ETCHING GAS COMPOSITIONS, METHODS OF FORMING MICROPATTERNS, AND METHODS OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

29-09-2022 дата публикации

Номер:

US20220310407A1

Автор: CHO Byeongok, CHUNG Wonwoong, Jeong Heonjong, KIM Dohoon, KIM Taehyung, KIM Younglae, PARK Heejun, SONG Handuck

Принадлежит: Wonik Materials

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

C C0 C09 C09K C09K1 C09K13 C09K13/C09K13/0 C09K13/00 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/3 H01L21/31 H01L21/311 H01L21/3111 H01L21/31111 H01L21/4 H01L21/46 H01L21/467

IPC - классификация

C C0 C09 C09G C09G1 C09G1/C09G1/0 C09G1/02 C09K C09K1 C09K13 C09K13/C09K13/0 C09K13/08 H H0 H01 H01L H01L2 H01L29 H01L29/H01L29/7 H01L29/78 H01L29/786 H01L29/7869

Получить PDF