amicucci,Guy Hanoch Shmuel,Charles J Luccarelli. Владелец: Greenroof Materials Llc. Дата публикации: 2017-08-22.

Non-cfc refrigerant mixture for an ultra-low temperature refrigeration system

Номер патента: WO2005049758A2. Автор: Chuan Weng. Владелец: Kendro Laboratory Products, Lp. Дата публикации: 2005-06-02.

Water-flooding of formation with surfactant of ultra low concentration

Номер патента: RU2581854C1. Автор: Эгиль Сунне. Владелец: Глори Энерджи Инк.. Дата публикации: 2016-04-20.

Non-HCFC refrigerant mixture for an ultra-low temperature refrigeration system

Номер патента: US20050072957A1. Автор: Chuan Weng. Владелец: Chuan Weng. Дата публикации: 2005-04-07.

Non-hcfc refrigerant mixture for an ultra-low temperature refrigeration system

Номер патента: EP1565538A1. Автор: Chuan Weng. Владелец: Kendro Laboratory Products LP. Дата публикации: 2005-08-24.

Non-cfc refrigerant mixture for an ultra-low temperature refrigeration system

Номер патента: WO2005049758A3. Автор: Chuan Weng. Владелец: Kendro Lab Prod Lp. Дата публикации: 2008-01-24.

Ultra-low residue, high solids, wet cake products and methods of making same

Номер патента: WO2006001841A1. Автор: Edward J. Sare,James Stacey Johnson. Владелец: Imerys Kaolin, Inc.. Дата публикации: 2006-01-05.

Ultra-low permeability polymeric encapsulated acoustic device and method

Номер патента: US8470921B2. Автор: Thomas S. Ramotowski. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2013-06-25.

Process for producing an ultra-low-carbon steel slab, strip or sheet

Номер патента: EP2459756A1. Автор: Maarten Arie De Haas,Wouter Karel Tiekink,Ben Richards. Владелец: Corus Staal Bv. Дата публикации: 2012-06-06.

Fabrication of ultra low thermal expansion cordierite structures

Номер патента: EP1144334A1. Автор: Douglas M. Beall,Gregory A. Merkel. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2001-10-17.

Ligand compounds comprising a chelating group as a bridging group

Номер патента: EP4380629A1. Автор: Hans-Jürgen Wester,Mara Parzinger,Lennard WENDLINGER. Владелец: Technische Universitaet Muenchen. Дата публикации: 2024-06-12.

Fabrication of ultra low thermal expansion cordierite structures

Номер патента: EP1144334A4. Автор: Gregory A Merkel,Douglas M Beall. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Method and system for correlating content with linear media

Номер патента: EP1782276A2. Автор: Craig George Cockerton,Peter Philip Moodie,Patrick Mathias Kunz. Владелец: Ectus Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Ultra-Low Permeability Polymeric Encapsulated Acoustic Device and Method

Номер патента: US20110027518A1. Автор: Thomas S. Ramotowski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-03.

Ultra-thin, ultra-low density films for EUV lithography

Номер патента: US12085844B2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Primary circuit control loop and method for operation at ultra-low offload power

Номер патента: RU2456736C1. Автор: Ричард Г. ДЬЮБОЗ. Владелец: Айгоу, Инк.. Дата публикации: 2012-07-20.

Damper with linear power generation and reluctance

Номер патента: US09472999B1. Автор: Ying-Che Lee. Владелец: Chi Hua Fitness Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-18.

Method for isolating biomolecules from a biological sample with linear polymers

Номер патента: US5525519A. Автор: James E. Woiszwillo. Владелец: Middlesex Sciences Inc. Дата публикации: 1996-06-11.

Method for isolating biomolecules from a biological sample with linear polymers

Номер патента: US5599719A. Автор: James E. Woiszwillo,Fred Rothstein. Владелец: Middlesex Sciences Inc. Дата публикации: 1997-02-04.

A catalyst and process for the manufacture of ultra-low sulfur distillate product

Номер патента: CA2659797C. Автор: Opinder Kishan Bhan. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 2015-02-10.

Device with linear slots for water drainage

Номер патента: WO2022031430A1. Автор: Charles B. Harmke,Chi T. Tran,Kuang Eng LIM,Geng Xiang Lee,Ji Ying Choong. Владелец: MOTOROLA SOLUTIONS, INC.. Дата публикации: 2022-02-10.

Ligand compounds comprising a chelating group as a bridging group

Номер патента: CA3224462A1. Автор: Hans-Jürgen Wester,Mara Parzinger,Lennard WENDLINGER. Владелец: Technische Universitaet Muenchen. Дата публикации: 2023-02-09.

Method and system for correlating content with linear media

Номер патента: WO2006006875A3. Автор: Craig George Cockerton,Peter Philip Moodie,Patrick Mathias Kunz. Владелец: Ectus Ltd. Дата публикации: 2006-09-08.

Device with linear slots for water drainage

Номер патента: AU2021320083A1. Автор: Charles B. Harmke,Chi T. Tran,Kuang Eng LIM,Geng Xiang Lee,Ji Ying Choong. Владелец: Motorola Solutions Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Device with linear slots for water drainage

Номер патента: US20220046346A1. Автор: Charles B. Harmke,Chi T. Tran,Kuang Eng LIM,Geng Xiang Lee,Ji Ying Choong. Владелец: Motorola Solutions Inc. Дата публикации: 2022-02-10.

Device with linear slots for water drainage

Номер патента: AU2021320083B2. Автор: Charles B. Harmke,Chi T. Tran,Kuang Eng LIM,Geng Xiang Lee,Ji Ying Choong. Владелец: Motorola Solutions Inc. Дата публикации: 2023-07-06.

Device with linear slots for water drainage

Номер патента: EP4193605A1. Автор: Charles B. Harmke,Chi T. Tran,Kuang Eng LIM,Geng Xiang Lee,Ji Ying Choong. Владелец: Motorola Solutions Inc. Дата публикации: 2023-06-14.

Vco with linear gain over a very wide tuning range

Номер патента: EP3028380A1. Автор: Ian Galton,Ashok Swaminathan. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-06-08.

Vco with linear gain over a very wide tuning range

Номер патента: WO2015017307A1. Автор: Ian Galton,Ashok Swaminathan. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2015-02-05.

Ultra low-power transmission system

Номер патента: EP2266206A1. Автор: Douglas B. Weiner,Richard C. Eden. Владелец: Textron Systems Corp. Дата публикации: 2010-12-29.

Methods for preparing basic aluminum compounds with ultrasound

Номер патента: WO1994002415A1. Автор: Jawahar C. Parekh,Vijay K. Joshi. Владелец: Reheis, Inc.. Дата публикации: 1994-02-03.

Using NFC to configure ultra low power BLUETOOTH® devices

Номер патента: US12028444B2. Автор: Hannu Mallat. Владелец: Silicon Laboratories Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Output voltage hold scheme for ultra low power regulator

Номер патента: US09847717B1. Автор: Bin Shao. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Process of making prostacyclin compounds with linker thiol and pegylated forms

Номер патента: CA2908244C. Автор: Liang Guo,Hitesh Batra. Владелец: United Therapeutics Corp. Дата публикации: 2021-04-20.

Condensation products of complex copper compounds with nitrogen-containing compounds and aldehydes

Номер патента: GB736792A. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1955-09-14.

Ultra-thin, ultra-low density films for EUV lithography

Номер патента: US11740548B2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: WO2022060877A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2022-03-24.

Enhanced ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography and method of producing thereof

Номер патента: WO2023055739A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2023-04-06.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: US20230393456A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: US20230095318A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Zirconium-coated ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: WO2023055729A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Mary Viola GRAHAM. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2023-04-06.

Ultra-low zeolite content fcc catalyst in-situ crystallization

Номер патента: CA3176655A1. Автор: Junmei Wei,Lucas DORAZIO,Samantha L. RICE,Nicholas Robert FAVATE. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2021-11-04.

Ultra-low zeolite content fcc catalyst in-situ crystallization

Номер патента: EP4142936A1. Автор: Junmei Wei,Lucas DORAZIO,Samantha L. RICE,Nicholas Robert FAVATE. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-03-08.

Ultra-low zeolite content fcc catalyst in-situ crystallization

Номер патента: US20230166244A1. Автор: Junmei Wei,Lucas DORAZIO,Samantha L. RICE,Nicholas Robert FAVATE. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Ultra low power wake up radio architecture

Номер патента: US20240089018A1. Автор: Aatmesh Shrivastava,Ankit Mittal. Владелец: NORTHEASTERN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-14.

Platform system and method for transmitting video in real time with ultra-low latency

Номер патента: US20240137586A1. Автор: Sang Hoon Lee,Soo Hyun Park,Hack Kyung KIM. Владелец: QUOPIN CO Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Platform system and method for transmitting video in real time with ultra-low latency

Номер патента: US20240236386A9. Автор: Sang Hoon Lee,Soo Hyun Park,Hack Kyung KIM. Владелец: QUOPIN CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Motor Topology with Exchangeable Components to Form Different Classes of Motors

Номер патента: US20210057972A1. Автор: Charles J. Flynn. Владелец: QM Power Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Motor Topology with Exchangeable Components to Form Different Classes of Motors

Номер патента: US20190334419A1. Автор: Charles J. Flynn. Владелец: QM Power Inc. Дата публикации: 2019-10-31.

Motor topology with exchangeable components to form different classes of motors

Номер патента: US10819200B2. Автор: Charles J. Flynn. Владелец: QM Power Inc. Дата публикации: 2020-10-27.

Ultra-low frequency bio-medical active-RC lowpass filters

Номер патента: US09564874B1. Автор: Hussain Abdullah Alzaher,Mohammad Khalaf Alghamdi. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2017-02-07.

Cryogenic refrigeration system with linear drive motors

Номер патента: CA1247872A. Автор: Niels O. Young. Владелец: Helix Technology Corp. Дата публикации: 1989-01-03.

Upgrading hydrocarbon liquids to ultra-low sulfur needle coke

Номер патента: WO2023220532A1. Автор: Stephen H. Brown,Sundararajan Uppili,Jonathan F. CARPENCY. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc.. Дата публикации: 2023-11-16.

Damper with linear power generation and reluctance

Номер патента: US20160285344A1. Автор: Ying-Che Lee. Владелец: Chi Hua Fitness Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Method for the preparation of ethylenically unsaturated compounds with lactam-blocked isocyanate groups

Номер патента: WO2003070704A1. Автор: Jacobus Antonius Loontjens. Владелец: DSM IP ASSETS B.V.. Дата публикации: 2003-08-28.

Method for the preparation of ethylenically unsaturated compounds with lactam-blocked isocyanate groups

Номер патента: EP1476430A1. Автор: Jacobus Antonius Loontjens. Владелец: DSM IP ASSETS BV. Дата публикации: 2004-11-17.

Ultra-low voltage two-stage ring voltage-controlled oscillator applied to chip circuit

Номер патента: US20190165772A1. Автор: Shuihe CAI. Владелец: Aplus Microstructure Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Ultra-low voltage two-stage ring voltage-controlled oscillator applied to chip circuit

Номер патента: US10411679B2. Автор: Shuihe CAI. Владелец: Aplus Semiconductor Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Ultra-low-power RF receiver frontend with tunable matching networks

Номер патента: US09929760B2. Автор: Tzu-Jin Yeh,Hsieh-Hung HSIEH,Hong-Lin CHU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Radar target detection system for autonomous vehicles with ultra-low phase noise frequency synthesizer

Номер патента: US09831881B2. Автор: Yekutiel Josefsberg,Tal Lavian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-28.

Ultra low power thermally-actuated oscillator and driving circuit thereof

Номер патента: US09621105B2. Автор: Sheng-Shian Li,Cheng-Chi Chen,Kuan-Hsien LEE. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2017-04-11.

Primary side control circuit and method for ultra-low idle power operation

Номер патента: CA2713540C. Автор: Richard G. Dubose. Владелец: Igo Inc. Дата публикации: 2013-10-01.

Reducing oxysulfur compounds with a bimetallic catalyst

Номер патента: US3796795A. Автор: P Urban,D Albert. Владелец: Universal Oil Products Co. Дата публикации: 1974-03-12.

Using NFC To Configure Ultra Low Power BLUETOOTH® Devices

Номер патента: US20230299946A1. Автор: Hannu Mallat. Владелец: Silicon Laboratories Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Buck converter using ultra-low working current

Номер патента: US20240171075A1. Автор: Yi-Chuan Lu,Chih-Heng Su. Владелец: Anpec Electronics Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Idle mode mobility in ultra low power systems

Номер патента: US20240236739A1. Автор: Keiichi Kubota,Hussain ELKOTBY,Ravikumar Pragada. Владелец: InterDigital Patent Holdings Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Ultra-low-power circuit

Номер патента: WO2008132210A1. Автор: David Bol,Denis Flandre,Jean-Didier Legat. Владелец: UNIVERSITE CATHOLIQUE DE LOUVAIN. Дата публикации: 2008-11-06.

Near ultra-low energy field (nulef) headset communications

Номер патента: US20210204105A1. Автор: Anthony McFarthing,Zafer Boz. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Ultra-low-power oscillator with dc-only sustaining amplifier

Номер патента: US20200220496A1. Автор: Sudhakar Pamarti,Hani Esmaeelzadeh. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2020-07-09.

Scalable, ultra-low-latency photonic tensor processor

Номер патента: US11546077B2. Автор: Dirk Robert Englund,Liane Sarah Beland BERNSTEIN,Alexander Sludds. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-01-03.

Scalable, Ultra-Low-Latency Photonic Tensor Processor

Номер патента: US20220337333A1. Автор: Dirk Robert Englund,Liane Sarah Beland BERNSTEIN,Alexander Sludds. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-20.

Ultra low noise CMOS imager

Номер патента: US8334917B2. Автор: Eugene Atlas,Sarit Neter,Kim Loren Johnson. Владелец: Imagerlabs Inc. Дата публикации: 2012-12-18.

Third Order Derivative Distortion Cancellation for Ultra Low Power Applications

Номер патента: US20090243724A1. Автор: Viatcheslav Igorevich Suetinov. Владелец: MEDTRONIC INC. Дата публикации: 2009-10-01.

Self-Adaptive, Ultra-Low Elastic Modulus Shape Memory Alloys

Номер патента: US20160281198A1. Автор: Ji Ma,Ibrahim KARAMAN. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2016-09-29.

Ultra Low Enhancement Gas Injection

Номер патента: US20240301815A1. Автор: William A. Wood,Evan Charles Johnson. Владелец: Hytech Power LLC. Дата публикации: 2024-09-12.

Auxiliary power source circuit having ultra-low standby power consumption

Номер патента: US12107505B1. Автор: Jianguo BAI,Likuan Deng,Jianxiong Zheng. Владелец: Shenzhen Uu Green Power Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Ultra-low latency nfmi communication protocol

Номер патента: US20240348991A1. Автор: Ivo Leonardus Coenen,Alexander Heubi. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Generating print data including data to form a flat and smooth color development layer and data to form a gloss layer

Номер патента: US09967433B2. Автор: Akira Shibasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Ultra low-voltage circuit and method for nanopower boost regulator

Номер патента: US09673696B2. Автор: Bin Shao,Yanfeng Lu. Владелец: ANALOG DEVICES TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-06-06.

Ultra low phase noise frequency synthesizer

Номер патента: US09660655B2. Автор: Tal I. Lavian,Yekutiel Josefsberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-23.

Successive-approximation register (SAR) analog-to-digital converter (ADC) with ultra low burst error rate

Номер патента: US09614539B2. Автор: Yongjian Tang. Владелец: Maxlinear Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Ultra-low power converter

Номер патента: US09559596B2. Автор: Ross E. Teggatz,Wayne Chen,Brett Smith,Amer Atrash. Владелец: Triune Systems LLC. Дата публикации: 2017-01-31.

Production of ultra low carbon steel by the basic oxygen process

Номер патента: CA1205638A. Автор: Wayne J. Maddever,Jennings B. Lewis,Michael T. Burns. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1986-06-10.

Method of producing high nitrogen ultra low carbon steel

Номер патента: CA2399936C. Автор: Hisashi Ogawa,Yuki Nabeshima,Seiji Nabeshima,Shuji Takeuchi,Yasuyuki Masumoto. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2009-12-29.

Circuit arrangement for a sound reproducer with linearized sound transmission

Номер патента: WO2008093146A1. Автор: László Babos. Владелец: Babos Laszlo. Дата публикации: 2008-08-07.

Ultra-low-latency communications

Номер патента: GB2565386A. Автор: John Russell Anthony,James O'Connor Ian. Владелец: Commerzbank AG. Дата публикации: 2019-02-13.

Ultra-low latency csi timeline for urllc csi reporting

Номер патента: US20230269612A1. Автор: Yufei Blankenship,Shiwei Gao,Siva Muruganathan. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2023-08-24.

Ultra-low power data transmission method and apparatus

Номер патента: US11870550B2. Автор: PanSoo Kim,Joon Gyu RYU,Soo Yeob JUNG. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-01-09.

Ultra-low zeolite content fcc catalyst in-situ crystallization

Номер патента: WO2021222536A1. Автор: Junmei Wei,Lucas DORAZIO,Samantha L. RICE,Nicholas Robert FAVATE. Владелец: BASF CORPORATION. Дата публикации: 2021-11-04.

Advanced ultra low power error correcting code encoders and decoders

Номер патента: WO2024086433A1. Автор: Ran ZAMIR,Stella Achtenberg,Ofir Pele,Omer FAINZILBER. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2024-04-25.

Advanced ultra low power error correcting code encoders and decoders

Номер патента: US11838032B1. Автор: Ran ZAMIR,Stella Achtenberg,Ofir Pele,Omer FAINZILBER. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Composition and method to form a composite core material

Номер патента: US20180155521A1. Автор: Stephen Gleason, SR.. Владелец: Composite Technologies International LLC. Дата публикации: 2018-06-07.

Ultra-low-power circuit

Номер патента: EP2151056A1. Автор: David Bol,Denis Flandre,Jean-Didier Legat. Владелец: Universite Catholique de Louvain UCL. Дата публикации: 2010-02-10.

Ultra-low thermal mass refractory article

Номер патента: EP4232423A1. Автор: Jr. Sergio David Fernandes,Claudemir COSTA. Владелец: Unifrax Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Cell Having Ability to Form Stratified Epithelial Tissue, and Method for Producing Same

Номер патента: US20180155695A1. Автор: Masakazu Kurita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-07.

Method to form flash memory with very narrow polysilicon spacing

Номер патента: US20050112828A1. Автор: Wen-Ting Chu,Shih-Chang Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-05-26.

Self-adaptive, ultra-low elastic modulus shape memory alloys

Номер патента: EP2920332A1. Автор: Ji Ma,Ibrahim KARAMAN. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2015-09-23.

Reactions of enolizable a-amino aldehydes or ketones to form amine

Номер патента: WO2006023720A2. Автор: Carlos F. Barbas, III,Rajeswari Thayumanavan. Владелец: The Scripps Research Institute. Дата публикации: 2006-03-02.

Method to form a rewriteable memory cell comprising a diode and a resistivity-switching grown oxide

Номер патента: WO2009005706A2. Автор: Tanmay Kumar. Владелец: SANDISK 3D, LLC. Дата публикации: 2009-01-08.

Reactions of enolizable a-amino aldehydes or ketones to form amine

Номер патента: WO2006023720A3. Автор: Carlos F Barbas Iii,Rajeswari Thayumanavan. Владелец: Rajeswari Thayumanavan. Дата публикации: 2007-01-11.

Auxiliary power source circuit having ultra-low standby power consumption

Номер патента: US20240333163A1. Автор: Jianguo BAI,Likuan Deng,Jianxiong Zheng. Владелец: Shenzhen Uu Green Power Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Ultra-low power bandgap reference using a clocked amplifier

Номер патента: US09866112B1. Автор: Rajat Chauhan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Ultra low phase noise frequency synthesizer

Номер патента: US09762251B2. Автор: Tal I. Lavian,Yekutiel Josefsberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Self-adaptive, ultra-low elastic modulus shape memory alloys

Номер патента: US09752219B2. Автор: Ji Ma,Ibrahim KARAMAN. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2017-09-05.

Ultra low phase noise frequency synthesizer

Номер патента: US09705511B2. Автор: Tal I. Lavian,Yekutiel Josefsberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-11.

Dehydrofluorination of pentafluoroalkanes to form tetrafluoroolefins

Номер патента: US09492816B2. Автор: Philippe Bonnet,Maher Y. Elsheikh,Benjamin Bin Chen,Olga C. N. Keeley. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Hydrocracking process for the production of ultra low sulfur diesel

Номер патента: US7005057B1. Автор: Tom N. Kalnes. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2006-02-28.

Ultra low density thermally clad microspheres

Номер патента: CA2570832C. Автор: Richard F. Clark,Richard W. Johnston. Владелец: Henkel Corp. Дата публикации: 2014-02-04.

Chlorinated linear ultra low density polyethylene

Номер патента: CA1240448A. Автор: Kazuo Matsuura,Junichi Watanabe,Shigeki Yokoyama,Noboru Yamaoka,Kozo Misumi,Seiji Kadomatsu. Владелец: Osaka Soda Co Ltd. Дата публикации: 1988-08-09.

Image forming apparatus and method to form an invisible image and a visible image in a multi-pass simplex manner

Номер патента: US11754959B2. Автор: Yasuhiro Fujiwara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

System and Method for Optimizing Playlist Information for Ultra Low Latency Live Streaming

Номер патента: US20210044874A1. Автор: Jonathan James Valliere. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-02-11.

Image forming apparatus and method to form an invisible image and a visible image in a multi-pass simplex manner

Номер патента: US20230350332A1. Автор: Yasuhiro Fujiwara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

System and method for optimizing playlist information for ultra low latency live streaming

Номер патента: US10805695B1. Автор: Jonathan James Valliere. Владелец: Look At Me Inc. Дата публикации: 2020-10-13.

System and method for optimizing playlist information for ultra low latency live streaming

Номер патента: US10993000B2. Автор: Jonathan James Valliere. Владелец: Look At Me Inc. Дата публикации: 2021-04-27.

Wide area ultra-low pressure monitoring system

Номер патента: US20170238071A1. Автор: Bradford Charles Schwie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-17.

Method of labeling amine-containing compounds with a metal

Номер патента: WO1986003010A1. Автор: Ernest Karel Jacob Pauwels,Rolf Ide Johannes Feitsma. Владелец: Academisch Ziekenhuis Leiden. Дата публикации: 1986-05-22.

Ultra-Low Petroleum Plastics

Номер патента: US20150267040A1. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holdings Co. Дата публикации: 2015-09-24.

Apparatus and method for encoding video with ultra-low latency

Номер патента: US20240098132A1. Автор: Sang Hoon Lee,Soo Hyun Park,Hack Kyung KIM. Владелец: QUOPIN CO Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Ultra-low petroleum plastics

Номер патента: US20120214915A1. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holdings Co. Дата публикации: 2012-08-23.

Ultra-low petroleum plastics

Номер патента: EP1907463A2. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holding Co. Дата публикации: 2008-04-09.

Ultra-low petroleum plastics

Номер патента: WO2007005783A2. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holding Company. Дата публикации: 2007-01-11.

Ultra-low petroleum plastics

Номер патента: CA2614175A1. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-11.

Ultra-low petroleum plastics

Номер патента: US9080037B2. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holdings Co. Дата публикации: 2015-07-14.

Ultra-Low Petroleum Plastics

Номер патента: US20180208747A1. Автор: Felix A. Dimanshteyn,Richard J. Barone. Владелец: American Thermal Holdings Co. Дата публикации: 2018-07-26.

Ultra-low latency telecommunications system

Номер патента: SG11201907274QA. Автор: Jaime Reed. Владелец: Airbus Defence & Space Ltd. Дата публикации: 2019-09-27.

Ultra low power thermally-actuated oscillator and driving circuit thereof

Номер патента: US20160336941A1. Автор: Sheng-Shian Li,Cheng-Chi Chen,Kuan-Hsien LEE. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2016-11-17.

Method and apparatus for selecting devices to form a community

Номер патента: EP2647225A1. Автор: Philip Ginzboorg,Sami Virtanen,Mikko Tirronen,Kari Leppänen,Markku Tapio Turunen. Владелец: Nokia Oyj. Дата публикации: 2013-10-09.

Method to form axisymmetric magnesium article by forging and flow-forming process

Номер патента: US11766713B2. Автор: Henry Zhan,Congjie Wang. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2023-09-26.

Methods and apparatus related to forming and/or managing a group of devices

Номер патента: WO2020007126A1. Автор: Yan Li,Lu Gao,Yiqing Cao. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2020-01-09.

Finite rank deep kernel learning with linear computational complexity

Номер патента: US20240256871A1. Автор: Ji Chen,Debasish Das,Sricharan Kallur Palli Kumar,Sambarta Dasgupta. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Revetment block mat with linear sides

Номер патента: US09499950B1. Автор: Lee A. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-22.

Reduced-pressure dressings, systems, and methods for use with linear wounds

Номер патента: CA3048819C. Автор: Timothy Mark Robinson,Colin John Hall,Tyler Simmons. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2022-03-15.

Microplate reader with linear variable filter

Номер патента: US09733124B2. Автор: Markus Schappacher. Владелец: BMG Labtech GmbH. Дата публикации: 2017-08-15.

Revetment block mat using toe blocks with linear sides

Номер патента: US9605389B1. Автор: Lee A. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-28.

Finite rank deep kernel learning with linear computational complexity

Номер патента: AU2020325094B2. Автор: Ji Chen,Debasish Das,Sambarta Dasgupta,Sricharan KUMAR. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2023-01-05.

Finite rank deep kernel learning with linear computational complexity

Номер патента: CA3119533C. Автор: Ji Chen,Debasish Das,Sambarta Dasgupta,Sricharan KUMAR. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Finite rank deep kernel learning with linear computational complexity

Номер патента: US11977978B2. Автор: Ji Chen,Debasish Das,Sambarta Dasgupta,Sricharan KUMAR. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Ultra-low frequency acoustic absorber

Номер патента: US20240185822A1. Автор: Ping Sheng,Xiaonan Zhang,Zhen DONG,Ho Yiu MAK. Владелец: Hong Kong University of Science and Technology HKUST. Дата публикации: 2024-06-06.

Structured lighting microscopy with linear scanning

Номер патента: RU2736104C1. Автор: Минхао ГО. Владелец: Иллюмина, Инк.. Дата публикации: 2020-11-11.

Heat sealing mechanism with linearly movable seal bars

Номер патента: US5080747A. Автор: Scott J. Veix. Владелец: Kloeckner Bartelt Inc. Дата публикации: 1992-01-14.

Thermoforming machine with linear recirculation of sheet holding frames

Номер патента: US5980231A. Автор: Albert W. Arends,Victor L. Chun,Roland Karklin. Владелец: Brown Machine Company of Michigan Inc. Дата публикации: 1999-11-09.

Ai-enabled ultra-low-dose ct reconstruction

Номер патента: US20240290014A1. Автор: Ge Wang,Chuang NIU,Weiwen Wu. Владелец: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-29.

Valve with linear drive

Номер патента: RU2766658C1. Автор: Андрей Леонидович Кузнецов. Владелец: Андрей Леонидович Кузнецов. Дата публикации: 2022-03-15.

Failsafe apparatus for use with linear actuators

Номер патента: US8979063B2. Автор: Ross Arthur Schade. Владелец: FISHER CONTROLS INTERNATIONAL LLC. Дата публикации: 2015-03-17.

Immersive gallery with linear scroll

Номер патента: US11789602B1. Автор: Jinha Lee,Peter Ng,Anand Agarawala,Wonkee KiM. Владелец: Spatial Systems Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Immersive gallery with linear scroll

Номер патента: US20230333727A1. Автор: Jinha Lee,Peter Ng,Anand Agarawala,Wonkee KiM. Владелец: Spatial Systems Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Ultra low frequency tag and system

Номер патента: WO2006088806A3. Автор: John Stevens,Paul Waterhouse,Jason August,Michael Vandenberg,Ken C Truong. Владелец: Ken C Truong. Дата публикации: 2007-04-19.

Ultra low power apparatus and method to wake up a main processor

Номер патента: US09430024B2. Автор: Changryong HEO,Yongyi Kim,Kenhyung Park,Kiyeon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-30.

Flat blank to form rigid cigarette packs

Номер патента: RU2257124C2. Автор: Фьоренцо ДРАГЕТТИ,Сильвано БОРИАНИ. Владелец: Г.Д С.П.А.. Дата публикации: 2005-07-27.

Form device and method to form groove during casting of structural element

Номер патента: RU2496956C2. Автор: Хуберт ФРИТЧИ. Владелец: Шок Баутайле Гмбх. Дата публикации: 2013-10-27.

Set of panels for floor boarding with linear pattern

Номер патента: RU2370603C2. Автор: Герхард ДЮРНБЕРГЕР. Владелец: Кайндль Флоринг Гмбх. Дата публикации: 2009-10-20.

Transport control system with linear motor drive

Номер патента: CA1235194A. Автор: Tomoyuki Kashiwazaki,Yoshitaka Murakawa,Kazumasa Moriya,Hiroshi Kawashima,Kazuyoshi Okawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-04-12.

Mobile continuous mixing apparatus with linearly aligned feed belts

Номер патента: US11833714B2. Автор: Tirso Chavez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-05.

Optical scanning microscope with linear scanning

Номер патента: US20060012868A1. Автор: Ralf Wolleschensky. Владелец: Carl Zeiss Jena GmbH. Дата публикации: 2006-01-19.

Rack with linear guide

Номер патента: US20070144992A1. Автор: Hsin-Yueh Chen. Владелец: I Jang Ind Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Optical scanning microscope with linear scanning

Номер патента: US7388713B2. Автор: Ralf Wolleschensky. Владелец: Carl Zeiss Jena GmbH. Дата публикации: 2008-06-17.

一种晶圆low-k膜激光开槽设备

Номер патента: CN113894433. Автор: 张伟,巩铁建,陶为银,蔡正道,闫兴,鲍占林. Владелец: Henan General Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-07.

一种晶圆low-k膜激光开槽设备

Номер патента: CN113894433A. Автор: 张伟,巩铁建,陶为银,蔡正道,闫兴,鲍占林. Владелец: Henan General Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-07.

Ultra low power solid state spectral radiometer

Номер патента: US09945722B2. Автор: Robert J. Walters,Phillip P. Jenkins,Raymond Hoheisel,David A. Scheiman,Justin R. Lorentzen. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2018-04-17.

Ultra-low power bias current generation and utilization in current and voltage source and regulator devices

Номер патента: US09921600B1. Автор: Ali Tasdighi Far. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-20.

Co-emulsification of insoluble compounds with toner resins

Номер патента: US09625840B2. Автор: Ke Zhou,Guerino Sacripante,Kimberly D Nosella,Sonja Hadzidedic. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Ultra-low power bias current generation and utilization in current and voltage source and regulator devices

Номер патента: US09519304B1. Автор: Ali Tasdighi Far. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-13.

Gear to form polarizer, device for local removal of polarizer film and production line to form polarizers

Номер патента: RU2226285C2. Автор: Ю.А. Бобров. Владелец: ОПТИВА, Инк.. Дата публикации: 2004-03-27.

Method and system for impregnating fibres to form prepreg

Номер патента: RU2680505C1. Автор: Шоун ДЖАНКЕР,Ларри РЕЙНОЛДС. Владелец: Сайтек Индастриз Инк.. Дата публикации: 2019-02-21.

Serial printer with linear motor drive

Номер патента: CA1075631A. Автор: Joseph P. Pawletko,Hi D. Chai. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1980-04-15.

Ai-enabled ultra-low-dose ct reconstruction

Номер патента: WO2022266406A1. Автор: Ge Wang,Chuang NIU,Weiwen Wu. Владелец: Niu chuang. Дата публикации: 2022-12-22.

Refresh-free ultra low power pseudo DRAM

Номер патента: US6826105B2. Автор: Chih-Hsien Wang,Doung-Her Tsai. Владелец: Brilliance Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-11-30.

Memory compiler with ultra low power feature and method of use

Номер патента: US20050149891A1. Автор: Hung-jen Liao,Ruei-chin Luo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-07-07.

Method for bending a vinyl floor plank to form a stair nose plank

Номер патента: US11982090B2. Автор: Asaad Alkhafaji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-14.

Image forming apparatus having a groove forming part to form a groove on a base member

Номер патента: US09892349B2. Автор: Kunihiko Sato,Kosuke Yamada. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Freezer, in particular ultra-low temperature freezer

Номер патента: US09835370B2. Автор: Sung-Han Jung,Erik Zamirowski. Владелец: Eppendorf SE. Дата публикации: 2017-12-05.

Method for shaping an essentially flat-surfaced blank to form a shell body and use thereof

Номер патента: US09468965B2. Автор: Wulf Radtke. Владелец: MT AEROSPACE AG. Дата публикации: 2016-10-18.

Recirculate and filter air to form air barrier in image forming apparatus

Номер патента: US09409420B2. Автор: Kevin Lo,Steve A. O'Hara,Christie Dyan LARSON. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2016-08-09.

Structures and methods of testing them with linear microphones

Номер патента: US4747309A. Автор: Robert J. Weir. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1988-05-31.

Liquid level sender with linear float

Номер патента: CA1309316C. Автор: Frank C. Weaver. Владелец: Stewart Warner Corp. Дата публикации: 1992-10-27.

Methods and systems for maintaining cargo at an ultra-low temperature over an extended period of time

Номер патента: US11813925B2. Автор: Lars I. Sjoholm. Владелец: Thermo King Llc. Дата публикации: 2023-11-14.

Ultra-low temperature medium pressure forming method for complex curved-shaped components

Номер патента: US20220161308A1. Автор: Xiaobo Fan,Shijian YUAN. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2022-05-26.

Low moat volume single mode ultra-low loss fiber

Номер патента: US20220187531A1. Автор: Snigdharaj Kumar Mishra,Peter Gottfried Hebgen,Hazel Benton Matthews, III. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Low moat volume single mode ultra-low loss fiber

Номер патента: EP4260108A1. Автор: Snigdharaj Kumar Mishra,Peter Gottfried Hebgen,Hazel Benton Matthews, III. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-10-18.

Driving mechanism with linear clamp for rotatable ring on camera lens

Номер патента: US11586004B1. Автор: Peng-Cheng Lai. Владелец: Ortery Technologies Inc USA. Дата публикации: 2023-02-21.

Deep learning super-resolution training for ultra low-field magnetic resonance imaging

Номер патента: US20240215927A1. Автор: Hung-Yu Lin. Владелец: Neuro42 Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Deep learning super-resolution training for ultra low-field magnetic resonance imaging

Номер патента: WO2024145104A1. Автор: Hung-Yu Lin. Владелец: Neuro42 Inc.. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and method to form hollow containers

Номер патента: EP3976343A1. Автор: Moreno Minghetti,Roberto Mentini,Antonio Martina. Владелец: Alphamac Srl. Дата публикации: 2022-04-06.

Apparatus and method to form hollow containers

Номер патента: CA3142140A1. Автор: Moreno Minghetti,Roberto Mentini,Antonio Martina. Владелец: Alphamac Srl. Дата публикации: 2020-12-03.

Measuring power consumption of ciruit component operating in ultra-low power mode

Номер патента: US20150028887A1. Автор: Ingar Hanssen. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Refresh-free ultra low power pseudo dram

Номер патента: US20040042273A1. Автор: Chih-Hsien Wang,Doung-Her Tsai. Владелец: Brilliance Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-03-04.

Fabrication Materials and Processes Useful To Form Structures in Soft Materials

Номер патента: US20240253108A1. Автор: Subramanian Sundaram,Christopher S. Chen. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2024-08-01.

Apparatus and method to form hollow containers

Номер патента: US12064914B2. Автор: Moreno Minghetti,Roberto Mentini,Antonio Martina. Владелец: Alphamac Srl. Дата публикации: 2024-08-20.

Fabrication materials and processes useful to form structures in soft materials

Номер патента: WO2024159025A1. Автор: Subramanian Sundaram,Christopher S. Chen. Владелец: TRUSTEES OF BOSTON UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-08-02.

System to Form Repeatable Shaped Slugs From a Plastic Bottle

Номер патента: US20090255421A1. Автор: Sagi Koren,Motty Chen. Владелец: Recise Ltd. Дата публикации: 2009-10-15.

Sample storage cassette for ultra-low or cryogenic temperatures

Номер патента: WO2012033994A3. Автор: Julian Warhurst,Frank Hunt,ROBERT CLOUTIER,Bruce Zandi. Владелец: HAMILTON STORAGE TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-12-13.

A system to form a chain

Номер патента: WO2002053308A1. Автор: Hans Gustav Erik Wahlbeck. Владелец: Hans Gustav Erik Wahlbeck. Дата публикации: 2002-07-11.

Apparatus, Composition, and Method to form an Image on a Substrate

Номер патента: US20080035268A1. Автор: Rick Duarte. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-14.

Apparatus, composition, and method to form an image on a substrate

Номер патента: WO2006086625A9. Автор: Rick Duarte. Владелец: Rick Duarte. Дата публикации: 2006-12-07.

Ultra-low profile aerostatic bearing and the method of manufacturing the same

Номер патента: US12110921B2. Автор: Shien Yang LEE. Владелец: Akribis Systems PTE LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Stackable storage tray adaptable to form an enclosed box

Номер патента: US09815588B2. Автор: Douglas B. Clark. Владелец: Clarkwerks LLC. Дата публикации: 2017-11-14.

Baling device and method to form bales of crop material

Номер патента: US09756789B2. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren. Владелец: Lely Patent NV. Дата публикации: 2017-09-12.

Blank configured to form a package and related package and method

Номер патента: US09738049B2. Автор: Jerry Wayne Pipes,Wesley Steven Jones. Владелец: RJ Reynolds Tobacco Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for fracking wells using a packer to form primary and secondary fracs and seal intervals for hydraulic fracturing

Номер патента: US09664024B2. Автор: Henry A. Baski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-30.

Measuring power consumption of circuit component operating in ultra-low power mode

Номер патента: US09470725B2. Автор: Ingar Hanssen. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Methods to form and to dismantle hermetically sealed chambers

Номер патента: US09440424B2. Автор: Raymond Miller Karam,Thomas Wynne,Anthony Thomas Chobot. Владелец: Picosys Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Multilayer material to form containers

Номер патента: RU2600365C2. Автор: Тиерри МАУРИС,Джон САТЕР,Роберт МИСКЕВИЧ. Владелец: Албеа Сервисез. Дата публикации: 2016-10-20.

Efficient ultra low drop out power regulator

Номер патента: US5736843A. Автор: Dilip A. Amin. Владелец: Silicon Graphics Inc. Дата публикации: 1998-04-07.

Improved Method of and Apparatus for Twisting Wires and the like and Assembling them to Form Rings.

Номер патента: GB124215A. Автор: Alphonso Comstock Pratt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1920-03-04.

Ultra-low pollutant emission combustion method and apparatus

Номер патента: US5158445A. Автор: Mark J. Khinkis. Владелец: Institute of Gas Technology. Дата публикации: 1992-10-27.

Methods and system for treating human body part with ultra-low magneto-electric field

Номер патента: US20230293902A1. Автор: PV Shyam Sunder. Владелец: Aether Mindtech Solutions Private Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Ultra-Low Power, Ultra High Thruput (ULTRA2) ASIC-based Cognitive Processor

Номер патента: US20160125606A1. Автор: Medhat Azzazy,James W. Justice,Virgillio Villacorta,Xuemin Chi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-05-05.

Ultra-low idle management

Номер патента: EP3812569A1. Автор: Patrick Keller,Brent M. Hunold,Justin J. URBANEK,Justin E. Fritz. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2021-04-28.

Methods and system for treating human body part with ultra-low magneto-electric field

Номер патента: WO2023175635A1. Автор: PV Shyam Sunder. Владелец: Aether Mindtech Solutions Private Limited. Дата публикации: 2023-09-21.

Ultra-low temperature storage and dispensing system

Номер патента: WO2022156002A1. Автор: Jun Chen,Kwan Chung Jonathan LAU. Владелец: Alpha International Health Solution Limited. Дата публикации: 2022-07-28.

Forming method to form a group of smoking articles and respective forming device

Номер патента: EP4365093A1. Автор: Roberto Polloni,Michele Squarzoni. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2024-05-08.

一种晶圆激光low-k设备旋转涂胶真空载台

Номер патента: CN218655292U. Автор: 张伟,巩铁建,陶为银,蔡正道,闫兴,乔赛赛,鲍占林. Владелец: Henan General Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-21.

一种晶圆激光low-k设备旋转涂胶真空载台

Номер патента: CN115106262A. Автор: 张伟,巩铁建,陶为银,蔡正道,闫兴,乔赛赛,鲍占林. Владелец: Henan General Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-27.

晶圆激光low-k设备旋转涂胶真空转接装置

Номер патента: CN114589073A. Автор: 张伟,巩铁建,陶为银,蔡正道,闫兴,乔赛赛,鲍占林. Владелец: Henan General Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Ultra-low temperature rotator apparatus

Номер патента: WO2022195298A1. Автор: Anthony Matthews,Ben BRYANT. Владелец: Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited. Дата публикации: 2022-09-22.

Method for granting form operation authority respectively according to form field values

Номер патента: EP3651094A1. Автор: Dazhi Chen. Владелец: Chengdu Qianniucao Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Systems and methods of determining margins of an image for content insertion to form a composite image

Номер патента: US20240112304A1. Автор: Jessica Lundin,Michael Sollami. Владелец: Salesforce Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

一种晶圆low-k膜激光开槽设备

Номер патента: CN219597148U. Автор: 苏文华,苏佳莹. Владелец: Zhejiang Dashi Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

System for bonding layers comprising fibers to form a nonwoven web

Номер патента: US12043933B2. Автор: Dennis Latendorf,Jean-Michel Ugnon-Coussioz. Владелец: ANDRITZ KUESTERS GMBH. Дата публикации: 2024-07-23.

Processing method for data which is combined to form a plurality of data records, using a plurality of applications

Номер патента: US20040040027A1. Автор: Gerold Herold. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2004-02-26.

Method for bonding two fiber composite components with each other to form a fiber composite structure

Номер патента: EP4238743A1. Автор: Peter Linde,Norbert Heltsch. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2023-09-06.

Semiconductor Device Including Ultra Low-K (ULK) Metallization Stacks with Reduced Chip-Package Interaction

Номер патента: US20120001323A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Low k dielectric gapfill

Номер патента: WO2024129962A1. Автор: Dennis M. Hausmann,Bart J. van Schravendijk,Joel David Smith,Michael David GALLUZZO. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Folding bicycle with linear pedaling

Номер патента: RU2494910C1. Автор: Сергей Николаевич Лукьянов. Владелец: Сергей Николаевич Лукьянов. Дата публикации: 2013-10-10.

Methods for preparing basic aluminium compounds with ultrasound

Номер патента: IE80671B1. Автор: Jawahar C Parekh,Vijay K Joshi. Владелец: Reheis Inc. Дата публикации: 1998-11-18.

一种具有high-k/low-k复合介质结构的AlGaN/GaN HEMT及制备方法

Номер патента: CN117747657A. Автор: 古佳茜. Владелец: Shenzhen Sirius Semiconductor Co ltd. Дата публикации: 2024-03-22.

一种具有high-k/low-k复合介质结构的AlGaN/GaN HEMT及制备方法

Номер патента: CN117747657B. Автор: 古佳茜. Владелец: Shenzhen Sirius Semiconductor Co ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

一种具有high-k/low-k复合介质结构的AlGaN/GaN HEMT及制备方法

Номер патента: CN117747657. Автор: 古佳茜. Владелец: Shenzhen Sirius Semiconductor Co ltd. Дата публикации: 2024-03-22.

Recumbent bicycle with linear drive

Номер патента: RU2449914C1. Автор: Сергей Николаевич Лукьянов. Владелец: Сергей Николаевич Лукьянов. Дата публикации: 2012-05-10.

Improvements in or relating to forming apparatus

Номер патента: NZ551222A. Автор: Andrew Leo Haynes,Christopher John Nicholls,Samuel Gwynn Buckingham,Gabriel Ioan Girdiu. Владелец: Andrew Leo Haynes. Дата публикации: 2008-07-31.

Dual transducer assembly with linear adjustment

Номер патента: CA1243777A. Автор: John H. Miller, Iii. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1988-10-25.

ULTRA LOW-POWER CMOS BASED BIO-SENSOR CIRCUIT

Номер патента: US20120001614A1. Автор: Zafar Sufi,Bansal Aditya. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Bicycle with linear drive

Номер патента: RU2400391C2. Автор: Сергей Николаевич Лукьянов. Владелец: Сергей Николаевич Лукьянов. Дата публикации: 2010-09-27.

Method for producing hot rolled commercial and conversion tubes of large- and mean-diameters of hard-to-form steels and alloys in tube rolling plants with pilger mills

Номер патента: RU2306991C2. Автор: Александр Анатольевич Федоров,Леонид Игнатьевич Лапин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Кирилл Николаевич Никитин,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Александр Юрьевич Матюшин,Валерий Александрович Головинов,Сергей Васильевич Ненахов,Николай Григорьевич Дановский,Борис Семёнович Литвак,Исаак Иосифович Вольберг,Рашид Фасхеевич Нугумонов,Игорь Александрович Романцов,Валерий Александрович Логовиков,нов Анатолий Васильевич Сафь (RU),Валентин Иреклеевич Тазетдинов (RU),Исаак Иосифович Вольберг (RU),Леонид Игнатьевич Лапин (RU),Сергей Васильевич Ненахов (RU),Игорь Александрович Романцов (RU),Валерий Александрович Головинов (RU),Кирилл Николаевич Никитин (RU),Александр Анатольевич Федоров (RU),Николай Григорьевич Дановский (RU),Борис Семенович Литвак (RU),Александр Юрьевич Матюшин (RU),Валерий Александрович Логовиков (RU),Рашид Фасхеевич Нугумонов (RU). Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2007-09-27.

一种超窄切割道low-k介质晶圆激光开槽装置

Номер патента: CN220296142U. Автор: 陈松涛,田耕,董和平,何在田. Владелец: Zhengzhou Rtit Research Institute. Дата публикации: 2024-01-05.

Head for attachment to a Fish to form a Fishing Lure and a Method of forming a Lure Head

Номер патента: AU2017203893B2. Автор: David Malcolm Stephens. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-06.

一种Low-K wafer结构

Номер патента: CN215220699U. Автор: 徐烨锋,王红晓,王修垒. Владелец: Beijing CEC Huada Electronic Design Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-17.

Method for manufacturing ultra low carbon steel by ingot techniques using vacuum-degassing system

Номер патента: PH12012000154A1. Автор: Yokoyama Hideki. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2015-11-09.

Method for granting form operation authority respectively according to form field values.

Номер патента: OA19383A. Автор: Dazhi Chen. Владелец: CHENGDU QIANNIUCAO INFORMATION TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2020-07-31.

Improvements in or relating to Means for Uniting a Pair of Bicycles to Form a Quadricycle.

Номер патента: GB190412783A. Автор: Charles Herbert Nicholas. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-04-13.

low-k芯片的封装结构及其制造方法

Номер патента: CN103681605A. Автор: 张海洋,王冬江. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2014-03-26.

Improvements in the Joining of Geometrical Blocks to Form Composite Objects or Toy Structures.

Номер патента: GB190315778A. Автор: Theodor Koch. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-09-03.