Plasma reactor with tiltable overhead rf inductive source
Номер патента: US20110048644A1
Опубликовано: 03-03-2011
Автор(ы): Andrew Nguyen, Imad Yousif, Kenneth S. Collins, Martin Jeffrey Salinas, Ming Xu
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-03-2011
Автор(ы): Andrew Nguyen, Imad Yousif, Kenneth S. Collins, Martin Jeffrey Salinas, Ming Xu
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Compound plasma reactor
Номер патента: KR101615492B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2016-04-26.