Method for preparing a pattern to be printed on a plate or mask by electron beam lithography, corresponding printed circuit design system and computer program
Номер патента: EP2701006A2
Опубликовано: 26-02-2014
Автор(ы): Jerome Belledent
Принадлежит: Aselta Nanographics SA, Commissariat a lEnergie Atomique CEA, Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-02-2014
Автор(ы): Jerome Belledent
Принадлежит: Aselta Nanographics SA, Commissariat a lEnergie Atomique CEA, Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for estimating patterns to be printed on a plate or mask by means of electron-beam lithography and corresponding printing device
Номер патента: US09430597B2. Автор: Jerome Belledent. Владелец: Aselta Nanographics SA. Дата публикации: 2016-08-30.