Method of fabricating semiconductor thin film and method of fabricating hall-effect device
Номер патента: EP0632485B1
Опубликовано: 22-12-1999
Автор(ы): Makoto Kitabatake, Takashi Hirao, Tetuhiro Koretika, Tetuo Kawasaki
Принадлежит: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-12-1999
Автор(ы): Makoto Kitabatake, Takashi Hirao, Tetuhiro Koretika, Tetuo Kawasaki
Принадлежит: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating semiconductor thin film and a Hall-effect device
Номер патента: US5385864A. Автор: Tetuo Kawasaki,Tetuhiro Koretika,Kitabatake,Takasi Hirao. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1995-01-31.