CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS AND METHOD OF FORMING FILM
Номер патента: US20220033964A1
Опубликовано: 03-02-2022
Автор(ы): Chen Pei-Yu, Hung Wan-Yu
Принадлежит: WINBOND ELECTRONICS CORP.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-02-2022
Автор(ы): Chen Pei-Yu, Hung Wan-Yu
Принадлежит: WINBOND ELECTRONICS CORP.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine
Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.