Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

用于掩模板的透明基片及掩模板

Номер патента: CN1749853B
Опубликовано: 01-12-2010
Автор(ы): 小池今朝广, 河原明宏, 铃木修
Принадлежит: Hoya Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, mask blank glass substrate, mask blank, and mask

Номер патента: US20110059390A1. Автор: Yasushi Okubo,Akinori Kurikawa,Hisashi Kasahara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-03-10.

Mask blank providing system, mask blank providing method, mask blank transparent substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and mask manufacturing method

Номер патента: US7998644B2. Автор: Masaru Tanabe,Osamu Suzuki,Atsushi Kawaguchi,Hiroyuki Akagawa,Naozumi Ishibashi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

High-transmittance attenuated phase-shift mask blank

Номер патента: US20070082274A1. Автор: Fu-Der Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-12.

Halftone phase shifting mask blank, halftone phase shifting mask, and pattern transfer method

Номер патента: EP1582920A2. Автор: Hiroki c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Yoshikawa,Toshinobu c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Ishihara,Satoshi c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Okazaki,Yukio c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Inazuki,Tadashi Toppan Printing Co. Ltd. Saga,Kimihiro Toppan Printing Co. Ltd. Okada,Masahide Toppan Printing Co. Ltd. Iwakata,Takashi Toppan Printing Co. Ltd. Haraguchi,Mikio Toppan Printing Co. Ltd. Takagi,Yuichi Toppan Printing Co. Ltd. Fukushima. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-05.

X-ray mask blank and method of manufacturing the same

Номер патента: US5958627A. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package

Номер патента: KR20060116180A. Автор: 아키노리 쿠리카와. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-11-14.

Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09400421B2. Автор: Tatsuya Sasaki,Takahito Nishimura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Mask blank substrate, mask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20120015286A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-01-19.

Mask blank substrate, mask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20100035028A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-02-11.

Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure

Номер патента: US20030162005A1. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Blank of titanium-doped glass with a high silica content for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for the production thereof

Номер патента: US09416040B2. Автор: Bodo Kuehn. Владелец: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of manufacturing mask for electron beam lithography and mask blank for electron beam lithography

Номер патента: US7029801B2. Автор: Mitsuhiro Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-18.

Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system

Номер патента: US20120260222A1. Автор: Koichi Maruyama,Hiroyuki Ishida,Tamiya Aiyama. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system

Номер патента: US7660456B2. Автор: Koichi Maruyama,Hiroyuki Ishida,Tamiya Aiyama. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-02-09.

Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system

Номер патента: US20070178387A1. Автор: Koichi Maruyama,Hiroyuki Ishida,Tamiya Aiyama. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Substrate for use as mask blank, and mask blank

Номер патента: US20170277034A1. Автор: Yusuke Hirabayashi,Nobuhiko IKENOYA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Mask blank and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20090233190A1. Автор: Masahiro Hashimoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-17.

Method of manufacturing a cylindrical substrate for electrophotography

Номер патента: US5681524A. Автор: Kiyoshi Hikima,Noriaki Kawata. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 1997-10-28.

Mask blank glass substrate, mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and mask manufacturing method

Номер патента: US8048591B2. Автор: Yasushi Okubo,Hisashi Kasahara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-11-01.

Method of manufacturing a substrate for a mask blank, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8455158B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-06-04.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09720315B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Mask blank substrate set and mask blank set

Номер патента: US8318387B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-11-27.

Mask blank substrate set and mask blank set

Номер патента: US20110256473A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-20.

Mask blank transparent substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and exposure mask manufacturing method

Номер патента: US20110027701A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Photomask blank, and manufacturing method thereof

Номер патента: US11774845B2. Автор: Hideo Kaneko,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Euv exposure mask blanks and their fabrication process, and euv exposure mask

Номер патента: US20070015065A1. Автор: Tsukasa Abe,Shiho Sasaki. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-01-18.

Mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, and mask blank substrate

Номер патента: US20100081069A1. Автор: Yasushi Okubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Exposure mask manufacturing method, drawing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and mask blanks product

Номер патента: US20090227112A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-09-10.

Metal substrate for fixing member, manufacturing method therefor, fixing member, and fixing assembly

Номер патента: US20140363693A1. Автор: Hirotomo Tamiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-12-11.

Method of manufacturing a substrate for a mask blank, method of manufacturing a mask blank, and method of manufacturing a mask

Номер патента: MY146813A. Автор: Hiroyuki Akagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-28.

Mask blank, and transfer mask

Номер патента: US09952498B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Shigenori Ishihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Mask blank, phase-shift mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09933698B2. Автор: Atsushi Matsumoto,Takashi Uchida,Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Halftone phase shift mask blank and halftone phase shift mask

Номер патента: US20180088457A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Halftone phase shift mask blank and halftone phase shift mask

Номер патента: US20200026181A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Mask blank, transfer mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US9470970B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Shigenori Ishihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4160311A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12124162B2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Photomask blank and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US09488906B2. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Photomask blank and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US09709885B2. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Photomask, pattern formation method using photomask and mask data creation method for photomask

Номер патента: EP1624338A3. Автор: Akio Misaka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-19.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230097280A1. Автор: Osamu Nozawa,Keishi AKIYAMA,Hok Tak Lim,Tham Hui Jun. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Methods of using and fabricating a supporting substrate for the deposition, automated recognition, and spectroscopic identification of particles

Номер патента: US7016034B2. Автор: Markus Lankers,Oliver Valet,Lothar Holz. Владелец: rap ID Particle Systems GmbH. Дата публикации: 2006-03-21.

Extreme ultraviolet mask blank with alloy absorber, method of manufacturing extreme ultraviolet mask blank, and extreme ultraviolet mask blank production system

Номер патента: TW202232225A. Автор: 維胡 吉達. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-16.

SUBSTRATE FOR USE AS MASK BLANK, AND MASK BLANK

Номер патента: US20170277034A1. Автор: HIRABAYASHI Yusuke,IKENOYA Nobuhiko. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2017-09-28.

Mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20240361683A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME,Keishi AKIYAMA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Mask blank, phase shift mask, and production method thereof

Номер патента: US09971238B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Yoichi Miura,Hideyoshi Takamizawa,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240337919A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo,Kenta Tsukagoshi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220082929A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3971645A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-23.

Manufacturing method and apparatus of phase shift mask blank

Номер патента: US7282121B2. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-10-16.

Phase-shift mask blank and process for the production thereof comprising a semi transparent film with silicon and nitrogen

Номер патента: US5955223A. Автор: Kenji Matsumoto,Hideaki Mitsui,Yoichi Yamaguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-09-21.

Phase-shift mask blank, phase-shift mask, method of manufacturing phase-shift mask, and method of modifying phase-shift mask

Номер патента: EP4307047A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for modifying phase shift mask

Номер патента: US20240152045A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230393457A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3992712A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-04.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220137502A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184194A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20020061452A1. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Mask blank for reflection-type exposure, and mask for reflection-type exposure

Номер патента: US09442364B2. Автор: Masato Kon,Yo Sakata,Yutaka Kodera. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Photomask blank and method for preparing photomask

Номер патента: US09880459B2. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Phase-shifting photomask blank and method of manufacturing the same as well as phase-shifting photomask

Номер патента: US5952128A. Автор: Atsushi Hayashi,Akira Chiba,Nobuyuki Yoshioka,Tsuneo Yamamoto,Yoshihiro Saito,Junji Miyazaki,Akihiko Isao,Susumu Kawada. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 1999-09-14.

Light pattern exposure method, halftone phase shift mask, and halftone phase shift mask blank

Номер патента: EP2594991A2. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Preparation of photomask blank and photomask

Номер патента: US20050260505A1. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Noriyasu Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-24.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240295807A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing mask blank, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150293441A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09625807B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105413B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180329285A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Lithography mask blank

Номер патента: US20050250018A1. Автор: Osamu Suzuki,Megumi Takeuchi,Minoru Sakamoto,Masao Ushida. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2005-11-10.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190339608A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20230350285A1. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US11914284B2. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240094622A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US11829065B2. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240176224A1. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12001134B2. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20230251564A1. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240168370A1. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20230333461A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4212956A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-07-19.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240152044A1. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11815807B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Mask blank having resist layer, method for manufacturing mask blank having resist layer, and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20180335693A1. Автор: Hiroaki Shishido,Seishi SHIBAYAMA,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240077797A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A3. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240036458A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240176225A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US11914283B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Phase shift mask blank and phase shift mask

Номер патента: EP3719575A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Phase shift mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20200310241A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US20010014425A1. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240103354A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240094621A1. Автор: Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US6475681B2. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-11-05.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230259015A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11880130B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230244135A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184193A1. Автор: Takashi Uchida,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Mask blank, phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230314929A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US11953822B2. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Reflective structure, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12025911B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240053672A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20230324785A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate with conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210103209A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: US20220236638A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: EP3719574A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20240210814A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US20160363855A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US20150227040A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2015-08-13.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09690189B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate with Film for Reflective Mask Blank, and Reflective Mask Blank

Номер патента: US20240248388A1. Автор: Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package

Номер патента: TW201024185A. Автор: Yasuhiro Mizukoshi,Osamu Hanaoka. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-07-01.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160109797A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-04-21.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170248841A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-31.

REFLECTING MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD FOR QUALITY CONTROL FOR REFLECTIVE MASK BLANK

Номер патента: US20140186753A1. Автор: Ikuta Yoshiaki,OKAMURA Yuzo. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2014-07-03.

Mask blank substrate manufacturing method, reflective mask blank manufacturing method, and mask blank substrate

Номер патента: TW201034068A. Автор: Yuki Shiota. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-09-16.

METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK

Номер патента: US20150355537A1. Автор: YAMADA Takeyuki,NISHIMURA Takahito. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-10.

REFLECTIVE MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20160161837A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ASAKAWA Tatsuo. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2016-06-09.

REFLECTIVE MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20170329215A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ASAKAWA Tatsuo. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2017-11-16.

Reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR102012783B1. Автор: 가즈히로 하마모토,츠토무 쇼키,다츠오 아사카와. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-08-21.

Reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101858947B1. Автор: 가즈히로 하마모토,츠토무 쇼키,다츠오 아사카와. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-05-17.

Mask blank manufacturing method and mask manufacturing method

Номер патента: JPWO2004088419A1. Автор: 英雄 小林,小林　英雄. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2006-07-06.

Mask blank and method of fabricating phase shift mask from the same

Номер патента: US20030194620A1. Автор: Yong-Hoon Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-16.

Method for mask data verification and computer readable record medium recording the verification program

Номер патента: EP1199651A3. Автор: Isao Ashida,Kazuhisa Ogawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Method of mask data synthesis and mask making

Номер патента: US20210191254A1. Автор: Hsu-Ting Huang,Ru-Gun Liu,Shih-Hsiang Lo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method of mask data synthesis and mask making

Номер патента: US20220373878A1. Автор: Hsu-Ting Huang,Ru-Gun Liu,Shih-Hsiang Lo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Method of mask data synthesis and mask making

Номер патента: US20190146328A1. Автор: Hsu-Ting Huang,Ru-Gun Liu,Shih-Hsiang Lo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Method of mask data synthesis and mask making

Номер патента: US11947254B2. Автор: Hsu-Ting Huang,Ru-Gun Liu,Shih-Hsiang Lo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Nanostructured substrate for for surface enhanced raman scattering

Номер патента: WO2006060734A3. Автор: Ranjith W Premasiri. Владелец: Ranjith W Premasiri. Дата публикации: 2007-01-18.

Substrate for mask blanks, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing them

Номер патента: US09778209B2. Автор: Kazuki Aoyama,Takahito Nishimura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Method of manufacturing transparent circuit substrate for touch screen

Номер патента: US09696830B2. Автор: Jae-Young Park,Chung-Hee Lee,Jin-han Kim,Kyoung-Hun Kim,Eun-Jin Baek,Dong-Chul Lee,Yeong-Seop Lee,Jeong-Eun Kim,Seok-Hong Jeong,Sung-Ho Jung,Jae-Wook Cho,Sung-Il Jang,Hyoung-Jun Go,Myung-Sop Lee,Kyoung-Suk Oh,Jung-Hun Woo,Jong-Hyun Yim,Yong-Gu CHO,Hyeon-Beom KIM,Dae-Bin Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

Glass substrate for mask blank

Номер патента: US09904164B2. Автор: Hiroshi Nakanishi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Glass substrate for mask blank, mask blank and photomask

Номер патента: US10599031B2. Автор: Yuzo OKAMURA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Glass substrate for mask blank, mask blank and photomask

Номер патента: US20180217492A1. Автор: Yuzo OKAMURA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate for mask blanks and method for manufacturing the same

Номер патента: EP4296777A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Tomoaki Sugiyama,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Substrate for mask blanks and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230418149A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Tomoaki Sugiyama,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: EP4152093A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-03-22.

Mask blank and transfer mask

Номер патента: US09746764B2. Автор: Yasushi Sakaida,Rikimaru Sakamoto,Masahiro Hashimoto,Ryuta Mizuochi,Masaki Nagai,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Method and apparatus to anneal euv mask blank

Номер патента: US20220187697A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Method and apparatus to improve euv mask blank flatness

Номер патента: US20220187698A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Fabrication of ultra-low expansion silicon mask blanks

Номер патента: WO2001075522A1. Автор: Gregory F. Cardinale. Владелец: Euv Limited Liability Corporation. Дата публикации: 2001-10-11.

Mask blank and transfer mask

Номер патента: US20160274457A1. Автор: Yasushi Sakaida,Rikimaru Sakamoto,Masahiro Hashimoto,Ryuta Mizuochi,Masaki Nagai,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Method for depositing multi-layer film of mask blank for EUV lithography and method for producing mask blank for EUV lithography

Номер патента: US20070077499A1. Автор: Yoshiaki Ikuta,David Krick,Hsing Ma. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-05.

Reflective mask blank for EUV exposure, and reflective mask

Номер патента: US11835852B2. Автор: Hiroyoshi Tanabe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate for a mirror support with reduced weight as well as mirror with reduced-weight mirror support

Номер патента: US20150053836A1. Автор: Martin Schaefer,Volker Seibert,Thomas Westerhoff,Thorsten Doehring,Hans-Joachim Nowak. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2015-02-26.

Low-expansion glass substrate for a reflective mask and reflective mask

Номер патента: US20070009812A1. Автор: Masabumi Ito,Hitoshi Mishiro. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09664997B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Mask blank and method of manufacturing phase shift mask

Номер патента: US09494852B2. Автор: Yasushi Okubo,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Mask blank, mask blank with negative resist film, phase shift mask, and method for producing pattern formed body using same

Номер патента: US09874808B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Hideyoshi Takamizawa,Youichi Miura,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-01-23.

Mask blank and method of manufacturing an imprint mold

Номер патента: US8273505B2. Автор: Takashi Sato,Mitsuhiro Kureishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US8883022B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-11-11.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US20130105441A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Mask blank and making method

Номер патента: US20160266485A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Glass substrate for mask blank, and method for producing the same

Номер патента: US09684232B2. Автор: Yusuke Hirabayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Mask blank, transfer mask, methods of manufacturing the same and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20110244375A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Reflective element for mask blank and process for producing reflective element for mask blank

Номер патента: US20170235218A1. Автор: Toshiyuki Uno. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20240302732A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20180059532A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Mask blank, phase-shift mask, and method for manufacturing the same

Номер патента: US09625806B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Mask blank, method of manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200166833A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Mariko Uchida. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US09726972B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4310591A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Mask blank, transfer mask and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09651859B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20150227039A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US9256122B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-02-09.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8501372B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-08-06.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864268B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09354509B2. Автор: Osamu Nozawa,Noriyuki Sakaya. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9029048B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Mask blank, phase-shift mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20210208497A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroaki Shishido,Hitoshi Maeda. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-07-08.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20200026180A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US10466582B2. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-05.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09612527B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09372393B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11314162B2. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-26.

Glass substrate for mask blank, and method for producing the same

Номер патента: US20160041461A1. Автор: Yusuke Hirabayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210141305A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220206381A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11201908105VA. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-30.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200409252A1. Автор: Hitoshi Maeda,Ryo Ohkubo,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12013631B2. Автор: Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Method of manufacturing a transparent substrate

Номер патента: US09775236B2. Автор: Sang-Choll Han,Sung-Hak BAE,Byong-Mook Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Mask blank, method of manufacturing the same, and transfer mask

Номер патента: US20130177841A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Kazuya Sakai,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-07-11.

Mask blank, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11762279B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Methods and apparatus of processing transparent substrates

Номер патента: US12060297B2. Автор: Ludovic Godet,Yongan Xu,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Apparatus and method for determining physical properties of a mask blank

Номер патента: US7289231B2. Автор: Tarek Lutz,Markus Menath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-10-30.

Apparatus and method for determining physical properties of a mask blank

Номер патента: US20040194039A1. Автор: Tarek Lutz,Markus Menath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-09-30.

Halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and pattern exposure method

Номер патента: US9927695B2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Preparation of halftone phase shift mask blank

Номер патента: US7425390B2. Автор: Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-16.

Mask blank, phase shift mask, method of manufacturing phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220128898A1. Автор: Hiroaki Shishido,Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Photo-Mask having optical filtering layer on transparent substrate uncovered with photo-shield pattern and process of fabrication

Номер патента: US5807648A. Автор: Kazuhiro Takeda. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-09-15.

Mask blank and mask and fabrication method thereof

Номер патента: US09921467B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09612521B2. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Thin film evaluation method, mask blank, and transfer mask

Номер патента: US8609307B2. Автор: Masaru Tanabe,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-12-17.

Ultra-smooth layer ultraviolet lithography mirrors and blanks, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268083A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Nitin K. Ingle,Ralf Hofmann,Cara Beasley,Soumendra N. Barman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production, as well as substrate with reflective layer for such mask blank and process for its production

Номер патента: US09720316B2. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Photomask blank and photomask

Номер патента: US20170153540A1. Автор: Chang-Ming Dai. Владелец: Crowningtek Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09927697B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Reflective mask blank for EUV lithography, or reflective layer-coated substrate for EUV lithography, and process for its production

Номер патента: US09448469B2. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US20160161844A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-06-09.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240272541A1. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Halftone phase shift photomask blank and making method

Номер патента: US09645485B2. Автор: Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Reflective mask blank for EUV lithography, substrate with funtion film for the mask blank, and methods for their production

Номер патента: US09618836B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US12019367B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Transparent substrate with light blocking edge exclusion zone

Номер патента: WO2020146061A1. Автор: Robert Jan Visser,Ludovic Godet,Michael Yu-Tak Young. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-16.

Transparent substrate with light blocking edge exclusion zone

Номер патента: US20200219819A1. Автор: Robert Jan Visser,Ludovic Godet,Michael Yu-Tak Young. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-07-09.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150301441A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160282711A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-29.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190265585A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12105412B2. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US09897909B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai,Youichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09612522B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09535318B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Mask blank glass substrate, multilayer reflective film coated substrate, mask blank, mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09488904B2. Автор: Akihiro Kawahara,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Mask blank, method of manufacturing imprint mold, method of manufacturing transfer mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230367196A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Mask blank, method of manufacturing imprint mold, method of manufacturing transfer mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12007684B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240280890A1. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Reflective mask blank and process for producing the reflective mask blank

Номер патента: US09927693B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Designing of photomask blank and photomask blank

Номер патента: US09798229B2. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasmonic Nanohole Arrays on Hybrid Substrate For Highly Sensitive Label-Free Biosensing

Номер патента: US20170023476A1. Автор: Hatice Yanik Altug,Arif Engin Cetin. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2017-01-26.

Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate

Номер патента: US20190094696A1. Автор: Lei DING. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Methods and apparatus of processing transparent substrates

Номер патента: WO2021173271A1. Автор: Ludovic Godet,Yongan Xu,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-09-02.

Methods and apparatus of processing transparent substrates

Номер патента: US20210269355A1. Автор: Ludovic Godet,Yongan Xu,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-09-02.

Methods and apparatus of processing transparent substrates

Номер патента: EP4111263A1. Автор: Ludovic Godet,Yongan Xu,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-01-04.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240241433A1. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: US20240337916A1. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US12124164B2. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: EP4443235A2. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Photomask blank and method for manufacturing photomask

Номер патента: US20130309600A1. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Low emissivity coatings on transparent substrates

Номер патента: CA1203197A. Автор: Frederick H. Hart. Владелец: Pilkington Brothers Ltd. Дата публикации: 1986-04-15.

Low emissivity coatings on transparent substrates

Номер патента: US4462883A. Автор: Frederick H. Hart. Владелец: Pilkington Brothers Ltd. Дата публикации: 1984-07-31.

Reflection type mask blank and method for manufacturing same

Номер патента: US20240231215A9. Автор: Masaru Hori,Takayoshi Tsutsumi,Wataru Nishida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Electron beam processing for mask repair

Номер патента: EP1586007A2. Автор: J. David Casey, Jr.,Christian R. Musil,Steven Berger,Diane K. Stewart,John Beaty,Sybren J. Sijbrandij. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2005-10-19.

Reflective mask blank, method of manufacturing same, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09726969B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Method for manufacturing mask blank and coating apparatus

Номер патента: MY150671A. Автор: Keishi Asakawa,Ryoji Miyata. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sendirian Berhad. Дата публикации: 2014-02-28.

Reflective mask blank for EUV lithography, and process for its inspection and process for its production

Номер патента: US09739722B2. Автор: Hiroshi Nakanishi,Junichi Kageyama,Yoshiaki Ikuta. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing mask blank substrate, method of manufacturing substrate with reflective film and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09581895B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Reflective mask blank for euv lithography, and process for its inspection and process for its production

Номер патента: US20160109384A1. Автор: Hiroshi Nakanishi,Junichi Kageyama,Yoshiaki Ikuta. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Reflection type mask blank and production method therefor, and reflective layer-including substrate for said mask blank

Номер патента: US20240053671A1. Автор: Takahiro Kikuchi,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268081A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014165298A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12072619B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US20110183240A1. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-07-28.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240319578A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US12111566B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Source multiplexing illumination for mask inspection

Номер патента: US09625810B2. Автор: Daimian WANG,Tao-Yi Fu,Damon F. Kvamme,Daniel Wack. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production

Номер патента: US09423684B2. Автор: Kazunobu Maeshige,Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Ultra-smooth layer ultraviolet lithography mirrors and blanks, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014152033A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Nitin K. Ingle,Ralf Hofmann,Cara Beasley,Soumendra N. Barman. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-25.

Reflective mask blank for euv lithography and process for its production, as well as substrate with reflective layer for such mask blank and process for its production

Номер патента: US20160109792A1. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US8404407B2. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-03-26.

Method and device for mask inspection

Номер патента: WO2024132443A1. Автор: Ulrich Matejka,Lutz Brekerbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: US9164374B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Photomask blank and photomask

Номер патента: US4720442A. Автор: Takashi Hatano,Norihiko Shinkai,Takeshi Haranoh,Junetsu Kanazawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1988-01-19.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Machine learning for mask optimization in inverse lithography technologies

Номер патента: US20240168390A1. Автор: Haoxing Ren,Haoyu Yang. Владелец: Nvidia Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Glass substrate-holding tool and method for producing an euv mask blank by employing the same

Номер патента: SG186550A1. Автор: MITSUMORI Takahiro,Kinoshita Takeru,Ise Hirotoshi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-30.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20110171566A1. Автор: Kazuyuki Hayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-14.

Reflection-type mask blank, reflection-type mask, method for manufacturing reflection-type mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240160095A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20140356770A1. Автор: Kazuyuki Hayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864267B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Method of manufacturing substrate with a multilayer reflective film, method of manufacturing a reflective mask blank, substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09507254B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Product comprising light absorbing composition for masking optical turbidity and a method for preparation thereof

Номер патента: RU2323229C2. Автор: Симоне ФЕРРЕРО,Арианна ДЖОВАННИНИ,Эдвин СИССОН. Владелец: М Энд Г Полимери Италия С.П.А.. Дата публикации: 2008-04-27.

Method of manufacturing a mask blank substrate, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8785085B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-07-22.

X-ray mask blank and manufacturing method for the same, and manufacturing method for X-ray mask

Номер патента: US5999590A. Автор: Takamitsu Kawahara,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-12-07.

Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making

Номер патента: EP1240556A1. Автор: Daniel R. Sempolinski,Richard S. Priestley,Chunzhe C. Yu. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-09-18.

Method of manufacturing reflective mask blank, and reflective mask blank

Номер патента: US11789357B2. Автор: Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US20130193565A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-08-01.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US9142423B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-22.

Semiconductor Mask Blanks with a Compatible Stop Layer

Номер патента: US20140199787A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-07-17.

Lithography mask blank and method of manufacturing the same

Номер патента: US20020098422A1. Автор: Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-07-25.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240160096A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US20230121303A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4105718A3. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-28.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US20210200078A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240045320A1. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12001133B2. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US09953833B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11852964B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Mask blank and photomask

Номер патента: US20140106266A1. Автор: Isao Hattori. Владелец: Clean Surface Technology Co. Дата публикации: 2014-04-17.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Method for mask creation at substrate surface

Номер патента: RU2450384C1. Автор: Аркадий Матвеевич Сорока,Игорь Георгиевич Рудой,Мойше Самуилович Китай,Игорь Георгиевич Рудой (RU),Аркадий Матвеевич Сорока (RU),Мойше Самуилович Китай (RU). Владелец: Мойше Самуилович Китай. Дата публикации: 2012-05-10.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11815806B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240036457A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Method and apparatus for mask/wafer alignment

Номер патента: CA1154175A. Автор: Martin Feldman,Donald L. White,Alan D. White. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1983-09-20.

Reflective mask blank, and reflective mask

Номер патента: EP4184245A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US11867642B2. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Mask blank and phase shift mask using same

Номер патента: US10444619B2. Автор: Hwan Seok Seo,Hye Kyoung Lee,Il Yong JANG,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-15.

Reflective mask blank, and method for manufacturing thereof

Номер патента: EP4053632A1. Автор: Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US20210156809A1. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230168575A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Mask blank and phase shift mask using same

Номер патента: US20180033612A1. Автор: Hwan Seok Seo,Hye Kyoung Lee,Il Yong JANG,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor devices

Номер патента: US20240231216A1. Автор: Takuro Ono,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US9075315B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-07-07.

Reflective mask blank, method of manufacturing thereof, and reflective mask

Номер патента: US12050396B2. Автор: Takuro Yamamoto,Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Reflective mask blank for euvl, reflective mask for euvl, and method of manufacturing reflective mask for euvl

Номер патента: US20220187699A1. Автор: Hiroyoshi Tanabe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Multilayer reflective film-attached substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20220269161A1. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Mask blank glass substrate

Номер патента: EP3923071A1. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-15.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190018312A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Takenori Kajiwara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Mask blank glass substrate

Номер патента: US12117724B2. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US09625805B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230418148A1. Автор: Masanori Nakagawa,Kota Suzuki,Ikuya FUKASAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Reflection type mask blank and method for manufacturing same

Номер патента: US20240134267A1. Автор: Masaru Hori,Takayoshi Tsutsumi,Wataru Nishida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240231214A9. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12032280B2. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Reflective mask blank

Номер патента: EP4390537A2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Reflective mask blank

Номер патента: US20240210812A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Reflective mask blank

Номер патента: EP4390537A3. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Reflective mask blank for EUV lithography

Номер патента: US12038685B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Reflective mask blank, reflective mask, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4390536A3. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Substrate equipped with multi-layer reflection film, reflection-type mask blank, reflection-type mask, and semiconductor device manufacturing process

Номер патента: US20200310239A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240319577A1. Автор: Hitoshi Maeda,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105411B2. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate with multilayer reflective film, mask blank, transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09798050B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Mask blank, method of manufacturing the same, transfer mask, and method of manufacturing the same

Номер патента: US9535320B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20080199787A1. Автор: Kazuyuki Hayashi,Takashi Sugiyama,Kazuo Kadowaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-21.

Reflective mask blank for euv lithography, mask blank for euv lithography, and manufacturing methods thereof

Номер патента: US20240045319A1. Автор: Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI,Kenichi Sakaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230333459A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Reflective mask blank for euv lithography, and process for its production

Номер патента: US20140186752A1. Автор: Kazuyuki Hayashi,Masaki Mikami,Takeru Kinoshita. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing the same, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11892768B2. Автор: Yohei IKEBE,Mizuki KATAOKA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Reflective mask blank for EUV lithography, mask blank for EUV lithography, and manufacturing methods thereof

Номер патента: US11822229B2. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate with multilayer reflection film for EUV mask blank, manufacturing method thereof, and EUV mask blank

Номер патента: US11860529B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate with multilayer reflection film for EUV mask blank, manufacturing method thereof, and EUV mask blank

Номер патента: US11835851B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Semiconductor Mask Blanks with a Compatible Stop Layer

Номер патента: US20160013058A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and reflective mask correction method

Номер патента: EP4080283A1. Автор: Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-10-26.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240027891A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240142866A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate with multilayer reflection film for euv mask blank, manufacturing method thereof, and euv mask blank

Номер патента: EP3968087A1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-16.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12019366B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Mask Blank Glass Substrate

Номер патента: US20240053675A1. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Reflection-type mask blank for euv lithography, reflection-type mask for euv lithography, and manufacturing methods therefor

Номер патента: US20230288794A1. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Reflective mask blank for EUV lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US11934093B2. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Reflective mask blank for EUV lithography

Номер патента: US11982935B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Masafumi AKITA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240069428A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Reflective mask blank, reflective mask and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240103355A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Reflective mask blank for euv lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US20230350284A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: US20200310240A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4390536A2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Reflective Mask Blank, Reflective Mask, and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20240210813A1. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20150261083A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230314928A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11914281B2. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Mask blank glass substrate

Номер патента: US11835853B2. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Mask blank, transfer mask, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190317394A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Reflective mask blank, reflective mask and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20220107557A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-07.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20230305383A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Polymer, Chemically Amplified Positive Resist Composition, Resist Patterning Process, And Mask Blank

Номер патента: US20240134280A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240134265A1. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240160097A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200249558A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-08-06.

Polymer, chemically amplified positive resist composition, resist patterning process, and mask blank

Номер патента: EP4343433A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Reflective mask blank for euv lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US20240184191A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Mask blank with resist film and method for manufacturing the same and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20170168382A1. Автор: Toru Fukui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20240201576A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Masafumi AKITA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for determining position of substrate in lithographic system, substrate for use in such method and lithographic system for implementation of such method

Номер патента: RU2659967C2. Автор: БУР Гвидо ДЕ,Нильс ВЕРГЕР. Владелец: МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В.. Дата публикации: 2018-07-04.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240053670A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Method for manufacturing substrate for display panel

Номер патента: US20100173129A1. Автор: Kenichi Murakami. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2010-07-08.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4350435A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4276531A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20230375908A1. Автор: Kazuaki Matsui,Ayumi Goda. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240272542A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: US20190198341A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Naoki Kobayashi,Kazumi Noda,Seiichiro Tachibana,Yusuke Biyajima,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: US11018015B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Naoki Kobayashi,Kazumi Noda,Seiichiro Tachibana,Yusuke Biyajima,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-25.

Fluid lenses, lens blanks, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09535264B2. Автор: Urban Schnell,Amitava Gupta. Владелец: Adlens Beacon Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Substrate for support of sensors, executive elements or electric components

Номер патента: RU2506890C2. Автор: Александр Падий. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-02-20.

Washing device and washing method for substrate for magnetic recording medium

Номер патента: US8211241B2. Автор: Satoru Ueno. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2012-07-03.

Nanostructure-based substrate for surface-enhanced raman spectroscopy, and manufacturing method therefor

Номер патента: US20230092693A1. Автор: Sang Hwa Lee,Jun Ki Kim. Владелец: Asan Foundation. Дата публикации: 2023-03-23.

Washing device and washing method for substrate for magnetic recording medium

Номер патента: US20100018558A1. Автор: Satoru Ueno. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2010-01-28.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US12111565B2. Автор: Norihito Fukugami,Ayumi Goda. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Blank of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for the production thereof

Номер патента: US09522840B2. Автор: Stefan Ochs,Klaus Becker,Stephan Thomas. Владелец: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-12-20.

Fine structure, optical member, antireflection film, water-repellent film, substrate for mass spectrometry, phase plate, process for producing fine structure, and process for producing antireflection film

Номер патента: EP2870493A1. Автор: Masahiko Takahashi,Hirokatsu Miyata,Kazuyuki Kuroda,Yosuke Kanno,Shin Kitamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-05-13.

Method of manufacturing substrate for acoustic wave device

Номер патента: US20190044494A1. Автор: Keiji Nomaru,Kenya Kai,Jun Abatake,Kentaro Shiraga. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Methods for making reticle blanks, and for making reticles therefrom, for charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6355385B1. Автор: Shin-Ichi Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-03-12.

Nanostructure-based substrate for surface-enhanced raman spectroscopy, and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4148418A1. Автор: Sang Hwa Lee,Jun Ki Kim. Владелец: Asan Foundation. Дата публикации: 2023-03-15.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20100317877A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-16.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20100317031A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-16.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20140088297A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Michigan Diagnostic LLC. Дата публикации: 2014-03-27.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20150031889A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh J. Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-29.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: EP1735621A2. Автор: Brij P. Giri,Pritam Singh,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-27.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: WO2006073424A9. Автор: BRIJ P GIRI,Pritam Singh,Dinesh Dagli. Владелец: Dinesh Dagli. Дата публикации: 2006-08-24.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US9533974B2. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh J. Dagli. Владелец: Michigan Diagnostic LLC. Дата публикации: 2017-01-03.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20140073771A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Michigan Diagnostic LLC. Дата публикации: 2014-03-13.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20140121362A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Michigan Diagnostic LLC. Дата публикации: 2014-05-01.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US8932881B2. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-13.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US8822233B2. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-09-02.

New ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US20100317122A1. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh Dagli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-16.

Method for manufacturing substrate for making microarray

Номер патента: US20080233309A1. Автор: Toshinobu Ishihara,Takeshi Kinsho,Wataru Kusaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Method for manufacturing disc-shaped optical recording medium and disc-shaped substrate for optical recording medium

Номер патента: US20030150100A1. Автор: Mamoru Usami,Hideki Ishizaki,Hiroshi Takasaki. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2003-08-14.

Electrostatic carrier for handling substrates for processing

Номер патента: US09740111B2. Автор: Arvind Sundarrajan,Sriskantharajah Thirunavukarasu,Jen Sern Lew,Karthik Elumalai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate for suspension, process for producing the same, suspension for magnetic head, and hard disk drive

Номер патента: US09564153B2. Автор: Yoichi Hitomi,Katsuya Sakayori,Shinji Kumon,Yoichi Miura,Tsuyoshi Yamazaki,Terutoshi Momose,Kiyohiro Takachi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-02-07.

Ultra-sensitive chemiluminescent substrates for enzymes and their conjugates

Номер патента: US09533974B2. Автор: Pritam Singh,Brij Pal Giri,Dinesh J. Dagli. Владелец: Michigan Diagnostic LLC. Дата публикации: 2017-01-03.

Glass substrate for display cover glass and its production process

Номер патента: US09463996B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Yusaku Matsuo. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate for an organic electronic element and a production method therefor

Номер патента: US09448339B2. Автор: Min Soo Kang,Yeon Keun Lee,Kyoung Sik Moon,Seong Su Jang. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Glass substrate for display and manufacturing method thereof

Номер патента: US20150162946A1. Автор: Chih Hao Wu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-11.

Constituent substrate for electronic equipment using wiring layer made of copper and transparent conductive layer made of composite oxide containing indium oxide and metal oxide as main components and electronic equipment using the same

Номер патента: US20020061410A1. Автор: Kenji Yamamoto,Makoto Sasaki. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-23.

Channeled substrates for integrated optical devices employing optical fibers

Номер патента: EP2483725A2. Автор: James S. Sutherland,Richard R. Grzybowski,Jeffery A. DeMeritt,Jr. Brewster R. Hemenway. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2012-08-08.

Transparent coating systems for improving the environmental durability of transparency substrates

Номер патента: US5939188A. Автор: Marlowe Vern Moncur,Clifford David Jeungst. Владелец: GKN Aerospace Transparency Systems Kings Norton Ltd. Дата публикации: 1999-08-17.

Simulated photographic-quality prints using a transparent substrate containing a black wrong reading image and a backing sheet containing a uniform color coating

Номер патента: US5710588A. Автор: Shadi L. Malhotra. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1998-01-20.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transmissive mask blank, reflective mask, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US09494851B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai,Youichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Photoemission monitoring of euv mirror and mask surface contamination in actinic euv systems

Номер патента: WO2013177477A1. Автор: LI Wang,Daimian WANG,Yanwei Liu,Alan Michael Aindow. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-11-28.

Photoemission monitoring of EUV mirror and mask surface contamination in actinic EUV systems

Номер патента: US09453801B2. Автор: LI Wang,Daimian WANG,Yanwei Liu,Alan Michael Aindow. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Method and apparatus for compensating defects of a mask blank

Номер патента: WO2019021154A1. Автор: Joachim Welte. Владелец: CARL ZEISS SMS LTD.. Дата публикации: 2019-01-31.

EUV high throughput inspection system for defect detection on patterned EUV masks, mask blanks, and wafers

Номер патента: US9377414B2. Автор: David R. Shafer,David L. Brown,Yung-ho Chuang,Bin-Ming Benjamin Tsai,Richard W. Solarz. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-06-28.

Photosensitive composition for volume hologram recording, photosensitive substrate for volume hologram recording, and volume hologram recorded medium

Номер патента: US09709952B2. Автор: Keisuke Miura,Koji Eto,Minoru Azakami,Nobuko Oikawa,Eriko Hamade. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for manufacturing display device, and transfer substrate for manufacturing display device

Номер патента: EP4012497A1. Автор: Sunghyun Moon,Jungsub KIM,Yongdae Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Connecting device for connecting a lens housing to an image sensor substrate for a camera

Номер патента: US20220019131A1. Автор: Johannes Eschler,Nikolai Bauer,Moritz Winkler,Andreas Moehrle. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2022-01-20.

Transparent through - glass conductive via in a transparent substrate

Номер патента: EP2844612A1. Автор: David William Burns,Kristopher Andrew Lavery. Владелец: Qualcomm Mems Technologies Inc. Дата публикации: 2015-03-11.

Transparent through - glass conductive via in a transparent substrate

Номер патента: WO2013166021A1. Автор: David William Burns,Kristopher Andrew Lavery. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2013-11-07.

Method for estimating a quality function of a mono- or multi-layered coated transparent substrate

Номер патента: EP4157801A1. Автор: Xavier CAILLET,Thierry Kauffmann,Yaël BRONSTEIN,Julien Beutier,Elsa-Marie Perrin. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2023-04-05.

Conductive transparent substrate manufacturing method, and conductive transparent substrate

Номер патента: US09788418B2. Автор: Ji Hoon Yoo,Byung Hun Kim,Kwang-Choon Chung,Myung-Bong Yoo,Nam-Boo Cho,Joonki Seong. Владелец: InkTec Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Method for masking a noise of a motor vehicle, and motor vehicle

Номер патента: US20210104216A1. Автор: Christoph Gass. Владелец: Audi AG. Дата публикации: 2021-04-08.

Method for manufacturing glass blank for magnetic disk, method for manufacturing glass substrate for magnetic disk

Номер патента: US09336810B2. Автор: Takashi Sato,Akira Murakami,Masaru Onishi,Hideki Isono,Hidekazu TANINO,Masamune SATO. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Coater for the preparation of carbon-based tape substrates for use in imaging applications

Номер патента: US20230286010A1. Автор: Eduardo ROSA-MOLINAR. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2023-09-14.

Light extraction substrate for organic light-emitting element, method for manufacturing same and organic light-emitting element including same

Номер патента: US09793516B2. Автор: YOON Young Kwon,Jeong Woo Park,Kyoung Wook Park. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Method for producing a substrate for organic electronic devices

Номер патента: US09666828B2. Автор: Jong Seok Kim,Jin Ha Hwang,Young Kyun MOON,Young Eun KIM. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method for pre-detecting defective porous polymer substrate for separator

Номер патента: US20230384200A1. Автор: Se-Jung Park,Joo-Sung Lee,Won-Sik Bae,Ji-Young Hwang,Je-Seob Park,Ho-Sung Kang,Yern-Seung KIM. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate for an organic light-emitting device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09905764B2. Автор: Joon Koo Kang,Yeon Keun Lee,Jae Min Moon,Mun Kyu Joo,Kyoung Sik Moon,Seong Su Jang. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate for optics and light emitting device

Номер патента: US09541684B2. Автор: Naoki Inoue,Jun Koike,Fujito Yamaguchi. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate for organic electronic device

Номер патента: US09461275B2. Автор: Ji Hee Kim,Yeon Keun Lee,Min Choon Park,Yong Sik Ahn,Jung Doo Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate for sensing battery cell

Номер патента: WO2012144844A2. Автор: Seung Bum Kim,Won Jun Lee,Eun Jeong Choi,Hyo Jin Hong. Владелец: SK INNOVATION CO.,LTD.. Дата публикации: 2012-10-26.

Transparent substrate with electromagnetic wave shielding film, method of producing the same, and apparatus for producing the same

Номер патента: US20090280305A1. Автор: Masaaki Ishikawa,Tsunehiro Kobayashi. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2009-11-12.

Transparent substrate provided with a thin-film coating

Номер патента: US5952084A. Автор: Jean-Paul Rousseau,Charles-Edward Anderson. Владелец: Saint Gobain Vitrage SA. Дата публикации: 1999-09-14.

Transparent substrate provided with a metal nitride layer

Номер патента: US5514454A. Автор: Philippe Boire,Pierre Balian. Владелец: Saint Gobain Vitrage SA. Дата публикации: 1996-05-07.

Oriented image coating on transparent substrate

Номер патента: NZ573844A. Автор: Edgar Müller,Claude-Alain Despland,Pierre Degott,Mathieu Schmid,Albert Stichelberger. Владелец: SICPA HOLDING SA. Дата публикации: 2011-09-30.

Improved adhesive tape for masking

Номер патента: CA2484682A1. Автор: George Gruber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-13.

Substrate for chemical vapour deposition (cvd) of diamond and method for obtaining thereof

Номер патента: RU2577638C2. Автор: Евгений А. ЛЕВАШОВ,Екатерина В. АЗАРОВА,Виктор Г. РАЛЬЧЕНКО,Андрей БОЛЬШАКОВ,Евгений Э. АШКИНАЗИ,Хироси ИСИДЗУКА,Сатору ХОСОМИ. Владелец: Томеи Дайамонд Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-03-20.

Manufacturing method of substrate for liquid ejection head

Номер патента: US20140013600A1. Автор: Yuzuru Ishida,Makoto Sakurai,Hirokazu Komuro,Kazuaki Shibata,Sadayoshi Sakuma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-01-16.

Method for connecting contact surfaces of electrical component blanks and device therefor

Номер патента: US20010020327A1. Автор: Karlheinz Ullrich,Armin Lotz,Karl-Heinz Wienand. Владелец: Heraeus Electro Nite International NV. Дата публикации: 2001-09-13.

Clad textured metal substrate for forming epitaxial thin film thereon and method for manufacturing the same

Номер патента: US20120312429A1. Автор: Shigeo Nagaya,Hirofumi Hoshino,Kunihiro Shima,Naoji Kashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-12-13.

Clad textured metal substrate for forming epitaxial thin film thereon and method for manufacturing the same

Номер патента: US20080257255A1. Автор: Shigeo Nagaya,Hirofumi Hoshino,Kunihiro Shima,Naoji Kashima. Владелец: Chubu Electric Power Co Inc. Дата публикации: 2008-10-23.

Clad textured metal substrate for forming epitaxial thin film thereon and method for manufacturing the same

Номер патента: US8287643B2. Автор: Shigeo Nagaya,Hirofumi Hoshino,Kunihiro Shima,Naoji Kashima. Владелец: Chubu Electric Power Co Inc. Дата публикации: 2012-10-16.

Transparent substrate with layer of silicon derivative

Номер патента: RU2269494C2. Автор: Ксавье ТАЛЬПАЕР,Мишель СИМОНЕ,Мари-Жозе АЗЗОПАРДИ,Анн ДЮРАНДО. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2006-02-10.

Light-emitting device with transparent substrate

Номер патента: US09923172B2. Автор: Yuji Tanaka,Kenji Okumoto. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Light-emitting device with transparent substrate

Номер патента: US20180151841A1. Автор: Yuji Tanaka,Kenji Okumoto. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Transparent electrically conductive layer, electrically conductive transparent substrate and electrically conductive material

Номер патента: US5972527A. Автор: Masatoshi Shibata,Kazuyoshi Inoue,Akira Kaijou,Masashi Ohyama. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-26.

Heat ray shielding fine particles, heat ray shielding fine particle dispersion liquid, heat ray shielding film, heat ray shielding glass, heat ray shielding dispersion body, and heat ray shielding laminated transparent substrate

Номер патента: US20190225503A1. Автор: Kenji Adachi,Mika Okada. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2019-07-25.

Silicone coating material and transparent substrate having heat-shielding structure

Номер патента: US20140315031A1. Автор: Makoto Murase,Hiromitsu Furuichi,Hiroyas Tsuge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-10-23.

Insert mask for masking ceiling or wall fixtures

Номер патента: US20030186017A1. Автор: Everett Stockton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-02.

Adhesive composition and masking article for producing precise paint lines

Номер патента: US09828530B2. Автор: Michael D. Crandall,Mahfuza B. Ali,Elizabeth E. Johnson. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-11-28.

On-off controlled oscillator with circuit for masking glitches

Номер патента: US5640130A. Автор: Masahiro Ito,Fuminori Nagase. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Adjustable quick-release buckle, particularly for masks or similar

Номер патента: CA2295513C. Автор: Fabio Testa,Ciro Giaquinta. Владелец: Tecnorubber Srl. Дата публикации: 2009-10-27.

Substrate for a support for bituminous membrane and method for the preparation thereof

Номер патента: RU2658275C2. Автор: Джильберто ФАДЖОН,Джерардо Сальваторе МЕННА. Владелец: Политекс С.А.С. Ди Фройденберг Политекс С.Р.Л.. Дата публикации: 2018-06-19.

Method of providing reflecting coating for substrate for light-emitting device

Номер патента: RU2597253C2. Автор: Кристиан КЛЕЙНЕН,Хендрик Йоханнес Баудевейн ЯГТ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-09-10.

Substrate for metal catalyst of high power and catalytic converter using same

Номер патента: RU2598030C2. Автор: Соо КИМ Миоунг,Хван КО Сун,Хиун ХУР Тае,Бок КИМ Тонг,Чул ЯНГ Сунг. Владелец: Амогринтех Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-09-20.

Chromium-chromium oxide coatings applied to steel substrates for packaging applications and method for producing said coatings

Номер патента: RU2655405C2. Автор: Жак Хюберт Ольга Йозеф ВЕЙЕНБЕРГ,Илья ПОРТЕГИС ЗВАРТ,Михил Стег,Ян Пауль Пеннинг. Владелец: Тата Стил Эймейден Б.В.. Дата публикации: 2018-05-28.

Chromium-chromium oxide coatings applied to steel substrates for packaging applications and method for producing said coatings

Номер патента: RU2660478C2. Автор: Жак Хюберт Ольга Йозеф ВЕЙЕНБЕРГ,Илья ПОРТЕГИС ЗВАРТ,Михил Стег,Ян Пауль Пеннинг,Арнауд Корнелис Адриан ДЕ ВОЙС. Владелец: Тата Стил Эймейден Б.В.. Дата публикации: 2018-07-06.

Container blank and container manufactured from it

Номер патента: RU2343094C2. Автор: Оке РОСЕН. Владелец: Эко Лин Ресерч Энд Дивелопмент А/С. Дата публикации: 2009-01-10.

Peptide substrates for assay of extracellular signal-regulated protein kinase 1 and 2 activity

Номер патента: US7037670B2. Автор: John W. Haycock. Владелец: Louisiana State University. Дата публикации: 2006-05-02.

Substrate for epitaxial growth

Номер патента: US20040131866A1. Автор: Mitsuhiro Tanaka,Shigeaki Sumiya,Tomohiko Shibata,Keiichiro Asai. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2004-07-08.

Peptide substrates for assay of extracellular signal-regulated protein kinase 1 and 2 activity

Номер патента: US20050054023A1. Автор: John Haycock. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-10.

Method for manufacturing multilayer substrate for having bga-type component thereon

Номер патента: US20150366080A1. Автор: Ichiro Yoshida,Hirokazu Saitoh. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Method for manufacturing multilayer substrate for having BGA-type component thereon

Номер патента: US09930790B2. Автор: Ichiro Yoshida,Hirokazu Saitoh. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Method for creating a substrate for printed or coated functionality, substrate, functional device and its use

Номер патента: EP2392197A1. Автор: Petri Ihalainen,Roger BOLLSTRÖM,Martti Toivakka,Jouko Peltonen,Anni Määttänen. Владелец: Åbo Akademi University. Дата публикации: 2011-12-07.

Method for creating a substrate for printed or coated functionality, substrate, functional device and its use

Номер патента: WO2010086511A1. Автор: Petri Ihalainen,Roger BOLLSTRÖM,Martti Toivakka,Jouko Peltonen,Anni Määttänen. Владелец: Åbo Akademi University. Дата публикации: 2010-08-05.

Methods of making holes in blanks and associated system therewith

Номер патента: RU2667558C2. Автор: Дональд Е. ГЕНРИ,Фрэнк П. ХЕСС,Брайан А. ТОМПСОН. Владелец: Зе Боинг Компани. Дата публикации: 2018-09-21.

Method for making glass substrate for display, glass substrate and display panel

Номер патента: US20130306995A1. Автор: Young Tae Park. Владелец: Avanstrate Inc. Дата публикации: 2013-11-21.

Substrate for superconducting compound and method for manufacturing the substrate

Номер патента: US8993064B2. Автор: Kazuhiko Hayashi,Hajime Ota,Takashi Yamaguchi,Akira Kaneko,Kazuya Ohmatsu,Hironao Okayama,Kotaro Ohki,Kouji Nanbu. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2015-03-31.

Substrate for semiconductor package having a reinforcing member that prevents distortions and method for fabricating the same

Номер патента: US20100117200A1. Автор: Ki Il MOON,Jae Sung OH,Jin Ho Gwon,Chan Sun Lee,Young Hy JUNG,Ki Chae KIM,Jae Youn CHOI. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-05-13.

Process for manufacturing a recovery annealed coated steel substrate for packaging applications and a packaging steel product produced thereby

Номер патента: US09920445B2. Автор: Jacques Hubert Olga Joseph Wijenberg,Ilja Portegies Zwart,Jean Joseph CAMPANIELLO. Владелец: TATA STEEL IJMUIDEN BV. Дата публикации: 2018-03-20.

Process for manufacturing a recovery annealed coated steel substrate for packaging applications and a packaging steel product produced thereby

Номер патента: US09797058B2. Автор: Jacques Hubert Olga Joseph Wijenberg,Ilja Portegies Zwart,Jean Joseph CAMPANIELLO. Владелец: TATA STEEL IJMUIDEN BV. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate for organic electronic device and method for manufacturing same

Номер патента: US09741951B2. Автор: Sang Jun Lee,Yun Hye Hahm,Jung Hyoung Lee. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate for organic electronic device having high refractive layer on light scattering, optical functional layer

Номер патента: US09595684B2. Автор: Jung Hyoung Lee,Ji Hee Kim,Jun Rye Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Process for producing substrate for mounting element

Номер патента: US09504166B2. Автор: Katsuyoshi Nakayama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Patterned substrate for epitaxially growing semiconductor material, and method for patterning a substrate

Номер патента: US09391235B2. Автор: Ray-Hua Horng,Dong-Sing Wuu,Wei-Ting Lin. Владелец: National Chung Hsing University. Дата публикации: 2016-07-12.

Connection board, and multi-layer wiring board, substrate for semiconductor package and semiconductor package using connection board, and manufacturing method thereof

Номер патента: US20090008141A1. Автор: Fumio Inoue,Shigeharu Arike,Akishi Nakaso,Tetsuya Enomoto,Norio Moriike,Hidehiro Nakamura,Kousuke Hiroki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-08.

Substrate for oled, method of fabricating the same and organic light-emitting device having the same

Номер патента: US20140141958A1. Автор: Jaeho Lee,Jhee-Mann Kim,Seong-Sik PARK,Eun Young Cho,Kiyeon Lee,Joosok Kim,Myeongjin Ahn. Владелец: Samsung Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Handle Substrates of Composite Substrates for Semiconductors, and Composite Substrates for Semiconductors

Номер патента: US20150364548A1. Автор: Akiyoshi Ide,Hirokazu Nakanishi,Yasunori Iwasaki,Sugio Miyazawa,Tatsuro Takagaki. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2015-12-17.

Substrate for printed wiring and resin composition used therefor

Номер патента: US9028949B2. Автор: Takashi Okada,Takaaki Uno,Motoki Okaniwa,Toshimitsu Kikuchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Substrate for printed wiring and resin composition used therefor

Номер патента: US20120199383A1. Автор: Takashi Okada,Takaaki Uno,Motoki Okaniwa,Toshimitsu Kikuchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-09.

Transfer substrate for forming metal wiring line and method for forming metal wiring line by means of said transfer substrate

Номер патента: US20140262003A1. Автор: Takashi Nishimori,Toshinori Ogashiwa,Masaaki Kurita,Yukio Kanehira. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-09-18.

Liquid crystal display device, substrate for liquid crystal display device and manufacturing method of substrate for liquid crystal display device

Номер патента: US09971185B2. Автор: Kenzo Fukuyoshi,Yukihiro Kimura. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Transparent substrate for liquid crystal device, and light control sheet

Номер патента: US12072582B2. Автор: Yusuke Takahashi,Yuji Kataoka. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Mold having an uneven surface structure, optical article, manufacturing method therefor, transparent substrate for surface light emitter and surface light emitter

Номер патента: US09696464B2. Автор: Toru Tokimitsu,Toshiaki Hattori,Yumiko Saeki. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Methods And Systems For Scatterometry Based Metrology Of Structures Fabricated On Transparent Substrates

Номер патента: US20240201073A1. Автор: Xi Chen,Shankar Krishnan,Kaichun Yang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for hardening an anti-reflection treatment deposited on a transparent substrate and transparent substrate comprising a hardened anti-reflection treatment

Номер патента: US20200331801A1. Автор: Pierry Vuille,Julien Meier,Alexis Boulmay. Владелец: Comadur SA. Дата публикации: 2020-10-22.

Transparent substrate with light-shielding layer, and vehicle interior member and display device using the same

Номер патента: US11073644B2. Автор: Toru Ikeda,Tomoyuki Kobayashi,Yosuke Takeda. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-27.

Methods and systems for scatterometry based metrology of structures fabricated on transparent substrates

Номер патента: WO2024129518A2. Автор: Xi Chen,Shankar Krishnan,Kaichun Yang. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-06-20.

Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet

Номер патента: US20240061291A1. Автор: Yusuke Takahashi,Daisuke Yamashita. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Electromagnetic Communication Enhancements Through a Coated Transparent Substrate

Номер патента: US20230105079A1. Автор: Jean-Christophe Giron,Cody Vanderveen,Juha Lilja,Robert Newcomb,Benjamin Edward TREML. Владелец: Sage Electrochromics Inc. Дата публикации: 2023-04-06.

Upper surface foreign material detecting device of ultra-thin transparent substrate

Номер патента: US09733196B2. Автор: Hyung Seok Lee,Jin Yong Kim,Yeong Ryeol Kim,Cheul Ock Chae,Soung Jin Kim. Владелец: NANOPROTECH CO Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Probe for the probe microscope which uses transparent substrates, the probe microscope and the method for manufacturing the probe

Номер патента: RU2321084C2. Автор: Даи КОБАЯСИ,Хидеки КАВАКАЦУ. Владелец: Джапан Сайенс Энд Текнолоджи Эйдженси. Дата публикации: 2008-03-27.

An illumination system for detecting the defect in a transparent substrate and a detection system including the same

Номер патента: EP2798337A1. Автор: Xiaowei Sun,Xiaofeng Guo,Huifen Li,Xiaofeng Lin,Wenhua Deng. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2014-11-05.

Light sensor having a contiguous IR suppression filter and transparent substrate

Номер патента: US09472696B1. Автор: Joy T. Jones,Zhihai Wang,Nicole D. Kerness,Arkadii V. Samoilov. Владелец: Maxim Integrated Products Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Method and system for detecting defects of transparent substrate

Номер патента: EP2430431A1. Автор: Yuan Zheng,Dazhi Chen,Jean-Philippe Schweitzer,Xiaofeng Lin. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2012-03-21.

Method for manufacturing array substrate, array substrate and mask

Номер патента: US20170125250A1. Автор: Xi Chen,Zheng Liu,Xiaoxiang Zhang,Zhichao Zhang,Mingxuan Liu,Tsung-Chieh Kuo. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Method for manufacturing array substrate, array substrate and mask

Номер патента: US09899225B2. Автор: Xi Chen,Zheng Liu,Xiaoxiang Zhang,Zhichao Zhang,Mingxuan Liu,Tsung-Chieh Kuo. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Antiglare film-provided transparent substrate and production method therefor

Номер патента: US20230375753A1. Автор: Katsumi Suzuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Method for adjusting parameters of a coating process to manufacture a coated transparent substrate

Номер патента: US20240280948A1. Автор: Cyril Jean,Thierry Kauffmann,Matthieu LOUSTAUNAU. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2024-08-22.

Inspection apparatus for detecting defects in transparent substrates

Номер патента: EP1599722A2. Автор: Jason Hiltner,Kevin Gahagan. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2005-11-30.

Transparent substrate with metal oxide layers and method for producing same

Номер патента: EP4439132A1. Автор: Tetsuro Inokuchi,Akihiko Niino. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Transparent substrate with metal oxide layers and method for producing same

Номер патента: US20240329279A1. Автор: Tetsuro Inokuchi,Akihiko Niino. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Surface-treated infrared-absorbing fine particle dispersion and infrared-absorbing transparent substrate

Номер патента: AU2019267798B2. Автор: Hirofumi Tsunematsu,Takeshi Chonan. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

A carrier substrate for electronic components

Номер патента: MY143357A. Автор: Christian Thiemann,Thomas Dr Zenker. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2011-04-29.

Transferring nanostructures from wafers to transparent substrates

Номер патента: US20200339484A1. Автор: Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Tapashree Roy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Transferring nanostructures from wafers to transparent substrates

Номер патента: EP3959547A1. Автор: Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Tapashree Roy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-02.

Method for polishing surface of transparent substrate layer of color filter unit

Номер патента: US5347766A. Автор: Osamu Narimatsu,Kazuyoshi Komatsu,Yasuo Takemura,Yoko Takeuchi,Susumu Waki. Владелец: Mitsui Toatsu Chemicals Inc. Дата публикации: 1994-09-20.

Eye reflections using ir light sources on a transparent substrate

Номер патента: WO2023049065A1. Автор: . Владелец: Chinook Labs Llc. Дата публикации: 2023-03-30.

Antiglare film-attached transparent substrate

Номер патента: US20230126941A1. Автор: Kazutaka Kamitani,Nobuki Iwai. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Transparent substrate for liquid crystal device and light control sheet

Номер патента: EP4328661A1. Автор: Yusuke Takahashi,Daisuke Yamashita. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-02-28.

Transparent substrate for liquid crystal device, and light adjusting sheet

Номер патента: EP4328662A1. Автор: Yusuke Takahashi,Yuji Kataoka. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-02-28.

Alignment apertures in an optically transparent substrate

Номер патента: EP1384102A1. Автор: Gary O'Connor,Ronald Kunkel. Владелец: Corona Optical Systems Inc. Дата публикации: 2004-01-28.

Inspection technique for transparent substrates

Номер патента: US20080297784A1. Автор: Douglas S. Goodman,Philip Robert Leblanc. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2008-12-04.

Transparent substrate for liquid crystal device, and light control sheet

Номер патента: US20240077766A1. Автор: Yusuke Takahashi,Yuji Kataoka. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Electromagnetic communication enhancements through a coated transparent substrate

Номер патента: WO2023060159A1. Автор: Jean-Christophe Giron,Cody Vanderveen,Juha Lilja,Robert Newcomb,Benjamin Edward TREML. Владелец: SAGE ELECTROCHROMICS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Photodetector for weak light with UV transparent substrates

Номер патента: US7115868B2. Автор: Mikio Fujiwara,Makoto Akiba,Masahide Sasaki. Владелец: National Institute of Information and Communications Technology. Дата публикации: 2006-10-03.

Photodetector for weak light with UV transparent substrates

Номер патента: US20050023467A1. Автор: Mikio Fujiwara,Makoto Akiba,Masahide Sasaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-03.

Transparent substrate provided with multi-layered coating and insulation glazing unit including the same

Номер патента: US20210017811A1. Автор: Jin Woo Han. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2021-01-21.

Transparent substrate provided with multi-layered coating and insulation glazing unit including the same

Номер патента: EP3790848A1. Автор: Jin Woo Han. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2021-03-17.

Transparent substrate provided with multi-layered coating and insulation glazing unit including the same

Номер патента: CA3089727A1. Автор: Jin Woo Han. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2019-11-14.

Antenna on transparent substrate

Номер патента: US20180294552A1. Автор: Amit Singh,Seung Jun Lee,Aycan Erentok,Paul Beaucourt. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Infrared radiation transparent substrates and systems and methods for creation and use thereof

Номер патента: CA3051278C. Автор: Abolfazl Aghanouri. Владелец: North Face Apparel Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Transparent substrate with multilayer film and image display device

Номер патента: US20230408731A1. Автор: Katsumi Suzuki,Kazuya Takemoto,Keisuke Kawai,Kaname SETO,Tomoyuki ARAE. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

A method for quantifying defects in a transparent substrate

Номер патента: WO2008106015A3. Автор: Keith M Hill,Randy L Mcclure,Richard S Priestley. Владелец: Richard S Priestley. Дата публикации: 2008-10-23.

Method and apparatus for detecting and quantifying a chemical substance employing an optical transmission property of metallic islands on a transparent substrate

Номер патента: US8071391B2. Автор: Israel Rubinstein,Alexander Vaskevich,Gregory Kalyuzhny. Владелец: Yeda Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Patterned backside optical coating on transparent substrate

Номер патента: WO2011011332A1. Автор: Joseph F. Ahadian,Richard J. Pommer,Charles B. Kuznia,Richard T. Hagan. Владелец: Ultra Communications, Inc.. Дата публикации: 2011-01-27.

Transparent substrate provided with a thin-film multilayer

Номер патента: US09494717B2. Автор: Vincent Reymond,Ramzi Jribi. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2016-11-15.

Transparent substrate bearing an anti-stain, hydrophobic coating, and process for making it

Номер патента: CA2305513A1. Автор: Yongan Yan,Din-Guo Chen. Владелец: Din-Guo Chen. Дата публикации: 1999-04-22.

Transparent substrate with multilayer film and image display device

Номер патента: EP4299542A1. Автор: Katsumi Suzuki,Kazuya Takemoto,Keisuke Kawai,Kaname SETO,Tomoyuki ARAE. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Transparent substrate and hinged optical assembly

Номер патента: CA2424945A1. Автор: John Greene,Randy Wickman,Daniel C. Mansur,David Barneson,Bryan Gregory,Gary O'Connor. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-11.

Transparent substrate and hinged optical assembly

Номер патента: EP1334393A1. Автор: John Greene,Randy Wickman,Daniel C. Mansur,David Barneson,Bryan Gregory,Gary O'Connor. Владелец: Corona Optical Systems Inc. Дата публикации: 2003-08-13.

Illumination system for detecting the defect in a transparent substrate and a detection system including the same

Номер патента: US20140347657A1. Автор: Xiaowei Sun,Xiaofeng Guo,Huifen Li,Xiaofeng Lin,Wenhua Deng. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2014-11-27.

Antiglare-film-equipped transparent substrate, and method for manufacturing same

Номер патента: EP4269090A1. Автор: Katsumi Suzuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Method and Apparatus for Detecting and Quantifying a Chemical Substance Employing an Optical Transmission Property of Metallic Islands on a Transparent Substrate

Номер патента: US20120135536A1. Автор: Israel Rubinstein,Alexander Vaskevich,Gregory Kalyuzhny. Владелец: Yeda Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-31.

Near-infrared absorbing fine particle dispersion liquid, near-infrared absorbing fine particle dispersion body, near-infrared absorbing transparent substrate, near-infrared absorbing laminated transparent substrate

Номер патента: US20190161361A1. Автор: Hirofumi Tsunematsu,Takeshi Chonan. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Antiglare transparent substrate and display device provided with same

Номер патента: US11940685B2. Автор: Masao Ozeki,Satoshi Kanasugi,Maya HATANO. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Antiglare film-provided transparent substrate and production method therefor

Номер патента: EP4269367A1. Автор: Katsumi Suzuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Antiglare film-provided transparent substrate and production method therefor

Номер патента: US20230375752A1. Автор: Katsumi Suzuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Method for adjusting parameters of a coating process to manufacture a coated transparent substrate

Номер патента: EP4356210A1. Автор: Cyril Jean,Thierry Kauffmann,Matthieu LOUSTAUNAU. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2024-04-24.

Surface-treated infrared absorbing fine particle dispersion liquid and infrared absorbing transparent substrate

Номер патента: US11987520B2. Автор: Hirofumi Tsunematsu,Takeshi Chonan. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Double-layered type nematic liquid crystal display device and method of inspecting transparent substrates

Номер патента: EP1359460A3. Автор: Werner Fertig,Masao Asahi Glass Comp. Ltd. Ozeki,Christian Lauenstein. Владелец: Kyocera Display Corp. Дата публикации: 2004-01-14.

Color filter substrate for a liquid crystal display and a method for manufacturing the same

Номер патента: US5850271A. Автор: Joong-hee Lee,Sang-soo Kim,Dong-Gyu Kim,Woon-Yong Park,Jin-kwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-12-15.

Display device and array substrate for display device

Номер патента: US11914252B2. Автор: Kentaro Okuyama. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Diffusion film comprising transparent substrate and diffusion layer

Номер патента: WO2003034104A8. Автор: Yoji Ito,Isao Fujiwara,Takumi Ando. Владелец: Takumi Ando. Дата публикации: 2004-05-13.

Membrane structure and transparent substrate having specified nanometer-scale thickness films

Номер патента: US11802995B2. Автор: Weibin Wu,YenHsiang Chang,Yungfeng Yeh,Xiangkang Wei. Владелец: TPK Advanced Solutions Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Curved transparent substrate, curved display panel including the same and method of manufacturing the same

Номер патента: US20160342010A1. Автор: Seung Kim,Cheol-Min Park,In-Sun Hwang,Eun-Kyung YEON,Sang-hoon Ahn,Seung-Ho Kim,Hoi-Kwan Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-24.

Method for direct optical visualization of graphene and its nanoscale defects on transparent substrates

Номер патента: US20190219519A1. Автор: WAN LI,Ke Xu,Michał Wójcik,Seonah Moon. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2019-07-18.

Method for direct optical visualization of graphene and its nanoscale defects on transparent substrates

Номер патента: US10989668B2. Автор: WAN LI,Ke Xu,Michał Wójcik,Seonah Moon. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2021-04-27.

A method for focusing an electron beam on a wafer having a transparent substrate

Номер патента: EP4285114A1. Автор: Arie Bader,Tamir Nuna. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: EP3787217A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Method for masking the structure of communication network

Номер патента: RU2668979C2. Автор: Роман Викторович Максимов,Александр Александрович Лазарев,Сергей Равильевич Шарифуллин,Алексей Александрович Белов,Илья Игоревич Иванов,Евгений Леонидович Мирошниченко. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Краснодарское высшее военное училище имени генерала армии С.М. Штеменко" Министерство обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2018-10-05.

Utilizing a diffusion neural network for mask aware image and typography editing

Номер патента: US20240355018A1. Автор: Pranav AGGARWAL,Ajinkya Gorakhnath Kale,Fengbin Chen,Venkata Naveen Kumar Yadav Marri,Midhun Harikumar,Hareesh Ravi. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Guided data selection for masked speech modeling

Номер патента: EP4405937A1. Автор: Yu Zhang,Bhuvana Ramabhadran,Andrew Rosenberg,Murali Karthick Baskar. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-07-31.

Scheme for masking output of scan chains in test circuit

Номер патента: US09588179B2. Автор: Rohit Kapur,Jyotirmoy Saikia. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Methods, systems and computer program products for masking tax data during collaborative tax return preparation

Номер патента: US20200043102A1. Автор: Paul F. HUBBARD,Tyler Thomas KRUPICKA,Andrew Scott JEDDELOH,Amir R. Eftekhari. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2020-02-06.

Methods, systems and computer program products for masking tax data during collaborative tax return preparation

Номер патента: WO2017132068A1. Автор: Paul F. HUBBARD,Tyler Thomas KRUPICKA,Andrew Scott JEDDELOH,Amir R. Eftekhari. Владелец: INTUIT INC.. Дата публикации: 2017-08-03.

Method and system for masking noise

Номер патента: US09583091B2. Автор: David LENNSTROM. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Systems and methods for masking biometric information in images

Номер патента: WO2022140733A1. Автор: Shubham Srivastava,Venu Madhav Raidu,Phanish Hanagal Srinivasa Rao,Arjun Tyagi,Mayank Kumar Mittal,Manu Ramakrishna Iyengar. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2022-06-30.

Systems and methods for masking biometric information in images

Номер патента: EP4268202A1. Автор: Shubham Srivastava,Venu Madhav Raidu,Phanish Hanagal Srinivasa Rao,Arjun Tyagi,Mayank Kumar Mittal,Manu Ramakrishna Iyengar. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-11-01.

System for masking vehicle noise and method for the same

Номер патента: US09794709B2. Автор: In Soo Jung. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-10-17.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: US20210064783A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Methods and apparatus for measuring stress of membrane regions of segmented microlithographic mask blanks

Номер патента: US20020112544A1. Автор: Masashi Okada. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-22.

Flexible air bearing design system with independent profile mapping and height field definition for mask tiers

Номер патента: US20020034034A1. Автор: Yu-Li Chang,Bijoyendra Nath. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2002-03-21.

Flexible air bearing design system with independent profile mapping and height field definition for mask tiers

Номер патента: WO2001091122A2. Автор: Yu-Li Chang,Bijoyendra Nath. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2001-11-29.

Optical system for masking out a component region of an image

Номер патента: US4923293A. Автор: Bruno Nelles,Rainer Schwenn. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 1990-05-08.

Efficient and masked sampling of polynomials for lattice-based cryptography

Номер патента: US11924346B2. Автор: Tobias Schneider,Joost Roland Renes,Markus Schoenauer,Melissa Azouaoui. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-03-05.

Sound playback device and method for masking interference sound through noise masking signal thereof

Номер патента: US10607591B1. Автор: KUO-PING YANG,Yu-Chieh Huang,Kuo-Wei Kao,Cheng-Te Wang,Wei-Lin Chang,I-Ting LEE. Владелец: Unlimiter MFA Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-31.

System and method for masking periodic noise

Номер патента: US20230410776A1. Автор: Kyoung-Jin Chang. Владелец: Kia Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for masking content displayed on electronic device

Номер патента: WO2017026837A1. Автор: Sailesh Kumar Sathish,Vinod Keshav Seetharamu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2017-02-16.

Method for masking DQ bits

Номер патента: US20020076872A1. Автор: Martin Gall,Andre Schaefer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

Scheme for Masking Output of Scan Chains in Test Circuit

Номер патента: US20140372822A1. Автор: Rohit Kapur,Jyotirmoy Saikia. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2014-12-18.

Efficient and masked sampling of polynomials for lattice-based cryptography

Номер патента: US20230353361A1. Автор: Tobias Schneider,Joost Roland Renes,Markus Schoenauer,Melissa Azouaoui. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2023-11-02.

Apparatus and method for masking a clock signal

Номер патента: US8713347B1. Автор: Ross Swanson. Владелец: Marvell International Ltd. Дата публикации: 2014-04-29.

Device and method for masking errors in standardized coding of speech and audio with low delay (usac)

Номер патента: RU2630390C2. Автор: Жереми ЛЕКОНТ,Михаэль ШНАБЕЛЬ,Мартин ДИТЦ,Ральф ШПЕРШНАЙДЕР. Владелец: Технише Универзитет Ильменау. Дата публикации: 2017-09-07.

Imaging System for Compensating for Mask Frame Misalignment

Номер патента: US20100074483A1. Автор: David Janes. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2010-03-25.

Method and apparatus for masking errors in coded audio data

Номер патента: RU2475868C2. Автор: Лассе ЛААКСОНЕН,Микко ТАММИ,Адриана ВАСИЛАКЕ,Ансси РЯМЁ. Владелец: Нокиа Корпорейшн. Дата публикации: 2013-02-20.

Method for Masking and/or Reducing Disturbing Noises or the Conspicuousness Thereof During Operation of a Motor Vehicle

Номер патента: US20190066653A1. Автор: Gerd Speidel,Michael Sturm,Thomas Alber. Владелец: Robert Bosch Automotive Steering GmbH. Дата публикации: 2019-02-28.

Method and apparatus for masking the acoustic signature of vessels

Номер патента: WO1994015778A1. Автор: Susan L. Wilson,Curtis L. Landi. Владелец: Supracor Systems, Inc.. Дата публикации: 1994-07-21.

Method and device for masking objects contained in an image

Номер патента: US11823305B2. Автор: Volker Patricio Schomerus,Juncong Fei,Umair Rasheed. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2023-11-21.

Method, apparatus, and computer-readable medium for masking data

Номер патента: US20170339111A1. Автор: Bala Kumaresan,Igor Balabine. Владелец: Informatica LLC. Дата публикации: 2017-11-23.

Device and method for masking a fault

Номер патента: AU2003226791A1. Автор: Ralph Sperschneider,Daniel Homm. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2003-11-17.

Method for masking content displayed on electronic device

Номер патента: US20170046523A1. Автор: Sailesh Kumar Sathish,Vinod Keshav Seetharamu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-16.

Method, apparatus, and computer-readable medium for masking data

Номер патента: EP3465508A1. Автор: Bala Kumaresan,Igor Balabine. Владелец: Informatica LLC. Дата публикации: 2019-04-10.

Method for using fuse identification codes for masking bad bits on single in-line memory modules

Номер патента: US5913020A. Автор: Paul W. Rohwer. Владелец: Micron Electronics Inc. Дата публикации: 1999-06-15.

Apparatus and method for masking power consumption of a processor

Номер патента: US11822705B2. Автор: Carl Wayne VINEYARD,George McNeil Lattimore,Bal S. Sandhu. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Method for stabilizing individual substrate for spectral malignance determination

Номер патента: RU2285443C2. Автор: Слободан ПЕТРОВИЧ,Слободан ПЕТРОВИЧ (YU),Милка АВРАМОВ-ИВИЧ (YU),Милка АВРАМОВ-ИВИЧ. Владелец: Хемофарм Концерн А.Д. Фармацеутско-Хемийска Индустрия Вршац. Дата публикации: 2006-10-20.

Substrate for examining a biological sample by scanning probe nanotomography and a method for production thereof

Номер патента: RU2740872C1. Автор: Антон Евгеньевич Ефимов,Игорь Иванович Агапов,Ольга Игоревна Агапова,Мария Михайловна Боброва,Любовь Александровна Сафонова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр трансплантологии и искусственных органов имени академика В.И. Шумакова" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "НМИЦ ТИО им. ак. В.И. Шумакова" Минздрава России). Дата публикации: 2021-01-21.

Improvements relating to substrates for attaching molecules

Номер патента: RU2742666C2. Автор: Питер ФИТЦДЖЕРАЛЬД,Джон ЛАМОН,Иван МАККОННЕЛЛ,Элоуард БЕНЧИХ,Дипеш УПАДХЬЯЙ,Киаран РИЧАРДСОН. Владелец: Рэндокс Теоранта. Дата публикации: 2021-02-09.

Substrate for security papers and method of manufacturing same

Номер патента: RU2652225C2. Автор: Йоганнес Георг ШЕДЕ. Владелец: КБА-НотаСис СА. Дата публикации: 2018-04-25.

Aluminum alloy substrate for magnetic disk and method for manufacturing same, aluminum alloy base disk for magnetic disk and method for manufacturing same, and magnetic disk and method for manufacturing same

Номер патента: US20210358520A1. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Hiroki Ota,Takuya Murata,Makoto Yonemitsu,Ryo Sakamoto,Kotaro Kitawaki. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Solid substrates for promoting cell and tissue growth

Номер патента: US20240226378A1. Автор: Nir Altschuler. Владелец: Cartiheal 2009 Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Aluminum alloy substrate for magnetic disks, method for producing same, and magnetic disk using this aluminum alloy substrate for magnetic disks

Номер патента: US20200377984A1. Автор: Takashi Nakayama,Yasuo Fujii,Hideyuki Hatakeyama,Takuya Murata,Makoto Yonemitsu,Kotaro Kitawaki,Kimie IMAKAWA,Kouichiro TAKIGUCHI. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2020-12-03.

Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums.

Номер патента: MY126084A. Автор: Akio Fujimura,Daisaku Kobayashi. Владелец: Mitsui Mining & Smelting Co. Дата публикации: 2006-09-29.

Optical glass, near-infrared cut filter, glass element for press molding, optical element blank, and optical elements

Номер патента: US20240092683A1. Автор: Hironori Oguma,Katsuyuki Mukogawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Glass substrate for information recording medium and method for manufacturing the same

Номер патента: MY182274A. Автор: Noriko Shimazu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-01-18.

Aluminum alloy substrate for magnetic disks, method for producing same, and magnetic disk using said aluminum alloy substrate for magnetic disks

Номер патента: US11721361B2. Автор: Takashi Nakayama,Yasuo Fujii,Takuya Murata,Makoto Yonemitsu,Ryo Sakamoto,Yu Matsui,Kotaro Kitawaki,Wataru Kumagai. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2023-08-08.

Glass substrate for information recording medium and method for manufacturing the same

Номер патента: US09437235B2. Автор: Yasuhiro Saito,Toshiaki Hashimoto,Yuriko Kudoh. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Method for producing substrate for making microarray

Номер патента: US09410951B2. Автор: Toshinobu Ishihara,Takeshi Kinsho,Wataru Kusaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate for perpendicular magnetic recording medium and method for production thereof

Номер патента: WO2004095436A1. Автор: Masahiro Ohmori. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2004-11-04.

Crystallized glass substrate for information recording medium and method of producing the same

Номер патента: US20130011695A1. Автор: Toshitaka Yagi,Noyuki GOTO. Владелец: Ohara Inc. Дата публикации: 2013-01-10.

Apparatus for cleaning glass substrate for use in information recording medium

Номер патента: MY130390A. Автор: Junichi Hashimoto,Norihiro Fujioka. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-06-29.

Array substrate for display, method of manufacturing array substrate for display and display device using the array substrate

Номер патента: US20020106843A1. Автор: Toshiaki Arai,Takatoshi Tsujimura,Atsuya Makita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Aluminium alloy substrate for magnetic disk, method for fabricating the same, and magnetic disk composed of aluminium alloy substrate for magnetic disk

Номер патента: US20210201946A1. Автор: Takashi Nakayama,Hideyuki Hatakeyama,Makoto Yonemitsu,Kotaro Kitawaki,Kimie IMAKAWA. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Sample substrate for laser desorption ionization-mass spectrometry, and method and device both using the same for laser desorption ionization-mass spectrometry

Номер патента: US20120175515A1. Автор: Masaru Hori,Hiroaki Sato,Mineo Hiramatsu,Yasutake Toyoshima. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2012-07-12.

Substrates for glycogen synthase kinase 3 enzymes and methods of use

Номер патента: US20110081659A1. Автор: Lucille Beaudet,Roberto J. Rodriguez-Suarez,Mireille Caron. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-04-07.

Substrate for flat panel display device, method of manufacturing the same, flat panel display device using substrate and method of manufacturing flat panel display device

Номер патента: WO2007132979A1. Автор: Jong-Uk Bu,Dong-Chun Kim. Владелец: Senplus Inc.. Дата публикации: 2007-11-22.

Substrate for manufacturing disposable microfluidic devices

Номер патента: WO2010059351A3. Автор: Daniel T. Chiu,Jason S. Kuo. Владелец: UNIVERSITY OF WASHINGTON. Дата публикации: 2010-08-05.

Use of organic anion transporter b in screens for candidate substrates for crossing the blood brain barrier

Номер патента: WO2005075684A3. Автор: Noa Zerangue. Владелец: Noa Zerangue. Дата публикации: 2005-11-10.

Defect inspection apparatus, sensitivity calibration method for the same, substrate for defect detection sensitivity calibration, and manufacturing method thereof

Номер патента: US20070035725A1. Автор: Naohiro Takahashi,Tamihide Yasumoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-02-15.

Substrate for biochips and method for producing same

Номер патента: US20180036705A1. Автор: Yasushi Takebayashi,Ryo Morishita,Kei Yamaguchi. Владелец: Nippon Light Metal Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Aluminum alloy substrate for magnetic disks, method for producing same, and magnetic disk using said aluminum alloy substrate for magnetic disks

Номер патента: US20210151077A1. Автор: Takashi Nakayama,Yasuo Fujii,Takuya Murata,Makoto Yonemitsu,Ryo Sakamoto,Yu Matsui,Kotaro Kitawaki,Wataru Kumagai. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Purification of prion protein substrate for real-time quaking induced conversion (rt-quic)

Номер патента: US20230324266A1. Автор: Davin HENDERSON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-12.

Purification of prion protein substrate for real-time quaking induced conversion (rt-quic)

Номер патента: WO2023192985A1. Автор: Davin HENDERSON. Владелец: Henderson Davin. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate for changing color of light emitting diode and method for producing same

Номер патента: US09893248B2. Автор: Yoon Seuk Oh,Ki Yeon Lee,Hyung Soo Moon,Jhee Mann Kim,Choon Bong Yang. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Substrate for biochips and method for producing same

Номер патента: US09855542B2. Автор: Yasushi Takebayashi,Ryo Morishita,Kei Yamaguchi. Владелец: Nippon Light Metal Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Glass substrate for magnetic disk and magnetic disk for heat assisted magnetic recording

Номер патента: US09728217B2. Автор: Masahiro Katagiri,Masayoshi Yoshida. Владелец: Hoya Glass Disk Vietnam II Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Image forming device, imaging system, moving body and semiconductor substrate for layering

Номер патента: RU2731333C1. Автор: Хидео КОБАЯСИ,Даисуке ЙОСИДА,Такахиро СИРАИ,Со ХАСЕГАВА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-09-01.

Substrate for opto-electrical assembly

Номер патента: CA2393894A1. Автор: Michael Burmeister,Karl Gerdom. Владелец: Harting Elecktro Optische Bauteile GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-17.

Substrate for optical fiber array

Номер патента: US20240103228A1. Автор: Zhiguo Luo. Владелец: Suzhou Tfc Optical Communication Co ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Thin film transistor array substrate for a liquid crystal display and the method for fabricating the same

Номер патента: US20020057393A1. Автор: Woon-Yong Park,Dong-Hyeon Ki,Hyeon-Hwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-05-16.

Synthetic quartz glass substrate for use in microfluidic device, synthetic quartz glass microfluidic device, and method for manufacturing the same

Номер патента: EP4201897A1. Автор: Masaki Takeuchi,Masao Ando,Hiroyuki Yamazaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-28.

Substrate for liquid crystal display and liquid crystal display having the same

Номер патента: US20040125322A1. Автор: Manabu Sawasaki. Владелец: Fujitsu Display Technologies Corp. Дата публикации: 2004-07-01.

System and methods for automated evaluation of glass-based substrates for birefringence defects

Номер патента: WO2020102425A1. Автор: Tomohiro Ishikawa,Rohit Rai,SeungCheol Yang,Raymond Geroe Greene. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2020-05-22.

Method of inspecting optical waveguide substrate for optical conduction at increased speed and also inspecting optical waveguide substrate for crosstalk

Номер патента: US20030117614A1. Автор: Yoshio Matsumoto,Hideo Kikuchi,Sakae Kitajo,Yuzo Shimada,Mikio Oda,Hikaru Kouta,Shinichi Tamabayashi. Владелец: NEC Toppan Circuit Solutions Inc. Дата публикации: 2003-06-26.

Substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display device provided with the same, and manufacturing method of the same

Номер патента: US20080204617A1. Автор: Kunio Matsubara. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2008-08-28.

Substrate for magnetic recording medium, method of manufacture of same, and magnetic recording medium

Номер патента: US20080075982A1. Автор: Takashi Shimada. Владелец: Fuji Electric Device Technology Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-27.

Thin film transistor array substrate for a liquid crystal display and the method for fabricating the same

Номер патента: US20050208711A1. Автор: Woon-Yong Park,Dong-Hyeon Ki,Hyeon-Hwan Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-22.

Silicon substrate for magnetic recording and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090220821A1. Автор: Ken Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-03.

Substrate for perpendicular magnetic recording media, and perpendicular magnetic recording media using same

Номер патента: MY157749A. Автор: Hiroshi Minazawa. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-15.

Conductive substrate for a working electrode for a biological sensor

Номер патента: US20240341644A1. Автор: Robert James Boock. Владелец: Allez Health Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Substrate for display, display panel and display device

Номер патента: US09891460B2. Автор: Yanbing WU,Dongsheng Wang,Youmei Dong. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Mother substrate for display device, method for manufacturing the same, and method for manufacturing display device

Номер патента: US09753345B2. Автор: Kook Hyun CHOI,Jong-In Kim,Sang Yong NO,Jang Soo Kim,Sang Ki KWAK. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for manufacturing a substrate for surface-enhanced Raman spectography

Номер патента: US09632032B2. Автор: Stefan Landis,Vincent Reboud. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate for display panel, display panel and display device

Номер патента: US20190101790A1. Автор: Dong Wang,Hongmin Li,Zhifu Dong,Liqing LIAO. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate for Liquid Crystal Display Panel

Номер патента: US20080043179A1. Автор: Toshihide Tsubata,Tsuyoshi Tokuda,Shinichi Hirato,Akihiro Shoraku,Kenji Enda,Kohji Matsuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate for uv transmittance evaluation of cosmetics and evaluation method

Номер патента: US20220349816A1. Автор: Akihiro Kuroda. Владелец: Kuroda Consulting Inc. Дата публикации: 2022-11-03.

Interconnect substrate for use in a liquid crystal module, and liquid crystal module

Номер патента: US20080291357A1. Автор: Yuki Ishizuka. Владелец: Funai Electric Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-27.

Substrate for optical fiber array and method for fabricating the same

Номер патента: US7435011B2. Автор: Hirokazu Takeuchi,Nobuo Funabiki,Sotohiro Nakajima. Владелец: Nippon Electric Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-14.

Device substrate for recording head, recording head, and recording apparatus including the recording head

Номер патента: US20070296743A1. Автор: Masataka Sakurai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-12-27.

Fabrication of substrates for planar waveguide devices and planarwaveguide devices

Номер патента: WO2002046113A1. Автор: Duncan Harwood. Владелец: University of Southampton. Дата публикации: 2002-06-13.

Substrate For Curved Display Panel, Curved Display Panel, And Curved Display Device

Номер патента: US20190043894A1. Автор: Hongwei Du,Jae Moon Chung. Владелец: Chongqing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-07.

Packaging optoelectronic components and cmos circuitry using silicon-on-insulator substrates for photonics applications

Номер патента: US20170186739A1. Автор: Russell A. Budd,Jean-Olivier Plouchart,Mounir Meghelli,Jason Scott ORCUTT. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Method of manufacturing array substrate for use in liquid crystal display device

Номер патента: US20010034073A1. Автор: Kyo-Ho Moon,Hu-Sung Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-25.

Packaging optoelectronic components and cmos circuitry using silicon-on-insulator substrates for photonics applications

Номер патента: US20180114785A1. Автор: Russell A. Budd,Jean-Olivier Plouchart,Mounir Meghelli,Jason Scott ORCUTT. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-26.

IC Test Substrate for Testing Various Signals

Номер патента: US20110025357A1. Автор: Wen-Tsung Lee,Kuan-Chun Tseng. Владелец: Chunghwa Precision Test Technology Co Ltd. Дата публикации: 2011-02-03.

Fluorescent substrates for poly(adp-ribosyl) hydrolases

Номер патента: US20220050112A1. Автор: Paul J. Hergenrother,Bryon S. DROWN. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2022-02-17.

Substrate for Digital X-Ray Detector, Digital X-Ray Detector Including the Same and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20190187305A1. Автор: Jinpil Kim,Hanseok Lee,Youngyoung Chang,Youngjin Yi,Hyeji JEON,Younghun HAN. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-20.

Array substrate for liquid crystal display and method for fabricating the same

Номер патента: US20070004070A1. Автор: Gee Chae. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Method of preparing artificial lipid membranes over microapertures of substrate and substrate for holding artificial lipid membranes

Номер патента: US20100307918A1. Автор: Shoji Takeuchi,Kaori Kuribayashi. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2010-12-09.

Method for producing a light trapping layer on a transparent substrate for use in a photovoltaic device, a method for producing a photovoltaic device as well as such a photovoltaic device

Номер патента: WO2010027253A2. Автор: Hermanus Johannes Borg,Patrick Godefridus Jacobus Maria Peeters. Владелец: Moser Baer Photo Voltaic Ltd.. Дата публикации: 2010-03-11.

Method for producing a light trapping layer on a transparent substrate for use in a photovoltaic device, a method for producing a photovoltaic device as well as such a photovoltaic device

Номер патента: EP2327103A2. Автор: Hermanus Johannes Borg,Patrick Godefridus Jacobus Maria Peeters. Владелец: Moser Baer Photo Voltaic Ltd. Дата публикации: 2011-06-01.

Substrate for organic light-emitting device with enhanced light extraction efficiency, method of manufacturing the same and organic light-emitting device having the same

Номер патента: US09837636B2. Автор: Seong-Sik PARK. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Method of manufacturing solar cell module, method of manufacturing translucent or transparent substrate, and solar cell module

Номер патента: US20170077323A1. Автор: Hiroyuki Ueno,Toshio Yagiura,Ryoji Naito,Hirofumi Yano. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-16.

Method of manufacturing solar cell module, method of manufacturing translucent or transparent substrate, and solar cell module

Номер патента: US20150380573A1. Автор: Hiroyuki Ueno,Toshio Yagiura,Ryoji Naito,Hirofumi Yano. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Methods and feed compositions for masking of fish semiochemicals

Номер патента: CA2875574C. Автор: Jorge Pino,Simon Wadsworth,Jose Luis Gonzalez Vecino,Jenny Mordue. Владелец: EWOS Innovation AS. Дата публикации: 2016-08-09.

Methods and feed compositions for masking of fish semiochemicals

Номер патента: CA2875558C. Автор: Jorge Pino,Simon Wadsworth,Jose Luis Gonzalez Vecino,Jenny Mordue. Владелец: EWOS Innovation AS. Дата публикации: 2018-01-02.

Methods and feed compositions for masking of fish semiochemicals

Номер патента: CA2875560A1. Автор: Jorge Pino,Simon Wadsworth,Jose Luis Gonzalez Vecino,Jenny Mordue. Владелец: EWOS Innovation AS. Дата публикации: 2011-06-09.

Methods and feed compositions for masking of fish semiochemicals

Номер патента: CA2782653C. Автор: Jorge Pino,Simon Wadsworth,Jose Luis Gonzalez Vecino,Jenny Mordue. Владелец: EWOS Innovation AS. Дата публикации: 2016-02-16.

Substrate for base for growing crops and application, in particular, for creating surfaces of sport purposes

Номер патента: RU2631680C2. Автор: Эдмон-Пьер ПИКАР. Владелец: Нэчрал Грасс. Дата публикации: 2017-09-26.

Honeycomb substrates for catalyst converters for two-wheeled or diesel vehicles

Номер патента: RU2244591C2. Автор: Людвиг ВИРЕС,Людвиг ВИРЕС (DE). Владелец: Эмитек Гезельшафт Фюр Эмиссионстехнологи Мбх. Дата публикации: 2005-01-20.

Method for manufacturing light extraction substrate for organic light emitting element, light extraction substrate for organic light emitting element, and organic light emitting element including same

Номер патента: US09893320B2. Автор: Min Seok Kim,Seo Hyun Kim,Hong Yoon,Jang Dae Youn,Gun Sang Yoon. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method and machine for realising a box starting from a cardboard blank and for boxing a plurality of articles with the box

Номер патента: US12060182B2. Автор: Giuseppe Ponti. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2024-08-13.

Apparatus for manufacturing a substrate for fuel cell and apparatus for manufacturing electrode for fuel cell including same

Номер патента: US20230216068A1. Автор: Hoon Hui Lee. Владелец: Kia Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate for epitaxial growth and method for producing same

Номер патента: US20180297327A1. Автор: Yusuke Hashimoto,Teppei Kurokawa,Hironao Okayama. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Light extraction substrate for organic light-emitting device comprising a fiberglass structure

Номер патента: US09666835B2. Автор: Jae Ho Lee,Young Suk Lee,Ki Yeon Lee,Kyung Min YOON. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate for solar cell and solar cell

Номер патента: RU2569902C2. Автор: Хироюки ОЦУКА,Такенори ВАТАБЕ,Хидео ООИВА,Казуо ХАРА. Владелец: Син-Эцу Кемикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-12-10.

Method of depositing thin films on surface of substrates for making solar cells

Номер патента: RU2586265C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Бийке Алиевна Шангереева,Айшат Расуловна Шахмаева,Патимат Расуловна Захарова,Мария Николаевна Литовченко,Тажидин Экберович Саркаров,Юсуп Пахрудинович Шангереев. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2016-06-10.

Substrate for additive manufacturing

Номер патента: EP2828068A1. Автор: Jonathan Meyer. Владелец: Airbus Operations Ltd. Дата публикации: 2015-01-28.

Method of and apparatus for cutting a substrate or preparing a substrate for cleaving

Номер патента: WO2023052549A3. Автор: Adam COLLINS,Gerard O'Connor,Nazar FARID,Cormac O'Brien. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF IRELAND, GALWAY. Дата публикации: 2023-05-11.

Laminated substrate for oled, method for producing oled display device using the same, and oled display device

Номер патента: US20180090721A1. Автор: Xiyuan Wang,Yuqing PENG,Yubao Zi. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Cell culture substrate for cultivating adherent cells

Номер патента: US20220195381A1. Автор: Stefan Kubick,Ruben R. Rosencrantz,Lena Thoring,Alena Lisa Palkowitz. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2022-06-23.

Culture substrate for buried shellfish, and application thereof in buried shellfish culture

Номер патента: ZA202305006B. Автор: LIANG Chen,XIA Qing,Dong Zhiguo,Yan Shiyu,Duan Haibao,Ren Guoliang,Feng Senlei,Cui Zhenquan. Владелец: Univ Jiangsu Ocean. Дата публикации: 2024-06-26.

Method of and apparatus for cutting a substrate or preparing a substrate for cleaving

Номер патента: US20240335909A1. Автор: Adam COLLINS,Gerard O'Connor,Nazar FARID,Cormac O'Brien. Владелец: Galway, University of. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate for photoelectric device and photoelectric device comprising same

Номер патента: US09960373B2. Автор: YOON Young Kwon,Kyung Wook Park,Hong Yoon,Hyun Hee Lee,Soon Geun Kwon. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate for organic electronic device

Номер патента: US09768398B2. Автор: Jung Hyoung Lee,Ji Hee Kim,Jun Rye Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

High permeable porous substrate for a solid oxide fuel cell and the production method thereof

Номер патента: US09716277B2. Автор: Shih-Wei Cheng,Chang-Sing Hwang,Chun-Huang Tsai,Chun-Liang Chang,Zong-Yang Chuang Shie,Sheng-Fu Yang,Te-Jung Huang. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2017-07-25.

Carbon substrate for gas diffusion layer, gas diffusion layer using the same, and electrode for fuel cell, membrane-electrode assembly and fuel cell comprising the gas diffusion layer

Номер патента: US09692070B2. Автор: Eun Sook Lee,Jy Young Jyoung,Do Hun Kim,Jung Mi Gwak,Jung Kyu Lee,Eun Chong Kim,Sang Jin Choi,Tae Nyun Kim. Владелец: JNTC Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Light extraction substrate for organic light emitting device, fabrication method therefor and organic light emitting device including same

Номер патента: US09515295B2. Автор: YOON Young Kwon,Joo Young Lee,Jeong Woo Park,Eun Ho Choi,Kyoung Wook Park. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Formulation of a substrate for vermicomposting from coffee dehulling wastes and carabao manure

Номер патента: PH22019001221U1. Автор: Douglas M Doloriel,Nancy S Doloriel. Владелец: Douglas M Doloriel. Дата публикации: 2020-07-08.

Glass substrate for high-frequency device and circuit board for high-frequency device

Номер патента: US12037283B2. Автор: Nobuhiko Takeshita,Kazutaka Ono,Shuhei Nomura,Nobutaka KIDERA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

FORMULATION OF A SUBSTRATE FOR VERMICOMPOSTING FROM NAPIER (Pennisetum purpureum) AND MADRE DE AGUA (Trichanthera gigantea)

Номер патента: PH22019050255Y1. Автор: Douglas M Doloriel,Nancy M Doloriel. Владелец: Douglas M Doloriel. Дата публикации: 2020-11-09.

PROCESS OF PRODUCING A SUBSTRATE FOR VERMICOMPOSTING FROM NAPIER (Pennisetum purpureum) AND MADRE DE AGUA (Trichanthera gigantea)

Номер патента: PH22019050259Y1. Автор: Douglas M Doloriel,Nancy S Doloriel. Владелец: Douglas M Doloriel. Дата публикации: 2020-12-14.

Substrate for semiconductor devices, method of manufacturing substrate for semiconductor devices, and solid-state imaging device

Номер патента: US20150263212A1. Автор: Hideo Numata,Mokuji Kageyama,Shinji Uya,Nagataka Tanaka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Substrate for solar cell and manufacturing method thereof

Номер патента: US20220359773A1. Автор: Jun Young Kim,Jae Do Nam,Ui Seok HWANG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-11-10.

Substrate for mounting a semiconductor element thereon and semiconductor device comprising a semiconductor element mounted on said substrate

Номер патента: US20020167064A1. Автор: Satoru Yamada,Ichiro Kataoka,Yoshifumi Takeyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-14.

FORMULATION OF A SUBSTRATE FOR VERMICOMPOSTING FROM NAPIER (Pennisetum purpureum) AND MADRE DE AGUA (Trichanthera gigantea)

Номер патента: PH22019050255U1. Автор: Douglas M Doloriel,Nancy M Doloriel. Владелец: Douglas M Doloriel. Дата публикации: 2020-11-09.

Substrate for epitaxial growth and method for producing same

Номер патента: US12070923B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Teppei Kurokawa,Hironao Okayama. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Process of reusing bi-facial metal substrates for photoactive semiconductor materials for solar water splitting

Номер патента: EP4328355A3. Автор: Deepak Saxena,Sunil Sachdev,Gopichand TALASILA,Vinay Tiwari,Umish Srivastva. Владелец: Indian Oil Corp Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Method of manufacturing substrate for display device, substrate for display device, and display device

Номер патента: US20150076460A1. Автор: Yong-Kwan Kim,Yong-Hwan Park,Jin Gyu Kang,Jae Seob Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Method of producing a glass substrate for a mask blank, method of producing a mask blank, method of producing a transfer mask, method of producing a semiconductor device, glass substrate for a mask blank, mask blank, and transfer mask

Номер патента: KR101004525B1. Автор: 케사히로 코이케,준지 미야가키. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2010-12-31.

Method for producing ear hook member for mask, apparatus for producing ear hook member for mask, method for producing mask, and mask

Номер патента: EP4295922A4. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-07-31.

Method for producing ear hook member for mask, apparatus for producing ear hook member for mask, method for producing mask, and mask

Номер патента: EP4295922A1. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2023-12-27.

Method of producing arrays of regular submicron metal structures on optically transparent substrates

Номер патента: RU2706265C1. Автор: Илья Анатольевич Родионов,Елена Владимировна Рыжова,Анастасия Александровна Пищимова,Николай Александрович Орликовский. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает ФОНД ПЕРСПЕКТИВНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ. Дата публикации: 2019-11-15.

Substrate for nucleic acid amplification, and method for manufacturing same

Номер патента: EP3821982A1. Автор: Kyung Ho Kim,Jin Yeong Kim,Oh Seok Kwon,Tai Hwan Ha,Seon Joo Park,Seong Eun Seo. Владелец: Korea Research Institute of Bioscience and Biotechnology KRIBB. Дата публикации: 2021-05-19.

Antenna device based on transparent substrate and method of configuring antenna device

Номер патента: US20240222844A1. Автор: Wei-Chung Chen,Mei-Ju Lee,Ruo-Lan Chang,Liyang Tsai,Kuang-Hui Shih. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-07-04.

Optoelectronic modules having transparent substrates and method for manufacturing the same

Номер патента: US20200395523A1. Автор: Nicola Spring,Bojan TESANOVIC. Владелец: Ams Sensors Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Film-attached transparent substrate, top plate for cooker, window glass for heat cooker, and cover glass

Номер патента: EP4455105A1. Автор: Yusuke Yamazaki,Akihiro Ishii,Masaaki Imura,Hitoshi Takamura,Mina YAMAGUCHI,Itaru Oikawa. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-10-30.

WLCSP with transparent substrate and method of manufacturing the same

Номер патента: US11742437B2. Автор: David Gani,Yiying KUO. Владелец: STMicroelectronics Ltd Hong Kong. Дата публикации: 2023-08-29.

Illumination device with inclined light emitting element disposed on a transparent substrate

Номер патента: US09488321B2. Автор: Shyi-Ming Pan,Fen-Ren Chien,Zhi-Ting YE. Владелец: Formosa Epitaxy Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Backside coating for transparent substrate

Номер патента: EP3899087A1. Автор: Wayne Mcmillan,Ludovic Godet,Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Mingwei Zhu,Naamah ARGAMAN,Siddarth Krishnan,Sage Toko Garrett DOSHAY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-10-27.

Multilayer glass containing a transparent substrate with a heating layer having closed ablation lines

Номер патента: RU2768795C2. Автор: Тома ТОНДЮ. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2022-03-24.

Method of pickling layers applied to transparent substrates

Номер патента: RU2285067C2. Автор: Кристоф МАЗЗАРА,КИАТИ Натали ЭЛЬ,Жаона ЖИРАР. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2006-10-10.

Transparent substrate provided with thin multilayer coating

Номер патента: US20230339806A1. Автор: Jin Woo Han,Yeong Jae YOO. Владелец: Hankuk Glass Industries Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Transparent substrate provided with thin-film multilayer coating

Номер патента: US20230348321A1. Автор: Jin Woo Han,Kangmin KIM. Владелец: Hankuk Glass Industries Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

A transparent substrate having an antimicrobial coating and an article thereof

Номер патента: WO2024110980A1. Автор: Krishnamoorthy D,Indraneel ZOPE,Kuppan Balaiah. Владелец: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Дата публикации: 2024-05-30.

Optical sensor having a light emitter and a photodetector assembly directly mounted to a transparent substrate

Номер патента: US09627573B2. Автор: Kumar Nagarajan,Jérôme C. Bhat,Richard I. Olsen,Dan G. Allen. Владелец: Maxim Integrated Products Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

High-efficiency AlGaInP light-emitting diode grown directly on transparent substrate and manufacturing method thereof

Номер патента: US09466766B2. Автор: Hyung Joo Lee. Владелец: AUK CORP. Дата публикации: 2016-10-11.

Embedded electrode substrate for transparent light-emitting element display, and method for manufacturing same

Номер патента: EP3651216A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Front surface and back surface orientation detection of transparent substrate

Номер патента: US11728191B2. Автор: Sanjay Rajaram,Michelle Alejandra Wong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-15.

Front surface and back surface orientation detection of transparent substrate

Номер патента: US20210351050A1. Автор: Sanjay Rajaram,Michelle Alejandra Wong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-11-11.

Front surface and back surface orientation detection of transparent substrate

Номер патента: WO2021226280A1. Автор: Sanjay Rajaram,Michelle Alejandra Wong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-11-11.

Method of manufacturing an integrated capacitor structure using a donor substrate for transferring layers to a receiver substrate

Номер патента: US11865580B2. Автор: Gwenael Le Rhun. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2024-01-09.

Transparent Substrate with Laminated Film

Номер патента: MY195705A. Автор: Masanobu Isshiki,Akiyo Matsumoto,Masafumi AKITA. Владелец: Agc Flat Glass Na Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Film-covered transparent substrate and top plate for cooking device

Номер патента: EP4265576A1. Автор: Yusuke Yamazaki,Masaaki Imura,Hitoshi Takamura,Mina YAMAGUCHI. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-10-25.

Transparent, heat-insulating coating for a transparent substrate

Номер патента: CA1203726A. Автор: Hans J. Glaser. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 1986-04-29.

Optoelectronic modules having transparent substrates and method for manufacturing the same

Номер патента: EP3732732A1. Автор: Nicola Spring,Bojan TESANOVIC. Владелец: Ams Sensors Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2020-11-04.

Electro-optical device with inverted transparent substrate and method for making same

Номер патента: US4912532A. Автор: Michael D. Camras,Louis W. Cook. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1990-03-27.

Graphene and Nanotube/Nanowire Transistor with a Self-Aligned Gate Structure on Transparent Substrates and Method of Making Same

Номер патента: US20140312298A1. Автор: Zihong Liu,Wilfried Ernst-August Haensch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-10-23.

Graphene and Nanotube/Nanowire Transistor with a Self-Aligned Gate Structure on Transparent Substrates and Method of Making Same

Номер патента: US20140042393A1. Автор: Zihong Liu,Wilfried Ernst-August Haensch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-02-13.

Transparent substrate with a multilayer thin film coating and a multiple glazing unit comprising the same

Номер патента: EP4048518A1. Автор: Jin Woo Han,Kangmin KIM. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2022-08-31.

Transparent substrate with diffuser surface

Номер патента: US6001486A. Автор: Desaraju V. Varaprasad,Craig A. Dornan,Catherine A. Getz. Владелец: Donnelly Corp. Дата публикации: 1999-12-14.

Die placement system and method for transparent substrates

Номер патента: WO2024167658A1. Автор: Cyriac Devasia,Rainer Schramm. Владелец: MRSI Systems LLC. Дата публикации: 2024-08-15.

Transparent substrate with a multilayer thin film coating, and method for manufacturing same

Номер патента: US20230366099A1. Автор: Jin Woo Han,Jaeman Hwang. Владелец: Hankuk Glass Industries Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Exfoliated layer dispersion of layered compound, and transparent substrate using same

Номер патента: US12091555B2. Автор: Kazutoshi Sekiguchi,Tomohiro Iwasaki,Hirotake KITAGAWA. Владелец: UNIVERSITY PUBLIC CORPORATION OSAKA. Дата публикации: 2024-09-17.

Low-emission coat applied on transparent substrate

Номер патента: RU2190692C1. Автор: А.А. Суханов,Б.М. Чудинов. Владелец: Чудинов Борис Маркович. Дата публикации: 2002-10-10.

LED with transparent substrate

Номер патента: GB2379798A. Автор: Jin-Ywan Lin,Kuang-Neng Yang. Владелец: United Epitaxy Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-19.

Transparent substrate containing methameric pigment or metameric combination of pigments and multilayer pigments on its basis

Номер патента: RU2631297C1. Автор: Дмитрий Николаевич Задорин,Владислав Владимирович Приходько. Владелец: Владислав Владимирович Приходько. Дата публикации: 2017-09-20.

Method of manufacturing laminated transparent substrate having birefringence

Номер патента: US5344513A. Автор: Shunji Takenaka. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 1994-09-06.

Method for locally removing a coat applied on a translucent or transparent substrate

Номер патента: GB2375499B. Автор: Axel Kupisiewicz. Владелец: WALLONIA SPACE LOGISTICS EN AB. Дата публикации: 2004-01-14.

Transparent substrate and method of manufacturing the same

Номер патента: CA2058341C. Автор: Norihisa Mino,Kazufumi Ogawa,Mamoru Soga. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-19.

Laminated glazing comprising a transparent substrate with a heating layer having ablation lines each closing on itself

Номер патента: US11865811B2. Автор: Thomas TONDU. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2024-01-09.

Laser assisted metal adhesion to indium tin oxide on glass, quartz, sapphire and single crystal silicon wafer substrates for heated platforms for cell culturing

Номер патента: WO2020074971A1. Автор: Ulrich Buttner. Владелец: KING ABDULLAH UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2020-04-16.

Transparent substrate coated with a stack of thin layers

Номер патента: US20240101469A1. Автор: Thomas Barres. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2024-03-28.

Coated substrate for solar control

Номер патента: US20180170794A1. Автор: Jean-Michel Depauw,Thomas LAMBRICHT,Audrey DOGIMONT,Aline DEGAND,Kadosa Hevesi,Ingrid Marenne,Francois Boland. Владелец: AGC Glass Europe SA. Дата публикации: 2018-06-21.

Method for masking structure of communication network

Номер патента: RU2759152C1. Автор: Александр Владимирович Крупенин,Виктор Викторович Починок,Роман Викторович Максимов,Роман Сергеевич Шерстобитов,Георгий Александрович Иванов,Вадим Валерьевич Кучуров,Александр Павлович Теленьга. Владелец: федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Краснодарское высшее военное орденов Жукова и Октябрьской Революции Краснознаменное училище имени генерала армии С.М. Штеменко" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2021-11-09.

Laser ablation method for making a light pattern generator on a transparent substrate

Номер патента: CA2135246C. Автор: Richard W. Hutton. Владелец: Vari Lite Inc. Дата публикации: 2002-07-09.

Exfoliated layer dispersion of layered compound, and transparent substrate using same

Номер патента: US20220089880A1. Автор: Kazutoshi Sekiguchi,Tomohiro Iwasaki,Hirotake KITAGAWA. Владелец: UNIVERSITY PUBLIC CORPORATION OSAKA. Дата публикации: 2022-03-24.

Yeast extract with high ribonucleotide content and application thereof for masking undesirable taste sensations and undesirable tones of smell

Номер патента: RU2767998C2. Автор: Элен ЖОЛИВЕ,Руди МЁНЭН,Антуан ТОМА. Владелец: Лезафр Э Компани. Дата публикации: 2022-03-22.

Systems and methods for masking pinsetters of bowling lanes

Номер патента: US12134026B2. Автор: Michael Bovino. Владелец: Dfx Sound Vision. Дата публикации: 2024-11-05.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: AU2021360206A9. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2024-10-03.

Methods and systems for masking multimedia data

Номер патента: US20210112257A1. Автор: KUMAR Desappan,Piyali Goswami,Yashwant Dutt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2021-04-15.

Methods and systems for masking multimedia data

Номер патента: US20190116364A1. Автор: KUMAR Desappan,Piyali Goswami,Yashwant Dutt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Systems and methods for masking endoscopic images

Номер патента: US20230209008A1. Автор: Amit A. Mahadik,Kundan Krishna. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for masking communication signals, enodeb with masking functionality and aircraft

Номер патента: US9923662B2. Автор: Erhard Bassow,Roberto LAMBIASE. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for masking communication signals, enodeb with masking functionality and aircraft

Номер патента: US20160380719A1. Автор: Erhard Bassow,Roberto LAMBIASE. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2016-12-29.

An apparatus for masking, a method of manufacturing the apparatus and use thereof

Номер патента: EP1998900A1. Автор: Jakob Törefors. Владелец: Törestorps Tråd Ab. Дата публикации: 2008-12-10.

Methods and systems for masking multimedia data

Номер патента: US12022093B2. Автор: KUMAR Desappan,Piyali Goswami,Yashwant Dutt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

An apparatus for masking, a method of manufacturing the apparatus and use thereof

Номер патента: EP1998900B1. Автор: Jakob Törefors. Владелец: HangOn AB. Дата публикации: 2012-06-13.

Monitoring system for mask device with alert messages and related methods

Номер патента: US20210346731A1. Автор: Marquette Trishaun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-11.

Method for masking of cooling holes, and device to be used during masking of cooling holes

Номер патента: RU2485207C2. Автор: Андреас ГРАЙХЕН. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2013-06-20.

Systems and methods for masking pinsetters of bowling lanes

Номер патента: CA3163524A1. Автор: Mike Bovino. Владелец: Dfx Sound Vision. Дата публикации: 2021-07-08.

Ribonucleotide-rich yeast extract and use of same for masking undesirable flavours and undesirable aromatic notes

Номер патента: AU2018382691B2. Автор: Rudy MENIN,Helene Jolivet,Antoine Thomas. Владелец: Lesaffre et Cie SA. Дата публикации: 2024-08-15.

Systems and methods for masking pinsetters of bowling lanes

Номер патента: US20230021367A1. Автор: Michael Bovino. Владелец: Dfx Sound Vision. Дата публикации: 2023-01-26.

System and method for masking door hinges during painting

Номер патента: US20020004103A1. Автор: Marcus Lynch. Владелец: TENCKHOFF WILLIAM AND TRACEY. Дата публикации: 2002-01-10.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: WO2022079128A3. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2022-07-07.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: AU2021360206A1. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2023-06-22.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: EP4228428A2. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2023-08-23.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: US20230371567A1. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2023-11-23.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: WO2022079128A2. Автор: Yuangang Zhang,Laura STIDHAM,Lisa Maria WIJNEN,Georgios Andreas KRINTIRAS. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2022-04-21.

Composition for masking an odor coming from plant protection products

Номер патента: WO2024079617A1. Автор: Laurent Darthout,Elena Ermolina,Mickael Iglesias. Владелец: Certis Belchim BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Aromatic mixture for masking unpleasant taste of zinc compounds

Номер патента: RU2241436C2. Автор: Эссат БИЛАЛИ. Владелец: Блок Драг Компани, Инк.. Дата публикации: 2004-12-10.

System and method for masking video signal errors

Номер патента: RU2291586C2. Автор: Майкл ГОРОВИТЦ,Рик ФЛОТТ. Владелец: Поликом, Инк.. Дата публикации: 2007-01-10.

Method for masking structure of telecommunication network

Номер патента: RU2645292C2. Автор: Василий Александрович Краснов,Борис Владимирович Голуб,Николай Юрьевич Лыков,Роман Викторович Максимов. Владелец: федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Краснодарское высшее военное училище имени генерала армии С.М. Штеменко" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2018-02-19.

Process for masking a cooked flavor in heated milk

Номер патента: CA1324285C. Автор: David B. Josephson. Владелец: Fries and Fries Inc. Дата публикации: 1993-11-16.

Drywall finishing and masking accessory

Номер патента: US5243797A. Автор: Joseph M. Koenig, Jr.. Владелец: Trim Tex Inc. Дата публикации: 1993-09-14.

An apparatus for masking, a method of manufacturing the apparatus and use thereof

Номер патента: WO2007108740A1. Автор: Jakob Törefors. Владелец: Törestorps Tråd Ab. Дата публикации: 2007-09-27.

Drywall finishing and masking accessory

Номер патента: CA2091734C. Автор: Joseph M. Koenig, Jr.. Владелец: Trim Tex Inc. Дата публикации: 1998-02-17.

New smog filter for masks, air-filters, and air-conditioner devices for filtering nitrogen oxides (nox) and other free radicals (ros) for use in inhibition of infections caused by pathogens including sars-cov-2 virus

Номер патента: WO2023242603A1. Автор: Janos Giber,Peter Szollosi,Gabor Renyi,Zsolt Peter HARSANYI. Владелец: Harsanyi Zsolt Peter. Дата публикации: 2023-12-21.

Compositions and methods for masking off-notes in consumables

Номер патента: WO2024083615A1. Автор: Yuangang Zhang,Giulia MALIZIA,Lisa Maria WIJNEN. Владелец: Givaudan SA. Дата публикации: 2024-04-25.

Methods and systems for masking multimedia data

Номер патента: US20220295079A1. Автор: KUMAR Desappan,Piyali Goswami,Yashwant Dutt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2022-09-15.

Data writing method for mask read only memory

Номер патента: US7084036B2. Автор: Meng-Yu Pan,Julian Chang,Yuan-Wei Zheng. Владелец: Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2006-08-01.

Data writing method for mask read only memory

Номер патента: US20050090065A1. Автор: Meng-Yu Pan,Julian Chang,Yuan-Wei Zheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Fixtures for masking metal parts

Номер патента: AU2023282310A1. Автор: Heinrich George Crous. Владелец: Howmedica Osteonics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Fixtures for masking metal parts

Номер патента: EP4389298A1. Автор: Heinrich George Crous. Владелец: Howmedica Osteonics Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

A device, a drill member and a method for masking the member at thermo chemical surface treatment

Номер патента: EP1027472A1. Автор: Lars-Gunnar Lundell. Владелец: Sandvik Ab. Дата публикации: 2000-08-16.

Formulas for masking human sweat malodor

Номер патента: WO2024189618A1. Автор: Kiril KIRIYEVSKY,Yaniv MAMA,Naama GLOOR,Klio MANIATI. Владелец: Moodify Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Improved formulations of personal care products for masking odor or reducing perspiration

Номер патента: EP4429778A1. Автор: Nabila Belhaj,Dominique Karine CLIO,Verdu Benoit Stephane Norbert. Владелец: Cargill Inc. Дата публикации: 2024-09-18.

Enhanced efficacy, long-lasting fragrance composition, and deodorant composition, for masking malodor, containing the fragrance composition

Номер патента: US5380707A. Автор: Morton L. Barr,Paul J. Vincenti,Robert V. Burke. Владелец: Mennen Co. Дата публикации: 1995-01-10.

Method for masking bitterness of composition containing collagen peptide

Номер патента: CA2945271C. Автор: Megumi Okada,Nozomi Kitahara. Владелец: Suntory Holdings Ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Improvements in surface protection shields and masking covers used during painting

Номер патента: GB2579236A. Автор: Rowlands Peter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-06-17.

Method and installation for masked speech transmission over a telephone channel

Номер патента: US4188506A. Автор: Pierre Schmid,Eduard Brunner,Walter Stofer. Владелец: Gretag AG. Дата публикации: 1980-02-12.

Arrangement for masked beam lithography by means of electrically charged particles

Номер патента: US5742062A. Автор: Gerhard Stengl,Alfred Chalupka,Herbert Vonach,Hans Loeschner. Владелец: Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH. Дата публикации: 1998-04-21.

Use of certain hydroxybenzoic acid amides for masking unpleasant taste impressions

Номер патента: US20180311132A1. Автор: Jakob Ley,Joachim Hans,Susanne Paetz,Kathrin Langer. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2018-11-01.

System and method for masking tinnitus

Номер патента: US20230412996A1. Автор: Matthew AMANS. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2023-12-21.

System and method for masking tinnitus

Номер патента: EP4280949A1. Автор: Matthew AMANS. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2023-11-29.

Film for masking aircraft components and method of positioning same

Номер патента: US20230249209A1. Автор: Diane BEAUDOIN. Владелец: Adhetec Canada Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Method for masking of transmissional information

Номер патента: RU2660641C1. Автор: Юрий Иванович Стародубцев,Владимир Владимирович Бухарин,Александр Владимирович Кирьянов,Павел Владимирович Закалкин. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Академия Федеральной службы охраны Российской Федерации" (Академия ФСО России). Дата публикации: 2018-07-06.

Method and apparatus for masking the effects of latency in an interactive information distribution system

Номер патента: CA2269874C. Автор: Donald Gordon,Mark D. Conover,Philip A. Thomas,Christopher Goode,Daniel Illowsky,Brooks Cole. Владелец: Sedna Patent Services LLC. Дата публикации: 2006-05-23.

Substrate for recording head, recording head and method for producing same

Номер патента: US5376231A. Автор: Yasuhiro Sekine,Yasuhiro Naruse,Shigeyuki Matsumoto,Yutaka Akino,Seiji Kamei,Yukihiro Hayakawa,Kei Fujita,Genzo Monma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-12-27.

Fixtures for Masking Metal Parts

Номер патента: US20240207053A1. Автор: Heinrich George Crous. Владелец: Howmedica Osteonics Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Printing head substrate for jet printing, method of excitation control, jet printing head and device for jet printing

Номер патента: RU2326003C2. Автор: Тацуо ФУРУКАВА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2008-06-10.

Substrate for a method for selectively synthesizing a high-quality kerosene fraction from synthesis gas, catalyst for this method and method of their manufacturing

Номер патента: RU2654205C1. Автор: Ли Сюй,Юлян ШИ,Ваньвань ВАН. Владелец: Ухань Кайди Инджиниринг Текнолоджи Рисерч Инститьют Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-05-17.

Hot-rolled steel sheet for variable-thickness rolled blank, variable-thickness rolled blank, and method for producing same

Номер патента: RU2661692C2. Автор: Нацуко СУГИУРА,Эйсаку САКУРАДА,Тацуо ЙОКОИ,Киеюки ФУКУИ. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2018-07-19.

Method for making preform based on water-soluble substrate for compressor blades

Номер патента: RU2719171C1. Автор: Александр Николаевич Калинников,Владимир Александрович Нелюб,Алексей Сергеевич Бородулин,Иван Андреевич Буянов,Максим Андреевич Орлов,Ирина Александровна Поликарпова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2020-04-17.

7-methyl-2'-deoxyguanosine hydroiodide salt as substrate for producing 2'-deoxynucleosides by method of enzyme transglycosylation

Номер патента: RU2664472C1. Автор: Сергей Николаевич Михайлов,Кирилл Сергеевич Алексеев,Михаил Сергеевич Дреничев. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Учреждение Науки Институт Молекулярной Биологии Им. В.А. Энгельгардта Российской Академии Наук (Имб Ран). Дата публикации: 2018-08-17.

Method for obtaining a resistive mask on a semiconductor substrate for the formation of micro- and nanostructures

Номер патента: RU2761773C1. Автор: Иван Николаевич Храпач,Александра Викторовна Кулакова. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает ФОНД ПЕРСПЕКТИВНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ. Дата публикации: 2021-12-13.

Fluid ejection head and manufacturing method of substrate for fluid ejection head

Номер патента: RU2373067C1. Автор: Хироюки АБО,Мицуру ТИДА,Тосиясу САКАИ,Нориясу ОЗАКИ,Казуя АБЕ,Кендзи ОНО. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2009-11-20.

Apparatus for high-accuracy single-axis stretching of elastic substrates for culturing cells and embryonic tissues

Номер патента: RU2723726C1. Автор: Алексей Васильевич Мезин,Илья Владимирович Володяев,Денис Владимирович Бредов. Владелец: Денис Владимирович Бредов. Дата публикации: 2020-06-17.

Membrane as substrate for growing cells of retinal pigment epithelium (versions), application thereof and method of inoculating such cells

Номер патента: RU2530169C2. Автор: Питер КОФФИ,Линдон ДА КРУЗ,Карен ЧИТАМ. Владелец: Юсл Бизнес Плк. Дата публикации: 2014-10-10.

Substrate for culturing xylotrophic basidiomycetes and a method for production thereof using methods of chemical modification of lignocellulose material

Номер патента: RU2699991C1. Автор: Александр Владимирович Голышкин,Наиля Рафиковна Альмяшева,Лариса Михайловна Краснопольская. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Научно-исследовательский институт по изысканию новых антибиотиков имени Г.Ф. Гаузе". Дата публикации: 2019-09-11.

Layout of slab storerooms and furnaces for separate charging of cold blanks and hot blanks of thick plate, and furnace charging method

Номер патента: US20220316801A1. Автор: Bin Liu,Guofeng Chen. Владелец: Baosteel Zhanjiang Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Method for manufacturing light extraction substrate for organic light-emitting element, light extraction substrate for organic light-emitting element, and organic light-emitting element comprising same

Номер патента: US09960387B2. Автор: Joo Young Lee,Seo Hyun Kim,Eun Ho Choi. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Highly selective asymmetric ion transport membrane on porous substrate for extracting high-purity oxygen from air

Номер патента: RU2743430C1. Автор: Сергей Васильевич Федоров,Анна Алексеевна Соловьева,Валерий Васильевич Белоусов,Игорь Валерьевич Кульбакин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (ИМЕТ РАН). Дата публикации: 2021-02-18.

Substrate for black filter with "washcoat" coating

Номер патента: RU2443459C2. Автор: Пол Ричард ФИЛЛИПС,Эндрю Фрэнсис ЧИФИ. Владелец: Джонсон Мэттей Паблик Лимитед Компани. Дата публикации: 2012-02-27.

METHOD OF PREPARING SURFACE OF InSb SUBSTRATE FOR HETEROSTRUCTURE CULTIVATION BY METHOD OF MOLECULAR-BEAM EPITAXY

Номер патента: RU2642879C1. Автор: Александр Иванович Торопов,Наталья Александровна Валишева,Татьяна Александровна Левцова,Асхат Климович Бакаров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2018-01-29.

Interactive book and electronic substrate for interactive book

Номер патента: RU2721344C1. Автор: Евгения Петровна Ханоянц. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «ВОЙС ГРУПП МЕДИА». Дата публикации: 2020-05-19.

Method for producing straight-seam pipe with butt joint of metal blank and tube-forming device

Номер патента: RU2641937C1. Автор: Вячеслав Геннадьевич Баландин. Владелец: Вячеслав Геннадьевич Баландин. Дата публикации: 2018-01-23.

Device for continuous heat treatment of electrically conducting continuous blanks and unit with sliding contact element

Номер патента: RU2591930C2. Автор: Герхард ХЕРБСТ,Райнер ШВАРЦ. Владелец: Шунк Коленштоффтехник Гмбх. Дата публикации: 2016-07-20.

Housing blank and activation member blank for a medicament delivery device, a kit comprising such blanks, and a medicament delivery device

Номер патента: EP3074063A1. Автор: Anders Holmqvist. Владелец: CAREBAY EUROPE LTD. Дата публикации: 2016-10-05.

Machine for personalizing substrates for cards such as identity cards

Номер патента: EP1991430A1. Автор: Robert Charles Bright. Владелец: Matica Swiss Ag. Дата публикации: 2008-11-19.

A ceramic substrate for microwave and terahertz circuits based on copper borates and a method for producing this substrate.

Номер патента: EP4067073A1. Автор: Dorota Szwagierczak,Jan Kulawik,Beata Synkiewicz. Владелец: Siec Badawcza Lukasiewicz Instytut Mikroelektroniki I Fotoniki. Дата публикации: 2022-10-05.

Substrate for solar cell, solar cell, and solar cell manufacturing method

Номер патента: US20240250202A1. Автор: Jungbae Kim,Jeongho Seo,JunYoung KANG,HyangJu MUN,SeonKi MIN,WonSuk SHIN,HyunKyo SHIN,YoungTae YOON,KyoungJin LIM. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Degradable substrate for electronic device, degradable substrate assembly for electronic device, and method for manufacturing degradable substrate for electronic device

Номер патента: US20240242973A1. Автор: Suk Won Hwang,Jeong Woong SHIN. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2024-07-18.

Fabrication method of thin film transistor substrate for X-ray detector

Номер патента: US20030096441A1. Автор: Ik kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-22.

Etching composition for semiconductor substrate for memory element and method for manufacturing semiconductor substrate for memory element using same

Номер патента: US20240287385A1. Автор: Toshiyuki Oie,Po-Hung Wang,Tomoyuki Adaniya,Chih-Liang Yang. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate for solar cell, solar cell, and solar cell manufacturing method

Номер патента: US12062733B2. Автор: Jungbae Kim,Jeongho Seo,JunYoung KANG,HyangJu MUN,SeonKi MIN,WonSuk SHIN,HyunKyo SHIN,YoungTae YOON,KyoungJin LIM. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Process for producing a receiver substrate for a semiconductor-on-insulator structure for radiofrequency applications and process for producing such a structure

Номер патента: US20210407849A1. Автор: Marcel Broekaart,Damien Parissi. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2021-12-30.

Connector device for electrically connecting a functional module to a circuit substrate for a keyboard, keyboard and keyboard and method for producing a keyboard

Номер патента: US20230275371A1. Автор: Ruff Eduard. Владелец: Cherry Europe GmbH. Дата публикации: 2023-08-31.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US20180212588A1. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Masaru Asai,Hiroaki Kaida. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Flat blanks and containers made of wood or derivatives thereof

Номер патента: WO2024170993A1. Автор: Hélder Manuel GASPAR CORDEIRO,Irene SOFIA CARVALHO FERREIRA,Carlos MANUEL DA COSTA VIEIRA,Inês ORFÃO FERREIRA,Andreia FRANCO FERNANDES LOPES,Nuno MANUEL ROSA DOS SANTOS ÓRFÃO. Владелец: Fwfi – Freshwood Forms Industry, Lda. Дата публикации: 2024-08-22.

Methods and apparatus for fabricating glass substrates for use in magnetic recording media

Номер патента: US20240336512A1. Автор: Shoji Suzuki,Siew Fu Chai,Tze Ming Pui. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrates for hybridization and method of using the same

Номер патента: EP1496359A4. Автор: Masahiko Hara,Fumio Nakamura,Junko Hayashi. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2007-05-23.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US09985603B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Masaru Asai,Hiroaki Kaida. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for producing substrate for mounting semiconductor element

Номер патента: US09870930B2. Автор: Hiroki Nakayama,Kaoru HISHIKI,Shunichi Kidoguchi. Владелец: SH Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Uncoiling, blanking and forming method

Номер патента: US09815104B2. Автор: QIAN Xiang,Saidan Yang,Ruimin Wu,Shengbo Pan,Chengguo Jin,Junliang Qiao,Guoqiang Dai. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate for ink jet recording head

Номер патента: US09751301B2. Автор: Kenji Takahashi,Takuya Hatsui,Souta Takeuchi,Shuichi Tamatsukuri,Soichiro Nagamochi,Shinya Iwahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods for joining two blanks and blanks and products obtained

Номер патента: US09616513B2. Автор: Michel Garcia,Elisenda Vila I Ferrer,Cristina CARRASCOSA GARCÍA. Владелец: Autotech Engineering SL. Дата публикации: 2017-04-11.

Nutrient substrate for growing plants

Номер патента: RU2762136C1. Автор: Евгений Генрихович Косандрович,Игорь Олегович Мельников,Евгений Михайлович Полховский,Владимир Сергеевич Солдатов,Виктор Васильевич Сапрыкин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЦИОН Холдинг". Дата публикации: 2021-12-16.

Multilayer structure that makes substrate for printing thereon and method of its fabrication

Номер патента: RU2404062C2. Автор: Якоб ГРОБ,Кристоф КОХЕР. Владелец: Ландкарт. Дата публикации: 2010-11-20.

Method for forming blanks and press for performing the method

Номер патента: RU2205721C2. Автор: Питер Р. ДЖЕПСОН,Хьюго Э. ДЕЛГАДО,Тимоти Э. ХАУСОН,Джек М. ХАЙЗЭК,Пол Д. АНТАЯ,Томас Ф. ДОЭРТИ,Пол Дж. ГАРГОЛИНСКИ,Мартин М. МОРРА,Джеймс Э. ШЭННОН III. Владелец: Ваймэн Гордон Компани. Дата публикации: 2003-06-10.

Substrate for ink-jet printing

Номер патента: RU2358879C2. Автор: . Владелец: Кронотек Аг. Дата публикации: 2009-06-20.

III-N Based Substrate for Power Electronic Devices and Method for Manufacturing Same

Номер патента: US20180212025A1. Автор: Ming Zhao. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2018-07-26.

Substrate for semiconductor devices and method for producing same

Номер патента: EP4379774A1. Автор: Kazunori Hagimoto. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Stacked die integrated circuit (ic) package employing interposer for coupling an upper stacked die(s) to a package substrate for package height reduction, and related fabrication methods

Номер патента: EP4393013A1. Автор: Jinseong Kim,Krishna Vemuri. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: US20030075465A1. Автор: Gregory Mathias,Mehmed Temim. Владелец: Vision Ease Lens Inc. Дата публикации: 2003-04-24.

Carton box for vials, blank and packaging process

Номер патента: EP1259432A1. Автор: Gianpaolo Belloli,Alessandro Resta,Giacinto De Fiori. Владелец: Ingenius Srl. Дата публикации: 2002-11-27.

Substrate for liquid ejection head and method for manufacturing substrate for liquid ejection head

Номер патента: US20230311503A1. Автор: Masataka Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Cell seeding agent and substrate for cell transplantation use

Номер патента: EP4368181A1. Автор: Shinji Yoshizaki,Yoshiki Sakaguchi,Shin Hatou. Владелец: Cellusion Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method for manufacturing toilet blank, and toilet blank

Номер патента: CA3209192A1. Автор: Yulin Li,Xiaolong He,Zhongde FAN,Wenbin Hu,Yongze LIU,Miaogen SHEN,Fengfeng TUO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-15.

Method of manufacturing polishing carrier and silicon substrate for magnetic recording medium, and silicon substrate for magnetic recording medium

Номер патента: WO2006013996A8. Автор: Katsuaki Aida. Владелец: Katsuaki Aida. Дата публикации: 2007-05-10.

Substrate for optical device, optical device package, manufacturing method of substrate for optical device, and manufacturing method of optical device package

Номер патента: US20190296195A1. Автор: Seung Ho Park,Bum Mo Ahn,Tae Hwan Song. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate for mounting a light-emitting element and light-emitting device

Номер патента: US12046868B2. Автор: Takeshi Kawakami,Youji Furukubo,Masanori ANNOURA. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for producing an SiO2 blank and apparatus for performing said method

Номер патента: US20020090466A1. Автор: Heinz Fabian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-11.

Substrate for use in system in a package (sip) devices

Номер патента: US20190206779A1. Автор: Gene Alan Frantz,Masood Murtuza,Peter Linder,Erik James Welsh. Владелец: Octavo Systems LLC. Дата публикации: 2019-07-04.

Method of forming a butt weld joint having a carbon content-dependent, predetermined quenching factor in a welded steel blank and a hot press-formed part made therefrom

Номер патента: CA3207139A1. Автор: Maria POIRIER,Cristian ALVAREZ,Thierry LIZON. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2019-05-31.

System and method for applying an additive to an aerosol-generating substrate for an aerosol-generating article

Номер патента: WO2024156846A1. Автор: Edoardo MONTANARI,Ricardo CALI,Andreas LÖB,Luca DINI. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS S.A.. Дата публикации: 2024-08-02.

Kit of blanks, and a package

Номер патента: EP4410698A1. Автор: Piotr Pszonak. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-08-07.

Substrate for semiconductor device, resin-sealed semiconductor device, method for manufacturing said substrate for semiconductor device and method for manufacturing said resin-sealed semiconductor device

Номер патента: US20110014752A1. Автор: Shozo Ishikawa,Chikao Ikenaga. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2011-01-20.

Method for Manufacturing Toilet Blank, and Toilet Blank

Номер патента: US20240253269A1. Автор: Yulin Li,Xiaolong He,Zhongde FAN,Wenbin Hu,Yongze LIU,Miaogen SHEN,Fengfeng TUO. Владелец: Lixil Sanitary Manufacturing Shanghai Co Ltd AS. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for forming via hole in substrate for flexible printed circuit board

Номер патента: EP1884147A1. Автор: Hideo Yamazaki,Kazuo Satoh. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-02-06.

Method For Forming Via Hole in Substrate For Flexible Printed Circuit Board

Номер патента: US20080210661A1. Автор: Hideo Yamazaki,Kazuo Satoh. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-09-04.

Substrate for electronic device and method for processing same

Номер патента: US20070228527A1. Автор: Yasuo Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-04.

Base substrate for group iii-v compound crystals and production method for same

Номер патента: US20230250552A1. Автор: Yoshihiro Kubota,Kazutoshi Nagata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Method for erecting tubular blanks and a station, in which this method is carried out

Номер патента: US20070072755A1. Автор: Giuseppe Monti. Владелец: Marchesini Group SpA. Дата публикации: 2007-03-29.

Process for producing a substrate for attachment of cells and a substrate for attachment of cells

Номер патента: US20040180435A1. Автор: Shinji Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2004-09-16.

Array substrate for liquid crystal display and method for fabricating the same

Номер патента: US20100187536A1. Автор: Yu-Cheng Chen,Chen-Yueh Li. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2010-07-29.

Substrates for preparing a comestible meat product

Номер патента: AU2022203772B2. Автор: Nicholas J. Genovese,Matthew Leung,Asha GODBOLE,Uma S. VALETI,Kathleen CARSWELL,George C. Engelmayr Jr.. Владелец: Upside Foods Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Seed substrate for epitaxial growth and method for producing same, and semiconductor substrate and method for producing same

Номер патента: EP4424888A1. Автор: Koichi Higuchi,Yoshihiro Kubota,Shigeru Konishi,Hiroshi Mogi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

A substrate for sports and recreation fields, a backing for an artificial lawn provided with such a substrate, an artificial lawn provided with such a substrate and a composition for such a substrate

Номер патента: EP2305886A3. Автор: Marinus Hendrikus Olde Weghuis,Frederik Jan Van Der Gaag. Владелец: Ten Cate Thiobac BV. Дата публикации: 2015-08-05.

Substrate for semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240313086A1. Автор: Kazunori Hagimoto. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Process for producing a substrate for attachment of cells

Номер патента: US7358089B2. Автор: Shinji Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2008-04-15.

Method for forming a decorative substrate for decorative panel, and a method for forming a decorative panel

Номер патента: US20240343060A1. Автор: ROBERT David,Benjamin Clement,Malte TADDAY,Beauregard BOUTMANS. Владелец: Interprint GmbH. Дата публикации: 2024-10-17.

Method for producing a sheet of aerosol-generating substrate for an aerosol-generating article

Номер патента: WO2024208478A1. Автор: Anu Ajithkumar,Lucien Suarez,Francesco FEDERZONI,Marion Sylvie Suzanne Mercier,Alessandra CAMPANA. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS S.A.. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate for printed circuit board, printed circuit board, and method for producing substrate for printed circuit board

Номер патента: US09967976B2. Автор: Hiroshi Ueda,Yasuhiro Okuda,Kazuhiro Miyata,Yoshio Oka,Takashi Kasuga,Kousuke Miura,Jinjoo Park,Issei Okada. Владелец: Sumitomo Electric Printed Circuits Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

High resistance layer for III-V channel deposited on group IV substrates for MOS transistors

Номер патента: US09882009B2. Автор: Glenn A. Glass,Anand S. Murthy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Composite substrate for light emitting device and LED module with the same

Номер патента: US09875996B2. Автор: Tzu-Chi Cheng,Jing-qiong Zhang. Владелец: Kaistar Lighting Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Carrier substrate for semiconductor structures suitable for a transfer by transfer print and manufacturing of the semiconductor structures on the carrier substrate

Номер патента: US20240371669A1. Автор: Ralf Lerner. Владелец: X Fab Semiconductor Foundries GmbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate for soil improvement having a water-storing property, method for producing same, and use thereof

Номер патента: US09528046B2. Автор: Klaus Fischer,Joachim Katzur,Falk Liebner,Lars Passauer. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET DRESDEN. Дата публикации: 2016-12-27.

A set of ink for inkjet printing a plastic substrate for being used in the manufacturing of decorative panels, a method for printing on a plastic substrate, a printed plastic substrate and a decorative panel

Номер патента: EP4416227A1. Автор: Benjamin Clement. Владелец: UNILIN BV. Дата публикации: 2024-08-21.

Coating material for aluminum substrate for inkjet computer-to-plate and preparation and use of same

Номер патента: US09493672B2. Автор: MING Yang,Gang Li,Haihua Zhou,Lianming Yang,Yanlin Song. Владелец: Institute of Chemistry CAS. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate for mounting LED element, LED light source and LED display

Номер патента: US09443831B2. Автор: Naoki Noda,Tadami Maeda. Владелец: Noritake Itron Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Mineral wool substrate for growing plants on non-phenolformaldehyde binder

Номер патента: RU2636967C1. Автор: Сергей Петрович Иванов,Полина Викторовна Ассорова,Дмитрий Владимирович Красеньков,Татьяна Евгеньевна Запорожец. Владелец: Закрытое акционерное общество "ТехноНИКОЛЬ". Дата публикации: 2017-11-29.

Method of continuous casting of blanks and device for its implementation

Номер патента: RU2658761C2. Автор: Олег Степанович Лехов,Александр Викторович Михалёв,Игорь Владиславович Ухлов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Российский государственный профессионально-педагогический университет". Дата публикации: 2018-06-22.

Thermal- responsive substrate for neural cell culture, processes for producing the same, and methods of using the same

Номер патента: WO2023194813A1. Автор: Kiyumars Jalili,Fatemeh HASSANPOUR,Hakimeh GHALEH. Владелец: Ghaleh Hakimeh. Дата публикации: 2023-10-12.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: US20030141595A1. Автор: Anthony Chiu,Harry Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2003-07-31.

Method of preparing diamond substrates for cvd nanometric delta doping

Номер патента: US20180174834A1. Автор: James E. Butler. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2018-06-21.

Method of preparing diamond substrates for CVD nanometric delta doping

Номер патента: US10468246B2. Автор: James E Butler. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2019-11-05.

Blank, method for producing blank, and member

Номер патента: US20240227077A9. Автор: Yasuhiro Ito,Masahiko Abe. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Blank configured to be erected into a package, a package formed by such a blank, and a method of erecting a blank

Номер патента: SE2230393A1. Автор: Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-06-03.

Foldable substrates for motor vehicles and methods for making the same

Номер патента: EP2741901A1. Автор: Daniel Vander Sluis,Stephen Jones. Владелец: Faurecia Interior Systems Inc. Дата публикации: 2014-06-18.

Substrate for integrated circuit package

Номер патента: US20170243799A1. Автор: Jae Young Choi,Hyung Soo Moon,Joon Soo Kim. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

Rotary plate for holding a substrate for a coating device

Номер патента: US20180036761A1. Автор: Pirmin Muffler. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2018-02-08.

Rotary plate for holding a substrate for a coating device

Номер патента: EP3275012A1. Автор: Pirmin Muffler. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2018-01-31.

Rotary plate for holding a substrate for a coating device

Номер патента: MY191685A. Автор: Pirmin Muffler. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2022-07-07.

Rotary plate for holding a substrate for a coating device

Номер патента: US10919071B2. Автор: Pirmin Muffler. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2021-02-16.

Rotary plate for holding a substrate for a coating device

Номер патента: WO2016156134A1. Автор: Pirmin Muffler. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2016-10-06.

Methods and substrates for inducing and growing fruiting bodies for producing the fungus laetiporus sulphureus as vegan meat substitute

Номер патента: WO2024069618A2. Автор: Alison STILLE,David STILLE,Johannes AMAN. Владелец: Walding Foods GmbH. Дата публикации: 2024-04-04.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: EP1341231A3. Автор: Anthony M. Chiu,Harry Michael Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2006-07-19.

Haptocorrin (r-binder; transcobalamin i) substrates for the oral delivery of vitamins or minerals

Номер патента: WO2017218235A1. Автор: Robert Doyle. Владелец: Robert Doyle. Дата публикации: 2017-12-21.

Structure in a substrate for the manufacturing of a semiconductor device and process for manufacturing of a semiconductor device

Номер патента: US20080009139A1. Автор: Thomas Hecht,Henry Bernhardt,Steffen Mueller,Kristin Schupke,Kevin Bauer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2008-01-10.

Semiconductor substrate for epitaxial growth and manufacturing method thereof

Номер патента: US20090269271A1. Автор: Kenji Suzuki,Ryuichi Hirano,Hideki Kurita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-29.

Device and method for weakening a sheet of aerosol-generating substrate for an aerosol-generating article component

Номер патента: WO2024160571A1. Автор: Stefano ZAPPOLI. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS S.A.. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of manufacturing substrate laminated body, substrate for liquid ejection head and method of manufacturing substrate for liquid ejection head

Номер патента: US11305539B2. Автор: Taichi YONEMOTO. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-04-19.

Carton, carton blank and method of construction therefor

Номер патента: EP2303709A1. Автор: Philippe LeBras. Владелец: Meadwestvaco Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2011-04-06.

Carton, carton blank and method of construction therefor

Номер патента: WO2010005887A1. Автор: Philippe LeBras. Владелец: MEADWESTVACO PACKAGING SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2010-01-14.

Polimeric substrates for nerve regeneration, methods and uses thereof

Номер патента: WO2022118282A1. Автор: Rui Luís GONÇALVES DOS REIS,Alexandre António ANTUNES BARROS,Albino Manuel PEREIRA MARTINS,Nuno João MELEIRO ALVES DAS NEVES,Marta Alexandra RODRIGUES CASANOVA,Paulo Ricardo OLIVEIRA DA MOTA,Emanuel CARVALHO DIAS. Владелец: Association For The Advancement Of Tissue Engineering And Cell Based Technologies & Therapies (A4Tec) - Associação. Дата публикации: 2022-06-09.

Epitaxial substrate for semiconductor device, semiconductor device, method of manufacturing epitaxial substrate for semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20130168734A1. Автор: Mitsuhiro Tanaka,Makoto Miyoshi,Mikiya Ichimura. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2013-07-04.

Incombustible, non-telegraphing substrates for aviation panel assemblies and methods for installing the incombustible, non-telegraphing substrate into an aviation panel assembly

Номер патента: CA2944104C. Автор: Ashish Kumar Agarwal,Christopher L. Chapman,Chana Kesava REDDY. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Substrate for manufacturing display device, and method for manufacturing display device by using same

Номер патента: US20230299055A1. Автор: Kisu Kim,Jinhyung LEE,Changseo Park,Younho HEO,Yongil SHIN. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Catalyst solutions useful in activating substrates for subsequent plating

Номер патента: US20020062760A1. Автор: Mark Wojtaszek,Ronald Redline. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-30.

Method of pre-etching glass substrate for reducing releasing time

Номер патента: US20040192047A1. Автор: Bing-Ru Chen,Long-Sun Huang,Shi-Yuan Tseng. Владелец: WALSIN LIHWA CORP. Дата публикации: 2004-09-30.

Method for producing substrate for millimeter wave

Номер патента: US20230294389A1. Автор: Byoung Nam Kim,Chul-Keun Park,Hong Il Yoo,Jong Yup Lee. Владелец: Sensorview Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate for light emitting elements, light emitting device including substrate for light emitting elements, and method of producing substrate for light emitting elements

Номер патента: US20230163035A1. Автор: Kazuhiro Kamada. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Integrated circuit (IC) package employing added metal for embedded metal traces in ETS-based substrate for reduced signal path impedance, and related fabrication methods

Номер патента: US12100645B2. Автор: Aniket Patil,Hong Bok We,Joan Rey Villarba Buot. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Integrated circuit (ic) package employing added metal for embedded metal traces in ets-based substrate for reduced signal path impedance, and related fabrication methods

Номер патента: EP4406016A1. Автор: Aniket Patil,Hong Bok We,Joan Rey Villarba Buot. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Method for producing package substrate for mounting semiconductor device

Номер патента: US12119277B2. Автор: Yoshihiro Kato,Syunsuke Hirano,Takaaki Ogashiwa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Genetically engineered bacterium using glucose as substrate for de novo synthesis of vanillin and application thereof

Номер патента: US20240318209A1. Автор: Haowen ZHU,Jianyu Long,Tianwei Tan,Yingyue Yu. Владелец: Beijing University of Chemical Technology. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate for mounting led and led-mounted substrate

Номер патента: US20240351939A1. Автор: Masayuki Shimura,Meiten Koh,Kosuke Nakajima,Haruka ONODA. Владелец: Taiyo Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate for electronic device and production method therefor

Номер патента: EP4442870A1. Автор: Hiroji Aga,Toru Ishizuka,Kosei Sugawara,Kazunori Hagimoto,Ippei Kubono. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Handle substrate for use in manufacture of semiconductor-on-insulator structure and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09881832B2. Автор: Alex Usenko. Владелец: SunEdison Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Array substrate for mounting chip and method for manufacturing the same

Номер патента: US09847462B2. Автор: Seung Ho Park,Ki Myung Nam,Young Chul Jun. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate for light emitting device, light emitting device, and manufacturing method of substrate for light emitting device

Номер патента: US09806244B2. Автор: Masahiro Konishi,Yoshiaki Itakura,Shin Itoh,Hiroyuki NOKUBO. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Device and method for weakening a sheet of aerosol-generating substrate for an aerosol-generating article component

Номер патента: WO2024200077A1. Автор: Matteo BALBONI. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS S.A.. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate for light-emitting diode

Номер патента: US09402300B2. Автор: Shinsuke Yano,Makoto Tani,Hirokazu Nakanishi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Two-layer, flat, transparent hydrogel substrate for long-term cell cultivation

Номер патента: RU2614260C1. Автор: Егор Олегович Осидак,Сергей Петрович Домогатский,Мария Сергеевна Осидак,Дмитрий Евгеньевич Сивогривов,Анна Сергеевна Домогатская. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью фирмы "Имтек". Дата публикации: 2017-03-24.

Use of a monophosphate ester of a phthalein compound as a substrate for tartrate-resistant acid phosphatase b5 (trap 5b)

Номер патента: EP2286222A1. Автор: Brian Houston,David Laurie,Jussi Halleen. Владелец: Immunodiagnostic Systems Ltd. Дата публикации: 2011-02-23.

Substrates for optoelectronic devices and methods of manufacturing same

Номер патента: WO2022036454A1. Автор: Richard Ares,Abderraouf BOUCHERIF,Youcef Ataellah BIOUD. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie S.E.C.. Дата публикации: 2022-02-24.

Devices and methods related to metallization of ceramic substrates for shielding applications

Номер патента: US20210045231A1. Автор: Anthony James LoBianco,Howard E. CHEN,Shaul Branchevsky. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2021-02-11.

Use of a coating layer with an acrylate polymer on a paper substrate for blocking oxygen transfer

Номер патента: EP3298199A1. Автор: Rainer Blum,Hermann Seyffer,Juergen Schmidt-Thuemmes,Carmen-Elena Cimpeanu,Dirk Lawrenz,Nico VELING,Theo Smit. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2018-03-28.

Structure and method for fabricating epitaxial semiconductor on insulator (SOI) structures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form same

Номер патента: US20030015702A1. Автор: Ravindranath Droopad,Kurt Eisenbeiser,Zhiyi Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Use of a coating layer with a styrene-butadiene copolymer on a paper substrate for blocking oxygen transfer

Номер патента: US20180135250A1. Автор: Rainer Blum,Hermann Seyffer,Juergen Schmidt-Thuemmes,Carmen-Elena Cimpeanu,Dirk Lawrenz,Nico VELING,Theo Smit. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2018-05-17.

Composite Substrate for a Waveguide and Method of Manufacturing a Composite Substrate

Номер патента: US20200127357A1. Автор: Senad Bulja,Rose Fasano Kopf,Pawel Rulikowski,Majid Norooziarab. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate for power module, circuit board for power module, and power module

Номер патента: US20190341331A1. Автор: Kazuya Kitagawa,Shunsuke Mochizuki,Yoji Shirato,Mika Tsuda,Keita Nagahashi,Satoshi Maji. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-07.

Oriented substrate for use in formation of epitaxial film, and method for producing same

Номер патента: US20160163425A1. Автор: Ryosuke Suganuma,Shigeo Nagaya,Shuichi Kubota,Tomonori Watanabe,Kunihiro Shima,Naoji Kashima. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-06-09.

Fermented mattress substrate for pigsty and preparation method thereof

Номер патента: LU501718B1. Автор: Jianjun Lu. Владелец: Univ Zhejiang. Дата публикации: 2022-09-26.

Substrate for power module and method of producing substrate for power module

Номер патента: US20230282589A1. Автор: Takashi Masuzawa. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Generation and collection of multiple substrates for aerosol generation

Номер патента: EP4358749A1. Автор: Alec WRIGHT,Andrew ROGAN. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2024-05-01.

Composite substrate for a waveguide and method of manufacturing a composite substrate

Номер патента: WO2018202560A1. Автор: Senad Bulja,Rose Fasano Kopf,Pawel Rulikowski,Majid Norooziarab. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2018-11-08.

Method of producing lithium tantalate substrate for surface acoustic wave element

Номер патента: WO2004030047A1. Автор: Yoon-Seong Kim,Soo-Byong Chea,Jin-Ki Kang,Han-Gyun Kim. Владелец: ILJIN DIAMOND CO., LTD.. Дата публикации: 2004-04-08.

Substrate for mounting electronic element, electronic device, and electronic module

Номер патента: US20210219416A1. Автор: Noboru KITAZUMI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Woven signal-routing substrate for wearable electronic devices

Номер патента: US10041195B2. Автор: Zhijie Wang,Meng Kong Lye,You Ge. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2018-08-07.

Substrate for mounting a light-emitting element and array substrate, and light-emitting device

Номер патента: US11757249B2. Автор: Youji Furukubo. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate for mounting electronic element, electronic device, and electronic module

Номер патента: US11570882B2. Автор: Yukio Morita,Noboru KITAZUMI,Yousuke Moriyama. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-01-31.

Generation and Collection of Multiple Substrates for Aerosol Generation

Номер патента: US20240277025A1. Автор: Alec WRIGHT,Andrew Robert John ROGAN. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2024-08-22.

Liquid discharge head, cleaning method for liquid discharge head, liquid discharge apparatus, and substrate for liquid discharge head

Номер патента: US9004650B2. Автор: Yuzuru Ishida,Kenji Takahashi,Yoshinori Misumi,Ichiro Saito,Maki Kato,Toshiyasu Sakai,Takahiro Matsui,Norihiro Yoshinari. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-04-14.

Seed substrate for nitride crystal growth, production method for nitride crystal substrate, and peeled intermediate

Номер патента: US20240271320A1. Автор: Hajime Fujikura,Taichiro Konno,Masafumi Yokoyama. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

A boride-based substrate for growing semiconducting layers thereon and a semiconductor device using the same

Номер патента: EP1176231A3. Автор: Shigeki Otani,Jun Suda,Hiroyuki Kyocera Shiga Factory Kinoshita. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2006-06-21.

Polymer resin composition, method of preparing polymer film, polymer film, substrate for display device, and optical device using the same

Номер патента: US20240279510A1. Автор: Chan Hyo Park,Seung Jin Han. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Packaging glass substrate for semiconductor, a packaging substrate for semiconductor, and a semiconductor apparatus

Номер патента: US20210398891A1. Автор: Sungjin Kim,Youngho RHO,Jincheol Kim. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Flexible substrate for package

Номер патента: US20070080432A1. Автор: Kuang-Hua Liu,Min-O Huang. Владелец: ChipMOS Technologies Bermuda Ltd. Дата публикации: 2007-04-12.

Substrate for optical semiconductor

Номер патента: US20060269698A1. Автор: Takao Shirai,Miho Nakamura. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-30.

Digital printing on a wood-based substrate for exterior application

Номер патента: EP4013612A1. Автор: Jarrod Kevin Line,Sarrath Vega Gutierrez. Владелец: Louisiana Pacific Corp. Дата публикации: 2022-06-22.

Method of manufacturing array substrate for use in liquid crystal display device

Номер патента: US20020187574A1. Автор: Kyo-Ho Moon,Hu-Sung Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-12.

Method for manufacturing glass substrate for image display

Номер патента: US20050160768A1. Автор: Daisuke Adachi,Hiroyasu Tsuji,Keisuke Sumida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-28.

Method of improving a surface of a substrate for bonding

Номер патента: US20030056717A1. Автор: Binqiang Shi. Владелец: HRL LABORATORIES LLC. Дата публикации: 2003-03-27.

Mask blank storage method, mask blank storage body, and mask blank manufacturing method

Номер патента: JP4342872B2. Автор: 明典 栗川. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-10-14.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, reflective mask blank manufacturing method, exposure mask manufacturing method, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4786899B2. Автор: 今朝広 小池,伸和 田中,修 丸山,勝治 下嶋. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-05.

SURFACE TREATMENT METHOD FOR A MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING A MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING A MASK

Номер патента: US20120258388A1. Автор: . Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-10-11.

Method for manufacturing mask blank substrate, method for manufacturing mask blank, and method for manufacturing exposure mask

Номер патента: JP6668066B2. Автор: 貴徳 山田. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2020-03-18.

Method of measuring surface shape, method of manufacturing mask blank substrate, method of manufacturing mask blank, and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: JP6513377B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-05-15.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, exposure mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4761360B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and exposure mask manufacturing method

Номер патента: JP4683409B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-05-18.

Treatment liquid selection method, mask blank manufacturing method, and mask manufacturing method

Номер патента: JP5979662B2. Автор: 雅広 橋本,寿幸 鈴木,鈴木　寿幸,山田　剛之,剛之 山田,康範 横矢. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-24.

Treatment liquid selection method, mask blank manufacturing method, and mask manufacturing method

Номер патента: JP5979663B2. Автор: 雅広 橋本,寿幸 鈴木,鈴木　寿幸,山田　剛之,剛之 山田,康範 横矢. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-24.

Mask blank manufacturing method and mask manufacturing method

Номер патента: JP5058735B2. Автор: 雅広 橋本. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-10-24.

Mask blank manufacturing method and mask manufacturing method

Номер патента: JP5009590B2. Автор: 剛之 山田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-08-22.

Gradient functional coating on transparent substrate

Номер патента: RU2422556C1. Автор: Юрий Александрович Хохлов,Валерий Афанасьевич Богатов,Николай Михайлович Березин,Сергей Сергеевич Захаров,Павел Павлович Кисляков. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2011-06-27.

Method of measuring thickness and refractivity index of thin transparent substrate coats

Номер патента: RU2415378C2. Автор: Валентин Иванович Козинцев,Михаил Леонидович Белов,Виктор Александрович Городничев,Юрий Викторович Федотов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НИИ Радиоэлектроники и лазерной техники". Дата публикации: 2011-03-27.

Fabrication of amplitude diffraction optical elements and masks for production of phase structures

Номер патента: RU2556313C2. Автор: Николай Львович Казанский,Олег Юрьевич Моисеев,Алексей Васильевич Волков,Сергей Дмитриевич Полетаев. Владелец: Российская академия наук Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН). Дата публикации: 2015-07-10.

Method for masking of movable objects by cut-off flora, preserved and/or artificial inclusive, and device for its realization (variations of invention)

Номер патента: RU2284002C2. Автор: Николай Гавриилович Шахворостов,Яха Яхъ евна Хаджиева,Яха Яхъяевна Хаджиева,Игорь Евгеньевич Прокофьев,Максим Эдуардович Казанцев,Александр Глебович Булахов,ев Олег Вениаминович Черн,Олег Вениаминович Черняев,Юрий Иванович Здраволо. Владелец: ООО "Научно-технический центр "Версия". Дата публикации: 2006-09-20.

Method for mask lung ventilation in anaesthesia induction in children suffering from nasal and nasopharyngeal obstruction

Номер патента: RU2534415C1. Автор: Юрий Алексеевич Чурляев,Евгений Валерьевич Григорьев,Евгений Викторович Ивлев,Василий Васильевич Жданов,Роман Васильевич Жданов,Владислав Петрович Тихонюк,Елена Анатольевна Бойко,Елена Эдуардовна Рубан. Владелец: Государственное бюджетное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования "Новокузнецкий государственный институт усовершенствования врачей" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2014-11-27.

Device for masking electromagnetic channels of leakage of speech signals of sound amplification equipment

Номер патента: RU2282309C1. Автор: Владимир Кириллович Железняк,к Владимир Кириллович Железн. Владелец: Владимир Кириллович Железняк. Дата публикации: 2006-08-20.

Device for masking of optical-electronic instruments from laser direction finding facilities of enemy

Номер патента: RU2350992C2. Автор: Евгений Михайлович Устинов,Василий Александрович Пархоменко,Александр Николаевич Рыбаков,Игорь Геннадьевич Конуров,Лариса Аркадьевна Малохина,Александр Александрович Привезенцев,Иль Александрович Горин,Илья Александрович Горин. Владелец: Пензенский Артиллерийский Инженерный Институт. Дата публикации: 2009-03-27.

COMPOSITE GEAR BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120000307A1. Автор: Oolderink Rob,Nizzoli Ermanno,Vandenbruaene Hendrik. Владелец: QUADRANT EPP AG. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE FOR SUSPENSION, AND PRODUCTION PROCESS THEREOF

Номер патента: US20120000698A1. Автор: . Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Composition of substrate for growing vegetative nursery plants and grape seedlings

Номер патента: RU2506740C1. Автор: Владимир Викторович Чулков,Лариса Анатольевна Титова,Григорий Павлович Малых,Анди Султанович Магамадов,Дмитрий Васильевич Данилов. Владелец: ГОСУДАРСТВЕННОЕ НАУЧНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВСЕРОССИЙСКИЙ НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ВИНОГРАДАРСТВА И ВИНОДЕЛИЯ ИМЕНИ Я.И. ПОТАПЕНКО РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ СЕЛЬСКОХОЗЯЙСТВЕННЫХ НАУК ГНУ ВНИИВ и В. Дата публикации: 2014-02-20.

Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: SG194411A1. Автор: Tasaki Raita,Otsuka Haruhiko. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-29.

Improvements in or relating to Stapling devices for Box-blank and other Machines.

Номер патента: GB189908292A. Автор: Alfred Julius Boult. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-06-10.

Method for manufacturing substrate for thick-film high-temperature superconductor circuit

Номер патента: RU2262152C1. Автор: В.В. Иванов,А.Р. Буев,В.Н. Игумнов. Владелец: Марийский государственный университет. Дата публикации: 2005-10-10.

Rolling method at creating preset stressed state along cross section of blank and blank for performing the same

Номер патента: RU2311974C2. Автор: Павел Борисович Белявский,Игорь Николаевич Лебединский,Валерий Георгиевич Кнохин,Александр Владимирович Рамзаев,вский Павел Борисович Бел,Александр Петрович Огрызков. Владелец: Закрытое акционерное общество "Волгоградский металлургический завод "Красный Октябрь" ЗАО "ВМЗ "Красный Октябрь". Дата публикации: 2007-12-10.

Substrate for growing grifola frondosa mushrooms

Номер патента: RU2595737C1. Автор: Владимир Александрович Куничан,Валерий Павлович Севодин,Ксения Валерьевна Севодина,Денис Викторович Минаков. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2016-08-27.

Composite porous substrate for oxide-ceramic membranes and method of making it

Номер патента: RU2349373C1. Автор: Владимир Васильевич Зырянов,нов Владимир Васильевич Зыр. Владелец: Институт химии твердого тела и механохимии Сибирского отделения Российской академии наук (ИХТТМ СО РАН). Дата публикации: 2009-03-20.

Substrate for growing gallium arsenide epitaxial layers

Номер патента: RU2308784C1. Автор: Сабир Абенович Айтхожин. Владелец: ИНСТИТУТ РАДИОТЕХНИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК (ИРЭ РАН). Дата публикации: 2007-10-20.

Stamp substrate for self-setting round or rectangular seals or stamps

Номер патента: RU2243901C1. Автор: А.Н. Митьков. Владелец: ООО "Тродат XXI". Дата публикации: 2005-01-10.

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc

Номер патента: SG153716A1. Автор: Yosuke Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-07-29.

Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: PH12012000400A1. Автор: Haruhiko Otsuka,Raita Tasaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-23.

Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: PH12013000297A1. Автор: Haruhiko Otsuka,Raita Tasaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-11.

Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: PH12012000400B1. Автор: Haruhiko Otsuka,Raita Tasaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-23.

Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: SG191513A1. Автор: Tasaki Raita,Otsuka Haruhiko. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Substrate for rooting of softwood cuttings of difficult-to-root berry and ornamental bushes

Номер патента: RU2368127C2. Автор: Ольга Николаевна Аладина,Владимир Николаевич Архангельский,Светлана Владимировна Акимова,Сергей Александрович Аладин,Дмитрий Николаевич Никиточкин,Светлана Юрьевна Чернова. Владелец: Федеральное государственное общеобразовательное учреждение высшего профессионального образования Российский государственный аграрный университет - МСХА имени К.А. Тимирязева (ФГОУ ВПО РГАУ-МСХА им. К.А. Тимирязева). Дата публикации: 2009-09-27.

Method for producing and utilization of wood waste fuel blanks and apparatus for effectuating the same

Номер патента: RU2267257C2. Автор: Андрей Михайлович Способ,Андрей Михайлович Способ (RU). Владелец: Андрей Михайлович Способ. Дата публикации: 2006-01-10.

Method for progressive multi-row blanking and die set for performing the same

Номер патента: RU2304481C2. Автор: Михаил Григорьевич Зарубин,Александр Владимирович Чиннов. Владелец: Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов". Дата публикации: 2007-08-20.

Substrate for growing terfas of ganoderma lucidum

Номер патента: RU2453105C2. Автор: Александр Иванович Иванов,Галина Викторовна Ильина,Дмитрий Юрьевич Ильин,Лидия Васильевна Гарибова. Владелец: Стаценко Александр Петрович. Дата публикации: 2012-06-20.

Method for manufacture of aluminum-based alloy substrate for magnetic carrier

Номер патента: RU2042736C1. Автор: Н.А. Федотов,В.П. Бондаренко,Е.В. Калугин,Л.И. Колобнева. Владелец: Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад.А.А.Бочвара. Дата публикации: 1995-08-27.

Metalised ceramic substrate for electronic power packs and method of ceramics metalisation

Номер патента: RU2490237C2. Автор: Олег Викторович Медведко,Владимир Федорович Косарев,Юрий Кондратьевич Непочатов,Светлана Аликовна Кумачёва. Владелец: Холдинговая компания "Новосибирский Электровакуумный Завод-Союз" в форме открытого акционерного общества. Дата публикации: 2013-08-20.

Adsorption substrate for birds (versions)

Номер патента: RU2445770C2. Автор: Игорь Леонидович Пшеничко,Леонид Игоревич Пшеничко,Владимир Семенович Канталинский,Леонид Владимирович Канталинский,Юлия Ивановна Лебедева,Сергей Владимирович Поспелов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Алтын Нива". Дата публикации: 2012-03-27.

Key blank and key

Номер патента: AU201617173S. Автор: . Владелец: EVVA Sicherheitstechnologie GmbH. Дата публикации: 2017-01-16.

Process for producing a substrate for biogas production using trichoderma harzianum and kitchen waste

Номер патента: PH22019050538U1. Автор: David L Herrera,Myra L Tansengco,Maria Theresa C Artuz,Joven R Barcelo. Владелец: Department Of Science And Tech Industrial Tech Development Institute Dost Itdi. Дата публикации: 2020-09-25.

Glass substrate for magnetic recording medium

Номер патента: SG188769A1. Автор: YOSHIMUNE Daisuke,Otsuka Haruhiko. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-30.

Method for continuous making of bimetallic laminate blanks and installation for performing the same

Номер патента: RU2195392C1. Автор: А.В. Садовский,В.П. Востриков,К.И. Грамотнев,В.Н. Чернышев,П.В. Востриков,Е.В. Экк. Владелец: Закрытое акционерное общество "ТРАНСКОМ". Дата публикации: 2002-12-27.

Refrigeration method of casting mold while receiving of comtinuous-casted blanks and casting mold for receiving of comtinuous-casted blanks

Номер патента: RU2351427C1. Автор: Валерий Иванович Одиноков,Вячеслав Викторович Стулов. Владелец: Институт машиноведения и металлургии ДВО РАН. Дата публикации: 2009-04-10.

Substrate for growing mushrooms lentinula edodes

Номер патента: RU2436283C1. Автор: Раиса Александровна Карначук,Любовь Борисовна Глухова,Людмила Олеговна Соколянская. Владелец: Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет". Дата публикации: 2011-12-20.

Substrate for growing epitaxial layers of gallium arsenide

Номер патента: RU2489533C1. Автор: Юрий Шарапутдинович Темиров,Сабир Абенович Айтхожин,Камил Сайпуевич Щамхалов. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН. Дата публикации: 2013-08-10.

Substrate for planting seedlings of fruit crops

Номер патента: RU2497867C1. Автор: Сарра Абрамовна Бекузарова,Джони Гаврилович Качмазов,Исак Генрихович Джиоев,Таймураз Исакович Кокоев,Алан Заурович Кабулов,Циала Георгиевна Джиоева,Залина Сулхановна Джиоева. Владелец: Юго-Осетинский государственный университет им. А.А. Тибилова. Дата публикации: 2013-11-10.

Method of deep drawing parts from thin-sheet blanks and press to this end (versions)

Номер патента: RU2408447C2. Автор: Иван Николаевич Поздов,Константин Иванович Поздов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом". Дата публикации: 2011-01-10.

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc

Номер патента: SG153715A1. Автор: Yoshinori Marumo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-07-29.

Key blank and key

Номер патента: AU201615631S. Автор: . Владелец: EVVA Sicherheitstechnologie GmbH. Дата публикации: 2016-11-08.

6-(D-LEUCYL-L-PROPYL-L-ARGINYL) AMINONAPHTHALENE-1- PENTAMETHYLENE SULFAMIDE DERIVATIVES AS SUBSTRATES FOR FLUORESCENT DETERMINATION OF IXa FACTOR

Номер патента: RU2013425C1. Автор: А.И. Палайма,С.Ю. Бутенас,К.-А.В. Климавичюс,Р.А. Пошкене. Владелец: Институт биохимии Литовской АН. Дата публикации: 1994-05-30.

Manufacturing method and manufacturing apparatus of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc

Номер патента: SG148982A1. Автор: Osamu Koshimizu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-01-29.

Polishing composition and method for producing substrate for magnetic disk by using the same

Номер патента: MY167900A. Автор: KAMIYA Tomohide,Isomura Kouji. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2018-09-26.

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc and manufacturing apparatus thereof, glass substrate for magnetic disc, manufacturing method of magnetic disc, and magnetic disc

Номер патента: SG155086A1. Автор: Masao Takano,Masaaki Ueda. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Glass substrate for magnetic recording medium

Номер патента: MY156723A. Автор: Haruhiko Otsuka,Daisuke Yoshimune. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-15.

Manufacturing method and manufacturing apparatus of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc

Номер патента: SG148981A1. Автор: Osamu Koshimizu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-01-29.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.