Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Method of chemical/mechanical polishing of the surface of semiconductor device

Method of chemical/mechanical polishing of the surface of semiconductor device

Номер патента: US6867138B2
Опубликовано: 15-03-2005
Автор(ы): Naoto Miyashita, Takeshi Nishioka
Принадлежит: Toshiba Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US09493677B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of polishing metal layer

Номер патента: US12024651B2. Автор: Teng-Chun Tsai,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU,Huang-Lin Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Chemical mechanical polishing compositions and methods of use thereof

Номер патента: EP4263748A1. Автор: Bin Hu,Qingmin Cheng,Yannan LIANG,Liqing WEN (Richard). Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2023-10-25.

Method of chemical/mechanical polishing of the surface of semiconductor device

Номер патента: US6468911B1. Автор: Naoto Miyashita,Takeshi Nishioka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-10-22.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: EP2128893A4. Автор: Tomohisa Konno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-05-18.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: WO2008114563A1. Автор: Tomohisa Konno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-09-25.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: TW200839864A. Автор: Tomohisa Konno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: EP2128893A1. Автор: Tomohisa Konno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-02.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US20130344777A1. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20210391186A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US12002684B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20240290629A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20230082084A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064846B2. Автор: Michael E. Mills,Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton,Annette M. Crevasse,Vere O. Archibald. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Methods and systems for chemical mechanical polish and clean

Номер патента: US09449841B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Ying-Liang Chuang,Ming-Liang Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Metal structure and method of manufacturing the same and metal wire and semiconductor device and electronic device

Номер патента: US20210028024A1. Автор: Do Yoon Kim,Kenji Takai,Boun Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-28.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Method of controlling particle in chemical-mechanical polishing slurry in polishing process for semiconductor wafer

Номер патента: JPH10199835A. Автор: Vikki Sue Simpson,Franklin Louis Allen,Palmer Arthur Miller,Gary Lee Etheridge,Mohendra S Bawa,リー エイザーリッジ ゲイリー,エス．バワ モヘンドラ,Michael H Grimes,エィチ．グリムス マイケル,ルイス アレン フランクリン,Anglois Kenneth John L,ジョン ラングロワ ケネス,アーサー ミラー パーマー,スー シンプソン ビッキ. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1998-07-31.

Method of manufacturing slurry for chemical mechanical polishing and slurry for chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: KR101105480B1. Автор: 한명훈,황준하,서명원,윤영호,정우영. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2012-01-13.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Method of manufacturing slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101094161B1. Автор: 황준하,서명원,권장국,윤영호,정우영. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2011-12-14.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Methods of planarization and electro-chemical mechanical polishing processes

Номер патента: US8974655B2. Автор: Whonchee Lee,Wayne Huang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-10.

Methods of Planarization and Electro-Chemical Mechanical Polishing Processes

Номер патента: US20090239379A1. Автор: Whonchee Lee,Wayne Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-09-24.

Chemical mechanical polishing (cmp) slurry, semiconductor structure, and manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US20230057872A1. Автор: Chang-Yi Tsai. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Chemical mechanical polishing for copper dishing control

Номер патента: US12033964B2. Автор: Ki Cheol Ahn,Joseph F. Salfelder,Kai Ma,Raghav SREENIVASAN,Tyler Sherwood,Jason Appell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Method and system for performing chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230278160A1. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Yu-chen Wei,Huai-Tei Yang,Chih-Yuan Yang,Li-Hsiang Chao,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2000054935A9. Автор: John A Adams,Robert A Eaton,Thomas Frederick Allen J Bibby. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

Apparatus for printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09457520B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20230278159A1. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Chemical mechanical polishing system and method for planarizing substrates in fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20040092112A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Shao-Chung Hu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-05-13.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6106662A. Автор: John A. Adams,Christopher E. Barns,Thomas Frederick Allen Bibby, Jr.,Robert A. Eaton,Charles Hannes. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Method for an improved chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2010019339A2. Автор: Yulin Wang,Alpay Yilmaz,Roy Nangoy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-02-18.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20240217054A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and method for distribution of slurry in a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US5709593A. Автор: William L. Guthrie,Norm Shendon,Semyon Spektor,Ivan A. Ocanada. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-01-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US11964358B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Temperature Control in Chemical Mechanical Polish

Номер патента: US20240149388A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20210205950A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing and Method

Номер патента: US20230398659A1. Автор: Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Te-Chien Hou,Liang-Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Coated compressive subpad for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP3221085A1. Автор: Diane Scott,Paul Andre Lefevre. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-09-27.

Optical monitoring in a two-step chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030003845A1. Автор: Stan Tsai,Rajeev Bajaj,David Chan,Manoocher Birang,Fred Redeker,Boguslaw Swedek,Bret Adams,Andreas Wiswesser,Savitha Nanjangud. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-02.

Slurry composition for a chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240271006A1. Автор: Ungyu Paik,Cheol Min Shin,Hyun Goo Kang,Hojin Jeong,Taeseup SONG. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2024-08-15.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US12011801B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Layered-filament lattice for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7517277B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-04-14.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Chemical mechanical polishing articles

Номер патента: EP4276885A1. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Jason G. Fung,Russell Edward Perry,Gregory E Menk. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Systems and methods for mechanical and/or chemical-mechanical polishing of microfeature workpieces

Номер патента: EP1633526A2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-03-15.

Temperature control in chemical mechanical polish

Номер патента: US11904430B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Apparatus and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240051085A1. Автор: Jung-Chih Tsao,Jun-Nan Nian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Endpointing detection for chemical mechanical polishing based on spectrometry

Номер патента: US9583405B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Jeffrey Drue David,Boguslaw A. Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical-mechanical polishing abrasive pad conditioner and method for manufacturing same

Номер патента: US10525567B2. Автор: Jui-Lin Chou,Chung-Yi Cheng,Chin-Chung Chou,Yu-Chau Hung,Hsin-Chun Wang. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2020-01-07.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Temperature modification for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09550270B2. Автор: Yeh-Chieh Wang,Chi-Hao Huang,Jung-Lung Hung,Rong-June Hsiao,Hong-Hsing Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of fabricating slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR100479416B1. Автор: 신원조,김종헌,문상태,조성운. Владелец: 테크노세미켐 주식회사. Дата публикации: 2005-03-30.

Bulk ruthenium chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11999876B2. Автор: Bin Hu,Ting-Kai Huang,Yannan LIANG,David (Tawei) Lin,Liqing (Richard) Wen. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A4. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-16.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A2. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

Aqueous polishing composition and process for chemically mechanically polishing substrates for electrical, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2607214C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method of preparing the same, chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US8480920B2. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Taichi Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-09.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method of preparing the same, chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20100252774A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Taichi Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09799578B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,David J. Lischka. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing composition and process

Номер патента: US09676966B2. Автор: Akitoshi Yoshida,Haruki Nojo,Pascal Berar,Hirofumi Kashihara. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09564377B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,David J. Lischka. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing slurry buildup monitoring

Номер патента: US11890722B2. Автор: Thomas Ho Fai LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2008055174A3. Автор: Dominic J Benvegnu,Boguslaw A Swedek,David J Lischka. Владелец: David J Lischka. Дата публикации: 2008-07-10.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2008055174A2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,David J. Lischka. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-05-08.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Chemical mechanical polishing of metal gate cuts formed after source and drain contacts

Номер патента: US20240213026A1. Автор: Matthew J. Prince,Robert R. Mitchell,Girish Sharma,Reza Bayati,Alison V. DAVIS,Swapnadip Ghosh,Lawrence Zaino,Barry B. Butler,Rajaram A. Pai,Niels Sveum,Chun Chen Kuo. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Fabrication process of semiconductor device and polishing method

Номер патента: US20060219662A1. Автор: Tetsuya Shirasu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Cleaner for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240208005A1. Автор: Jongsu Kim,Sungyong PARK,Hoseop Choi,Jubong LEE,Hyunjoon Park,Bongki PARK,Eunsun PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Printed chemical mechanical polishing pad having particles therein

Номер патента: US11794308B2. Автор: Kasiraman Krishnan,Nag B. Patibandla,Periya Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20230381918A1. Автор: Chia-Lin Hsueh,Chun-Hsi Huang,Huang-Chu KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Replacing tool for sponge brush, method for installing sponge brush, and semiconductor chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12122014B2. Автор: Lingfeng HAN,Chin-Chung Ku,Jinwei DANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230405756A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Kang Huang,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Arrangement of a chemical-mechanical polishing tool and method of chemical-mechanical polishing using such a chemical-mechanical polishing tool

Номер патента: US20060014479A1. Автор: Viet Nguyen Hoang,Herma Van Kranenburg,Albert Hof,Pierre Woerlee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Method of CMP pad conditioning

Номер патента: US09908213B2. Автор: Feng-Inn Wu,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Ceramic composition having dispersion of nano-particles therein and methods of fabricating same

Номер патента: WO2014093391A2. Автор: Georgeta Masson,Juanita N. Kurtin. Владелец: Pacific Light Technologies Corp.. Дата публикации: 2014-06-19.

Polishing head of chemical mechanical polishing apparatus for manufacturing semiconductor device and chemical mechanical polishing apparatus having it

Номер патента: KR100416808B1. Автор: 김영민,윤철주. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-01-31.

Slurry composition for chemical-mechanical polishing and method of chemical-mechanical polishing with the same

Номер патента: US20090203213A1. Автор: Jong-Won Lee,Chang-ki Hong,Sang-Yeob Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-08-13.

Slurry composition for chemical-mechanical polishing and method of chemical-mechanical polishing with the same

Номер патента: US8338300B2. Автор: Jong-Won Lee,Chang-ki Hong,Sang-Yeob Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-12-25.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: CN1227152A. Автор: 土屋泰章,铃木三惠子. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-09-01.

Chemical mechanical polishing stopper film, process for producing the same, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US7153767B2. Автор: Takashi Okada,Kinji Yamada,Michinori Nishikawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-12-26.

Method of the preparation for the composite polishing layer of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: CN107695869B. Автор: J·考兹休克,B·钱,G·C·雅各布,布鲁福 T·布鲁加罗拉斯,D·M·韦内齐亚莱,Y·童,D·卢戈,J·B·米勒,T·Q·陈,M·R·斯塔克,A·旺克,J·J·亨德伦. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2019-06-21.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TWI731225B. Автор: 巴札拉吉菲,李泰倫斯Ｙ,秦貝瑞李. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-06-21.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TWI767681B. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-06-11.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TW202323015A. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2023-06-16.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TW202140246A. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-11-01.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240342857A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Slurry composition for chemical mechanical polishing and process of chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101481573B1. Автор: 이종원,한상엽,홍창기. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2015-01-14.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Method of processing substrate, post-chemical mechanical polishing cleaning method, and method of and program for manufacturing electronic device

Номер патента: TW200723390A. Автор: Eiichi Nishimura,Kenya Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-16.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Evaluating pattern for measuring an erosion of a semiconductor wafer polished by a chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020036505A1. Автор: Tadashi Narita. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-03-28.

Cleaning composition after chemical mechanical polishing of organic film and cleaning method using the same

Номер патента: US09845444B2. Автор: Sang-kyun Kim,Dong-Min Kang,Dong-Jin Kim,Dong-hun Kang,Jung-Min Choi,Yong-Sik Yoo,Chung-Kyung Jung,Ahn-Ho LEE,Go-Un Kim,Yu-Ri Jung,Young-Chul Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-19.

Evaluating pattern for measuring an erosion of a semiconductor wafer polished by a chemical mechanical polishing

Номер патента: US6774660B2. Автор: Tadashi Narita. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-10.

System and method of broad band optical end point detection for film change indication

Номер патента: EP1490898A2. Автор: Vladimir Katz,Bella Mitchell. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-29.

System and method of broad band optical end point detection for film change indication

Номер патента: EP1490898A4. Автор: Vladimir Katz,Bella Mitchell. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Wet chemical heating system and a method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230095741A1. Автор: Liang-Guang Chen,Chih Hung Chen,Keith Kuang-Kuo Koai,Chyi Shyuan Chern,Ji James Cui,Chia-Hsun Chang,Tzu kai Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Wet chemical heating system and a method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200070301A1. Автор: Liang-Guang Chen,Chih Hung Chen,Keith Kuang-Kuo Koai,Chyi Shyuan Chern,Ji James Cui,Chia-Hsun Chang,Tzu kai Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240363447A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Chen-Hao WU,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Jeng-Chi Lin,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Chemically modified chemical mechanical polishing pad, process of making a modified chemical mechanical polishing pad and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20070037491A1. Автор: Yuzhuo Li,Stuart Hellring,Tianxi Zhang,Jason Keleher. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2007-02-15.

Silica-based slurry for selective polishing of carbon-based films

Номер патента: US11802220B2. Автор: Helin Huang,Brian Reiss,Fernando HUNG LOW,Michael Morrow. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-10-31.

Semiconductor device fabrication methods and devices for forming the same

Номер патента: US20240359287A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Te-Chien Hou,Yu-Heng Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2009133793A1. Автор: 裕貴 仕田,英一郎 國谷,崇文 清水,馬場　淳. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-11-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101610976B1. Автор: 히로타카 시다,다카후미 시미즈,아츠시 바바,에이치로 구니타니. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-04-08.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201000614A. Автор: Hirotaka Shida,Takafumi Shimizu,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-01.

Slurry for chemical mechanical polishing, method of chemical mechanical polishing and process for manufacturing electronic device

Номер патента: WO2007135794A1. Автор: Toranosuke Ashizawa,Naoyuki Koyama,Takayuki Nakakawaji,Ryo Ota. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2007-11-29.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Economical and environmentally friendly chemical mechanical polishing for III-V compound semiconductor device fabrication

Номер патента: US09601482B1. Автор: Alexander Reznicek,Devendra K. Sadana,Keith E. Fogel,Charan V. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Oxide film reaction surface control agent, method of forming oxide film using oxide film reaction surface control agent, semiconductor substrate including oxide film, and semiconductor device including semiconductor substrate

Номер патента: US20240352583A1. Автор: Seung Hyun Lee,Chang Bong Yeon,Jae Sun Jung,Deok Hyun Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Cleaning composition and method for cleaning a semiconductor device substrate after chemical mechanical polishing

Номер патента: US09481855B2. Автор: Atsushi Otake,Akira Kuroda. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of wafer reclaim

Номер патента: US20020173115A1. Автор: Ching-Yu Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

System for cleaning wafer in cmp process of semiconductor manufacturing fabrication

Номер патента: US20210060624A1. Автор: Chia-Lin Hsueh,Chia-Ying TIEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Apparatus and method of brush cleaning using periodic chemical treatments

Номер патента: WO2024210981A1. Автор: Brian J. Brown. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and method of brush cleaning using periodic chemical treatments

Номер патента: US20240332037A1. Автор: Brian J. Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus of chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070082490A1. Автор: Tzu-Yu Tseng,Chun-Ting Hu,Chu-Yi Hsieh,Hung-Chi Pai,Yung-Chieh Kuo. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-04-12.

A METHOD OF CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF AN ELECTRONIC COMPONENT SUBSTRATE AND POLISH COMPOSITION FOR THE SAME.

Номер патента: ES2080818T3. Автор: Anton Nenadic,Jeffrey William Carr,Lawrence Daniel David,William Leslie Guthrie,Frank Benjamin Kaufman,William John Patrick,Kenneth Parker Rodbell,Robert William Pasco. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-02-16.

Chemical mechanical polishing for improved contrast resolution

Номер патента: US09982351B1. Автор: Adam P. Rabe. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2018-05-29.

Apparatus and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200180103A1. Автор: Sangheon Ye,Seyoon OH,Seonghyeon CHEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Vapor deposition method of forming low cost semiconductor solar cells including reconstitution of the reacted gases

Номер патента: US3969163A. Автор: Gene Felix Wakefield. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1976-07-13.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Method of minimizing dishing during chemical mechanical polishing of semiconductor metals for making a semiconductor device

Номер патента: US6093656A. Автор: Xi-Wei Lin. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-25.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Selective modification method of a base material surface

Номер патента: US20200051813A1. Автор: Hiroyuki Komatsu,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Method for treating the surface of a silicon-carbide substrate including a removal step in which a modified layer produced by polishing is removed by heating under Si vapor pressure

Номер патента: US09978597B2. Автор: Noboru Ohtani,Tadaaki Kaneko,Kenta Hagiwara. Владелец: KWANSEI GAKUIN EDUCATIONAL FOUNDATION. Дата публикации: 2018-05-22.

Manufacturing method of semiconductor chip, and kit

Номер патента: US11914300B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Manufacturing method of semiconductor chip, and kit

Номер патента: US20240152055A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Methods for forming interconnections between top electrodes in memory cells by a two-step chemical-mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09443763B2. Автор: Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Method of and apparatus for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020182978A1. Автор: Ralf Lukner,Owen Hehmeyer. Владелец: Momentum Technical Consulting Inc. Дата публикации: 2002-12-05.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: WO2007148277A3. Автор: Fred Hurx,Johannes Josephus Theo Donkers. Владелец: Johannes Josephus Theo Donkers. Дата публикации: 2008-02-28.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: EP2038919A2. Автор: Johannes Josephus Theodorus Marinus Donkers,Fred Hurx. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2009-03-25.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: WO2007148277A2. Автор: Johannes Josephus Theodorus Marinus Donkers,Fred Hurx. Владелец: NXP B.V.. Дата публикации: 2007-12-27.

Methods of Performing Chemical-Mechanical Polishing Process in Semiconductor Devices

Номер патента: US20200312708A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Methods of performing chemical-mechanical polishing process in semiconductor devices

Номер патента: US11742239B2. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20230078573A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chih-Chieh Chang,Chun-Hao Kung,Tung-Kai Chen,Kao-Feng Liao,Hui-Chi Huang,Chia-Jung Hsu,Ching-hsiang Tsai,Fang-I Chih,Hsin-ying Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

Methods of Performing Chemical-Mechanical Polishing Process in Semiconductor Devices

Номер патента: US20230386910A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing stop layer for fully amorphous phase change memory pore cell

Номер патента: US8492194B2. Автор: Chung H. Lam,Matthew J. Breitwisch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-07-23.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method of using platinum metallization in system of redistribution of contact pads of crystals of integrated microcircuits and semiconductor devices

Номер патента: RU2717264C1. Автор: Никита Владимирович Рогозин,Виталий Владимирович Побединский. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электронной техники". Дата публикации: 2020-03-19.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Rinsing wafers using composition-tunable rinse water in chemical mechanical polish

Номер патента: US09659796B2. Автор: Ming-Che Ho,Cheng Hsun Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor Device and Method of Forming Air Gap Adjacent to Stress Sensitive Region of the Die

Номер патента: US20130093068A1. Автор: Reza A. Pagaila. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2013-04-18.

Method of making a polycide interconnection layer having a silicide film formed on a polycrystal silicon for a semiconductor device

Номер патента: US20030205769A1. Автор: Hirotomo Miura. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-11-06.

Pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230347470A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski,Donna M. Alden. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Reduction of dishing during chemical mechanical polish of gate structure

Номер патента: US20180301348A1. Автор: Ta-Wei Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Chemical mechanical polishing dishing resistant structure

Номер патента: US20220367387A1. Автор: Chia-En HUANG,Meng-Han LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Chemical mechanical polishing dishing resistant structure

Номер патента: US12100673B2. Автор: Chia-En HUANG,Meng-Han LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing topography reset and control on interconnect metal lines

Номер патента: US20220270915A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and CMP pads made therewith

Номер патента: US11806830B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US11772230B2. Автор: Jing Ren,Bryan E. Barton,Kwadwo Tettey. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Stacked container capacitor using chemical mechanical polishing

Номер патента: US5627094A. Автор: Lap Chan,Yeow M. Teo. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1997-05-06.

Chemical mechanical polishing topography reset and control on interconnect metal lines

Номер патента: US11810816B2. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Reclamation and recycling of semiconductor workpieces

Номер патента: US20220152746A1. Автор: Andrew Beers,Ronald Macklin. Владелец: Abm Consulting LLC. Дата публикации: 2022-05-19.

Post cmp brush and method of manufacture

Номер патента: EP4399737A1. Автор: Rajeev Bajaj. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-17.

Method of manufacturing photonic crystal and method of manufacturing surface-emitting laser

Номер патента: US20130252360A1. Автор: Katsuyuki Hoshino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-09-26.

Method of forming compound semiconductor

Номер патента: WO2012001600A2. Автор: Heinz Schmid,Guy M. Cohen,Sarunya Bangsaruntip,Heike E. Riel,Mikael T. Bjoerk. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of growing semiconductor layers, method of manufacturing semiconductor device, and method of growing balk crystal

Номер патента: US20200365402A1. Автор: Tatsuji Nagaoka,Hiroyuki Nishinaka,Masahiro Yoshimoto,Daisuke Tahara. Владелец: Kyoto Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2020-11-19.

Method of manufacturing an article and article manufactured by means of the method

Номер патента: US3853613A. Автор: H Wilting. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1974-12-10.

Photoconducting layered material arrangement, method of fabricating the photoconducting layered material arrangement, and use of the photoconducting layered material arrangement

Номер патента: US20210384367A1. Автор: Hong Lu,Arthur C. Gossard,Sascha Preu,Christopher J. Palmstrom. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET DARMSTADT. Дата публикации: 2021-12-09.

Method of making a capacitor via chemical mechanical polish

Номер патента: US5821151A. Автор: Horng-Huei Tseng. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1998-10-13.

Protective insulating layer and chemical mechanical polishing for polycrystalline thin film solar cells

Номер патента: US09741890B2. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,Talia S. Gershon,Supratik Guha,Jeehwan Kim,Byungha Shin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Method of processing dummy pattern based on boundary length and density of wiring pattern, semiconductor design apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20120199979A1. Автор: Keisuke Hirabayashi. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2012-08-09.

Method of processing dummy pattern based on boundary length and density of wiring pattern, semiconductor design apparatus and semiconductor device

Номер патента: US8365127B2. Автор: Keisuke Hirabayashi. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2013-01-29.

Manufacturing method of light-emitting device having a recess defined by a base and lateral surfaces of a first and a second wall

Номер патента: US11056617B2. Автор: Akira Watanabe,Masahiro Sakamoto. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2021-07-06.

Photoconducting layered material arrangement, method of fabricating the photoconducting layered material arrangement, and use of the photoconducting layered material arrangement

Номер патента: US20230268450A1. Автор: Hong Lu,Arthur C. Gossard,Sascha Preu,Christopher J. Palmstrom. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET DARMSTADT. Дата публикации: 2023-08-24.

Structure and formation method of semiconductor device with metal gate stack

Номер патента: US20220037491A1. Автор: Chih-Hao Wang,Kuo-Cheng Chiang,Jia-Chuan You,Huan-Chieh Su. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Method of fabricating a semiconductor wafer including a through substrate via (TSV) and a stepped support ring on a back side of the wafer

Номер патента: US09984888B2. Автор: David J. Howard,Hadi Jebory. Владелец: Newport Fab LLC. Дата публикации: 2018-05-29.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20160086813A1. Автор: Un-Gyu Paik,Sang-kyun Kim,Dong-jun Lee,Jong-woo Kim,Ye-Hwan Kim,Ji-hoon SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-24.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Method of manufacturing semiconductor device having island structure

Номер патента: US20230420264A1. Автор: Chen-Cheng Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Method of forming a vertical device

Номер патента: US09614054B2. Автор: Teng-Chun Tsai,MING-CHING Chang,De-Fang Chen,Li-Ting Wang,Cheng-Tung Lin,Chun-Hung Lee,Huan-Just Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Low magnetic chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09475171B2. Автор: Tian-Yeu WU. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Semiconductor device and method for fabricating the same and apparatus for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: KR100419268B1. Автор: 하라다시게루,다까따요시후미,이즈미따니준꼬. Владелец: 미쓰비시덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2004-02-19.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Method of making split gate non-volatile flash memory cell

Номер патента: EP3913656A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2021-11-24.

Method Of Making Split Gate Non-volatile Flash Memory Cell

Номер патента: US20190198647A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Method of making split gate non-volatile flash memory cell

Номер патента: US10644139B2. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-05-05.

Method of making split gate non-volatile flash memory cell

Номер патента: US10276696B2. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-30.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Chemical-mechanical polishing compositions useful for treating tungsten-containing surfaces and methods of chemical-mechanical polishing substrates containing tungsten-containing surfaces

Номер патента: JP7148395B2. Автор: リー ティナ,ドッカリー ケビン,ヘリン ホアン,リン フー. Владелец: シーエムシー マテリアルズ，インコーポレイティド. Дата публикации: 2022-10-05.

Method Of Making Split Gate Non-volatile Flash Memory Cell

Номер патента: US20200013882A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Method Of Making Split Gate Non-volatile Flash Memory Cell

Номер патента: US20170338330A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-23.

Method Of Making Split Gate Non-volatile Flash Memory Cell

Номер патента: US20200013883A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Method Of Making Split Gate Non-volatile Flash Memory Cell

Номер патента: US20200020789A1. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Method of making split gate non-volatile flash memory cell

Номер патента: US10833179B2. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-10.

Method of making split gate non-volatile flash memory cell

Номер патента: US10615270B2. Автор: Chunming Wang,Nhan Do,Xian Liu,Andy Liu,Leo XING,Melvin DIAO. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-07.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Chemical mechanical polishing conditioner with high quality abrasive particles

Номер патента: US09415481B2. Автор: Jui-Lin Chou. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-08-16.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for thinning, metalizing, and dicing a semiconductor wafer, and semiconductor device made using the method

Номер патента: US09564401B2. Автор: Hiroyuki NUMAGUCHI. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Silicon carbide semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US09893177B2. Автор: Takeyoshi Masuda. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Method of manufacturing abrasive particles, chemical mechanical polishing slurry and method of manufacturing the same

Номер патента: KR101388105B1. Автор: 김동현,서명원,이용화,김환철. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2014-04-24.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

System and Method of Delivering Slurry for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20170361419A1. Автор: Elkhatib Bassam Fouad,Vogel Kevin Don,Finch Daniel Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of spatial suppression of interference acting at the frequency of the main and mirror apaa receiving channels

Номер патента: RU2653770C1. Автор: Сергей Николаевич Лысенко,Борис Дмитриевич Мануилов,Александр Юрьевич Падий. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи" (ФГУП "РНИИРС"). Дата публикации: 2018-05-14.

Method of measuring multi-mode fiber optical properties during processing of the fiber

Номер патента: US20140226151A1. Автор: Xin Chen,Anping Liu,Eric John Mozdy,Kevin Wallace Bennett,Joseph Edward McCarthy,Jason Edward Hurley,Jody Paul Markley. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2014-08-14.

Method of manufacturing display panel, and supporting bed for substrate of the display panel

Номер патента: US20070167102A1. Автор: Masanori Suzuki,Daisuke Adachi,Kenji Tanimoto,Makoto Morita,Hiroyuki Yonehara,Yasuyuki Akata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-19.

Apparatus and method for stabilization of the bandgap and associated properties of semiconductor electronic and optoelectronic devices

Номер патента: US5615224A. Автор: Daniel A. Cohen. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1997-03-25.

Nanostructure chemical mechanical polishing induced live nano-structures for lime-scale prevention on heating elements

Номер патента: EP3036355A1. Автор: Gul Bahar Basim. Владелец: OZYEGIN UNIVERSITESI. Дата публикации: 2016-06-29.

Method of manufacturing oxide superconductor, and method of manufacturing composite oxide powder which is the precursor of the oxide superconductor

Номер патента: CA1335236C. Автор: Noritsugu Enomoto,Shoji Shiga,Yasuzo Tanaka,Naoki Uno. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1995-04-18.

Method for determining the relative position of first and second imaging devices, method of correcting a position of a point of projection of the devices, printing form exposer, printing unit, printing unit group and printing press

Номер патента: US20030144815A1. Автор: Thomas Kohler,Bernhard Zintzen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-31.

Welding-type power supplies for and method of preventing high voltage on a low voltage output of the welding-type systems

Номер патента: WO2019113154A1. Автор: Ross Renner. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2019-06-13.

Intelligent battery systems, components for intelligent battery systems, methods of manufacturing and operating intelligent battery systems and components of the same

Номер патента: WO2023201083A2. Автор: Jason D. Fuhr,Arunraj Varatharajah,Rengaraj Balakrishnan,Tyler Thiel. Владелец: CPS Technology Holdings LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

A method of mixing upstream and downstream current measurements for inference of the beam current at the bend of an optical element for real time dose control

Номер патента: WO2020168328A3. Автор: Andy Ray,James DELUCA,Rosario Mollica,Neil DEMARIO. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-09-24.

Method of mixing upstream and downstream current measurements for inference of the beam current at the bend of an optical element for realtime dose control

Номер патента: US20200266032A1. Автор: Andy Ray,James DELUCA,Rosario Mollica,Neil DEMARIO. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Welding-type power supplies for and method of preventing high voltage on a low voltage output of the welding-type systems

Номер патента: CA3084110A1. Автор: Ross Renner. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-06-13.

Welding-type power supplies for and method of preventing high voltage on a low voltage output of the welding-type systems

Номер патента: CA3084110C. Автор: Ross Renner. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2023-08-01.

A method of mixing upstream and downstream current measurements for inference of the beam current at the bend of an optical element for real time dose control

Номер патента: WO2020168328A2. Автор: Andy Ray,James DELUCA,Rosario Mollica,Neil DEMARIO. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-08-20.

a manufacturing method of silica nanoparticle for chemical-mechanical polishing

Номер патента: KR102334608B1. Автор: 김윤,김태동,남정석. Владелец: 한남대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-12-02.

A method of depositing metal nanoparticles on a surface in an electrochemical process, the surface obtained by this method and its application

Номер патента: EP3382063A3. Автор: Robert Hołyst,Ewa Roźniecka,Monika Ksiezopolska-Gocalska,Pawel Albrycht,Marta Podrazka,Joanna Niedziótka-Jönsson. Владелец: Instytut Chemii Fizycznej of PAN. Дата публикации: 2018-10-17.

Method of manufacturing semiconductor device having stacks on wafer

Номер патента: US12027378B2. Автор: Takashi Watanabe. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09870950B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-sun Hwang,Ho-Young Kim,Ja-Eung Koo,Jong-Hyung Park,Leian Bartolome,Hyoung-Bin Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-16.

Porous crystalline material (zeolite itq-21),the method of its production and its application in the processes of the catalytic conversion of the organic compounds

Номер патента: RU2296104C2. Автор: Авелино КОРМА-КАНОС,Фернандо РЕЙ-ГАРСИЯ,Мари -Хосе ДИАС-КАБАНЬЯС,Мария-Хосе ДИАС-КАБАНЬЯС. Владелец: Универсидад Политекника Де Валенсия. Дата публикации: 2007-03-27.

Reactor, method of increasing the efficiency in a reactor and use of the reactor

Номер патента: US09677017B2. Автор: Anders Olsson. Владелец: CASSANDRA OIL TECHNOLOGY AB. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of planarizing substrate surface

Номер патента: US09773682B1. Автор: Li-Chieh Hsu,Yu-Ting Li,Fu-Shou Tsai,Kun-Ju Li,Yi-Liang Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Method of planarizing substrate surface

Номер патента: US20180012771A1. Автор: Li-Chieh Hsu,Yu-Ting Li,Fu-Shou Tsai,Kun-Ju Li,Yi-Liang Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-11.

Method of fabricating a damascene structure

Номер патента: US20020137319A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Hsueh-Chung Chen,Yung-Tsung Wei. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Method of forming the gate electrode of field effect transistor

Номер патента: US09812551B2. Автор: Neng-Kuo Chen,Sey-Ping Sun,Clement Hsingjen Wann,Yi-An Lin,Chun-Wei Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Methods of maintaining and using a high concentration of dissolved copper on the surface of a useful article

Номер патента: CA2652809C. Автор: Richard Pratt,Thomas D. Johnson,Timothy Suh. Владелец: PMX INDUSTRIES Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of chemical mechanical polishing proximity correction and correction pattern thereof

Номер патента: TW200522183A. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-07-01.

Method of chemical mechanical polishing aluminum containing metal layers and slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US5209816A. Автор: Chris C. Yu,Trung T. Doan,Alan E. Laulusa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1993-05-11.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20020179941A1. Автор: Kinya Kobayashi,Atsushi Ootake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-12-05.

Method of fabricating semiconductor structure

Номер патента: US09391177B1. Автор: Hung-Chi Huang,Chun-Yi Lin,chu-ming Ma,Hsien-Ta Chung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20170236831A1. Автор: Do Youn Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-08-17.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US9899400B2. Автор: Do Youn Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20180130813A1. Автор: Do Youn Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-05-10.

Semiconductor device with shallow trench isolation and its manufacture method

Номер патента: US7211480B2. Автор: Hiroyuki Ota,Kengo Inoue. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-05-01.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20010021557A1. Автор: Masazumi Matsuura,Kinya Goto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2001-09-13.

Semiconductor device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20030124811A1. Автор: Hiroaki Uchida. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-03.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical Mechanical Polishing Process Method and Device

Номер патента: US20240217055A1. Автор: YU Bao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical-mechanical polishing system and method of operating the same

Номер патента: EP3946808A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2022-02-09.

Control of chemical-mechanical polishing rate across a substrate surface for a linear polisher

Номер патента: US5916012A. Автор: Anil K. Pant,Joseph R. Breivogel,Douglas W. Young,Robert M. Rivera. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1999-06-29.

Ditch type floating ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020086536A1. Автор: Wei-Chieh Hsu. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

Apparatus and method for endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: WO2004002680A1. Автор: Karl E. Mautz. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2004-01-08.

Method and apparatus for controlling wafer uniformity in a chemical mechanical polishing tool using carrier head signatures

Номер патента: EP1307909A2. Автор: William J. Campbell. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US11738423B2. Автор: Cheng-Chin Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Reinforced polishing pad for linear chemical mechanical polishing and method for forming

Номер патента: US20030013398A1. Автор: Tsu Shih,Wen-Chih Chiou,Ying-Ho Chen,Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Chemical mechanical polishing head assembly having floating wafer carrier and retaining ring

Номер патента: US20040171331A1. Автор: William Dyson,Tanlin Dickey,Scott Chin,Gerald Maloney,John Geraghty. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-02.

A method and apparatus for stabilizing the process temperature during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1165288A1. Автор: Wilbur C. Krusell,Anil K. Pant,Erik H. Engdahl,Robert G. Boehm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-01-02.

Chemical mechanical polishing system and method of using

Номер патента: US11724360B2. Автор: Wen Yen Kung. Владелец: TSMC Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical-mechanical polishing pad conditioning system

Номер патента: US20110244764A1. Автор: Nannaji Saka,Jung-Hoon Chun,Thor Eusner. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2011-10-06.

Wafer Polishing Locating Ring and Chemical Mechanical Polishing Device

Номер патента: US20240269799A1. Автор: Jian Zhang,Haifeng Zhou. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US20210129288A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US11787012B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US20240025014A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Orbital motion chemical-mechanical polishing apparatus and method of fabrication

Номер патента: US5554064A. Автор: Michael R. Oliver,Joseph R. Breivogel,Christopher E. Barns,Samuel F. Louke,Leopoldo D. Yau. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 1996-09-10.

Chemical mechanical polishing apparatus with improved carrier and method of use

Номер патента: US5624299A. Автор: Norman Shendon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-04-29.

Operation of clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381915A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and apparatus for endpoint detection during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003041909A1. Автор: Prabodh J. Parikh. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-05-22.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A1. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-11-02.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A9. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-12-28.

Apparatus and methods with resolution enhancement feature for improving accuracy of conversion of required chemical mechanical polishing pressure to force to be applied by polishing head to wafer

Номер патента: EP1390820B1. Автор: Miguel A. Saldana. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-07-25.

Apparatus and methods with resolution enhancement feature for improving accuracy of conversion of required chemical mechanical polishing pressure to force to be applied by polishing head to wafer

Номер патента: US20020192965A1. Автор: Miguel Saldana. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-19.

Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11826876B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Ankit Vora,Sudhakar Madhusoodhanan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US12011800B2. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-06-18.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing and CMP apparatus having the same

Номер патента: US11717933B2. Автор: Yong-Seok Ro. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09821431B2. Автор: Jui-Lin Chou,Chia-Feng Chiu,Wen-Jen Liao,Xue-Shen Su. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for performing chemical mechanical polish (CMP) of a wafer

Номер патента: US5609719A. Автор: Eugene O. Hempel. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20220324080A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2022-10-13.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20210291313A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2021-09-23.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20240286242A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-08-29.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: CA2305106C. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2008-07-08.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20230330810A1. Автор: Cheng-Chin Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Chemical mechanical polishing with applied magnetic field

Номер патента: US11787008B2. Автор: Feng Q. Liu,Jianshe Tang,Stephen Jew,Xingfeng Wang,David M. GAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: US6656018B1. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2003-12-02.

Novel chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230286106A1. Автор: Chun-Hsi Huang,Huang-Chu KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Removable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124176A1. Автор: Leonard J. Borucki. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2009-05-14.

Closed-loop control of wafer polishing in a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050020185A1. Автор: Manoocher Birang,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-01-27.

Endpoint control of multiple substrates with multiple zones on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20110282477A1. Автор: Jeffrey Drue David,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,Harry Q. Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-17.

Chemical mechanical polishing system with platen temperature control

Номер патента: US11911869B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Load cup for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050176349A1. Автор: Hui Chen,Alpay Yilmaz,Simon Yavelberg,Hung Chen,Toshikazu Tomita,Noel Manto,David Lischka. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-11.

Apparatus with resolution enhancement feature for improving accuracy of conversion of required chemical mechanical polishing pressure to force to be applied by polishing head to wafer

Номер патента: US20040177297A1. Автор: Miguel Saldana. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-09-09.

Detecting particle agglomeration in chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: US20060266736A1. Автор: Mansour Moinpour,Alexander Tregub. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-11-30.

Device and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11772227B2. Автор: Chi-Ming Yang,He Hui Peng,James Jeng-Jyi Hwang,Jiann Lih Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Consumable part monitoring in chemical mechanical polisher

Номер патента: US11931860B2. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Carrier head with a flexible membrane for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US5964653A. Автор: Sen-Hou Ko,Ilya Perlov,Eugene Gantvarg. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-10-12.

Technique for noise reduction in a torque-based chemical-mechanical polishing endpoint detection system

Номер патента: US20030109194A1. Автор: Leping Li,Xinhui Wang,Yingru Gu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-06-12.

Post-chemical mechanical polishing brush cleaning box

Номер патента: WO2023287507A1. Автор: Gary Ka Ho Lam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-01-19.

Post-chemical mechanical polishing brush cleaning box

Номер патента: US12023779B2. Автор: Gary Ka Ho Lam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them

Номер патента: US9139796B2. Автор: Pierre Marie Lenoir,Bei Yin,Jingjun Yang. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-09-22.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

AUTO CATCH APPARATUS AND METHOD OF USE IN MAKING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PADS

Номер патента: US20180043588A1. Автор: Cantrell Brian T.. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-15.

Preparation method of cleaning solution after chemical mechanical polishing

Номер патента: CN113151837A. Автор: 马丽,王溯,史筱超,李健华. Владелец: Shanghai Xinyang Semiconductor Material Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-23.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09741554B2. Автор: Satoru Kameyama,Shuhei Oki,Masaki AJIOKA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Semiconductor device and manufacturing method thereof

Номер патента: US09673147B2. Автор: Kenro Nakamura,Hirokazu Ezawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Method of forming package structure

Номер патента: US20240347506A1. Автор: Wen-Chih Chiou,Ebin Liao,Yi-Hsiu Chen,Hong-Ye Shih,Jia-Ling Ko. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20070128833A1. Автор: Tomoyuki Aoki,Takuya Tsurume,Tomoko Tamura,Koji Dairiki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-07.

Stacked die modules for semiconductor device assemblies and methods of manufacturing stacked die modules

Номер патента: US20240258243A1. Автор: Jong Sik Paek. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of fabricating a semiconductor package

Номер патента: US9524884B2. Автор: Cheol-soo HAN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of fabricating a semiconductor package

Номер патента: US09524884B2. Автор: Cheol-soo HAN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of simultaneously siliciding a polysilicon gate and source/drain of a semiconductor device, and related device

Номер патента: US20100176462A1. Автор: Shaofeng Yu,Freidoon Mehrad,Steven A. Vitale,Joe G. Tran. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2010-07-15.

Method of manufacturing semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20240040765A1. Автор: Yue Zhuo. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Contact structure of semiconductor devices and method of fabricating the same

Номер патента: US8043960B2. Автор: Jung-Hwan Oh,Hong-seong Son,Byung-lyul Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-25.

Contact Structure of Semiconductor Devices and Method of Fabricating the Same

Номер патента: US20070122969A1. Автор: Jung-Hwan Oh,Hong-seong Son,Byung-lyul Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-31.

Method of manufacturing semiconductor device having island structure

Номер патента: US20230422490A1. Автор: Chen-Cheng Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of forming buried wiring in semiconductor device

Номер патента: US20050186795A1. Автор: Kazuhide Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-25.

Semiconductor package and method of manufacture

Номер патента: US20240321666A1. Автор: JONGHO LEE,Jinwoo Park,Yeongkwon Ko. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Semiconductor device including a porous dielectric layer, and method of forming the semiconductor device

Номер патента: US09997451B2. Автор: Lawrence A. Clevenger,Michael RIZZOLO,Huai HUANG,Christopher J. Penny,Bartlet H. DeProspo,Benjamin David Briggs. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Vertical structure having an etch stop over portion of the source

Номер патента: US09805968B2. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Hsing Tsai,Huang-Yi Huang,De-Fang Chen,Li-Ting Wang,Hui-Cheng Chang,Cheng-Tung Lin,Huan-Just Lin,Bing-Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Semiconductor device and method of forming conductive vias by direct via reveal with organic passivation

Номер патента: US09768066B2. Автор: XING Zhao,Duk Ju Na,Lai Yee Chia. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Method of fabricating multi-substrate semiconductor devices

Номер патента: US09865581B2. Автор: Seok-Ho Kim,Tae-Yeong Kim,Pil-Kyu Kang,Byung-lyul Park,Jum-Yong Park,Kyu-Ha Lee,Jin-ho An,Yi-koan Hong,Joo-Hee Jang,Hyo-Ju Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Semiconductor device and method of formingreconstituted wafer with larger carrier to achieve more ewlb packages per wafer with encapsulant deposited under temperature and pressure

Номер патента: SG189618A1. Автор: Yung Kuan Hsiao,Yoke Hur Phua. Владелец: Stats Chippac Ltd. Дата публикации: 2013-05-31.

Method of cmp integration for improved optical uniformity in advanced lcos back-plane

Номер патента: WO2022155099A1. Автор: LAN Yu,Benjamin D. Briggs,Joseph Salfelder,Raghav SREENIVASAN,Tyler Sherwood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-07-21.

Method of forming interconnect structures

Номер патента: WO2024040200A1. Автор: Jian Zhou,Vinod Purayath,Kenta Ohama. Владелец: Avient Corporation. Дата публикации: 2024-02-22.

Method of removing surface defects or other recesses during the formation of a semiconductor device

Номер патента: US6025271A. Автор: Guy Blalock,Mark E. Jost,Bradley J. Howard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Semiconductor device and method of formingreconstituted wafer with larger carrier to achieve more ewlbpackages per wafer with encapsulant deposited under temperatureand pressure

Номер патента: SG10201907336TA. Автор: Yung Kuan Hsiao,Yoke Hur Phua. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2019-09-27.

Semiconductor Device and Method of Forming Reconstituted Wafer with Larger Carrier to Achieve More EWLB Packages per Wafer with Encapsulant Deposited Under Temperature and Pressure

Номер патента: US20130292673A1. Автор: Yung Kuan Hsiao,Yoke Hor Phua. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2013-11-07.

Methods of forming metal wiring of semiconductor devices

Номер патента: US20040132283A1. Автор: Dong-Ki Jeon,Jae-Won Han. Владелец: Anam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-07-08.

Manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US12107002B2. Автор: Wei-Ming Liao,Chuan-Lin HSIAO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Redistribution layer and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20240355672A1. Автор: Dian-Hau Chen,Liang-Wei WANG,Chih-Pin CHIU,Lee-Wen Hsu,Zhen De Ma. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same

Номер патента: US09859205B2. Автор: Timothy J. Whetten,Wayne P. Richling. Владелец: Avago Technologies General IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Methods of fabricating semiconductor die assemblies

Номер патента: US09711494B2. Автор: Luke G. England,Paul A. Silvestri,Michel Koopmans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Polyurethane composition for cmp pads and method of manufacturing same

Номер патента: EP2462178A1. Автор: Lu Sun,Yong Zhang,David Huang. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2012-06-13.

Semiconductor device and method

Номер патента: US12068162B2. Автор: Yung-Cheng Lu,Ting-Gang CHEN,Tai-Chun Huang,Chi On Chui,Ya-Lan CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Polyurethane composition for cmp pads and method of manufacturing same

Номер патента: WO2011016971A1. Автор: Lu Sun,Yong Zhang,David Huang. Владелец: PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2011-02-10.

Method of forming isolation layer of semiconductor device

Номер патента: US7682928B2. Автор: Myung IL Kang. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-23.

Thin semiconductor device packages and methods of manufacture

Номер патента: US20160284628A1. Автор: Maria Cristina Estacio,Margie Rios,Aira Lourdes VILLAMOR,Armand Vincent Jereza. Владелец: Fairchild Semiconductor Corp. Дата публикации: 2016-09-29.

Method for manufacturing laterally diffused metal oxide semiconductor device

Номер патента: US9190280B2. Автор: Zhengfeng WEN. Владелец: Founder Microelectronics International Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-17.

Die attachment method for semiconductor devices and corresponding semiconductor device

Номер патента: US20230187296A1. Автор: Nicoletta Modarelli,Guendalina Catalano. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2023-06-15.

Semiconductor device and method of making a semiconductor device

Номер патента: US20220344506A1. Автор: Kejun Xia,Saumitra Raj Mehrotra. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2022-10-27.

Preparation method of GaN field effect transistor based on diamond substrate

Номер патента: US12112944B2. Автор: Yuangang WANG,Hongyu Guo,Zhihong FENG,Xingchang FU,Xubo Song,Yuanjie Lv,Shixiong LIANG,Shaobo Dun. Владелец: CETC 13 Research Institute. Дата публикации: 2024-10-08.

Semiconductor device with cavity carrier and method therefor

Номер патента: US20240234222A9. Автор: Zhiwei Gong,Kuan-Hsiang Mao,Neil Thomas Tracht. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-07-11.

High voltage tolerant bonding pad structure for trench-based semiconductor devices

Номер патента: US20170263580A1. Автор: Steven Kosier,Tatsuya Kamimura,Don Rankila,Peter West. Владелец: Polar Semiconductor LLC. Дата публикации: 2017-09-14.

Method of contact formation between metal and semiconductor

Номер патента: EP3513427A1. Автор: Hua Chung,Yi-Chiau Huang,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-24.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150037969A1. Автор: Zhengfeng WEN. Владелец: Founder Microelectronics International Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-05.

High voltage tolerant bonding pad structure for trench-based semiconductor devices

Номер патента: US09899343B2. Автор: Steven Kosier,Tatsuya Kamimura,Don Rankila,Peter West. Владелец: Polar Semiconductor LLC. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for preparing of cerium oxide powder for chemical mechanical polishing and method for preparing of chemical mechanical polishing slurry using the same

Номер патента: TW200718647A. Автор: Jong-pil Kim,Seung-Beom Cho,Jang-yul Kim,Jun-Seok Nho,Myoung-Hwan Oh,Min-Jin Ko. Владелец: Lg Chemical Ltd. Дата публикации: 2007-05-16.

Semiconductor device with capacitor and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20030067053A1. Автор: Katsunobu Hori,Kenichiro Shiozawa,Moriaki Akazawa,Takeshi Matsunuma. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-04-10.

Methods of manufacturing semiconductor package and package-on-package

Номер патента: US20210242190A1. Автор: Jongho Park,Seunghwan Kim,Sangsoo Kim,Yongkwan LEE,Junyoung Oh,Kyonghwan Koh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-05.

Semiconductor device assemblies including monolithic silicon structures for thermal dissipation and methods of making the same

Номер патента: EP4427268A1. Автор: Kunal R. Parekh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US12087651B2. Автор: Satoshi Kondo,Junji Fujino,Michio Ogawa,Kazuma Noda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor light-emitting element and method of producing the same

Номер патента: US12125702B2. Автор: Osamu Tanaka,Yoshitaka Kadowaki. Владелец: Dowa Electronics Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Quality control method of position measurement light source, semiconductor manufacturing apparatus, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190295902A1. Автор: Sadatoshi Murakami,Miki TOSHIMA. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240297040A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240258371A1. Автор: Kosaku Adachi,Nobuyuki OTSUBO. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor device and method of forming a vertical interconnect structure for 3-D FO-WLCSP

Номер патента: US09768155B2. Автор: KANG Chen,Yaojian Lin,Seung Wook Yoon. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Method for transfer of semiconductor devices

Номер патента: US09871023B2. Автор: Andrew Huska,Cody Peterson,Clinton Adams,Sean Kupcow. Владелец: Rohinni LLC. Дата публикации: 2018-01-16.

Method of making metal-ceramic housings of to-220, to-247, to-254 type

Номер патента: RU2740006C1. Автор: Владимир Алексеевич Сидоров,Сергей Владимирович Катаев,Алексей Геннадьевич Чупрунов,Андрей Анатольевич Пронин,Кирилл Владимирович Сидоров. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар". Дата публикации: 2020-12-30.

Semiconductor device and fabrication method

Номер патента: WO2010070269A1. Автор: Timothy Ashley,Geoffrey Richard Nash. Владелец: Advantage West Midlands. Дата публикации: 2010-06-24.

Semiconductor device and fabrication method

Номер патента: EP2366198A1. Автор: Timothy Ashley,Geoffrey Richard Nash. Владелец: Advantage West Midlands. Дата публикации: 2011-09-21.

Integrated circuit device and method of making the same

Номер патента: WO1998000872A1. Автор: Derryl D. J. Allman,John W. Gregory,James P. Yakura,John J. Seliskar,Dim Lee Kwong. Владелец: Gill, David, Alan. Дата публикации: 1998-01-08.

Fabricating method of back-illuminated image sensor with dishing depression surface

Номер патента: US09443902B1. Автор: Tseng-Fei Wen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Tape carrier package (TCP) on which semiconductor chips are mounted and method of manufacuturing the same

Номер патента: US20020171140A1. Автор: Bum-Yeul Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-11-21.

Semiconductor device and method of manufacturing the device

Номер патента: US20020171113A1. Автор: Takaaki Murakami,Kazuyuki Sugahara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma treatment for semiconductor devices

Номер патента: US09418955B2. Автор: Chen-Hua Yu,Chen-Fa Lu,Chung-Shi Liu,Wei-Yu Chen,Cheng-Ting Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Light-emitting device and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09793458B2. Автор: Chien-Fu Huang,Chia-Liang Hsu,Chih-Chiang Lu,Yi Ming Chen,Tzu Chieh Hsu,Yao-Ning CHAN,Hsin-Chih CHIU,Chun-Hsien CHANG. Владелец: Epistar Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Light-emitting device and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09614127B2. Автор: Chien-Fu Huang,Chia-Liang Hsu,Chih-Chiang Lu,Yi Ming Chen,Tzu Chieh Hsu,Yao-Ning CHAN,Hsin-Chih CHIU,Chun-Hsien CHANG. Владелец: Epistar Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US6977199B2. Автор: Takeshi Kishida,Yusuke Kawase. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2005-12-20.

Stack chip package and method of manufacturing the same

Номер патента: US09875995B2. Автор: Il Park,Young Pyo Joo,Ho Kyoon LEE,Jin Ho BAEK. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Semiconductor device and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4071818A1. Автор: FAN YANG,Sheng Hu. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-12.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09893194B2. Автор: Yoshitaka Yamamoto,Hideomi Suzawa,Takayuki Inoue,Tetsuhiro Tanaka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method of forming a fixed distribution of induced magnetic field in a magnetic structure formed in an integrated circuit, and an integrated circuit comprising a magnetic structure

Номер патента: RU2723233C1. Автор: Эрван Филипп Мари Гапиан,Евгений Викторович Данилкин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Крокус Наноэлектроника" (Ооо "Крокус Наноэлектроника"). Дата публикации: 2020-06-09.

Method of manufacturing light-emitting element

Номер патента: US11777051B2. Автор: Eiji Muramoto,Maki FUJIMOTO. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Methods of fabricating p-i-n diodes, structures for p-i-n diodes and design structure for p-i-n diodes

Номер патента: US20100173449A1. Автор: Kangguo Cheng,William Robert Tonti,Carl John Radens,Ramachandra Divakaruni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-07-08.

Mounting structure and method of mounting semiconductor device

Номер патента: US20010040791A1. Автор: Fumio Mori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Replacement metal gate semiconductor device formation using low resistivity metals

Номер патента: US20140065811A1. Автор: Chang Seo Park,Vimal K. Kamineni. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-03-06.

Semiconductor device

Номер патента: US20180226400A1. Автор: Kohei SHINSHO. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2018-08-09.

Method of fabricating capacitor for semiconductor device

Номер патента: US6190993B1. Автор: Byung Jae Choi,Soo Jin Seo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-02-20.

Feram device and method of manufacturing

Номер патента: US20230363177A1. Автор: yu chao Lin,Chih-Sheng Chang,Yuan-Tien Tu,Jung-Piao Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Stacked semiconductor device

Номер патента: US20240306403A1. Автор: Yeon Seung Jung. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Semiconductor device assemblies including monolithic silicon structures for thermal dissipation and methods of making the same

Номер патента: EP4427269A1. Автор: Kunal R. Parekh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Method of stabilizing hydrogenated amorphous silicon and amorphous hydrogenated silicon alloys

Номер патента: US09812599B2. Автор: Dae-Gyu Park,Devendra K. Sadana,Ghavam G. Shahidi,Davood Shahrjerdi,Marinus Hopstaken,Bahman Hekmatshoar-Tabari. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09806187B2. Автор: Martin Poelzl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for obtaining pattern density of a predetermined material layer of semiconductor device, and method for simulation of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: KR100297732B1. Автор: 김유현,유광재. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-01.

Enhanced charge storage materials, related semiconductor memory cells and semiconductor devices, and related systems and methods

Номер патента: US09871044B2. Автор: Gurtej S. Sandhu,Wayne I. Kinney,Sumeet C. Pandey,Karl W. Holtzclaw. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Three-dimensional (3D) semiconductor devices and methods of fabricating 3D semiconductor devices

Номер патента: US09768193B2. Автор: Youngwoo Park,Jaegoo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-19.

Method of video coding using the prediction on the basis of the copy of the intra-cycle block

Номер патента: RU2630888C1. Автор: Шан ЛИУ,Ксаожонг КСУ. Владелец: ЭйджЭфАй Инновэйшн Инк.. Дата публикации: 2017-09-13.

Method of remotely controlling external services and selectively sharing control of the same

Номер патента: US20160269904A1. Автор: Vishal Sharma,Elhum AMJADI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-15.

Method of remotely controlling external services and selectively sharing control of the same

Номер патента: US09703778B2. Автор: Vishal Sharma,Elhum AMJADI. Владелец: Wand Labs Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

An improved system and method of scanning a search engine depending on the importance of the keywords and producing an effective output

Номер патента: WO2014132265A3. Автор: . Владелец: Gyan Prakash Kesarwani. Дата публикации: 2015-01-22.

Method of designing optimal bi-axial magnetic gears and system of the same

Номер патента: US6047456A. Автор: Der-Ray Huang,Chia-Ming Lee,Shyh-Jier Wang,Yeong-Der Yao. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2000-04-11.

Network controller, and method of calculating the in time interrupt point by means of the application of a fuzzy theory

Номер патента: US5926457A. Автор: Jung-You Feng. Владелец: D Link Corp. Дата публикации: 1999-07-20.

System and method of scanning an environment and generating two dimensional images of the environment

Номер патента: US20240062462A1. Автор: Oliver Zweigle,Matthias Wolke,Aleksej Frank. Владелец: Faro Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

System and method of satellite communication that reduces the doppler frequency shift of the satellite signals

Номер патента: US20100022185A1. Автор: Eric A. Dibiaso,Larry J. Fruit. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

System and method of satellite communication that reduces the doppler frequency shift of the satellite signals

Номер патента: EP2009815A3. Автор: Larry J. Fruit,Eric Dibiaso. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2013-01-23.

System and method of scanning an environment and generating two dimensional images of the environment

Номер патента: US11847741B2. Автор: Oliver Zweigle,Matthias Wolke,Aleksej Frank. Владелец: Faro Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Method of sealing a compostable container by deforming a portion of the container

Номер патента: US12060184B2. Автор: Darren Joseph Footz,Kianoush Karimi Pour Kerman. Владелец: Nexe Innovations Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Method of noise reduction in interaction of working bodies of wagon retarders with side surfaces of wheels of freight cars

Номер патента: RU2674391C2. Автор: Владимир Владимирович Шаповалов,Роман Андреевич Корниенко,Михаил Михайлович Шестаков,Александр Сергеевич Сидельников. Владелец: Владимир Владимирович Шаповалов. Дата публикации: 2018-12-07.

System of double-glazed side windows of the vehicle and method of installing the system of double-glazed side windows of the vehicle

Номер патента: RU2615218C1. Автор: Алексей Викторович Радостев. Владелец: Алексей Викторович Радостев. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of manufacturing absorbent material from bird feather and application of the absorbent material

Номер патента: US20160167014A1. Автор: Yu-Shin Chang. Владелец: Kwong Lung Enterprise Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-16.

A method of laser etching a structure by first radiating areas of the structure for altering the crystallinity

Номер патента: WO2005108000A1. Автор: Curt Nelson,Greg Long. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2005-11-17.

A cutter for a shearing hand piece and a method of setting tension between said cutter and a comb of the shearing hand piece

Номер патента: AU2020102203A4. Автор: Evan Versemann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-10-22.

Methods of using adipose tissue-derived cells in the treatment of the lymphatic system and malignant disease

Номер патента: US09486484B2. Автор: John K. Fraser,Zeni Alfonso. Владелец: Cytori Therapeutics Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Method of producing methionine in corynebacteria by over-expressing enzymes of the pentose phosphate pathway

Номер патента: WO2008101850A8. Автор: Oskar Zelder,Corinna Klopprogge,Andrea Herold,Hartwig Schröder. Владелец: EVONIK DEGUSSA GmbH. Дата публикации: 2009-10-29.

Methods of use of recombinant vasoactive protein from salivary gland of the black fly

Номер патента: US20030012795A1. Автор: José Ribeiro,Mary Cupp,Eddie Cupp. Владелец: AUBURN UNIVERSITY. Дата публикации: 2003-01-16.

Methods of use of recombinant vasoactive protein from salivary gland of the black fly

Номер патента: US20040142869A1. Автор: José Ribeiro,Mary Cupp,Eddie Cupp,Steven Swaim. Владелец: AUBURN UNIVERSITY. Дата публикации: 2004-07-22.

Method of forming three-dimensional structures of functional layer topological elements on the surface of substrates

Номер патента: RU2700231C1. Автор: Николай Алексеевич Дюжев,Евгений Эдуардович Гусев,Валерий Юрьевич Киреев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники". Дата публикации: 2019-09-13.

Method of enhancing immunogenicity by covalent linkage of antigens to proteins on the surface of dendritic cells

Номер патента: EP1465657A2. Автор: Richard B. Bankert,Nejat Egilmez,Thomas F. Conway. Владелец: Health Research Inc. Дата публикации: 2004-10-13.

Method of enhancing immunogenicity by covalent linkage of antigens to proteins on the surface of dendritic cells

Номер патента: WO2003051907A3. Автор: Nejat Egilmez,Richard B Bankert,Thomas F Conway. Владелец: Thomas F Conway. Дата публикации: 2003-12-18.

Method of enhancing immunogenicity by covalent linkage of antigens to proteins on the surface of dendritic cells

Номер патента: WO2003051907A2. Автор: Richard B. Bankert,Nejat Egilmez,Thomas F. Conway. Владелец: Health Research, Inc.. Дата публикации: 2003-06-26.

System and process for post-chemical mechanical polishing cleaning

Номер патента: US20240226967A1. Автор: Brian K. Kirkpatrick,Clinton Sakata. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

A method of producing an acid-proof and alkali-proof coloured layer on the surface of aluminium or its alloys

Номер патента: GB489926A. Автор: . Владелец: Kenzo Nagata. Дата публикации: 1938-08-02.

Method of and means for hardening metal parts by means of the electric current

Номер патента: GB476910A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1937-12-17.

Method of setting the desired paths of exoskeleton for movement of the user with dysfunction of the locomotor apparatus, device for facilitating walking that user and method of controlling said device

Номер патента: RU2598124C1. Автор: Елена Валентиновна Письменная,Екатерина Сергеевна Березий,Эдуард Кирович Лавровский,Андрей Викторович Кузмичев. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Экзоатлет". Дата публикации: 2016-09-20.

Tetrafluoroethylene interpolymer, the method of its production and the product produced by extrusion of the paste

Номер патента: RU2308464C2. Автор: Синиа ХИГУТИ,Сигеки КОБАЯСИ,Хироки НАГАИ,Масатака АРАИ. Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2007-10-20.

Method of isolating mesenchymal stem cells from the amniotic membrane of the umbilical cord, a mesenchymal stem cell population isolated from the amniotic membrane of the umbilical cord and a cell culture medium for isolating mesenchymal stem cells from the amniotic membrane of the umbilical cord

Номер патента: US11821006B2. Автор: Toan Thang Phan. Владелец: CellResearch Corp Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Method of isolating mesenchymal stem cells from the amniotic membrane of the umbilical cord, a mesenchymal stem cell population isolated from the amniotic membrane of the umbilical cord and a cell culture medium for isolating mesenchymal stem cells from the amniotic membrane of the umbilical cord

Номер патента: US20240141298A1. Автор: Toan Thang Phan. Владелец: CellResearch Corp Pte Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of preventing T cell-mediated responses by the use of the major histocompatibility complex class II analog protein (map protein) from Staphylococcus aureus

Номер патента: US20030108564A1. Автор: Magnus Hook,Eric Brown,Lawrence Lee. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2003-06-12.

Method of preventing t cell-mediated responses by the use of the major histocompatibility complex class ii analog protein (map protein) from staphylococcus aureus

Номер патента: EP1355662A2. Автор: Magnus Hook,Eric N. The Texas A & M University System BROWN,Lawrence Y The Texas A & M University System LEE. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2003-10-29.

Method of preventing T cell-mediated responses by the use of the major histocompatibility complex class II analog protein (map protein) from Staphylococcus aureus

Номер патента: US20070092533A1. Автор: Magnus Hook,Eric Brown,Lawrence Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-26.

Apparatus for controlling application of layer of powder-like or pelletized material on surface of liquid metal in continuous casting mold and method of controlling of application of layer of powder-like or pelletized material on surface of liquid metal in continuous casting mold

Номер патента: RU2046691C1. Автор: Юбер Жислэн,Клейн Андре,Оминетти Патрик,Пиллой Раймон. Владелец: Текметаль Промосьон. Дата публикации: 1995-10-27.

Method of generation of synthesis gas for production of products of the basic organic synthesis and synthetic fuel

Номер патента: RU2062750C1. Автор: Владимир Николаевич Серебряков,ков Владимир Николаевич Серебр,Валерий Николаевич Кубасов. Владелец: Валерий Николаевич Кубасов. Дата публикации: 1996-06-27.

Vapor deposition source material used in production of film containing indium and one or more of the other metals, and the method of producing film containing indium and one or more of the other metals

Номер патента: US20240003004A1. Автор: Nobutaka Takahashi,Shintaro Higashi,Fumikazu Mizutani. Владелец: Kojundo Kagaku Kenkyusho KK. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of welding with melting and welding devices and deactivation of the melting device; corresponding welding apparatus

Номер патента: AU2018374566B2. Автор: Kouassi Gnamien Cesar-Auguste ATIN. Владелец: Acergy France SAS. Дата публикации: 2024-03-07.

A method of laser etching a structure by first radiating areas of the structure for altering the crystallinity

Номер патента: EP1742758A1. Автор: Curt Nelson,Greg Long. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2007-01-17.

Method of welding with melting and welding devices and deactivation of the melting device; corresponding welding apparatus

Номер патента: AU2018374566A1. Автор: Kouassi Gnamien Cesar-Auguste ATIN. Владелец: Acergy France SAS. Дата публикации: 2020-05-14.

Piston cylinder device with protection arrangement and method of protecting a piston cylinder device against-overload orfailure of the piston cylinder device

Номер патента: SE1650895A1. Автор: Goransson Fredrik,Bergqvist Thomas. Владелец: Strömsholmen Ab. Дата публикации: 2017-12-23.

Method of hydrodesulfurizing heavy petroleum fraction in the initial stage of the on-stream period

Номер патента: US3953321A. Автор: Gerald V. Nelson,Charles A. Ganster,Mary E. Callaghan,Lee K. Gilmer,Kenneth D. Miller. Владелец: Texaco Inc. Дата публикации: 1976-04-27.

Method of and an apparatus for providing a safety check of the brake retardation capability of a brake system on a vehicle

Номер патента: CA2123952C. Автор: James A. Wood,David A. Greer,Richard J. Mazur. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 2000-04-25.

Method of treating a condition using a therapeutically effective dose of the malt1 inhibitor jnj -67856633 (1 -(1 -oxo-1,2-dihydroisoquinolin-5-yl)-5-(trifluoromethyl)-n-(2-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl)-1 h-py razole-4-carboxamide)

Номер патента: EP4301364A1. Автор: Ulrike Philippar,Anthony T. GREWAY,Thomas C. WILDE,Marie E. WILLEMIN. Владелец: Janssen Pharmaceutica NV. Дата публикации: 2024-01-10.

Method of treating a condition using a therapeutically effective dose of the malt1 inhibitor jnj -67856633 (1 -(1 -oxo-1,2-dihydroisoquinolin-5-yl)-5-(trifluoromethyl)-n-(2-(trifl uoromethyl)pyridin-4-yl)-1 h-py razole-4-carboxamide)

Номер патента: CA3212339A1. Автор: Ulrike Philippar,Anthony T. GREWAY,Thomas C. WILDE,Marie E. WILLEMIN. Владелец: Janssen Pharmaceutica NV. Дата публикации: 2022-09-09.

Method of treating a condition using a therapeutically effective dose of the malt1 inhibitor jnj -67856633 (1 -(1 -oxo-1,2-dihydroisoquinolin-5-yl)-5-(trifluoromethyl)-n-(2-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl)-1 h-py razole-4-carboxamide)

Номер патента: AU2021431485A1. Автор: Ulrike Philippar,Anthony T. GREWAY,Thomas C. WILDE,Marie E. WILLEMIN. Владелец: Janssen Pharmaceutica NV. Дата публикации: 2023-10-19.

Method and device for the machining of the wheel running surface of wheels for rail vehicles

Номер патента: US11872640B2. Автор: Jandrey Maldaner,Alexander Rudi. Владелец: Hegenscheidt MFD GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-01-16.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

Window of vehicle with lightguide part, method of making such window and its use in vehicle

Номер патента: RU2712388C1. Автор: Ли-Я Йех,Мартин Арндт,Кристиан ЭФФЕРТЦ,Мартин МЕЛЬХЕР. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2020-01-28.

Thermal and sound insulation material and method of its production

Номер патента: RU2648096C1. Автор: Александр Дмитриевич Орлов,Вадим Вячеславович Киктев. Владелец: Вадим Вячеславович Киктев. Дата публикации: 2018-03-22.

Spin-on-glass assisted polishing of rough substrates

Номер патента: EP2788161A1. Автор: Henrik Pranov. Владелец: InMold Biosystems AS. Дата публикации: 2014-10-15.

Methods of making metal matrix composite and alloy articles

Номер патента: US09862029B2. Автор: Yixiong Liu,Qingjun Zheng,James A Faust,Sudharsan Subbaiyan,Mark J Rowe,Michael J Meyer,Danie J De Wet. Владелец: Kennametal Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Polishing method of soft magnetic layer in thin-film magnetic head, manufacturing method of thin-film magnetic head and thin-film magnetic head

Номер патента: US20070230064A1. Автор: Hiroshi Kamiyama,Hiroshi Yamazaki,Makoto Hasegawa,Atsuhiro Nonaka,Teruhisa Shindo,Kazukiko Maejima. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Method of determining pressure to apply to wafers during a cmp

Номер патента: US20100167629A1. Автор: John H. Zhang,Walter Kleemeier,Ronald K. Sampson. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2010-07-01.

Method of forming toric surfaces of optical parts

Номер патента: RU2680328C2. Автор: Владимир Алексеевич Горшков,Артем Сергеевич Невров,Сергей Алексеевич Кузнецов. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Оптика" (АО "НПО "Оптика"). Дата публикации: 2019-02-19.

Manufacturing method of a thin-film magnetic head

Номер патента: US7712204B2. Автор: Hiroshi Kamiyama,Hiroshi Yamazaki,Makoto Hasegawa,Kazuhiko Maejima,Atsuhiro Nonaka,Teruhisa Shindo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2010-05-11.

Auxiliary tool for dismantling a guide ring and application method of the same

Номер патента: US20030097742A1. Автор: Sam Hu,Po-Chung Chian,Stanley Sung. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2003-05-29.

Silicon oxynitride removal enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20240301241A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of treatment of a surface

Номер патента: AU2019374317A1. Автор: Neil James Parry,Jens Carlo BENNINGHOFF,Panagiotis Kotsakis. Владелец: Unilever Global IP Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Method of treatment of a surface

Номер патента: EP3877471A1. Автор: Neil James Parry,Jens Carlo BENNINGHOFF,Panagiotis Kotsakis. Владелец: Unilever Global IP Ltd. Дата публикации: 2021-09-15.

Infrared spectroscopic method of determining anisotropy of filler particles in the volume of the polymer matrix

Номер патента: RU2600516C1. Автор: Игорь Николаевич Межеумов,Павел Михайлович Пахомов,Светлана Дмитриевна Хижняк,Вера Евгеньевна Ситникова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный университет". Дата публикации: 2016-10-20.

Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device

Номер патента: EP1529246A1. Автор: William J. Dauksher,Bernard J. Roman,Cesar M. Garza,Wei E. Wu,Panwitter J. S. Mangat,Kevin J. Nordquist. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2005-05-11.

Method of inspection of product sealing and device for implementation of the method

Номер патента: RU2623188C1. Автор: Владимир Иванович Бочаров,Николай Иванович Хорхордин,Олег Николаевич Лисицин,Андрей Владимирович Егорушин. Владелец: Акционерное общество ''Завод "Пластмасс''. Дата публикации: 2017-06-22.

Method of plastics of surgical defect after subtotal block resection of the temporary bone pyramid

Номер патента: RU2692324C1. Автор: Дмитрий Александрович Гуляев,Никита Александрович Примак,Дмитрий Сергеевич Иванов,Игорь Юрьевич Белов,Владислав Юрьевич Чиркин,Владимир Михайлович Винников,Георгий Владимирович Науменко,Виталий Валерьевич Горбань. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр имени В.А. Алмазова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-06-24.

Method of controlling the level of charging the pneumatic accumulator of the free-piston energy module with an external combustion chamber

Номер патента: RU2680289C1. Автор: Анатолий Александрович Рыбаков. Владелец: Анатолий Александрович Рыбаков. Дата публикации: 2019-02-19.

Method of sealing the vitreal cavity in through penetrating wounds of the eyeball

Номер патента: RU2690412C1. Автор: Абдул-Гамид Даудович Алиев,Алигаджи Бадрудинович Абдулаев,Муса Муртузалиевич Нурудинов,Марьям Магомедгаджиевна Магомедова,Руслан Арсенович Алиев. Владелец: Федеральное Государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Дагестанский государственный медицинский университет Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-06-03.

Method of gas working medium balances determining in the tanks of the high pressure working system

Номер патента: RU2656765C1. Автор: Сергей Михайлович Афанасьев. Владелец: Акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва". Дата публикации: 2018-06-06.

Method of surgical treatment of heterotopic ossification in the background of the patient's spastic syndrome

Номер патента: RU2610538C1. Автор: Гурген Абавенович Кесян,Рашид Загидуллович Уразгильдеев,Иван Манвелович Дан,Игорь Геннадьевич Арсеньев,Алексей Алексеевич Томский,Андрей Владимирович Декопов,Эмиль Давидович Исагулян,Давид Сандроевич Микелаишвили. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Центральный научно-исследовательский институт травматологии и ортопедии имени Н.Н. Приорова" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "ЦИТО им. Н.Н. Приорова" Минздрава России). Дата публикации: 2017-02-13.

Method of measuring the angular speed using a spherical resonator of the whispering gallery

Номер патента: RU2688583C1. Автор: Егор Вадимович Шалымов. Владелец: Егор Вадимович Шалымов. Дата публикации: 2019-05-21.

Control method of an apparatus for activating one or more functionalities of the same

Номер патента: US12050501B2. Автор: Enrico Rosario Alessi,Fabio Passaniti,Michele Alessio DELLUTRI. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of preparation and composition of a water soluble extract of the plant species uncaria for enhancing immune, anti-inflammatory, anti-tumor and DNA repair processes of warm blooded animals

Номер патента: US20010022981A1. Автор: Ronald Pero. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-20.

Method Of Decrypting An Electronic Document For The Safety Management Of The Electronic Document

Номер патента: US20130061329A1. Автор: Huabo Cai,Xuyang Zhu. Владелец: Shenzhen Netcom Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-07.

Method of determining the injection pattern in the compression stroke of the combustion cycle of the cylinders of a direct-injection internal combustion engine

Номер патента: US09677525B2. Автор: Marco Morelli,Filippo Cavanna,Fabio Sensi,Riccardo Lanzoni,Alessandro Musi,Fabio Panini. Владелец: Magneti Marelli SpA. Дата публикации: 2017-06-13.

Digital picture frame and method of displaying digital image data on a display unit of the digital picture frame

Номер патента: US20080303805A1. Автор: Chih-Ta Chien,Wei-Hsiang Liao. Владелец: Lite On Technology Corp. Дата публикации: 2008-12-11.

Method of improving the growth and production output of plants of the family Cannabaceae sensu stricto

Номер патента: US09622426B2. Автор: Charles E. Ankner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-18.

Energy-saving heating of the internal reflective surfaces of buildings

Номер патента: WO2004092657A1. Автор: Dimitrios Kotrotsios. Владелец: Dimitrios Kotrotsios. Дата публикации: 2004-10-28.

Method of producing trichodesma khasianum clarke leaf extracts and application of the same

Номер патента: US20230106102A1. Автор: Che-Huang Hsu,Jhen-Yi Wang. Владелец: Bai Chung Ren FoodstuffCoLtd. Дата публикации: 2023-04-06.

Method of forming a reinforcing layer on the inner wall of the combustion and/or thrust nozzles for a liquid rocket engine

Номер патента: US4028198A. Автор: Otto Tuscher,Johann Tewich,Willibald Wittich, deceased. Владелец: Messerschmitt Bolkow Blohm AG. Дата публикации: 1977-06-07.

Method of making a system containing gold nanoparticles and use of the system in antitumor therapy

Номер патента: WO2021107794A1. Автор: Joanna DEPCIUCH,Justyna MISZCZYK,Magdalena PARLIŃSKA-WOJTAN,Paweł OLKO. Владелец: Instytut Fizyki Jadrowej im. Henryka Niewodniczanskiego PAN. Дата публикации: 2021-06-03.

Method of screen or pipe expansion downhole without addition of pipe at the surface

Номер патента: CA2469752C. Автор: Steve Rosenblatt,John P. Davis,Edwin C. Howell. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2009-07-14.

Method of removing the defect and deformation of ousteohondrous zone of the nose

Номер патента: RU2670658C1. Автор: Тамара Зурабовна Чкадуа,Давид Левонович Сафарян,Мадина Владимировна Качмазова,Арам Ленсерович Давидян,Темури Демуриевич Чолокава. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Центральный научно-исследовательский институт стоматологии и челюстно-лицевой хирургии" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-10-24.

Method of adjusting the axial load on the track bearing of the rotor support of a gas turbine engine

Номер патента: RU2682215C1. Автор: Евгений Ювенальевич Марчуков,Виктор Викторович Куприк,Юрий Александрович Канахин,Ирина Михайловна Стародумова,Елена Сергеевна Некрасова. Владелец: Публичное акционерное общество "ОДК-Уфимское моторостроительное производственное объединение" (ПАО "ОДК-УМПО"). Дата публикации: 2019-03-15.

Method of removing the defect and deformation of ousteohondrous zone of the nose

Номер патента: RU2670658C9. Автор: Тамара Зурабовна Чкадуа,Давид Левонович Сафарян,Мадина Владимировна Качмазова,Арам Ленсерович Давидян,Темури Демуриевич Чолокава. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Центральный научно-исследовательский институт стоматологии и челюстно-лицевой хирургии" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-12-12.

Method of differential diagnosis of red lichen planus and lyceoplacy of the oral mucosa

Номер патента: RU2651050C1. Автор: Лариса Евсеевна Гуревич,Максим Александрович Бобров,Юлия Владимировна Молочкова,Альбина Николаевна Хлебникова. Владелец: Государственное бюджетное учреждение здравоохранения Московской области "Московский областной научно-исследовательский клинический институт им. М.Ф. Владимирского" (ГБУЗ МО МОНИКИ им. М.Ф. Владимирского). Дата публикации: 2018-04-18.

Method of strengthening a weak bottom soil in the conditions of the ice cover the water area

Номер патента: RU2681012C1. Автор: Владимир Андреевич Волков,Виталий Владимирович Шумский. Владелец: Акционерное общество "Центральное конструкторское бюро "Монолит". Дата публикации: 2019-03-01.

Method of surgical treatment of malignant growths with the defeat of the cotyloid cavity, wing of ilium and proximal femur with resection of cotyloid cavity and fixation of cotyloid component of endoprosthesis in sacrum

Номер патента: RU2722935C1. Автор: Николай Васильевич Загородний,Вадим Юрьевич Карпенко,Георгий Давидович Илуридзе,Анатолий Леонидович Карасев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр травматологии и ортопедии имени Н.Н. Приорова" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "НМИЦ ТО им. Н.Н. Приорова" Минздрава России). Дата публикации: 2020-06-05.

Method of applying a surgical suture for large wound defects of the anterior abdominal wall

Номер патента: RU2751127C1. Автор: Петр Петрович Курлаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Оренбургский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-07-08.

Method of under-level plasts' development processing with the binding of the established space

Номер патента: RU2644185C1. Автор: Олег Владиславович Любимов,Светлана Георгиевна Костюк,Николай Тимофеевич Бедарев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кузбасский государственный технический университет имени Т.Ф. Горбачева" (КузГТУ). Дата публикации: 2018-02-08.

Method of eyelash extensions and device for tension and fixing of the upper eyelid

Номер патента: RU2643398C1. Автор: Ирина Андреевна Андреева. Владелец: Ирина Андреевна Андреева. Дата публикации: 2018-02-01.

Low-trauma method of access for arterial ring aneuryms and volumetric formations of the front and medium cranial fossa

Номер патента: RU2648038C1. Автор: Олег Николаевич Древаль,Реваз Семенович Джинджихадзе,Валерий Александрович Лазарев,Андрей Викторович Поляков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования "Российская медицинская академия непрерывного профессионального образования" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБОУ ДПО РМАНПО Минздрава России). Дата публикации: 2018-03-21.

Method of material reconstruction for cytological research during tumor diseases of the pancreas, liver and bile duct

Номер патента: RU2680930C2. Автор: Борис Львович Дуберман,Денис Владимирович Мизгирев,Андрей Валентинович Тарабукин,Людмила Александровна Неледова,Анастасия Андрияновна Катышева. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северный государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-02-28.

Method of determining the stroke volume and the cardiac output of the human heart

Номер патента: CA2101531C. Автор: Karel Hendrik Wesseling. Владелец: Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2003-01-14.

Method of and apparatus for discharging liquid working medium out of the separator of a forced through-flow steam generator

Номер патента: GB858928A. Автор: . Владелец: Sulzer Ag. Дата публикации: 1961-01-18.

Method of fostering the healing of skin wounds using cells of the root sheath, composition and preparation method

Номер патента: US20110217269A1. Автор: Wolfgang Richter. Владелец: EURODERM GmbH. Дата публикации: 2011-09-08.

Method of prognosis and/or diagnosis of a pellicular condition of the scalp

Номер патента: US20240044897A1. Автор: Aude FOUCHER,Nukhet Cavusoglu,Namita MISRA. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of prognosis and/or diagnosis of a pellicular condition of the scalp

Номер патента: EP4264271A1. Автор: Aude FOUCHER,Nukhet Cavusoglu,Namita MISRA. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2023-10-25.

Isolating glass pack, method of production the same and profile forming distance piece of the glass pack

Номер патента: RU2267001C2. Автор: Ив ДЕМАР,Жан-Кристоф ЭЛЛЮЭН,Борис ВИДАЛЬ. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2005-12-27.

Continuous testing apparatus for determining the magne tic characteristics of a strip of moving material incl uding a method of obtaining a profile indicative of th e quality of the coil throughout the entire length, an d flux inducing and pick-up device therefor

Номер патента: CA1095142A. Автор: Merlin L. Osborn,Layton D. Crytzer. Владелец: Allegheny Ludlum Corp. Дата публикации: 1981-02-03.

Method of preparing a tablet dosage-form for the immunization of the intestinal tract with live virus preparations

Номер патента: US3608030A. Автор: Howard Tint. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-09-21.

Method of Treating Synthetic Fabric Webs to Set the Texture of the Fabric.

Номер патента: GB1163697A. Автор: Julius Hermes,Bernard Klebanow. Владелец: Individual. Дата публикации: 1969-09-10.

Method of booting a computer system using a memory image of the post boot content of the system RAM memory

Номер патента: NZ520786A. Автор: Daniel James Oaeconnell. Владелец: Daniel James Oaeconnell. Дата публикации: 2005-06-24.

Method of preparation and composition of a water soluble extract of the plant species uncaria

Номер патента: US6039949A. Автор: Ronald W. Pero. Владелец: CampaMed Inc. Дата публикации: 2000-03-21.

Method of urinary continence training based on an objective measurement of the bladder

Номер патента: WO2003039343A2. Автор: Donald C. Roe. Владелец: The Procter & Gamble Company. Дата публикации: 2003-05-15.

Method Of Evaluating Perception Intensity Of An Audio Signal And A Method of Controlling An Input Audio Signal On The Basis Of The Evaluation

Номер патента: US20080031464A1. Автор: Esben Skovenborg,Soren Nielsen. Владелец: TC Electronic AS. Дата публикации: 2008-02-07.

Control method of an apparatus for activating one or more functionalities of the same

Номер патента: US20230023062A1. Автор: Enrico Rosario Alessi,Fabio Passaniti,Michele Alessio DELLUTRI. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2023-01-26.

Method of screening for genes or agents affecting the response of the Drosophila heart to hypoxia or anoxia

Номер патента: US20040187169A1. Автор: Giovanni Paternostro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Strapless belt loop suspenders - and method of suspension of lower garment and improving the appearance of the upper garment

Номер патента: US20070033699A1. Автор: James Mars. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-02-15.

Method of and apparatus for making streams containing fibrous materials of the tobacco processing industry

Номер патента: US5060664A. Автор: Wolfgang Siems,Andrzej Radzio. Владелец: Koerber AG. Дата публикации: 1991-10-29.

Method of and apparatus for making a stream from particles of the tobacco processing industry

Номер патента: US4865052A. Автор: Henning MÖLLER,Werner Hartmann. Владелец: Koerber AG. Дата публикации: 1989-09-12.

Apparatus and method of focusing a laser-scanning cytometer using the reflection of the laser

Номер патента: US20240045189A1. Автор: Edward Calvin. Владелец: MABTECH AB. Дата публикации: 2024-02-08.

Electronic device and method of generating text-to-speech model for prosody control of the electronic device

Номер патента: US20230335112A1. Автор: Taehoon Kim,Hyoungmin Park,Junesig Sung,Nikos ELLINAS,Pirros TSIAKOULIS. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-19.

System and method of scanning an environment and generating two dimensional images of the environment

Номер патента: US11775701B2. Автор: Simon Raab,Oliver Zweigle,Aleksej Frank,Ahmad RAMADNEH,Joao Santos,Derik J. White. Владелец: Faro Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Apparatus and method of focusing a laser-scanning cytometer using the reflection of the laser

Номер патента: EP4251974A1. Автор: Edward Calvin. Владелец: MABTECH AB. Дата публикации: 2023-10-04.

Systems and methods of monitoring a catheter or shunt device and fluid of the system

Номер патента: WO2023196580A1. Автор: Christopher J. Simpson,Christine T. Kearney,Nathan P. RETZLAFF,Dawn M. HERRINGTON,Akiva W. KIRSCHNER,Wesley W. Walker. Владелец: BARD PERIPHERAL VASCULAR, INC.. Дата публикации: 2023-10-12.

Method of producing biosensor structure

Номер патента: RU2644979C2. Автор: Светлана Викторовна Стецюра,Александр Валерьевич Козловский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2018-02-15.

Method for manufacturing thin-film tunnel junctions by the method of separate lithography

Номер патента: RU2757762C1. Автор: Михаил Александрович Тарасов,Артем Михайлович Чекушкин,Александра Анатольевна Гунбина,Михаил Юрьевич Фоминский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук. Дата публикации: 2021-10-21.

Composite electrode and method of manufacture thereof

Номер патента: EP2567421A1. Автор: Thomas Harvey,Timothy George Ryan. Владелец: Epigem Ltd. Дата публикации: 2013-03-13.

Production method of circuit board

Номер патента: US09769936B2. Автор: Takashi Nakagawa,Kenji Iida,Seigo Yamawaki,Junichi Kanai,Yasuhiro Karahashi,Koji Komemura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Semiconductor device, correction method in semiconductor device, and correction method of camera module

Номер патента: US20160248977A1. Автор: Toru Kitano. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Semiconductor device, correction method in semiconductor device, and correction method of camera module

Номер патента: US09794484B2. Автор: Toru Kitano. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor device including a level shifter and method of mitigating a delay between input and output signals

Номер патента: US12057832B2. Автор: Jerrin Pathrose Vareed,Shiba Mohanty. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor device including a level shifter and method of mitigating a delay between input and output signals

Номер патента: US12088295B2. Автор: Jerrin Pathrose Vareed,Shiba Mohanty. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor Device Including a Level Shifter and Method of Mitigating a Delay Between Input and Output Signals

Номер патента: US20240364341A1. Автор: Jerrin Pathrose Vareed,Shiba Mohanty. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Semiconductor device including a level shifter and method of mitigating a delay between input and output signals

Номер патента: US12143106B2. Автор: Jerrin Pathrose Vareed,Shiba Mohanty. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Method of obtaining art decorative coating on the surface of flat cork panels

Номер патента: RU2672484C1. Автор: Денис Александрович Фомахин. Владелец: Денис Александрович Фомахин. Дата публикации: 2018-11-15.

Non-chlorinated multifunctional acid detergent and method of preparing said detergent

Номер патента: RU2374313C2. Автор: Фахим У. АХМЕД,Н. Камелия ТРАИСТАРУ. Владелец: ДЕЛАВАЛЬ ХОЛДИНГ АБ. Дата публикации: 2009-11-27.

Method of internal cylindrical surface plasma strengthening

Номер патента: RU2671522C1. Автор: Дмитрий Витальевич Мозгрин,Александр Александрович Писарев,Татьяна Владимировна Степанова,Юрий Владимирович Борисюк,Нина Михайловна Орешникова. Владелец: Акционерное общество "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (АО "ГНЦ РФ ТРИНИТИ"). Дата публикации: 2018-11-01.

Method of plating lavsan filament with non-destructive surface activation

Номер патента: RU2682577C1. Автор: Евгений Михайлович Ананьев,Олег Николаевич Андрух,Анна Вячеславовна Алексеева,Алан Канаматович Караев,Борис Иосифович Нахманович,Наталья Иосифовна Пакуро,Людмила Федоровна Рыбакова,Наталья Владимировна Садовская,Петр Федотович Ситников. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Отечественные технологии, промышленный дизайн и инжиниринг". Дата публикации: 2019-03-19.

Method of producing the rolled rings with regular microstructure

Номер патента: RU2659501C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Михаил Михайлович Иванов,Индира Владиковна Гайнанова,Лариса Ивановна Маслова,Лиана Ануровна Исмагилова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2018-07-02.

Method of electropolishing of metal part

Номер патента: RU2716292C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Николай Константинович Криони,Раис Калимуллович Давлеткулов. Владелец: Раис Калимуллович Давлеткулов. Дата публикации: 2020-03-11.

Method of application of wear-resistant coatings based on titanium and nickel carbide on stamps

Номер патента: RU2659560C1. Автор: Денис Анатольевич Романов,Виктор Евгеньевич Громов,Елена Владимировна Мартусевич. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный индустриальный университет". Дата публикации: 2018-07-02.

Method of transportation of empty railway cargo platform and device for its implementation

Номер патента: RU2682312C2. Автор: Виктор Николаевич Ожерельев. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "Брянский государственный технический университет". Дата публикации: 2019-03-18.

Method of manufacturing thermal inkjet printhead

Номер патента: US20080283494A1. Автор: Byung-Ha Park,Kyong-il Kim,Jin-Wook Lee,Myong-jong Kwon,Il-woo Kim,Hye-Young Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-11-20.

Method of repairing articles from polymer composite materials

Номер патента: RU2694352C1. Автор: Виктор Васильевич Авдеев,Алексей Валерьевич Кепман,Александр Владимирович БАБКИН,Екатерина Сергеевна Афанасьева,Анна Анатольевна Кузнецова,Эрдни Михайлович ЭРДНИ-ГОРЯЕВ,Александр Анатольевич Лялин,Павел Сергеевич Огурцов,Руслан Валентинович Плужников. Владелец: Публичное Акционерное Общество "Воронежское акционерное самолетостроительное общество". Дата публикации: 2019-07-11.

Method of thermal processing transparent detail surface

Номер патента: RU2637268C1. Автор: Петр Васильевич Смирнов,Владимир Алексеевич Архипов,Андрей Геннадьевич Полутов. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственный комплекс "ЭЛАРА" имени Г.А. Ильенко" (ОАО "ЭЛАРА"). Дата публикации: 2017-12-01.

Method of obtaining deactivation-resistant catalyst for selective catalytic reduction of nox

Номер патента: RU2553463C9. Автор: Франческо КАСТЕЛЛИНО,Анкер Денг ЙЕНСЕН,Пер Донсков РАМС,Янник Блаабйерг ПЕДЕРСЕН,Сива Санкар Редди ПУТЛУРУ. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2016-01-20.

Method of anti-stiction dimple formation under MEMS

Номер патента: US7919006B2. Автор: Hemant D. Desai,Woo Tae Park. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2011-04-05.

Method of applying chromium coating on precision parts from low-alloy structural steels

Номер патента: RU2732038C1. Автор: Николай Николаевич Чупятов,Лариса Викторовна Козырева,Анна Алексеевна Образцова,Виктор Вениаминович Козырев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный технический университет" (ТвГТУ). Дата публикации: 2020-09-10.

Manufacturing method of structure and manufacturing apparatus

Номер патента: US09636897B2. Автор: Kazuhiro Nakajima,Hiroshi Taniuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Nano-fabrication system with cleaning system for cleaning a faceplate of a dispenser and method of cleaning the faceplate

Номер патента: US20210318609A1. Автор: Hiroyuki Kondo,Antoine Dellinger,Roger R. Wenzel,Jason Battin,Craig William Cone. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Creation method of dyed drawing of plant matter

Номер патента: US20050129837A1. Автор: Nobuo Sugino. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-16.

Dynamic image forming device and method of its obtaining

Номер патента: RU2629150C1. Автор: Олег Васильевич Будаков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "МеталлЭффект". Дата публикации: 2017-08-24.

Method of producing a nanofluid using laser ablation, corresponding nanofluid and laser ablation system for manufacturing nanofluids

Номер патента: ZA202304770B. Автор: Malek MAAZA,Saleh KHAMLICH. Владелец: Univ South Africa. Дата публикации: 2023-12-20.

Colouring solution for selectively treating the surface of dental ceramic and related methods

Номер патента: US09439838B2. Автор: Holger Hauptmann,Michael Jahns,Grit Kindler,Philipp Doebert. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2016-09-13.

Sheets for taking prints and a method of taking prints

Номер патента: US5236885A. Автор: Tadashi Tanimoto. Владелец: Kanzaki Paper Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1993-08-17.

Method of manufacturing polarizing plate

Номер патента: US20140139919A1. Автор: Minoru Miyatake,Shusaku Goto,Kentaro Ikeshima,Osamu Kaneko,Yuuki Nakano,Nobuyuki Haida. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2014-05-22.

Thin-walled hot foil stamping cylinder and method of fabrication

Номер патента: US20090078133A1. Автор: Derek Smith,Larry R. Hutchison. Владелец: Universal Engraving Inc. Дата публикации: 2009-03-26.

Self-assembled nanostructure bolometers and methods of use thereof

Номер патента: US10060799B2. Автор: Francisco Javier Gonzalez,Miguel Jose Yacaman,J. Jesus Velazquez Salazar,John Eder Sanchez,Arturo Ponce-Pedraza,Fernando Mendoza Santoyo. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2018-08-28.

Method of manufacturing thin film magnetic head

Номер патента: US20090265917A1. Автор: Masanori Tachibana,Koichi Sugimoto,Yoshiyuki Ikeda,Kazuaki Satoh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-10-29.

Method of surgical treatment of periprosthetic infection of large joints using preparation "phagodent" with bacteriophagas and vacuum drainage of inflammation products

Номер патента: RU2676401C2. Автор: Арчил Важаевич Цискарашвили,Андрей Валерьевич Жадин,Константин Александрович Кузьменков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр травматологии и ортопедии имени Н.Н. Приорова" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "НМИЦ ТО им. Н.Н. Приорова" Минздрава России). Дата публикации: 2018-12-28.

Method of simulation of axially symmetric surface

Номер патента: RU2670380C2. Автор: Матье Жан Люк ВОЛЬБРЕГТ,Винсент Поль Габриэль ПЕРРО,Дамьен Жозеф СЕЛЬЕ,Николя Жан Фернан ПИНЬЕ. Владелец: Сафран Эркрафт Энджинз. Дата публикации: 2018-10-22.

Method of production of coherent textile material

Номер патента: RU2563756C2. Автор: Джеймс Пол ЧЕРНЕСКИ. Владелец: Джеймс Пол ЧЕРНЕСКИ. Дата публикации: 2015-09-20.

Ultrasonic inspection method of articles with equidistant surfaces

Номер патента: RU2725705C1. Автор: Анатолий Аркадиевич Марков,Владимир Валентинович Мосягин,Сергей Петрович Маховиков. Владелец: Открытое акционерное общество "Радиоавионика". Дата публикации: 2020-07-03.

System and method for optical mapping of semiconductor wafers at cryogenic temperatures under transmission geometry

Номер патента: US20240201105A1. Автор: Yong Chang,Silviu Velicu,Sushant Sonde,Issac L. Chang. Владелец: Epir Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Washer and method of washer manufacturing

Номер патента: RU2707805C1. Автор: Матис ХУТЕР,Штефан ВИЛЬДЕНХОФ,Томас ПЕЛЛЬКОФЕР,Райнер РЕТКОВСКИ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2019-11-29.

Method of determination of the relative error of the measurement of the standard

Номер патента: RU2642143C1. Автор: Георгий Галиуллович Валеев. Владелец: Георгий Галиуллович Валеев. Дата публикации: 2018-01-24.

Method of manufacturing a spherical rotor of a cryogenic gyroscope

Номер патента: RU2680261C1. Автор: Сергей Александрович Кузнецов,Егор Александрович Махаев,Антон Решатович Дубровский,Максим Александрович Окунев,Людмила Петровна Рябова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр "Кольский научный центр Российской академии наук" (ФИЦ КНЦ РАН). Дата публикации: 2019-02-19.

Method and device for milling the surface of a traffic area in at least two layers

Номер патента: WO2023151729A1. Автор: Vítězslav Obr,Marek Přikryl. Владелец: Exact Control System a.s.. Дата публикации: 2023-08-17.

Method of rendering inhomogeneities of a flat semiconductor surface in terahertz radiation

Номер патента: RU2737725C1. Автор: Алексей Константинович Никитин,Илдус Шевкетович Хасанов,Лидия Александровна Зыкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН). Дата публикации: 2020-12-02.

Method of and scanning probe microscopy system for measuring a topography of a side wall of a structure on a surface of a substrate

Номер патента: WO2024005635A1. Автор: Jakob van de Laar,Hamed Sadeghian Marnani,Arseniy KALININ,Niranjan SAIKUMAR. Владелец: Nearfield Instruments B.V.. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of and scanning probe microscopy system for measuring a topography of a side wall of a structure on a surface of a substrate

Номер патента: NL2032315B1. Автор: Sadeghian Marnani Hamed,Van De Laar Jakob,Kalinin Arseniy,Saikumar Niranjan. Владелец: Nearfield Instr B V. Дата публикации: 2024-01-16.

Method of forming photo-alignment film and method of forming liquid crystal layer

Номер патента: US12124061B2. Автор: Hiroshi Sato,Yukito Saitoh,Fumitake Mitobe,Katsumi SASATA,Akiko Watano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Method of transmitting heat and heat transferring device for its implementation

Номер патента: RU2675977C1. Автор: Руфат Шовкет оглы Абиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)". Дата публикации: 2018-12-25.

Accident-free highway and method of its use

Номер патента: RU2521012C2. Автор: Александр Тихонович Зиньковский. Владелец: Александр Тихонович Зиньковский. Дата публикации: 2014-06-27.

Method of producing an electrophotographic photoconductor and an electrophotographic photoconductor produced by this method

Номер патента: US20070048641A1. Автор: Hidetaka Yahagi. Владелец: Fuji Electric Device Technology Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-01.

Method of manufacturing a golf ball

Номер патента: US7452288B2. Автор: Jun Yamakawa,Shunichi Nagasaki. Владелец: SRI Sports Ltd. Дата публикации: 2008-11-18.

Method of manufacturing a golf ball

Номер патента: US20050215355A1. Автор: Jun Yamakawa,Shunichi Nagasaki. Владелец: Sumitomo Rubber Industries Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Scanning probe microscope and method of operating the same

Номер патента: US20070018097A1. Автор: Hideo Kojima. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2007-01-25.

Scanning probe microscope and method of operating the same

Номер патента: US7748052B2. Автор: Hideo Kojima. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-06-29.

Flavored sheet with improved surface roughness, smoking article including the same and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240277027A1. Автор: Min Hee Hwang,Eun Mi Jeoung,Ick Joong KIM,Kyung Bin Jung,Geon Chang LEE. Владелец: KT&G Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of manufacturing heat generating roller by providing a poly-ether-ether-ketone resin over a base member, heat generating roller, fixing device, and image forming apparatus

Номер патента: US20220373946A1. Автор: Takashi Matsubara,Takashi Ohashi,Takuma Ishihara. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2022-11-24.

Method of utilizing carbon monoxide to increase oil recovery

Номер патента: US09951594B2. Автор: Paul Trost. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-24.

Disc cartridge shutters and methods of producing same.

Номер патента: MY104731A. Автор: Takahashi Kenji. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Test structures and testing methods for semiconductor devices

Номер патента: US09891273B2. Автор: Wensen Hung,Yung-Hsin Kuo,Po-Shi Yao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Method of preventing dishing during chemical mechanical polishing and manufacturing semiconductor device

Номер патента: TW200729314A. Автор: Tu-Hao Yu,Te-Kan Liao,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Estimation method of polishing time for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW450873B. Автор: Ying-Lang Wang,Yu-Gu Lin,Wen-Bin Jang,Huei-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-08-21.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Manufacturing method of memory cell by chemical mechanical polishing technology

Номер патента: TW320759B. Автор: Horng-Huei Tzeng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 1997-11-21.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Method of preventing dishing during chemical mechanical polishing and manufacturing semiconductor device

Номер патента: TWI296829B. Автор: Yu Chia Chen,Tu Hao Yu,Pai Hsuan Sun,Te Kan Liao. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2008-05-11.

Method of production of thick-walled laminated products made out of the polymeric composite materials

Номер патента: RU2271928C1. Автор: Николай Владимирович Выморков,Наталь Борисовна Волобуева,Наталья Борисовна Волобуева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология". Дата публикации: 2006-03-20.

Method of determining the area of openings in the roof of the reservoir for storage of liquid hydrocarbons

Номер патента: RU2592768C1. Автор: Александр Николаевич Ченцов,Сергей Евгеньевич Золотарев,Юрий Васильевич Богатенков,Роман Геннадьевич Завалишин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-исследовательский институт транспорта нефти и нефтепродуктов Транснефть" (ООО "НИИ Транснефть"). Дата публикации: 2016-07-27.

Method of separation of ferromagnetic impurities from products of comminution of the worn tires and device for its realization

Номер патента: RU2225261C2. Автор: А.М. Кутепов,С.А. Комаров,В.Н. Блиничев,А.Г. Ишутин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью научно-производственная фирма "ЭНТАР". Дата публикации: 2004-03-10.

Method of production of finely dispersed powders with uniform distribution of liquid phase over surface of particles and method of production of insectoacaricide dusts

Номер патента: RU2101008C1. Автор: . Владелец: Предприниматель без образования юридического лица Добронравов Петр Николаевич. Дата публикации: 1998-01-10.

Method of production of vegetable oil and food protein product of the "flour" type

Номер патента: RU2057794C1. Автор: С.А. Будасова,Д.А. Мартемьянов,С.А. Будасов,П.Т. Степанов. Владелец: Смешанное товарищество Научно-производственное внедренческое предприятие "Бутекс". Дата публикации: 1996-04-10.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: MY132791A. Автор: C Billings Scott,K Hsu Oscar,K Vangsness Jean,S Gilbride David. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

A New or Improved Method of and Means for Regulating the Degree of Humidity of the Air in Incubators.

Номер патента: GB190003934A. Автор: John Henry Sutcliffe. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-02-09.

Improvements in Methods of Making Seamless Weft Mesh Goods on Knitting Machines of the "Lamb" Type, and Apparatus therefor.

Номер патента: GB190209627A. Автор: Wilhelm Julius Teufel. Владелец: WILHELM JULIUS TEUFEL GMBH. Дата публикации: 1903-04-23.

System and process for post-chemical mechanical polishing cleaning

Номер патента: WO2024147814A1. Автор: Brian K. Kirkpatrick,Clinton Sakata. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Abrasive particles for chemical mechanical polishing

Номер патента: MY153435A. Автор: James Neil Pryor,Jia-Ni Chu. Владелец: Grace W R & Co. Дата публикации: 2015-02-13.

Method of direction finding of radio emission sources when scanner assembly is located on surface of mobile carrier ( variants ); direction finder of radio signals of radio emission sources when scanner assembly is mounted on surface of mobile carrier ( variants )

Номер патента: RU2218580C2. Автор: А.А. Косогор,Е.А. Строчков,Е.Л. Логвиненко,И.Г. Воробей. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи". Дата публикации: 2003-12-10.

III-NITRIDE LIGHT-EMITTING DEVICES WITH REFLECTIVE ENGINEERED GROWTH TEMPLATES AND METHODS OF MANUFACTURE

Номер патента: US20120001213A1. Автор: Jorgenson Robbie J.. Владелец: LIGHTWAVE PHOTONICS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001247A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE & METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001249A1. Автор: Alsmeier Johann,Samachisa George. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001250A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001252A1. Автор: Alsmeier Johann,Purayath Vinod Robert,Chien Henry,Matamis George,Lee Yao-Sheng,Kai James,Zhang Yuan. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001226A1. Автор: . Владелец: Sanken Electric Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003841A1. Автор: . Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001344A1. Автор: IDANI Naoki,TAKESAKO Satoshi. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

ETCHANTS AND METHODS OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20120001264A1. Автор: YANG Jun-Kyu,Kim Hong-Suk,Hwang Ki-Hyun,Ahn Jae-Young,Lim Hun-Hyeong,KIM Jin-Gyun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE WHICH A PLURALITY OF TYPES OF TRANSISTORS ARE MOUNTED

Номер патента: US20120001265A1. Автор: . Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREFOR

Номер патента: US20120001244A1. Автор: Yamazaki Shunpei,KOYAMA Jun,MURAKAMI Satoshi,Tanaka Yukio,KITAKADO Hidehito. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001275A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device Comprising High-K Metal Gate Electrode Structures and Precision eFuses Formed in the Active Semiconductor Material

Номер патента: US20120001295A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003808A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR ENCAPSULATING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001350A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING NANOSCALE FLOATING GATE

Номер патента: US20120001248A1. Автор: Sandhu Gurtej S.,Ramaswamy D.V. Nirmal. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001315A1. Автор: Kikuchi Hiroshi,MOCHIZUKI Chihiro,SHIMA Yasuo,KOBAYASHI Yoichiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001346A1. Автор: SEO Dae-Young,KIM Doo-Kang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INTEGRATED CIRCUIT DEVICE WITH WELL CONTROLLED SURFACE PROXIMITY AND METHOD OF MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001238A1. Автор: Ouyang Hui,Fan Wei-Han,Tsai Ming-Huan,Cheng Chun-Fai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

GATE STRUCTURES AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001266A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device Comprising Through Hole Vias Having a Stress Relaxation Mechanism

Номер патента: US20120001330A1. Автор: Huisinga Torsten,Grillberger Michael,Hahn Jens. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

THREE DIMENSIONAL SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001345A1. Автор: Hwang Kihyun,YANG Junkyu,Choi Hanmei,Park ChanJin,Min Gyungjin,Yoo Dongchul,Kong Yoochul. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method of Forming Compliant Stress Relief Buffer Around Large Array WLCSP

Номер патента: US20120001325A1. Автор: Shim Il Kwon,Chow Seng Guan,Lin Yaojian. Владелец: STATS CHIPPAC, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Alignment Mark and Method of Formation

Номер патента: US20120001337A1. Автор: Yu Chen-Hua,Lin Jing-Cheng,Jeng Shin-Puu,Chiou Wen-Chih,Wu Weng-Jin,Chen Chia-Ho,Tsai Fang Wen,Tsai Chen-Yu,Wang Shih-Hui,Chiu Chien-Ming. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003805A1. Автор: Lee Tae-Jung,PARK MYOUNG-KYU,Bang Kee-In. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Perpendicular Magnetic Write head and method of manufacturing the same

Номер патента: US20120002326A1. Автор: Matono Naoto,SASAKI Kenji,Mino Tetsuya,Onodera Ikuhito,Nishiyama Kazushi,Tsuchiya Michitoshi. Владелец: SAE Magnetics (H.K.) Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003801A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING A LIGHT EMITTING DIODE CHIP HAVING PHOSPHOR COATING LAYER

Номер патента: US20120003758A1. Автор: HSIEH Chung-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

MEMORY CELL THAT EMPLOYS A SELECTIVELY FABRICATED CARBON NANO-TUBE REVERSIBLE RESISTANCE-SWITCHING ELEMENT AND METHODS OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001150A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001308A1. Автор: FUKUTANI Keita,NISHIHATA Masayoshi,Mamitsu Kuniaki,Ookura Yasushi,Wado Hiroyuki,Sugiura Syun. Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Manufacturing Vertical Pin Diodes

Номер патента: US20120001305A1. Автор: Peroni Marco,Pantellini Alessio. Владелец: SELEX SISTEMI INTEGRATI S.P.A.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR PACKAGE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001329A1. Автор: Kim Young Lyong,Lee Jongho,AHN EUNCHUL,Kim Hyeongseob. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH A PLURALITY OF MEMORY BANKS AND TEST METHOD OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120002464A1. Автор: MAE Kenji. Владелец: ELPIDA MEMORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of obtaining structured semiconductor surface

Номер патента: RU2519865C1. Автор: Анатолий Васильевич Двуреченский,Жанна Викторовна Смагина,Наталья Петровна Степина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2014-06-20.

METHOD OF FABRICATING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Номер патента: US20120003806A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of determining irregularities in semiconductor material

Номер патента: RU2461091C1. Автор: Вячеслав Михайлович Андреев,Михаил Николаевич Мизеров,Борис Васильевич Пушный,Роман Викторович Левин. Владелец: Учреждение Российской академии наук Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН. Дата публикации: 2012-09-10.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001170A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001179A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Takahashi Masahiro,TOCHIBAYASHI Katsuaki,HIROHASHI Takuya,NAKAZAWA Yasutaka,YOKOYAMA Masatoshi. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001291A1. Автор: Kokumai Kazuo. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003784A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003815A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Forming Nonvolatile Memory Devices Using Nonselective and Selective Etching Techniques to Define Vertically Stacked Word Lines

Номер патента: US20120003831A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD OF ILLUMINATING INTERFEROMETRIC MODULATORS USING BACKLIGHTING

Номер патента: US20120001962A1. Автор: Tung Ming-Hau,Chui Clarence. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001194A1. Автор: Kitamura Takamitsu,Nakata Ken,Makabe Isao,Yui Keiichi. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method Of Polishing Chalcogenide Alloy

Номер патента: US20120003834A1. Автор: Reddy Kancharla-Arun Kumar,Liu Zhendong,Koo Ja-Ho,Sawant Kaveri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Forming the Same

Номер патента: US20120001229A1. Автор: Zhu Huilong,Liang Qingqing. Владелец: INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001333A1. Автор: HWANG Chang Youn. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ISOLATION METHOD IN SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003809A1. Автор: KIM Young Deuk. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of treating quartz equipment for semiconductor production

Номер патента: RU2386188C1. Автор: Лидия Федоровна Морозова,Наталья Владимировна Снегирева,Елена Борисовна Двойникова,Эллеонора Николаевна Лисина,Алла Александровна Карасева,Юрий Иванович Гринев,Наталья Тимофеевна Гордеева. Владелец: Наталья Тимофеевна Гордеева. Дата публикации: 2010-04-10.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001318A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20120001335A1. Автор: ENDO Yuta,TANAKA Tetsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Non-Volatile Resistive Oxide Memory Cells, Non-Volatile Resistive Oxide Memory Arrays, And Methods Of Forming Non-Volatile Resistive Oxide Memory Cells And Memory Arrays

Номер патента: US20120001147A1. Автор: . Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CANCER BIOMARKERS AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120003639A1. Автор: KERLIKOWSKE KARLA,TLSTY THEA D.,GAUTHIER MONA L.,BERMAN HAL K.,BREMER TROY,MOLINARO ANNETTE M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forming switching jumper

Номер патента: RU2579166C2. Автор: Сергей Иванович Бабкин,Святослав Игоревич Волков. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Федеральный научный центр Научно-исследовательский институт системных исследований Российской академии наук" (ФГУ ФНЦ НИИСИ РАН). Дата публикации: 2016-04-10.

Method of making photodetector array

Номер патента: RU2522681C2. Автор: Лариса Васильевна Киселева,Алексей Алексеевич Лопухин,Анатолий Михайлович Филачев,Анна Алексеевна Рябова,Елена Анатольевна Кожаринова,Елена Васильевна Умникова. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2014-07-20.

METHOD OF ELECTROLYTIC CERAMIC COATING FOR METAL, ELECTROLYSIS SOLUTION FOR ELECTROLYTIC CERAMIC COATING FOR METAL, AND METALLIC MATERIAL

Номер патента: US20120000783A1. Автор: Konishi Tomoyoshi,Suda Arata. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001190A1. Автор: Yaneda Takeshi,Aita Tetsuya,Harumoto Yoshiyuki,Inoue Tsuyoshi,OKABE Tohru. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, image display device and production method of antistatic laminate

Номер патента: US20120003467A1. Автор: . Владелец: FUJI FILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPRESSION SPRINGS AND METHODS OF MAKING SAME

Номер патента: US20120000073A1. Автор: . Владелец: Renton Coil Spring Company. Дата публикации: 2012-01-05.

Knuckle Formed Through The Use Of Improved External and Internal Sand Cores and Method of Manufacture

Номер патента: US20120000877A1. Автор: Smerecky Jerry R.,Nibouar F. Andrew,SMITH Douglas. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing Method of Electrode Material

Номер патента: US20120001120A1. Автор: Yamakaji Masaki,Miwa Takuya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DETECTING TARGET SUBSTANCE

Номер патента: US20120003666A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING DIODE HAVING A THERMAL CONDUCTIVE SUBSTRATE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003766A1. Автор: . Владелец: Seoul Opto Device Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

VIOLET LASER EXCITABLE DYES AND THEIR METHOD OF USE

Номер патента: US20120004397A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001998A1. Автор: Sasaki Hidehito. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEOTIDE SEQUENCES ENCODING GSH1 POLYPEPTIDES AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120004114A1. Автор: . Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY AND PIONEER HI-BRED INTERNATIONAL. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001257A1. Автор: MURAKAWA Kouichi. Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120001304A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of rapidly quantifying hydroxymethylated DNA

Номер патента: US20120003663A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of chemical mechanical polishing and method of fabricating interconnect component

Номер патента: TWI277132B. Автор: Jen-Chieh Tung,Ching-Yen Lin,Tsai-Chiang Nieh. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2007-03-21.

Method of chemical mechanical polishing and methode of fabricating interconnect component

Номер патента: TW200705529A. Автор: Jen-Chieh Tung,Ching-Yen Lin,Tsai-Chiang Nieh. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001260A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of polishing semiconductor materials

Номер патента: RU2457574C1. Автор: Вячеслав Михайлович Андреев,Дмитрий Александрович Кудряшов,Михаил Николаевич Мизеров,Борис Васильевич Пушный. Владелец: Учреждение Российской академии наук Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН. Дата публикации: 2012-07-27.

Method of machining of the monocrystalline lanthanum-gallium silicate substrates

Номер патента: RU2301141C1. Автор: Сергей Александрович Сахаров,Владимир Владимирович Аленков,Андрей Николаевич Мацак,Александр Владимирович Давыденко. Владелец: Открытое акционерное общество "ФОМОС-МАТЕРИАЛС". Дата публикации: 2007-06-20.

Method of surface hardening of steel products

Номер патента: RU2455368C1. Автор: Геннадий Викторович Москвитин,Владимир Евгеньевич Архипов,Анатолий Федорович Лондарский,Аскольд Филиппович Мельшанов,Максим Сергеевич Пугачев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт машиноведения им. А.А. Благонравова РАН. Дата публикации: 2012-07-10.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001294A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of dielectric film formation

Номер патента: RU2534389C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Бийке Алиевна Шангереева,Суйкум Алиевна Шангереева,Таджедин Экберович Саркаров. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2014-11-27.

Method of processing mating surfaces of shutoff device and device for its implementation

Номер патента: RU2546936C2. Автор: Владислав Павлович Смоленцев,Борис Иванович Омигов,Сергей Степанович Юхневич,Алексей Александрович Клименченков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-04-10.

Catalyst of pyrolysis of propane-butane hydrocarbon material in lowest olefins and method of obtaining it

Номер патента: RU2331473C2. Автор: Ирина Анатольевна Пищурова,Юрий Арсентьевич Александров,Валентина Михайловна Шекунова,Ирина Ивановна Диденкулова,Елена Ивановна Цыганова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью научно-производственное предприятие "Катализаторы переработки нефтепродуктов"(ООО НПП "КАНЕФ"). Дата публикации: 2008-08-20.

Method of forming ordered structures on surface of semiconductor substrates

Номер патента: RU2593633C1. Автор: Людмила Алексеевна Чеботкевич,Алексей Вячеславович Огнев,Александр Сергеевич Самардак,Константин Сергеевич Ермаков. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Дальневосточный федеральный университет". Дата публикации: 2016-08-10.

Method of Forming Long Strips of Dielectric Coated Metalized Film

Номер патента: US20120002347A1. Автор: Balliette William M.,Jamison Keith D.. Владелец: FARADOX ENERGY STORAGE, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical-mechanical polishing method, setting method of polishing time process of chemical-mechanical polishing and wafer

Номер патента: CN105563301A. Автор: 李一斌. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-05-11.

Method of removing oxide from silicon plate surface

Номер патента: RU2534444C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Айшат Расуловна Шахмаева,Патимат Расуловна Захарова. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2014-11-27.

Method of obtaining composite polymer-carbon electrode material with high electrochemical capacity

Номер патента: RU2543982C2. Автор: Ирина Юрьевна Сапурина,Михаил Александрович Шишов. Владелец: Ирина Юрьевна Сапурина. Дата публикации: 2015-03-10.

Method of micro-profiling of silicon structures

Номер патента: RU2559336C1. Автор: Сергей Петрович Тимошенков,Валерий Федорович Шилов,Сергей Геннадьевич Миронов,Алексей Сергеевич Тимошенков,Михаил Ольгердович Рапидов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МИЭТ" (МИЭТ). Дата публикации: 2015-08-10.

Wafer carrier and operating method of chemical mechanical polishing tool

Номер патента: TW200514650A. Автор: Yen-Ting Tung,Jen-Chieh Tung,Yu-Hua Yeh,Ching-Yen Lin. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2005-05-01.

Semiconductor Device

Номер патента: US20120001269A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of production string sealing

Номер патента: RU2513374C1. Автор: Ильгизар Хасимович Махмутов,Радик Зяузятович Зиятдинов,Фарид Баширович Сулейманов,Владимир Михайлович Акуляшин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2014-04-20.

Method of preparing to operation and installation of blast furnace air tuyere

Номер патента: RU2327742C2. Автор: Валерий Николаевич Логинов,Михаил Юрьевич Суханов,Михаил Муртазакулович Каримов,Александр Евграфович Титлянов,Александр Германович Радюк,нов Александр Евграфович Титл. Владелец: Открытое акционерное общество "Северсталь" (ОАО "Северсталь"). Дата публикации: 2008-06-27.

Method of producing ultra-hydrophobic coatings against icing of large areas

Номер патента: RU2525292C1. Автор: Павел Геннадьевич Филиппов,Сергей Михайлович Алдошин,Виктор Адольфович Бендерский,Ида Павловна Ким. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем химической физики Российской Академии наук (ИПХФ РАН). Дата публикации: 2014-08-10.

Wafer carrier and operating method of chemical mechanical polishing tool

Номер патента: TWI220406B. Автор: Yen-Ting Tung,Jen-Chieh Tung,Yu-Hua Yeh,Ching-Yen Lin. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2004-08-21.

Optimal slurry injecting device and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: TW474851B. Автор: Ming-Wen Wang,Fu-Chu Jou,Ming-Nan Fu. Владелец: Nat Science Council. Дата публикации: 2002-02-01.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001342A1. Автор: . Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20120001332A1. Автор: TANAKA Tetsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120003797A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of barrage erection

Номер патента: RU2330140C2. Автор: Михаил Иванович Бальзанников,Всеволод Александрович Шабанов,Андрей Александрович Михасек. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный архитектурно-строительный университет" (СГАСУ). Дата публикации: 2008-07-27.

Method of production of magnesium by electrolysis of the fused salts electrolysis

Номер патента: RU2312935C1. Автор: Николай Александрович Шундиков,Виктор Иванович Трифонов,Валерий Владимирович Тетерин,Дмитрий Анатольевич Рымкевич,Валерий Афанасьевич Колесников,Сергей Иванович Потеха,Владимир Александрович Костарев,Анатолий Аркадьевич Рымкевич. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Корпорация Всмпо-Ависма". Дата публикации: 2007-12-20.

Nanocomposite gettering structure and method of its preparation

Номер патента: RU2523718C2. Автор: Сергей Петрович Тимошенков,Антон Николаевич Бойко,Дахир Сайдуллахович Гаев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МИЭТ" (МИЭТ). Дата публикации: 2014-07-20.

PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING USING SAME

Номер патента: US20120322348A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-12-20.

Method of broadcast seeding of grain crops

Номер патента: RU2461170C1. Автор: Владимир Александрович Милюткин,Михаил Анатольевич Канаев,Владимир Александрович Милюткин (RU),Михаил Анатольевич Канаев (RU). Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарская государственная сельскохозяйственная академия. Дата публикации: 2012-09-20.

Manufacturing method of multi-level copper metallisation of vlsic

Номер патента: RU2420827C1. Автор: Константин Анатольевич Воротилов,Владимир Александрович Васильев,Адиль Салихович Валеев,Геннадий Яковлевич Красников,Николай Алексеевич Шелепин,Олег Павлович Гущин,Сергей Николаевич Аверкин,Геннадий Яковлевич Красников (RU),Адиль Салихович Валеев (RU),Николай Алексеевич Шелепин (RU),Олег Павлович Гущин (RU),Константин Анатольевич Воротилов (RU),Владимир Александрович Васильев (RU),Сергей Николаевич Аверкин (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон". Дата публикации: 2011-06-10.

Polish pad base of chemical mechanical polish platform

Номер патента: TW479001B. Автор: Jian-Shing Lai,Huang-Yi Lin,Rung-Nan Tzeng,Huei-Shen Shr. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-03-11.

Method of diffusion titanising of cast iron products

Номер патента: RU2493289C1. Автор: Юрий Григорьевич Гуревич,Виктор Александрович Фролов,Виктор Евгеньевич Овсянников,Павел Александрович Суханов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курганский государственный университет". Дата публикации: 2013-09-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.