• Главная
  • Plasma reactor with tiltable overhead rf inductive source

Plasma reactor with tiltable overhead rf inductive source

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Compound plasma reactor

Номер патента: KR101615492B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2016-04-26.

Plasma reactor using multi-frequency

Номер патента: KR101572100B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2015-11-26.

Plasma reactor

Номер патента: US12087548B2. Автор: Kuan YANG,Leyi Tu,Rubin Ye. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma reactor and etching method using the same

Номер патента: US20110155694A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM,KwangMin Lee,Hyeokjin Jang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-30.

Plasma reactor

Номер патента: US20030000646A1. Автор: Satoshi Ogino,Takahiro Maruyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Center gas feed apparatus for a high density plasma reactor

Номер патента: US6027606A. Автор: Mei Chang,Kenneth Collins,Raymond Hung,John Mohn,Ru-Liang Julian Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-22.

Dual plasma reactor having multi-frequency drive capacitively coupled electrode assembly

Номер патента: KR101533710B1. Автор: 위순임. Владелец: 에프원소프트 주식회사. Дата публикации: 2015-07-06.

Metal and metal silicide nitridization in a high density, low pressure plasma reactor

Номер патента: EP1016130A1. Автор: Ching-Hwa Chen,Yun-Yen Jack Yang,Yea-Jer Arthur Chen. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Plasma reactor with enhanced plasma uniformity by gas addition, and method of using same

Номер патента: US5744049A. Автор: Yuh-Jia Su,Graham W. Hills. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-04-28.

Plasma reactor with perforated plasma confinement ring

Номер патента: EP1149403B1. Автор: Lumin Li,George Mueller. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-06-29.

Plasma reactor and etching method using the same

Номер патента: TW201133610A. Автор: Kwang-Min Lee,Sung-Yong Ko,Min-Shik Kim,Hwan-Kook Chae,Weon-Mook Lee,Kun-Joo Park,Keehyun KIM,Hyeok-Jin Jang. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-01.

An RF plasma reactor

Номер патента: TW473808B. Автор: Peter Loewenhardt,Gerald Zheyao Yin,Philip Salzman,Allen Zhao,Diana Xiabing Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-01-21.

Plasma reactor having plasma chamber coupled with magnetic flux channel

Номер патента: KR100743842B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2007-08-01.

Inductively coupled dual plasma reactor with multi laser scanning line

Номер патента: KR101413761B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2014-07-01.

Inductively coupled dual plasma reactor with multi laser scanning line

Номер патента: KR20090071040A. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2009-07-01.

Plasma reactor having multi discharging chamber

Номер патента: KR100793457B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2008-01-14.

A high density plasma reactor

Номер патента: EP1627413A2. Автор: Eric Chevalier,Philippe Guittienne. Владелец: Helyssen Sarl. Дата публикации: 2006-02-22.

Hybrid coupled plasma reactor with icp and ccp functions

Номер патента: KR100777151B1. Автор: 이원묵. Владелец: 주식회사 디엠에스. Дата публикации: 2007-11-16.

Inductively coupled plasma reactor with core cover

Номер патента: KR101349195B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2014-01-09.

Hybrid plasma reactor

Номер патента: US20130154480A1. Автор: Dae-Kyu Choi. Владелец: Dae-Kyu Choi. Дата публикации: 2013-06-20.

EXTREME EDGE AND SKEW CONTROL IN ICP PLASMA REACTOR

Номер патента: US20150181684A1. Автор: BANNA SAMER,KNYAZIK VLADIMIR,TANTIWONG KYLE. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

Flat type Plasma Reactor

Номер патента: KR100776616B1. Автор: 김석준,송영훈,이재옥,이대훈,김관태,차민석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2007-11-15.

Plasma reactor for eco-friendly processing

Номер патента: KR101589624B1. Автор: 허민,이재옥,강우석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2016-01-28.

Magnetically enhanced plasma reactor

Номер патента: KR101585894B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2016-01-15.

Enhanced inductively coupled plasma reactor

Номер патента: KR100311234B1. Автор: 오범환,김철호,정재성,박세근. Владелец: 학교법인 인하학원. Дата публикации: 2001-11-02.

Plasma reactors for processing semiconductor wafers

Номер патента: DE69628903D1. Автор: Gerald Zheyao Yin,Philip M Salzman,Peter K Loewenhardt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-07.

A method of operating a dual chamber reactor with neutral density decoupled from ion density

Номер патента: WO2001080290A3. Автор: John Holland,Songlin Xu,Xueyu Qian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-04-04.

A method of operating a dual chamber reactor with neutral density decoupled from ion density

Номер патента: WO2001080290A2. Автор: John Holland,Songlin Xu,Xueyu Qian. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-10-25.

Low pressure plasma reactor for exhaust gas treatment

Номер патента: KR101557880B1. Автор: 노명근,문경순,고경오. Владелец: (주)클린팩터스. Дата публикации: 2015-10-13.

Dual-frequency capacitively-coupled plasma reactor for materials processing

Номер патента: US5656123A. Автор: Siamak Salimian,Lumin Li,Carol M. Heller. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1997-08-12.

Inductively coupled high density plasma reactor for plasma assisted materials processing

Номер патента: US5540800A. Автор: Xueyu Qian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-07-30.

Pre-loaded plasma reactor apparatus and application thereof

Номер патента: TW200501834A. Автор: Mark Charles Hakey,Siddhartha Panda,Richard Wise,Bomy-A Chen. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2005-01-01.

Pre-loaded plasma reactor apparatus and application thereof

Номер патента: TWI306363B. Автор: Mark Charles Hakey,Siddhartha Panda,Richard Wise,Bomy A Chen. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2009-02-11.

Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor

Номер патента: US20040002221A1. Автор: John Daugherty,Robert O'Donnell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-01.

Thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor

Номер патента: KR101030935B1. Автор: 오도넬로버트제이.,도어티존이.. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2011-04-28.

Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor

Номер патента: TW200412827A. Автор: John E Daugherty,Donnell Robert J O'. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-07-16.

Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor

Номер патента: US20050150866A1. Автор: John Daugherty,Robert O'Donnell. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-07-14.

High density plasma reactor

Номер патента: KR20010112958A. Автор: 정순빈,정보신. Владелец: 황 철 주. Дата публикации: 2001-12-24.

High magnetic field plasma reactor

Номер патента: KR930008976A. Автор: 엠. 쿠크 조얼,알. 트로우 존. Владелец: 제임스 조셉 드롱. Дата публикации: 1993-05-22.

Plasma reactor with adjustable plasma electrodes and associated methods

Номер патента: US20130164941A1. Автор: Daniel Harrington. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2013-06-27.

Low ceiling temperature process for a plasma reactor with heated source of a polymer-hardening precursor material

Номер патента: WO1999036931A2. Автор: Jian Ding. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Plasma reactor with reduced reaction chamber

Номер патента: WO2002033729A3. Автор: Steven T Fink. Владелец: Steven T Fink. Дата публикации: 2002-08-01.

Plasma reactor with reduced reaction chamber

Номер патента: US20030209324A1. Автор: Steven Fink. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-11-13.

Plasma reactor with electrode filaments

Номер патента: WO2018200404A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Michael R. Rice,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-01.

Multi-zone temperature control plasma reactor

Номер патента: US12094695B2. Автор: Mei Rui,Zhou Xiaofeng,Steven Lee,Tuqiang Ni,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma reactor chuck assembly

Номер патента: US4547247A. Автор: Ninko T. Mirkovich,Douglas H. Warenback,Thomas M. Rathmann. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Plasma reactor having a function of tuning low frequency RF power distribution

Номер патента: US11830747B2. Автор: Hiroshi Iizuka,Kui Zhao. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Oxygen scavenging in a plasma reactor

Номер патента: US5254216A. Автор: Gabriel G. Barna,James G. Frank. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1993-10-19.

System for tunable workpiece biasing in a plasma reactor

Номер патента: WO2018144374A1. Автор: Philip Allan Kraus,Leonid Dorf,Travis Koh,Prabu GOPALRAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-08-09.

System for tunable workpiece biasing in a plasma reactor

Номер патента: US20210134561A1. Автор: Philip Allan Kraus,Leonid Dorf,Travis Koh,Prabu GOPALRAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-05-06.

Electrostatic chuck assembly for plasma reactor

Номер патента: US20100110605A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Plasma reactor for passivating a substrate

Номер патента: EP1016134B1. Автор: Changhun Lee,Vikram Singh,Yun-Yen Jack Yang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-02-08.

Troide plasma reactor with magnetic enhancement

Номер патента: US4572759A. Автор: David W. Benzing. Владелец: Benzing Technology Inc. Дата публикации: 1986-02-25.

Methods and apparatus for passivating a substrate in a plasma reactor

Номер патента: TW436914B. Автор: Changhun Lee,Vikram Singh,Yun-Yen Jack Yang. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2001-05-28.

Methods and apparatus for removing photoresist mask defects in a plasma reactor

Номер патента: KR100523365B1. Автор: 수산씨. 아브라함. Владелец: 램 리서치 코포레이션. Дата публикации: 2005-10-20.

Controlled polymerization on plasma reactor wall

Номер патента: US20040084409A1. Автор: Shashank Deshmukh,Thorsten Lill. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-06.

In situ deposition and integration of silicon nitride in a high density plasma reactor

Номер патента: SG93911A1. Автор: Khazeni Kasra,Qiang Hua Zhong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-21.

PLASMA REACTOR WITH CONDUCTIVE MEMBER IN REACTION CHAMBER FOR SHIELDING SUBSTRATE FROM UNDESIRABLE IRRADIATION

Номер патента: US20160020116A1. Автор: LEE Sang In,Lee Ilsong,Yang Hyo Seok. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

Electrical Floating Shield in Plasma Reactor

Номер патента: KR100517474B1. Автор: 페이준 딩,젱 수,지안밍 푸. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2005-12-07.

Inductively Connected High Density Plasma Reactor

Номер патента: KR960002528A. Автор: 키안 주에유. Владелец: 제임스 조셉 드롱. Дата публикации: 1996-01-26.

HF PLASMA REACTOR

Номер патента: FR2808224A1. Автор: Jean Baptiste Chevrier,Jacques Schmitt,Emmanuel Turlot,Jean Barreiro. Владелец: Unaxis Balzers AG. Дата публикации: 2001-11-02.

Dry etching of transparent electrodes in a low pressure plasma reactor

Номер патента: WO1998000874A1. Автор: John P. Holland,Alex T. Demos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-01-08.

Physical vapor deposition plasma reactor with multi source target assembly

Номер патента: KR101583667B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2016-01-08.

Plasma reactor and control method thereof

Номер патента: KR101568722B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2015-11-12.

Plasma reactor with a magnet to protect the electrostatic holder against the plasma

Номер патента: DE69402941T2. Автор: Robert A Chapman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-11-20.

REMOTE PLASMA AND ELECTRON BEAM GENERATION SYSTEM FOR A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20170092467A1. Автор: Dhindsa Rajinder. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

Multi-station plasma reactor with rf balancing

Номер патента: US20160168701A1. Автор: Adrien Lavoie,Karl F. Leeser,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-06-16.

Multi-station plasma reactor with rf balancing

Номер патента: US20180163302A1. Автор: Adrien Lavoie,Karl F. Leeser,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Enhanced plasma source for a plasma reactor

Номер патента: US20140367046A1. Автор: Michael D. Willwerth,Gary Leray,Valentin N. Todorow,Li-Sheng CHIANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-12-18.

Plasma reactor with electrode filaments extending from ceiling

Номер патента: US20180308666A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Michael R. Rice,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

PLASMA REACTOR WITH GROUPS OF ELECTRODES

Номер патента: US20180308667A1. Автор: Collins Kenneth S.,BERA KALLOL,Ramaswamy Kartik,Guo Yue,Rauf Shahid,Carducci James D.,RICE MICHAEL R.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

MULTI-STATION PLASMA REACTOR WITH RF BALANCING

Номер патента: US20150348854A1. Автор: LaVoie Adrien,Leeser Karl F.,Kapoor Sunil,Rangineni Yaswanth. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

Inductively coupled plasma reactor with multi laser scanning line

Номер патента: KR101434145B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2014-08-26.

Multi-station plasma reactor with RF balancing

Номер патента: CN105321792A. Автор: 阿德里安·拉瓦伊,卡尔·F·利泽,苏尼尔·卡普尔,亚斯万斯·兰吉尼. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-02-10.

Plasma reactor having remote plasma generator and supportor

Номер патента: KR101097386B1. Автор: 허노현. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2011-12-23.

Plasma Reactor with Low Frequency RF Power Distribution Adjustment

Номер патента: TWI771541B. Автор: 趙馗,飯塚浩. Владелец: 大陸商中微半導體設備(上海)股份有限公司. Дата публикации: 2022-07-21.

Multi-station plasma reactor with RF balancing

Номер патента: US9840776B2. Автор: Adrien Lavoie,Karl F. Leeser,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

PLASMA REACTOR HAVING A FUNCTION OF TUNING LOW FREQUENCY RF POWER DISTRIBUTION

Номер патента: US20190006155A1. Автор: Ni Tuqiang,Zhao Kui,LIU Shenjian. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-03.

MULTI-ZONE TEMPERATURE CONTROL PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200161104A1. Автор: Ni Tuqiang,Lee Steven,Rin Sha,Xiaofeng Zhou,Rui Mei. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

PLASMA REACTOR HAVING A FUNCTION OF TUNING LOW FREQUENCY RF POWER DISTRIBUTION

Номер патента: US20190206703A1. Автор: Iizuka Hiroshi,Zhao Kui. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-04.

Plasma Reactor and Heating Apparatus Therefor

Номер патента: US20200214087A1. Автор: Ni Tuqiang,Wu Dee,Zhao Kui. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

SYSTEM FOR TUNABLE WORKPIECE BIASING IN A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20180226225A1. Автор: Dorf Leonid,Gopalraja Prabu,KRAUS Philip Allan,Koh Travis. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-09.

Focus ring replacement method for a plasma reactor, and associated systems and methods

Номер патента: US20150340209A1. Автор: Michael E. Koltonski. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

SYSTEM FOR TUNABLE WORKPIECE BIASING IN A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20190348258A1. Автор: Dorf Leonid,Gopalraja Prabu,KRAUS Philip Allan,Koh Travis. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-14.

Plasma reactor for eliminating waste gases and gas scrubber using the same

Номер патента: KR100951631B1. Автор: 김홍진,김익년. Владелец: 김익년. Дата публикации: 2010-04-09.

Gas distribution plate assembly for plasma reactors

Номер патента: US7892357B2. Автор: Aseem K. Srivastava. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2011-02-22.

Plasma reactor for purifying exhaust gas of the process facility

Номер патента: KR101611955B1. Автор: 강경두,노명근,고경오. Владелец: 주식회사 클린팩터스. Дата публикации: 2016-04-12.

Apparatus and method for handling metal parts by plasma reactor

Номер патента: CN105393332B. Автор: C·宾德,G·海姆斯,A·N·克雷恩,R·宾德. Владелец: Whirlpool SA. Дата публикации: 2017-09-29.

Gas distribution plate assembly for plasma reactors

Номер патента: CN1910726A. Автор: A·史利伐斯塔伐. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2007-02-07.

Gas distribution plate assembly for plasma reactors

Номер патента: KR101258287B1. Автор: 아셈 스리바스타바. Владелец: 액셀리스 테크놀로지스, 인크.. Дата публикации: 2013-04-25.

Plasma reactor with tiltable overhead RF inductive source

Номер патента: US09330887B2. Автор: Ming Xu,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-03.

Hybrid plasma reactor

Номер патента: US09451686B2. Автор: Dae-Kyu Choi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma reactor with non-power-absorbing dielectric gas shower plate assembly

Номер патента: US09905400B2. Автор: Qiwei Liang,Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Plasma reactor with voltage transformer

Номер патента: CA1241128A. Автор: Perry A. Diederich. Владелец: PSI Star Inc. Дата публикации: 1988-08-23.

Plasma reactor with inductie excitation of plasma and efficient removal of heat from the excitation coil

Номер патента: US20080050292A1. Автор: Valery Godyak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-28.

Plasma reactor with high selectivity and reduced damage

Номер патента: US6413359B1. Автор: John H. Keller. Владелец: K2 Keller Consulting LLC. Дата публикации: 2002-07-02.

Plasma reactor for inductively coupled plasma and method of assembling the same

Номер патента: US12062528B2. Автор: Min Jae Kim,Jin Ho Bae,Geon Bo SIM,Tae Wook Yoo. Владелец: Lot Ces Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma reactors and method of cleaning a plasma reactor

Номер патента: US5779849A. Автор: Guy Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-14.

Plasma reactors and method of cleaning a plasma reactor

Номер патента: US5514246A. Автор: Guy Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Inductive plasma reactor

Номер патента: US5811022A. Автор: Stephen E. Savas,Brad S. Mattson. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 1998-09-22.

Plasma reactor

Номер патента: EP2399274A1. Автор: Philip John Risby. Владелец: GASPLAS AS. Дата публикации: 2011-12-28.

PLASMA REACTOR WITH ADJUSTABLE PLASMA ELECTRODES AND ASSOCIATED METHODS

Номер патента: US20130164941A1. Автор: Harrington Daniel. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2013-06-27.

Plasma reactor and method for removing photoresist

Номер патента: CA1281439C. Автор: James F. Battey,Perry A. Diederich. Владелец: PSI Star Inc. Дата публикации: 1991-03-12.

Method for shaping a magnetic field in a magnetic field-enhanced plasma reactor

Номер патента: SG144098A1. Автор: Daniel J Hoffman,Roger Alan Lindley,Scott A Hogenson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Plasma reactor magnet with independently controllable parallel axial current-carrying elements

Номер патента: US6015476A. Автор: Ross D. Schlueter,Steve Marks. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-01-18.

Focalized microwave plasma reactor

Номер патента: US11183369B2. Автор: Chih-Chen Chang,Kun-Ping Huang,Yu-Wen Chi. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2021-11-23.

Plasma reactor apparatus

Номер патента: US4209357A. Автор: Georges J. Gorin,Josef T. Hoog. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1980-06-24.

Bonded silicon carbide parts in a plasma reactor

Номер патента: US5910221A. Автор: Robert W. Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-06-08.

Single dielectric barrier non-thermal plasma reactor and method-planar and swept shapes

Номер патента: US20020076366A1. Автор: David Nelson,Bob Li,Blaine Danley. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2002-06-20.

Plasma reactor having a symmetric parallel conductor coil antenna

Номер патента: US6409933B1. Автор: Michael Barnes,John Holland,Valentin N. Todorow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-25.

Plasma reactor with removable insert

Номер патента: HK7495A. Автор: David John Drage. Владелец: Tegal Corp. Дата публикации: 1995-01-27.

Plasma reactor for inductively coupled plasma and method of assembling the same

Номер патента: US20230134862A1. Автор: Min Jae Kim,Jin Ho Bae,Geon Bo SIM,Tae Wook Yoo. Владелец: Lot Ces Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Process for the beneficiation of titaniferous ores utilizing hot wall continuous plasma reactor

Номер патента: US3856918A. Автор: J Skrivan,J Chase. Владелец: American Cyanamid Co. Дата публикации: 1974-12-24.

Plasma Reactor Having Multiple Antenna Structure

Номер патента: US20080210378A1. Автор: Weon-Mook Lee. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-04.

High pressure microwave plasma reactors

Номер патента: WO2024015294A1. Автор: Leslie Bromberg,Kim-Chinh Tran,Jorj Ian OWEN,Jonathan Whitlow. Владелец: Maat Energy Company. Дата публикации: 2024-01-18.

Measurement of plural rf sensor devices in a pulsed rf plasma reactor

Номер патента: US20140232374A1. Автор: Gary Leray. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-08-21.

Magnetron plasma reactor

Номер патента: US4623417A. Автор: John E. Spencer,Duane Carter,Dave Autery. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1986-11-18.

Plasma reactor for etching and coating substrates

Номер патента: US4461237A. Автор: Georg Kraus,Gerhard Kaus,Holger Hinkel,Ulrich Kunzel,Reinhold Muehl. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-24.

Improvements in plasma reactors

Номер патента: US20220044915A1. Автор: John Lionel Brauer. Владелец: OZONE 1 PTY LTD. Дата публикации: 2022-02-10.

Improvements in plasma reactors

Номер патента: EP3900087A1. Автор: John Lionel Brauer. Владелец: OZONE 1 PTY LTD. Дата публикации: 2021-10-27.

Plasma reactors

Номер патента: US11961717B2. Автор: John Lionel Brauer. Владелец: OZONE 1 PTY LTD. Дата публикации: 2024-04-16.

Gas inlet element of a cvd reactor with weight-reduced gas outlet plate

Номер патента: US20160326644A1. Автор: Michael Long,Markus Gersdorff,Baskar Pagadala Gopi. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2016-11-10.

Shunting reactor with mixed excitation (versions)

Номер патента: RU2685221C1. Автор: Илья Николаевич Джус. Владелец: Илья Николаевич Джус. Дата публикации: 2019-04-17.

Shunt reactor with individual phase control

Номер патента: RU2662149C1. Автор: Илья Николаевич Джус. Владелец: Илья Николаевич Джус. Дата публикации: 2018-07-24.

Shunting reactor with combined excitation (versions)

Номер патента: RU2686301C1. Автор: Илья Николаевич Джус. Владелец: Илья Николаевич Джус. Дата публикации: 2019-04-25.

Shunting reactor with compensation-control winding

Номер патента: RU2645752C1. Автор: Илья Николаевич Джус. Владелец: Илья Николаевич Джус. Дата публикации: 2018-02-28.

Silicon Carbide Compounds Useful for Plasma Reactors

Номер патента: KR980011810A. Автор: 하오 에이. 루. Владелец: 조셉 제이. 스위니. Дата публикации: 1998-04-30.

Dry etching of transparent electrodes in a low pressure plasma reactor

Номер патента: AU3509997A. Автор: John P. Holland,Alex T. Demos. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-21.

Plasma reactor

Номер патента: JP5379482B2. Автор: アンドリュー ジェイムズ シーリー,マリレナ ラドイウ. Владелец: エドワーズ リミテッド. Дата публикации: 2013-12-25.

PLASMA REACTOR WITH TILTABLE OVERHEAD RF INDUCTIVE SOURCE

Номер патента: US20130206594A1. Автор: Collins Kenneth S.,YOUSIF IMAD,SALINAS MARTIN JEFFREY,NGUYEN ANDREW,Xu Ming. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-15.

Microwave plasma reactors

Номер патента: US09890457B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen,Yajun Gu. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2018-02-13.

Method of modifying particles using a cascade plasma reactor

Номер патента: US20240198312A1. Автор: Zineb Matouk. Владелец: Technology Innovation Institute Sole Proprietorship LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Method of modifying particles using a cascade plasma reactor

Номер патента: WO2024134509A1. Автор: Zineb Matouk. Владелец: Technology Innovation Institute - Sole Proprietorship Llc. Дата публикации: 2024-06-27.

Methods and apparatus for material processing using atmospheric thermal plasma reactor

Номер патента: US09533909B2. Автор: Daniel Robert Boughton. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Methods and apparatus for material processing using atmospheric thermal plasma reactor

Номер патента: US09908804B2. Автор: Daniel Robert Boughton. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Spinning disk plasma reactor for treatment of water

Номер патента: US20230254963A1. Автор: Thomas M. Holsen,Selma Mededovic-Thagard. Владелец: CLARKSON UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-08-10.

Apparatus and method for radio frequency de-coupling and bias voltage control in a plasma reactor

Номер патента: EP1399944A1. Автор: Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Plasma reactor with coil antenna of plural helical conductors with equally spaced ends

Номер патента: US20010001201A1. Автор: Arthur Sato,Xue-Yu Qian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-05-17.

Plasma reactor with electrode assembly for moving substrate

Номер патента: US20180374686A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Michael R. Rice,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-27.

Plasma reactor having segmented electrodes

Номер патента: US4885074A. Автор: Robin A. Susko,James W. Wilson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-12-05.

Plasma reactor for processing gas

Номер патента: US20200312627A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,George Stephen Leonard, III,Jae Mo Koo. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma reactor apparatus

Номер патента: US4579618A. Автор: Salvatore A. Celestino,Georges J. Gorin,Stephen E. Hilliker,Gary B. Powell. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1986-04-01.

Adjustable dc bias control in a plasma reactor

Номер патента: US5605637A. Автор: Evans Lee,Robert Wu,Hongching Shan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-02-25.

Plasma reactor electrode, method of forming a plasma reactor electrode, and plasma reaction chamber

Номер патента: TW583898B. Автор: Michael Barnes,David Palagashvili. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-04-11.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: AU2020245199A1. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: EP3948928A1. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2022-02-09.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: US20200314994A1. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: AU2020245199B2. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma Reactor with Inductive Excitation of Plasma and Efficient Removal of Heat from the Excitation Coil

Номер патента: US20150200075A1. Автор: Godyak Valery. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-16.

Plasma reactor with multi-arrayed discharging chamber and plasma processing system using the same

Номер патента: KR100862685B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2008-10-10.

Plasma reactor with inductive excitation of plasma and efficient removal of heat from the excitation coil

Номер патента: US10090134B2. Автор: Valery Godyak. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-02.

Plasma reactor apparatus and process for the plasma etching of a workpiece in such a reactor apparatus

Номер патента: EP0019370A1. Автор: Josef T. Hoog,Georges J. Dr. Gorin. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1980-11-26.

Plasma reactor and method of using plasma reactor

Номер патента: JP4970434B2. Автор: ジスー キム,デ−ハン チョ,エス. エム. レザ サジャディ. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-07-04.

Plasma reactor apparatus and method for treating a substrate

Номер патента: CA2008926C. Автор: Jes Asmussen,Donnie K. Reinhard. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 1994-03-29.

Compact portable plasma reactor

Номер патента: US20190206658A1. Автор: Subrata Roy,Sherlie Eileen Portugal Atencio. Владелец: Surfplasma Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Plasma reactor with coil antenna of concentrically spiral conductors with ends in common regions

Номер патента: US20010000898A1. Автор: Arthur Sato,Xue-Yu Qian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-05-10.

Showerhead configurations for plasma reactors

Номер патента: TW201230193A. Автор: Zhao Li,Ilia Kalinovski,Ivelin A Angelov,James E Caron. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2012-07-16.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: GB201121486D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2012-01-25.

PLASMA REACTOR WITH NON-POWER-ABSORBING DIELECTRIC GAS SHOWER PLATE ASSEMBLY

Номер патента: US20160111256A1. Автор: Liang Qiwei,Stowell Michael W.. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-21.

Plasma Reactor with Highly Symmetrical Four-Fold Gas Injection

Номер патента: US20190122861A1. Автор: YOUSIF IMAD,BANNA SAMER,KNYAZIK VLADIMIR,TANTIWONG KYLE,Rozenzon Yan,Keating Bojenna. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

PLASMA REACTOR WITH NON-POWER-ABSORBING DIELECTRIC GAS SHOWER PLATE ASSEMBLY

Номер патента: US20180182599A1. Автор: Liang Qiwei,Stowell Michael W.. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-28.

PLASMA REACTOR VESSEL AND ASSEMBLY, AND A METHOD OF PERFORMING PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20160196959A1. Автор: SHOJAEI Omid Reza,SCHMITT Jacques,JEANNERET Fabrice. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

COOLING MECHANISM UTLIZED IN A PLASMA REACTOR WITH ENHANCED TEMPERATURE REGULATION

Номер патента: US20190198295A1. Автор: SALINAS MARTIN JEFFREY,TODOROW Valentin N.,Pal Aniruddha,Calderon Victor. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-27.

PLASMA REACTOR AND PLASMA IGNITION METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20150303031A1. Автор: CHOI Sang-Don. Владелец: NEW POWER PLASMA., LTD.. Дата публикации: 2015-10-22.

PLASMA REACTOR WITH ELECTRODE FILAMENTS

Номер патента: US20180308661A1. Автор: Collins Kenneth S.,Ramaswamy Kartik,Carducci James D.,RICE MICHAEL R.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

PLASMA REACTOR WITH HIGHLY SYMMETRICAL FOUR-FOLD GAS INJECTION

Номер патента: US20150371826A1. Автор: YOUSIF IMAD,BANNA SAMER,KNYAZIK VLADIMIR,TANTIWONG KYLE,Rozenzon Yan,Keating Bojenna. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-24.

PLASMA REACTOR WITH ELECTRODE ASSEMBLY FOR MOVING SUBSTRATE

Номер патента: US20180374686A1. Автор: Collins Kenneth S.,Ramaswamy Kartik,Carducci James D.,RICE MICHAEL R.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Inductive coupled plasma reactor with improved vertical etching efficiency

Номер патента: KR100777841B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2007-11-21.

Plasma Reactor with Split Electrode

Номер патента: KR20190003972A. Автор: 김동수,주민수. Владелец: 레트로-세미 테크놀로지스, 엘엘씨. Дата публикации: 2019-01-10.

Plasma reactor having multi-plasma area

Номер патента: KR101173643B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2012-08-13.

Plasma reactor for inductively coupled plasma and assembling method of the same

Номер патента: KR102329032B1. Автор: 김민재,유태욱,배진호,심건보. Владелец: (주)엘오티씨이에스. Дата публикации: 2021-11-19.

Pulsed plasma reactor With Cooling Heat Exchanger

Номер патента: KR101300194B1. Автор: 김학준,김용진,한방우. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2013-08-26.

Plasma reactor for inductively coupled plasma and assembling method of the same

Номер патента: KR20210141910A. Автор: 김민재,유태욱,배진호,심건보. Владелец: (주)엘오티씨이에스. Дата публикации: 2021-11-23.

Plasma reactor having multi-core plasma generation plate

Номер патента: KR101358779B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2014-02-04.

Plasma reactor having multi-core plasma generator

Номер патента: KR100983556B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2010-09-24.

Inductively coupled plasma reactor with multiple magnetic cores

Номер патента: EP1850367B1. Автор: Dae-Kyu Choi. Владелец: Gen Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.

Inductively coupled plasma reactor with multiple magnetic cores

Номер патента: CN101064986A. Автор: 崔大圭. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-31.

Multi loop core dual plasma reactor with multi laser scanning line

Номер патента: KR101555844B1. Автор: 위순임. Владелец: 에프원소프트 주식회사. Дата публикации: 2015-09-25.

Plasma reactor have a variable capacitively coupled plasma

Номер патента: KR101112745B1. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2012-02-24.

Plasma reactor and plasma ignition method using the same

Номер патента: KR101468404B1. Автор: 최상돈. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2014-12-03.

Plasma reactor having plasma chamber coupled with magnetic flux channel

Номер патента: TWI398926B. Автор: Dae-Kyu Choi,Joung-Ho Lee. Владелец: Gen Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-11.

Plasma reactor with a deposition shield

Номер патента: CA2312777A1. Автор: Stephen P. Deornellas,Robert A. Ditizio. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-06-17.

Inductively coupled plasma reactor with multiple magnetic cores

Номер патента: EP1850367A1. Автор: Dae-Kyu Choi. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-31.

Enhanced plasma source for a plasma reactor

Номер патента: TWI637438B. Автор: 威沃斯麥克D,托多羅瓦倫汀N,李瑞蓋瑞,姜力升. Владелец: 美商應用材料公司. Дата публикации: 2018-10-01.

Plasma generating electrode and plasma reactor

Номер патента: US20060222577A1. Автор: Takeshi Sakuma,Kazuhiro Kondo,Masaaki Masuda,Kenji Dosaka,Yasumasa Fujioka,Atsuo Kondou. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Enhanced plasma source for a plasma reactor

Номер патента: CN105340059A. Автор: M·D·威尔沃斯,V·N·托多罗,G·勒雷,L-S·蒋. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-02-17.

Plasma reactor with high productivity

Номер патента: EP1587131A2. Автор: Hans-Peter VÖLK,Harald Dr. Wanka,Johann Georg Reichart. Владелец: CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AG. Дата публикации: 2005-10-19.

Plasma reactor with a deposition shield

Номер патента: EP1038046A1. Автор: Stephen P. Deornellas,Robert A. Ditizio. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 2000-09-27.

Plasma reactor with high productivity

Номер патента: US20050279456A1. Автор: Hans-Peter Voelk,Harald Wanka,Johann Reichart. Владелец: CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS GMHH and Co KG. Дата публикации: 2005-12-22.

Plasma reactor for generating large size plasma

Номер патента: KR101139824B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2012-04-30.

Plasma generating electrode and plasma reactor

Номер патента: US7608796B2. Автор: Takeshi Sakuma,Kazuhiro Kondo,Masaaki Masuda,Kenji Dosaka,Yasumasa Fujioka,Atsuo Kondou. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2009-10-27.

Plasma reactor having multi loop core plasma generator

Номер патента: KR100845891B1. Автор: 최대규,위순임,최상돈. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2008-07-16.

Plasma reactor having ignition device for plasma discharge

Номер патента: KR101170926B1. Автор: 최대규. Владелец: (주) 엔피홀딩스. Дата публикации: 2012-08-03.

Method and apparatus for improving etch uniformity in remote source plasma reactors with powered wafer chucks

Номер патента: US20020000298A1. Автор: Kevin Donohoe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-01-03.

Cooling block and plasma reactor having same

Номер патента: US20230260762A1. Автор: Dai Kyu Choi,Eun Seok LIM. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Plasma reactor

Номер патента: US20120034135A1. Автор: Philip John Risby. Владелец: GASPLAS AS. Дата публикации: 2012-02-09.

Multi discharging tube plasma reactor

Номер патента: US20130278135A1. Автор: Dai-Kyu CHOI. Владелец: Dai-Kyu CHOI. Дата публикации: 2013-10-24.

HYBRID PLASMA REACTOR

Номер патента: US20130307414A1. Автор: CHOI Dae-Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

Microwave power delivery system for plasma reactors

Номер патента: US20130334964A1. Автор: John Robert Brandon,Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2013-12-19.

IMPROVEMENTS IN PLASMA REACTORS

Номер патента: US20220044915A1. Автор: BRAUER John Lionel. Владелец: OZONE 1 PTY LTD. Дата публикации: 2022-02-10.

Method of matching two or more plasma reactors

Номер патента: US20150096959A1. Автор: Xiawan Yang,Gaurav SARAF,Farid Abooameri,Anisul H Khan,Wen Teh Chang,Bradley Scott Hersch. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-04-09.

LOW-COST PLASMA REACTOR

Номер патента: US20150099069A1. Автор: Taylor Rupert Anthony,Pulsipher Daniel John Verdell. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

Dual-Zone, Atmospheric-Pressure Plasma Reactor for Materials Processing

Номер патента: US20140178604A1. Автор: Selwyn Gary S.. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-26.

Cascaded plasma reactor

Номер патента: US20140205769A1. Автор: Sang In LEE. Владелец: Veeco ALD Inc. Дата публикации: 2014-07-24.

MICROWAVE PLASMA REACTORS

Номер патента: US20140220261A1. Автор: Asmussen Jes,Gu Yajun,Grotjohn Timothy A.. Владелец: BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-08-07.

INSTALLATION AND PROCESS FOR THE TREATMENT OF METALLIC PIECES BY A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20160151809A1. Автор: BINDER Cristiano,KLEIN Aloisio Nelmo,BINDER Roberto,HAMMES Gisele. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

CLEANING DEVICE AND CLEANING PROCESS FOR A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20140305467A1. Автор: Lacoste Ana,Pelletier Jacques Henri,Bes Alexandre,Bechu Stephane Jean Louis,Sirou Jerome. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-16.

COMPACT PORTABLE PLASMA REACTOR

Номер патента: US20190206658A1. Автор: Roy Subrata,PORTUGAL ATENCIO SHERLIE EILEEN. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-04.

FOCALIZED MICROWAVE PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200211825A1. Автор: Chang Chih-Chen,Huang Kun-Ping,Chi Yu-Wen. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2020-07-02.

PLASMA REACTOR HAVING DIVIDED ELECTRODES

Номер патента: US20170314132A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-02.

PLASMA REACTOR HAVING DIVIDED ELECTRODES

Номер патента: US20170314133A1. Автор: KIM Dong-Soo,Joo Min-Su. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-02.

Plasma reactor for processing gas

Номер патента: US20200312627A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,George Stephen Leonard, III,Jae Mo Koo. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

THERMAL MANAGEMENT OF PLASMA REACTORS

Номер патента: US20200312628A1. Автор: McClelland Stefan Andrew,Koo Jae Mo,Leonard III George Stephen. Владелец: RECARBON, INC.. Дата публикации: 2020-10-01.

PLASMA REACTORS HAVING RECUPERATORS

Номер патента: US20200312638A1. Автор: LEONARD,III George Stephen,McClelland Stefan Andrew,Koo Jae Mo. Владелец: RECARBON, INC.. Дата публикации: 2020-10-01.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: US20200314994A1. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

METHODS AND APPARATUS FOR MATERIAL PROCESSING USING ATMOSPHERIC THERMAL PLASMA REACTOR

Номер патента: US20160347641A1. Автор: Boughton Daniel Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-01.

ROTARY PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200335311A1. Автор: FAN Qi Hua,TOOMAJIAN Martin E.. Владелец: BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-10-22.

Method of cleaning of an electrostatic chuck in plasma reactors

Номер патента: US5507874A. Автор: Yuh-Jia Su,Richard Muh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Plasma reactor using multi-frequency

Номер патента: KR20100129368A. Автор: 위순임. Владелец: 위순임. Дата публикации: 2010-12-09.

Plasma reactor for abating hazardous material

Номер патента: CN105013419A. Автор: 许民,姜宇石,李载玉. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2015-11-04.

Inductively coupled plasma reactor having multi rf antenna

Номер патента: KR100772452B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2007-11-02.

Plasma reactor for abatement of hazardous material and driving method thereof

Номер патента: KR101065013B1. Автор: 허민,송영훈,이재옥,이대훈,김관태,차민석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2011-09-15.

Plasma reactor for abatement of hazardous material

Номер патента: KR101063515B1. Автор: 허민,송영훈,이재옥,이대훈,김관태,차민석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2011-09-07.

Plasma reactor apparatus and method

Номер патента: DE3479769D1. Автор: Georges J Gorin. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1989-10-19.

Plasma reactor

Номер патента: KR20100037609A. Автор: 게리 피터 나이트,앤드류 챔버스. Владелец: 에드워즈 리미티드. Дата публикации: 2010-04-09.

Method for diagnosing inner wall of plasma reactor

Номер патента: KR101939634B1. Автор: 유상원,장윤창,노현준,김곤호. Владелец: 서울대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-01-17.

Inductively coupled plasma reactor having a built-in radio frequency antenna

Номер патента: KR101283645B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2013-07-09.

Plasma reactor for treating exhaust gas

Номер патента: KR20220142064A. Автор: 김민재,강경두,고경준. Владелец: 주식회사 퓨어플라텍. Дата публикации: 2022-10-21.

capacitively coupled plasma reactor

Номер патента: KR101507390B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2015-03-31.

How to clean electrostatic chuck in plasma reactor

Номер патента: KR960002537A. Автор: 수 유-지아,머 리차드. Владелец: 제임스 조셉 드롱. Дата публикации: 1996-01-26.

Plasma reactor

Номер патента: DE19802971C2. Автор: Christof Wild,Peter Koidl. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 1999-12-02.

Plasma reactor, its use and process for producing monocrystalline diamond films

Номер патента: DE102007028293B4. Автор: Martin Fischer,Matthias Dr. Schreck,Stefan Gsell. Владелец: UNIVERSITAET AUGSBURG. Дата публикации: 2009-09-03.

PLASMA REACTOR

Номер патента: FR2631199B1. Автор: Patrick Chollet,Philippe Leprince,Serge Saada. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 1991-03-15.

IMPROVED PLASMA REACTOR PROVIDED WITH ELECTROMAGNETIC WAVE COUPLING MEANS

Номер патента: FR2647293B1. Автор: . Владелец: Defitech SA. Дата публикации: 1996-06-28.

MICROWAVE APPLICATION DEVICE AND PLASMA REACTOR USING THE SAME.

Номер патента: FR2689717B1. Автор: Barbara Charlet. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1994-05-13.

System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing

Номер патента: US9177762B2. Автор: Eric Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-11-03.

Vacuum pump with plasma reactor

Номер патента: KR102023704B1. Автор: 김대웅,허민,이재옥,강우석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2019-09-20.

A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material

Номер патента: GB201021865D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2011-02-02.

Hollow anode plasma reactor and method

Номер патента: CN100401450C. Автор: 大卫·W·本辛,巴巴克·卡德霍达扬. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2008-07-09.

Plasma reactor

Номер патента: JP2012518263A. Автор: フィリップ ジョン リズビー,. Владелец: GASPLAS AS. Дата публикации: 2012-08-09.

Plasma reactor having multi discharging tube

Номер патента: KR101475502B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2014-12-23.

Inductively coupled plasma reactor

Номер патента: KR100806522B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2008-02-21.

Inductively coupled plasma reactor capable

Номер патента: KR101281191B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2013-07-02.

Microwave plasma reactor

Номер патента: GB0516695D0. Автор: . Владелец: BOC Group Ltd. Дата публикации: 2005-09-21.

Inductively coupled plasma reactor

Номер патента: CN104821269A. Автор: 崔大圭. Владелец: Jin Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-05.

Inductively coupled plasma reactor

Номер патента: KR101281188B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2013-07-02.

Inline Plasma Reactor

Номер патента: KR101589612B1. Автор: 김정섭,최상철. Владелец: (주)이피엔. Дата публикации: 2016-01-29.

Arc plasma reactor for decomposition of inert gas

Номер патента: KR101450807B1. Автор: 김영일,김세현,김인명. Владелец: 주식회사 에너콘스테크. Дата публикации: 2014-10-15.

Microwave application device and plasma reactor using this device.

Номер патента: FR2689717A1. Автор: Charlet Barbara. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1993-10-08.

Plasma reactor for a deposition or etching process.

Номер патента: FR2707449B1. Автор: Pearson David. Владелец: Alcatel CIT SA. Дата публикации: 1995-08-11.

PLASMA REACTOR

Номер патента: FR2639171B1. Автор: UEHARA Akira,Hijikata Isamu. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1996-03-15.

Plasma reactor for process monitoring

Номер патента: KR102023705B1. Автор: 이진영,김대웅,허민,이재옥,강우석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2019-09-20.

A plasma reactor having a symmetric parallel conductor coil antenna

Номер патента: WO2002005308A3. Автор: Michael Barnes,John Holland,Valentin N Todorow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-20.

Hollow anode plasma reactor and method

Номер патента: CN101290873B. Автор: 大卫·W·本辛,巴巴克·卡德霍达扬. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-12-08.

Hybride plasma reactor

Номер патента: KR101314669B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2013-10-04.

Capacitively coupled plasma reactor

Номер патента: KR100979186B1. Автор: 위순임. Владелец: 다이나믹솔라디자인 주식회사. Дата публикации: 2010-08-31.

Plasma reactors for semiconductor wafer treatment

Номер патента: DE69510427T2. Автор: Xue-Yu Qian,Arthur H Sato. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-12-30.

Plasma reactor for process monitoring

Номер патента: KR102080237B1. Автор: 이진영,김대웅,허민,이재옥,강우석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2020-02-21.

Plasma reactor

Номер патента: CN101577216B. Автор: 金起铉,朴根周,高诚庸,蔡焕国,李元默. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-05.

For the plasma reactor of the removing of pollutant

Номер патента: CN103028357B. Автор: 许民,姜宇石,李载玉,李大勋,金冠泰,宋永焄. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2015-12-16.

Inductively coupled plasma reactor having multi rf antenna

Номер патента: KR100980287B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2010-09-06.

PLASMA REACTOR

Номер патента: FR2631199A1. Автор: Patrick Chollet,Philippe Leprince,Serge Saada. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 1989-11-10.

Plasma reactor for processing gas

Номер патента: CA3134028A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,George Stephen Leonard, III,Jae Mo Koo. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma reactor for processing gas

Номер патента: AU2020245070B2. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma reactor for processing gas

Номер патента: EP3948926A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2022-02-09.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: AU2020248682B2. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: US20200312638A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,George Stephen Leonard, III,Jae Mo Koo. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Thermal management of plasma reactors

Номер патента: US20200312628A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: EP3948929A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2022-02-09.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: AU2020248682A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: CA3134155A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: WO2020197705A1. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: RECARBON, INC.. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma reactors having recuperators

Номер патента: EP3948929A4. Автор: Stefan Andrew McClelland,Jae Mo Koo,George Stephen LEONARD III. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2023-01-11.

Plasma reactor and plasma reaction apparatus

Номер патента: US20090206757A1. Автор: Hiroshi Mizuno,Michio Takahashi,Masaaki Masuda. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2009-08-20.

Magnetic field channel coupled plasma reactor

Номер патента: KR101314667B1. Автор: 최대규. Владелец: 최대규. Дата публикации: 2013-10-04.

Plasma reactor

Номер патента: JP4619976B2. Автор: 健 佐久間,道夫 高橋,昌明 桝田. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2011-01-26.

Device for generating crown discharge plasma and plasma reactor

Номер патента: RU2763742C2. Автор: Пьер ДЕ ЛИНАЖ,Стефан ЛЮНЕЛЬ. Владелец: Эйринспейс С.Е. Дата публикации: 2021-12-30.

Vertically oriented plasma reactor

Номер патента: US12048910B2. Автор: Qi Hua Fan,Martin E. Toomajian,Thomas Schuelke. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle

Номер патента: US20240216887A1. Автор: Annemie BOGAERTS,James CREEL,Hamid AHMADI ESHTEHARDI. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma reactor

Номер патента: WO2024061656A1. Автор: Nils Myklebust. Владелец: Caphenia GmbH. Дата публикации: 2024-03-28.

Plasma reactor for the synthesis of nanopowders and materials processing

Номер патента: US9516734B2. Автор: Jiayin Guo,Maher I. Boulos,Jerzy Jurewicz. Владелец: Tekna Plasma Systems Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Plasma reactor with a honeycomb electrode

Номер патента: EP2092977A3. Автор: Hiroshi Mizuno,Michio Takahashi,Masaaki Masuda. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2010-05-26.

Plasma reactor for the synthesis of nanopowders and materials processing

Номер патента: CA2756143C. Автор: Jiayin Guo,Jerzy Jurewicz,Maher Boulos. Владелец: Tekna Plasma Systems Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

A plasma reactor

Номер патента: US20240010363A1. Автор: Scott Hughan Rennie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-11.

A plasma reactor

Номер патента: EP4248090A1. Автор: Scott Hughan Rennie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-27.

Transferred-arc plasma reactor for chemical and metallurgical applications

Номер патента: CA1173784A. Автор: William H. Gauvin,George R. Kubanek. Владелец: HYDRO QUEBEC. Дата публикации: 1984-09-04.

Transferred-arc plasma reactor for chemical and metallurgical applications

Номер патента: US4466824A. Автор: William H. Gauvin,George R. Kubanek. Владелец: Noranda Inc. Дата публикации: 1984-08-21.

Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle

Номер патента: EP4334247A1. Автор: Annemie BOGAERTS,James CREEL,Hamid AHMADI ESHTEHARDI. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2024-03-13.

Dielectric assembly for non-thermal plasma reactor

Номер патента: EP4271143A2. Автор: Walter Riley Buchanan,John Peter Shaughnessy. Владелец: Milton Roy LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Dielectric Assembly For Non-Thermal Plasma Reactor

Номер патента: AU2023202103A1. Автор: Walter Riley Buchanan,John Peter Shaughnessy. Владелец: Milton Roy LLC. Дата публикации: 2023-10-26.

Dielectric assembly for non-thermal plasma reactor

Номер патента: CA3195113A1. Автор: Walter Riley Buchanan,John Peter Shaughnessy. Владелец: Milton Roy LLC. Дата публикации: 2023-10-07.

Dielectric assembly for non-thermal plasma reactor

Номер патента: EP4271143A3. Автор: Walter Riley Buchanan,John Peter Shaughnessy. Владелец: Milton Roy LLC. Дата публикации: 2024-02-14.

Dielectric assembly for electrode of non-thermal plasma reactor

Номер патента: US20230328869A1. Автор: Walter Riley Buchanan,John Peter Shaughnessy. Владелец: Milton Roy LLC. Дата публикации: 2023-10-12.

Low temperature plasma reactor having adaptive rotating electrode

Номер патента: US11786863B1. Автор: Pengfei Wang,Qi Qiu,Xingliang Liu,Jiahong Fu,Zhaozhe Deng. Владелец: Hangzhou City University. Дата публикации: 2023-10-17.

Tunable effective inductance for multi-gain LNA with inductive source degeneration

Номер патента: US11881828B2. Автор: Jing Li,Miles SANNER,Emre Ayranci. Владелец: PSemi Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Tunable Effective Inductance for Multi-Gain LNA with Inductive Source Degeneration

Номер патента: US20240171145A1. Автор: Jing Li,Miles SANNER,Emre Ayranci. Владелец: PSemi Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Shunting reactor with control-supply winding

Номер патента: RU2665679C1. Автор: Илья Николаевич Джус. Владелец: Илья Николаевич Джус. Дата публикации: 2018-09-04.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: CA3117377A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2020-04-30.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: US20210402362A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2021-12-30.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: EP3870355A1. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2021-09-01.

Compound annular non-thermal plasma reactor core

Номер патента: EP4017624A2. Автор: Herek L. Clack,Kevin D. Melotti. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2022-06-29.

Centrifugal fluid ring plasma reactor

Номер патента: US09475996B2. Автор: Richard Max MANDLE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-25.

Compound annular non-thermal plasma reactor core

Номер патента: WO2021071594A2. Автор: Herek L. Clack,Kevin D. Melotti. Владелец: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN. Дата публикации: 2021-04-15.

Apparatus and method for retention of non-thermal plasma reactor

Номер патента: US20020192127A1. Автор: Robert Li,David Nelson,Michael Foster,Alan Turek. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2002-12-19.

Plasma reactor for greenhouse gas conversion

Номер патента: WO2023217695A1. Автор: Georgi TRENCHEV,Annemie BOGAERTS. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma reactor and exhaust gas reduction apparatus of a vehicle including the same

Номер патента: US20070134139A1. Автор: Yone Seung Kim,Hyung Jei Cho,Tae Han Jee,Kwang Ok Choi. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2007-06-14.

Dual-mode plasma reactor

Номер патента: US20110020189A1. Автор: Yung-Chih Chen,Jyh-Ming Yan,Shiaw-Huei Chen,Ming-Song Yang,Men-Han Huang. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2011-01-27.

Laminated co-fired sandwiched element for non-thermal plasma reactor

Номер патента: WO2002087880A8. Автор: David Chen,Bob Xiaobin Li,David Emil Nelson,Joachim Kupe. Владелец: Delphi Tech Inc. Дата публикации: 2003-02-27.

A plasma reactor

Номер патента: US20180312413A1. Автор: Robert BARCZYK. Владелец: Slupski Waldemar Bernard. Дата публикации: 2018-11-01.

Integrated non-thermal plasma reactor-diesel particulate filter

Номер патента: WO2003082426A2. Автор: David Alexander Goulette,Joseph V. Bonadies. Владелец: DELPHI TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2003-10-09.

Compound annular non-thermal plasma reactor core

Номер патента: CA3150763A1. Автор: Herek L. Clack,Kevin D. Melotti. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2021-04-15.

A plasma reactor

Номер патента: EP3365103A1. Автор: Robert BARCZYK. Владелец: Bartczak Pawel Dawid. Дата публикации: 2018-08-29.

Modular plasma reactor with local atmosphere

Номер патента: US4539062A. Автор: John P. Zajac. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1985-09-03.

Micro plasma reactor

Номер патента: WO2008113393A2. Автор: Mehran Tavakoli Keshe. Владелец: Mehran Tavakoli Keshe. Дата публикации: 2008-09-25.

Refuse bin with tiltable lid

Номер патента: US20020053570A1. Автор: Giuseppe Marcheselli,Maurizio Marcheselli. Владелец: Stil Casa SNC di Marcheselli Angelo and C. Дата публикации: 2002-05-09.

Nuclear reactor with liquid metal coolant

Номер патента: US09947421B2. Автор: Georgy Iliich TOSHINSKY. Владелец: AKME Engineering JSC. Дата публикации: 2018-04-17.

Carbon black reactor with cooling function

Номер патента: EP4414062A1. Автор: Hyung Ju Kim,Byoung Wan PARK. Владелец: Orion Korea Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Shieldless reactor with moving bed

Номер патента: RU2406564C1. Автор: Джон Дж. Сенетар,Майкл Дж. ВЕТТЕР. Владелец: Юоп Ллк. Дата публикации: 2010-12-20.

Reactor with pseudoliquid layer

Номер патента: RU2403966C2. Автор: Себастьян ЦИММЕР. Владелец: Себастьян ЦИММЕР. Дата публикации: 2010-11-20.

Reactor with packing

Номер патента: RU2418748C2. Автор: Фрэнсис С. ЛАПТОН. Владелец: Хонейвелл Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2011-05-20.

Plate-type heat exchanger for chemical reactors with automatically welded headers

Номер патента: RU2707237C2. Автор: Энрико РИЦЦИ. Владелец: Касале Са. Дата публикации: 2019-11-25.

Nuclear reactor with autonomous core

Номер патента: RU2730589C2. Автор: Лучано ЧИНОТТИ. Владелец: Лучано ЧИНОТТИ. Дата публикации: 2020-08-24.

Inclined plate baffled a2o reactor with high oxygen transfer efficiency

Номер патента: US20240262728A1. Автор: Lan Li,JIA Li,Ming Li,Zhiming Zhou,Jing Zhao,Changbing YE,Sujie SHI. Владелец: Yuxi Normal University. Дата публикации: 2024-08-08.

Reactor with rotor

Номер патента: RU2543200C2. Автор: Андерс ОЛЬССОН. Владелец: Кассандра Ойл Текнолоджи Аб. Дата публикации: 2015-02-27.

Pulsed combustion reactor with pulsating flame, in particular for thermal material treatment or material synthesis

Номер патента: US20170314778A1. Автор: Horst Büchner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-02.

Machinery system allowing replacement of old reactor with a new reactor in nuclear power electric generating station

Номер патента: US20110007861A1. Автор: John Jugl. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-13.

Radial counterflow reactor with applied radiant energy

Номер патента: US20140325866A1. Автор: Wilmot H. McCutchen,David J. McCutchen. Владелец: McCutchen Co. Дата публикации: 2014-11-06.

Biochemical reactor with tank inlet disposed above lower divider

Номер патента: US09920291B1. Автор: Peter J. Hall. Владелец: Mih Water Treatment Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Biochemical reactor with an unclogging pipe

Номер патента: US09909097B1. Автор: Peter J. Hall. Владелец: Mih Water Treatment Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Biochemical reactor with a lower divider support structure

Номер патента: US09890354B1. Автор: Peter J. Hall. Владелец: Mih Water Treatment Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Radial counterflow reactor with applied radiant energy

Номер патента: US09851145B2. Автор: Wilmot H. McCutchen,David J. McCutchen. Владелец: McCutchen Co. Дата публикации: 2017-12-26.

Biochemical reactor with a lower divider support structure

Номер патента: US09809791B1. Автор: Peter J. Hall. Владелец: Mih Water Treatment Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Multi-bed reactor with mixing device

Номер патента: US09757703B2. Автор: Michael Boe,Olav Holm-Christensen,Klaus Risbjerg Jarlkov,Emir Zahirovic,Louise Jivan Shah,Jacob BRIX. Владелец: Haldor Topsoe AS. Дата публикации: 2017-09-12.

Shell-and-tube reactors with liquid cooling under pressure

Номер патента: RU2392045C2. Автор: Лер Манфред. Владелец: МАН ДВЕ ГмбХ. Дата публикации: 2010-06-20.

Multiphase liquid distributor for reactor with tubes

Номер патента: RU2345830C2. Автор: Петер ПОРША. Владелец: УДЕ ГМБХ, Евоник Дегусса ГмбХ. Дата публикации: 2009-02-10.

Upward flow reactor with controlled circulation of biomass

Номер патента: RU2522105C2. Автор: Марианне БУХМЮЛЛЕР. Владелец: Мкб Гмбх. Дата публикации: 2014-07-10.

Coating system for layer of solid particles and reactor with such system

Номер патента: RU2741393C1. Автор: Бернар ПУССАН. Владелец: Креалист-Груп. Дата публикации: 2021-01-25.

Fuel assembly of pressure-tube reactor with profiled fuel

Номер патента: RU2372676C1. Автор: Анатолий Александрович Петров,Игорь Валентинович Петров,Николай Михайлович Сорокин,Юрий Семенович Шульман,Владислав Владимирович Рябов,Борис Арсентьевич Габараев,Анатолий Игоревич Купалов-Ярополк,Александр Михайлович Федосов,Евгений Викторович Бурлаков,Александр Викторович Краюшкин,Александр Анатольевич Быстриков,Анатолий Константинович Егоров,Игорь Валентинович Петров (RU),Юрий Семенович Шульман (RU),Владислав Владимирович Рябов (RU),Борис Арсентьевич Габараев (RU),Анатолий Александрович Петров (RU),Анатолий Игоревич Купалов-Ярополк (RU),Александр Михайлович Федосов (RU),Евгений Викторович Бурлаков (RU),Александр Викторович Краюшкин (RU),Николай Михайлович Сорокин (RU),Александр Анатольевич Быстриков (RU),Анатолий Константинович Егоров (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники имени Н.А.Доллежаля". Дата публикации: 2009-11-10.

Fluidised bed reactors with processes related therewith

Номер патента: RU2502553C2. Автор: Дэвид ФЕЙМ. Владелец: Корн Продактс Девелопмент, Инк.. Дата публикации: 2013-12-27.

Nuclear reactor with liquid metal coolant

Номер патента: CA2892392C. Автор: Georgy Iliich TOSHINSKY. Владелец: AKME Engineering JSC. Дата публикации: 2019-01-08.

A gas-solid phase exothermic catalytic reactor with low temperature difference and its process

Номер патента: AU6202001A. Автор: Shoulin Lou,Ren Lou. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-11.

Reactor with natural convection backup cooling system

Номер патента: CA1257715A. Автор: Davorin D. Kapich,Stanley L. Koutz,Leonardo Cavallaro. Владелец: General Atomics Corp. Дата публикации: 1989-07-18.

Confined plunging liquid jet reactor with energy recovery

Номер патента: US11898580B2. Автор: Bader Shafaqa Al-Anzi. Владелец: University of Kuwait. Дата публикации: 2024-02-13.

Process for preparing malonic diesters in a reactor with internal heat exchangers

Номер патента: US20010018540A1. Автор: Frank Bauer,Christoph Theis,Uwe Prange,Wilfried Latz. Владелец: Degussa GmbH. Дата публикации: 2001-08-30.

Reactor with jet impingement heat transfer

Номер патента: RU2357793C2. Автор: Джонатан Дж. ФЕЙНСТЕЙН. Владелец: Джонатан Дж. ФЕЙНСТЕЙН. Дата публикации: 2009-06-10.

Filtering tubular passage for reactor with radial flow

Номер патента: RU2283694C2. Автор: Абдель-Хоссеин НАДЕРИ. Владелец: Джонсон Фильтрейшн Системз. Дата публикации: 2006-09-20.

Nuclear reactor with heat pipes for heat extraction

Номер патента: US3668070A. Автор: Peter Fiebelmann,Helmut Neu. Владелец: European Atomic Energy Community Euratom. Дата публикации: 1972-06-06.

Chemical reactor with plate heat exchanger

Номер патента: RU2566767C2. Автор: РИЦЦИ Энрико,ФИЛИППИ Эрманно,ТАРОЦЦО Мирко. Владелец: Метанол Касале Са. Дата публикации: 2015-10-27.

Nuclear reactor with solid substance moderator of variable slowing-down power

Номер патента: GB1114285A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1968-05-22.

Method for filling a reactor with solid particles

Номер патента: US4022255A. Автор: Abraham A. Pegels,Hendrik J. Scheffer. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 1977-05-10.

Catalytic reactor with improved burner

Номер патента: CA1161354A. Автор: Joseph J. Faitani,George W. Austin,Terry J. Chase,George T. Suljak,Robert J. Misage. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1984-01-31.

Bubble column reactor with dispersing devices

Номер патента: US5242643A. Автор: Sang D. Kim,Yong K. Chang,Hee W. Ryu. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1993-09-07.

Multilayer reactor with several structural layers

Номер патента: AU2022294997A1. Автор: Sebastian Schmidt,Peter Pfeifer. Владелец: Ineratec Gmbh. Дата публикации: 2024-01-18.

Computerized systems and methods for temperature profile control in a reactor with a series of fixed beds

Номер патента: EP4110514A1. Автор: Alan Bee Morrow,Paul Kesseler. Владелец: Aveva Software LLC. Дата публикации: 2023-01-04.

Reverse flow reactor with mixer

Номер патента: WO2024077123A1. Автор: ChangMin Chun,Zhiyan Wang,William Gunther. Владелец: ExxonMobil Technology and Engineering Company. Дата публикации: 2024-04-11.

Liquid level sensor, method for controlling the same and reactor with the same

Номер патента: US20170268920A1. Автор: Wei Wang,Peng Chen,Bin Liu. Владелец: Leica Microsystems Ltd Shanghai. Дата публикации: 2017-09-21.

Computerized systems and methods for temperature profile control in a reactor with a series of fixed beds

Номер патента: US11596915B2. Автор: Alan Bee Morrow,Paul Kesseler. Владелец: Aveva Software LLC. Дата публикации: 2023-03-07.

Electromagnetic energy-initiated plasma reactor systems and methods

Номер патента: US09908095B2. Автор: James Tranquilla. Владелец: Atlantic Hydrogen Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Electromagnetic energy-initiated plasma reactor systems and methods

Номер патента: CA2879342C. Автор: James Tranquilla. Владелец: Atlantic Hydrogen Inc. Дата публикации: 2021-07-27.

MEMS device with tiltable structure and improved control

Номер патента: US12066621B2. Автор: Marco Zamprogno,Andrea Barbieri,Roberto Carminati,Nicolo' BONI,Luca Molinari. Владелец: Stmicroelectron Srl. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma reactor

Номер патента: EP2233203B1. Автор: Dae-Hoon Lee,Kwan-Tae Kim,Young-Hoon Song,Min-Suk Cha,Jae-Ok Lee,Seock-Joon Kim. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2011-12-21.

Mems device with tiltable structure and improved control

Номер патента: EP4075184A1. Автор: Marco Zamprogno,Andrea Barbieri,Roberto Carminati,Nicolò BONI,Luca Molinari. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2022-10-19.

Plasma reactor and plasma chemical reactions

Номер патента: US20230285927A1. Автор: Dmitry Medvedev,Roman ILIEV,Boris MISLAVSKY,Mikhail MARIN,Evgeny GORELIK. Владелец: Nanoplazz Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Compact portable plasma reactor

Номер патента: US11767242B2. Автор: Subrata Roy,Sherlie Eileen Portugal Atencio,Alexander Gustaw Schindler-Tyka. Владелец: Surfplasma Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

CORONA EFFECT PLASMA DEVICE AND PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200060018A1. Автор: DE LINAGE Pierre,LUNEL Stephen. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

GAS/LIQUID PLASMA REACTOR WITH PULSED POWER SUPPLY AND SECONDARY DIRECT CURRENT ELECTRODES

Номер патента: US20200102231A1. Автор: LOCKE Bruce R.,Tang Youneng,Wandell Robert J.. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

GAS/LIQUID PLASMA REACTOR WITH PULSED POWER SUPPLY AND SECONDARY DIRECT CURRENT ELECTRODES

Номер патента: US20210206667A1. Автор: LOCKE Bruce R.,Tang Youneng,Wandell Robert J.. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

PLASMA DEVICE WITH CORONA EFFECT AND PLASMA REACTOR

Номер патента: FR3065615A1. Автор: Pierre De Linage,Stephen LUNEL. Владелец: Airinspace SE. Дата публикации: 2018-10-26.

Plasma reactor with internal transformer

Номер патента: KR100999182B1. Автор: 최대규. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2010-12-08.

Corona effect plasma device and plasma reactor

Номер патента: US11291102B2. Автор: Stéphane Chatenet,Pierre De Linage,Stephen LUNEL. Владелец: Airinspace SE. Дата публикации: 2022-03-29.

PLASMA DEVICE WITH CORONA EFFECT AND PLASMA REACTOR

Номер патента: FR3065615B1. Автор: Stephen LUNEL,Linage Pierre De. Владелец: Airinspace SE. Дата публикации: 2022-12-16.

Plasma reactor and plasma electrode plate

Номер патента: EP3389345A1. Автор: Norihiko Nadanami,Naoki NIWAYA,Shigehito Sakai. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-17.

Corona plasma device and plasma reactor

Номер патента: CN111279800A. Автор: 利纳盖 皮埃尔·德,斯蒂芬·留内尔. Владелец: Einspez. Дата публикации: 2020-06-12.

CONCENTRIC FLOW-THROUGH PLASMA REACTOR AND METHODS THEREFOR

Номер патента: US20130092525A1. Автор: Li Xuegeng,Kelman Maxim,Terry Mason,Rogojina Elena,Schiff Eric,Vanheusden Karel. Владелец: Innovalight, Inc.. Дата публикации: 2013-04-18.

HYBRID PLASMA REACTOR

Номер патента: US20130175928A1. Автор: CHOI Dae-Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-11.

PLASMA REACTOR

Номер патента: US20190055869A1. Автор: Nadanami Norihiko,ITOH Shinsuke,EBARA Yu. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

Membrane Plasma Reactor

Номер патента: US20170165630A1. Автор: Buchanan Walter Riley. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

Plasma reactor and method for decomposing a hydrocarbon fluid

Номер патента: US20160296905A1. Автор: Olaf Kühl. Владелец: Ccp Technology GmbH. Дата публикации: 2016-10-13.

DURABLE AUTO-IGNITION DEVICE FOR PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200306716A1. Автор: LEONARD,III George Stephen,McClelland Stefan Andrew,Tom Curtis Peter. Владелец: RECARBON, INC.. Дата публикации: 2020-10-01.

COMPACT PORTABLE PLASMA REACTOR

Номер патента: US20200325049A1. Автор: Roy Subrata,PORTUGAL ATENCIO SHERLIE EILEEN,SCHINDLER-TYKA ALEXANDER GUSTAW. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-15.

Low-pressure plasma reactor for the increase in abatement efficiency of pollutions

Номер патента: KR101980840B1. Автор: 김대웅,허민,이재옥,강우석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma reactor

Номер патента: KR100675752B1. Автор: 양성진,안영근,민흥식. Владелец: (주) 씨엠테크. Дата публикации: 2007-01-30.

PLASMA REACTOR AND PFCs REDUCTION SCRUBBER

Номер патента: KR102377982B1. Автор: 김유나,송호현,송영훈,이대훈,김관태,이희수,강홍재. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2022-03-23.

Method for the production of powders and a sealed microwave plasma reactor

Номер патента: FR2591412A1. Автор: Benoit D Armancourt. Владелец: Air Liquide SA. Дата публикации: 1987-06-12.

Vertically oriented plasma reactor

Номер патента: US20210291138A1. Автор: Qi Hua Fan,Martin E. Toomajian,Thomas Schuelke. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2021-09-23.

Plasma reactor

Номер патента: KR101515186B1. Автор: 최윤수. Владелец: 주식회사 에이피시스. Дата публикации: 2015-04-24.

Plasma reactor

Номер патента: US09574086B2. Автор: Peter L. Johnson,Robert J. Hanson,Roscoe W. Taylor. Владелец: Monolith Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Diphasic gas/liquid plasma reactor

Номер патента: EP3386626A1. Автор: Stephanie OGNIER,Michael Tatoulian,Mengxue Zhang. Владелец: Paris Sciences et Lettres Quartier Latin. Дата публикации: 2018-10-17.

Plasma reactor and method of operating a plasma reactor

Номер патента: US20190381475A1. Автор: Olaf Kühl. Владелец: Ccp Technology GmbH. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma reactor and method of operating a plasma reactor

Номер патента: EP3548426A1. Автор: Olaf Kühl. Владелец: Ccp Technology GmbH. Дата публикации: 2019-10-09.

A massive parallel plasma reactor array for gas conversion applications

Номер патента: WO2023170254A1. Автор: David Ziegler,Gill SCHELTJENS,Georgi TRENCHEV. Владелец: D-Crbn Bv. Дата публикации: 2023-09-14.

Method of depositing uniform films of Six Ny or Six Oy in a plasma reactor

Номер патента: US4289797A. Автор: Aline Akselrad. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1981-09-15.

Titanium product collection in a plasma reactor

Номер патента: US4356029A. Автор: Joachim V. R. Heberlein,Thomas N. Meyer,Michael G. Down. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1982-10-26.

Tool sharpener with tiltable sharpening stage

Номер патента: US20200361061A1. Автор: Joseph T. Zachariasen. Владелец: Darex LLC. Дата публикации: 2020-11-19.

Tool sharpener with tiltable sharpening stage

Номер патента: EP3969226A1. Автор: Joseph T. Zachariasen. Владелец: Darex LLC. Дата публикации: 2022-03-23.

Compound annular non-thermal plasma reactor core

Номер патента: EP4017624A4. Автор: Herek L. Clack,Kevin D. Melotti. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2023-07-05.

Method of sifting off valuable mineral substances from granular materials and plasma reactor

Номер патента: PL289214A1. Автор: Jerzy Romanowski,Juliusz Czaja. Владелец: Avny Ind Corp. Дата публикации: 1993-11-02.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: ZA202102744B. Автор: Ingels Rune. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2022-10-26.

Low pressure generating plasma reactor closed loop process and system

Номер патента: EP3870355A4. Автор: Rune Ingels. Владелец: N2 APPLIED AS. Дата публикации: 2022-08-10.

Aneutronic fusion plasma reactor and electric power generator

Номер патента: US20240266076A1. Автор: Ryan S. Wood,Ken E. KOPP. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma reactor and plasma scrubber using the same

Номер патента: KR100945038B1. Автор: 홍용철,심경섭,권순창. Владелец: 주식회사 아론. Дата публикации: 2010-03-05.

A kind of sliding arc plasma reactor with high operation stability

Номер патента: CN109569474A. Автор: 李晓东,张�浩,岑可法,严建华,孔相植. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2019-04-05.

A burner with tiltable nozzles

Номер патента: CA2609563C. Автор: Iwamaro Amano,Koutaro Fujimura,Ryuhei Takashima,Toshihiro Hirata,Munehiro Kakimi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-09-20.

Plasma reactor applicable plural plasma process

Номер патента: KR102145690B1. Автор: 김대승,서광하,고경오. Владелец: (주)이큐글로벌. Дата публикации: 2020-08-19.

Roller shutter with tiltable slats

Номер патента: WO2009143842A1. Автор: Henning Ebbesen,Ulrik Ulriksen. Владелец: VKR Holding A/S. Дата публикации: 2009-12-03.

Aneutronic fusion plasma reactor and electric power generator

Номер патента: EP4241286A1. Автор: Ryan S. Wood,Ken E. KOPP. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-13.

Seating system with tiltable deck and belt drive

Номер патента: US09809987B2. Автор: Timothy John Hockemeyer,Brian Staten,Joshua William Koch,Todd Alan Swarts. Владелец: ROGERS ATHLETIC COMPANY Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Syringe with tiltable nut for quick piston disengagement

Номер патента: US5961496A. Автор: Henrik Andersen,Preben Broskov Nielsen. Владелец: Novo Nordisk AS. Дата публикации: 1999-10-05.

Trailer with tiltable platform section

Номер патента: CA2646287C. Автор: Rene Bellerose,Alexandre Bellerose. Владелец: MAYER INTEGRATION Inc. Дата публикации: 2020-01-28.

Chair with tiltable backrest

Номер патента: CA2491841C. Автор: Giancarlo Piretti. Владелец: Pro Cord SpA. Дата публикации: 2010-08-24.

Wheelchair with tiltable seat

Номер патента: CA2311934C. Автор: Phil Mundy,Matt Delorme,Nancy Balcom. Владелец: PDG Product Design Group Inc. Дата публикации: 2012-08-21.

Vehicle with tiltable cab mounted on chassis

Номер патента: GB2418183A. Автор: Christoph Schlegel,Erwin Penias,Peter Fidi,Erwin Nechwatal. Владелец: MAN NUTZFAHRZEUGE OESTERREICH AG. Дата публикации: 2006-03-22.

Chair with tiltable backrest

Номер патента: CA2491841A1. Автор: Giancarlo Piretti. Владелец: Pro Cord SpA. Дата публикации: 2005-07-26.

Optical systems with tiltable filters

Номер патента: US20230324671A1. Автор: David Wayne Jasinski. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2023-10-12.

MICROWAVE PLASMA REACTORS

Номер патента: US20130101730A1. Автор: Becker Michael,KING David,Lu Jing,Asmussen Jes,Grotjohn Timothy,Reinhard Donnie K.,Schuelke Thomas,Yaran M. Kagan,Hemawan Kadek W.,Gu Yajun. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-25.

MAGNETIC FLUX CHANNEL COUPLED PLASMA REACTOR

Номер патента: US20130171038A1. Автор: CHOI Dae-Kyu. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-04.

LOW PRESSURE HIGH FREQUENCY PULSED PLASMA REACTOR FOR PRODUCING NANOPARTICLES

Номер патента: US20130189446A1. Автор: Casey James A.,Shamamian Vasgen. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-25.

PLASMA REACTOR GAS DISTRIBUTION PLATE WITH RADIALLY DISTRIBUTED PATH SPLITTING MANIFOLD

Номер патента: US20130315795A1. Автор: BERA KALLOL,Rauf Shahid. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-11-28.

IN-SITU VHF CURRENT SENSOR FOR A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20130320998A1. Автор: Kobayashi Satoru,Ramaswamy Kartik,Rauf Shahid,HANAWA Hiroji. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-12-05.

Centrifugal fluid ring plasma reactor

Номер патента: US20140113980A1. Автор: Richard Max MANDLE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-24.

PLASMA REACTOR FOR LIQUID AND GAS

Номер патента: US20170095788A1. Автор: Buchanan Walter Riley. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-06.

ANEUTRONIC FUSION PLASMA REACTOR AND ELECTRIC POWER GENERATOR

Номер патента: US20220148743A1. Автор: Wood Ryan S.,Kopp Ken E.. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

HYBRID PHOTOCHEMICAL/PLASMA REACTOR DEVICES

Номер патента: US20180099257A1. Автор: Park Sung-Jin,Eden James Gary,Mironov Andrey,Shin Charles. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-12.

COMPOUND ANNULAR NON-THERMAL PLASMA REACTOR CORE

Номер патента: US20220288552A1. Автор: CLACK Herek L.,MELOTTI Kevin D.. Владелец: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN. Дата публикации: 2022-09-15.

MEASUREMENT OF PLURAL RF SENSOR DEVICES IN A PULSED RF PLASMA REACTOR

Номер патента: US20140232374A1. Автор: Leray Gary. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-08-21.

ELECTROMAGNETIC ENERGY-INITIATED PLASMA REACTOR SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20150174550A1. Автор: Tranquilla James. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

PLASMA REACTOR

Номер патента: US20150218383A1. Автор: Hanson Robert J.,TAYLOR Roscoe W.,JOHNSON Peter L.. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-06.

METHODS AND APPARATUS FOR MATERIAL PROCESSING USING ATMOSPHERIC THERMAL PLASMA REACTOR

Номер патента: US20150274566A1. Автор: Boughton Daniel Robert. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2015-10-01.

PLASMA REACTOR FOR ABATING HAZARDOUS MATERIAL

Номер патента: US20150306540A1. Автор: Lee Jae Ok,Kang Woo Seok,HUR Min. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-29.

PLASMA REACTOR FOR ABATEMENT OF HAZARDOUS MATERIAL

Номер патента: US20150314233A1. Автор: Lee Jae Ok,Kang Woo Seok,HUR Min. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

PLASMA REACTOR FOR LIQUID AND GAS AND METHOD OF USE

Номер патента: US20180311639A1. Автор: Buchanan Walter Riley,Forsee Grant William. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20180312413A1. Автор: BARCZYK Robert. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

PLASMA REACTOR

Номер патента: US20170349758A1. Автор: Hanson Robert J.,TAYLOR Roscoe W.,JOHNSON Peter L.. Владелец: MONOLITH MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2017-12-07.

Diphasic Gas/Liquid Plasma Reactor

Номер патента: US20180369778A1. Автор: Tatoulian Michael,Ognier Stéphanie,Zhang Mengxue. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Plasma reactor and process for producing lower-energy hydrogen species

Номер патента: EA200501614A2. Автор: Рэнделл Л. Миллс. Владелец: Блэклайт Пауэр, Инк.. Дата публикации: 2006-08-25.

Plasma reactor and method for treating water using the same

Номер патента: KR100223884B1. Автор: 심순용. Владелец: 엘지산전주식회사. Дата публикации: 1999-10-15.

Plasma reactor and process for producing lower-energy hydrogen species

Номер патента: KR20060008888A. Автор: 란델 엘. 밀스. Владелец: 블랙라이트 파워 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-01-27.

Plasma reactor structure for decreasing exhaust gas from vehicles

Номер патента: KR100488690B1. Автор: 김연승,정치영,조형제,홍은기. Владелец: 현대자동차주식회사. Дата публикации: 2005-05-11.

Plasma reactor where gas is injected

Номер патента: KR102052281B1. Автор: 김대승,서광하,고경오. Владелец: (주)이큐글로벌. Дата публикации: 2019-12-04.

Pm reduction method of dpf system using plasma reactor

Номер патента: KR100692948B1. Автор: 송영훈,이재옥,이대훈,김관태,차민석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2007-03-12.

Fuel oxygen reduction unit with plasma reactor

Номер патента: US10914274B1. Автор: Ethan Patrick O'Connor,Christian Xavier Stevenson,Timothy John Sommerer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2021-02-09.

Plasma reactor and decreasing device of exhaust gas having it

Номер патента: KR100828157B1. Автор: 최민호,윤성식,허성준,홍순철. Владелец: (주)템스. Дата публикации: 2008-05-08.

Plate type plasma reactor for hydrogen production through ammonia decomposition

Номер патента: CN101863455B. Автор: 王丽,郭洪臣,赵越,宫为民. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2012-01-25.

Plasma reactor and process for producing lower-energy hydrogen species.

Номер патента: CN1798697A. Автор: 兰德尔·L·米尔斯. Владелец: Blacklight Power Inc. Дата публикации: 2006-07-05.

DIELECTRIC BARRIER TYPE PLASMA REACTOR

Номер патента: FR3123228A1. Автор: Paul-Quentin ELIAS,Radoslaw DEBEK,Maria Elena GALVEZ. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 2022-12-02.

Motor vehicle with tiltable headlamps

Номер патента: US4027149A. Автор: Frederick Raymond Patrick Martin. Владелец: Lucas Electrical Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-31.

Water treatment apparatus using plasma reactor

Номер патента: GB2328133B. Автор: Soon Yong Shim. Владелец: LG Industrial Systems Co Ltd. Дата публикации: 2001-08-15.

Method of growing single crystal diamond in a plasma reactor

Номер патента: US20050109267A1. Автор: Robert Linares,Patrick Doering. Владелец: Apollo Diamond Inc. Дата публикации: 2005-05-26.

Plasma reactor-separator

Номер патента: WO2006052165A3. Автор: Jury Aleksandrovich Burlov,Ivan Jurievich Burlov,Aleksandr Jurievich Burlov. Владелец: Aleksandr Jurievich Burlov. Дата публикации: 2006-08-24.

Plasma reactor for gas to liquid fuel conversion

Номер патента: US20110190565A1. Автор: Yury N. Novoselov,Alexey I. Suslov,Oleg P. Kutenkov. Владелец: EVOenergy LLC. Дата публикации: 2011-08-04.

Plasma reactor

Номер патента: EP0958859A1. Автор: David A. Goulette,Charles Scott Nelson. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 1999-11-24.

The plasma reactor which is built in the exhaust air passage

Номер патента: KR100815601B1. Автор: 이희영,임혁,문희중. Владелец: (주)씨맥스. Дата публикации: 2008-03-20.

Plasma reactor and method therefor

Номер патента: CA1167175A. Автор: Frank W. Engle. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-05-08.

Plasma reactor for reprocessing refractory materials

Номер патента: RU2035128C1. Автор: Владимир Павлович Шевцов. Владелец: Владимир Павлович Шевцов. Дата публикации: 1995-05-10.

Catalytic plasma reactor system

Номер патента: MY151058A. Автор: Noraishah Saidina Amin,Istadi. Владелец: Univ Malaysia Tech. Дата публикации: 2014-03-31.

Plasma reactor with a tri-magnet plasma confinement apparatus

Номер патента: TW523786B. Автор: Hamid Noorbakhsh,Efrain Quiles,James D Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-11.

Plasma reactor with a tri-magnet plasma confinement apparatus

Номер патента: TW502294B. Автор: Hamid Noorbakhsh,Efrain Quiles,James D Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-11.

Plasma reactor with porous filtration materials

Номер патента: AU2002307860A1. Автор: David Leslie Segal,James Timothy Shawcross,Michael Inman,Suzanne Elizabeth Truss. Владелец: ACCENTUS MEDICAL PLC. Дата публикации: 2002-12-16.

Systems for controlling plasma reactors

Номер патента: CA3134433A1. Автор: Wei Li,Fei Xie,Curtis Peter Tom. Владелец: ReCarbon Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Inductively coupled plasma reactor

Номер патента: AU2002231067A1. Автор: Valery Godyak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-08.

A gas supply device and a plasma reactor thereof

Номер патента: TWI590291B. Автор: xu-sheng Zhou,hong-qing Wang. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-01.

PLASMA REACTOR HAVING DUAL INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE

Номер патента: US20130052830A1. Автор: CHOI Dae-Kyu,KIM Gyoo-Dong. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-28.

Side injection gas nozzle of plasma etching chamber and plasma reactor device

Номер патента: TWI618111B. Автор: 許育銨. Владелец: 台灣美日先進光罩股份有限公司. Дата публикации: 2018-03-11.

Plasma discharge plate and plasma reactor

Номер патента: CN208210407U. Автор: 张星,竹涛,边文璟. Владелец: Ding Ge Environmental Technology (suzhou) Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-07.

Atmospheric glow discharge plasma reactor with rotating electrodes

Номер патента: CN203610023U. Автор: 吴晓东,王方旭. Владелец: SICHUAN HUANLONG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-28.

Radio frequency plasma reactor in which reaction sample jetting part is inserted into plasma flame

Номер патента: JPS6358799A. Автор: 豊信 吉田,今井 司郎. Владелец: Nihon Koshuha Co Ltd. Дата публикации: 1988-03-14.

PLASMA REACTOR

Номер патента: US20120034137A1. Автор: Risby Philip John. Владелец: GASPLAS AS. Дата публикации: 2012-02-09.

FALLING FILM PLASMA REACTOR

Номер патента: US20120060759A1. Автор: Moore Robert R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

IN-SITU VHF VOLTAGE/CURRENT SENSORS FOR A PLASMA REACTOR

Номер патента: US20120086464A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

SHOWERHEAD CONFIGURATIONS FOR PLASMA REACTORS

Номер патента: US20120108072A1. Автор: Li Zhao,Angelov Ivelin A.,Caron James E.,Kalinovski Ilia. Владелец: . Дата публикации: 2012-05-03.

PLASMA REACTOR FOR THE SYNTHESIS OF NANOPOWDERS AND MATERIALS PROCESSING

Номер патента: US20120201266A1. Автор: Boulos Maher I.,Jurewicz Jerzy,Guo Jiayin. Владелец: TEKNA PLASMA SYSTEMS INC.. Дата публикации: 2012-08-09.

PLASMA REACTOR

Номер патента: US20130052369A1. Автор: Salabas Aurel,Taha Abed al hay,Chaudhary Devendra,Klindworth Markus,Ellert Christoph. Владелец: OERLIKON SOLAR AG, TRUEBBACH. Дата публикации: 2013-02-28.

PLASMA REACTOR FOR REMOVAL OF CONTAMINANTS

Номер патента: US20130087287A1. Автор: Lee Jae Ok,KIM Kwan-Tae,Kang Woo Seok,LEE Dae-hoon,HUR Min,SONG Young-Hoon. Владелец: KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS. Дата публикации: 2013-04-11.

System, Method and Apparatus of a Wedge-Shaped Parallel Plate Plasma Reactor for Substrate Processing

Номер патента: US20130119020A1. Автор: Hudson Eric. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-16.

Plasma reactor

Номер патента: JP4178775B2. Автор: 和史 金子,平 村上. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-11-12.

Combiner of remote plasma reactor

Номер патента: CN2808933Y. Автор: 威廉·N·斯特林,罗宾·泰诺. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-08-23.

Plasma reactor

Номер патента: RU2176277C1. Автор: В.А. Кулабухов,Ю.А. Бурлов,И.Ю. Бурлов,А.Ю. Бурлов. Владелец: Бурлов Юрий Александрович. Дата публикации: 2001-11-27.

Snubber circuit for power supply for plasma reactor

Номер патента: JP6563263B2. Автор: 裕久 田中,力 道岡,道岡 力,田中 裕久. Владелец: Daihatsu Motor Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-21.

Vacuum Plasma Reactor

Номер патента: RU2015118542A. Автор: Анатолий Георгиевич Леонов. Владелец: Анатолий Георгиевич Леонов. Дата публикации: 2016-12-10.

Plasma reactor

Номер патента: JPS617600A. Автор: 博之 山田,弘一 近藤,平竹 進. Владелец: Daido Steel Co Ltd. Дата публикации: 1986-01-14.

Capacitive coupling plasma reactor and control method thereof

Номер патента: TW201351469A. Автор: Kevin Pears. Владелец: Advanced Micro Fab Equip Inc. Дата публикации: 2013-12-16.

Power supply for plasma reactor

Номер патента: JP6675786B2. Автор: 裕親 下永吉,遼一 島村,下永吉 裕親. Владелец: Daihatsu Motor Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-01.

A kind of plasma reactor being applied to gas phase/gas-solid phase reaction

Номер патента: CN204167256U. Автор: 柳娜,吴红菊,贺新福. Владелец: Xian University of Science and Technology. Дата публикации: 2015-02-18.

A kind of inductively coupled plasma reactor

Номер патента: CN105810545B. Автор: 倪图强,张辉. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2017-09-29.