Method for producing a semiconductor including a material layer
Номер патента: US20090325361A1
Опубликовано: 31-12-2009
Автор(ы): Anton Mauder, Frank Pfirsch, Raimund Foerg, Rudolf Berger, Stefan Sedlmaier, Wolfgang Lehnert
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-12-2009
Автор(ы): Anton Mauder, Frank Pfirsch, Raimund Foerg, Rudolf Berger, Stefan Sedlmaier, Wolfgang Lehnert
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure and a method for processing a carrier
Номер патента: US20160099311A1. Автор: Erhard Landgraf,Dmitri Alex Tschumakow,Claus Dahl,Steffen Rothenhaeusser. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-04-07.