不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法
Номер патента: JPH1187539A
Опубликовано: 30-03-1999
Автор(ы): Hajime Arai, 肇 新井
Принадлежит: Mitsubishi Electric Corp
Опубликовано: 30-03-1999
Автор(ы): Hajime Arai, 肇 新井
Принадлежит: Mitsubishi Electric Corp
Реферат: (57)【要約】
【課題】 フローティングゲート電極への電子の注入お よびフローティングゲート電極からの電子の引抜きが容 易でありかつデータが揮発しにくい不揮発性半導体記憶 装置を提供する。
【解決手段】 不揮発性半導体記憶装置は、シリコン基 板1と、シリコン基板1上にシリコン酸化膜3を介在さ せて形成したフローティングゲート電極4と、フローテ ィングゲート電極4の一部分の上に層間絶縁膜5を介在 させて形成したコントロールゲート電極6と、フローテ ィングゲート電極4の他の部分の上に絶縁膜を介在させ て形成した消去電極9とを備える。絶縁膜はシリコン窒 化膜5bとシリコン酸化膜5aとを含む。
Non-volatile semiconductor memory device and method for producing the same
Номер патента: US20020000603A1. Автор: Kiyohiko Sakakibara,Hirotada Kuriyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-01-03.