Catoptric reduction projection optical system and exposure apparatus and method using same
Номер патента: US20010002155A1
Опубликовано: 31-05-2001
Автор(ы): Tomowaki Takahashi, Yutaka Suenaga
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-05-2001
Автор(ы): Tomowaki Takahashi, Yutaka Suenaga
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Номер патента: US20150029477A1. Автор: Patra Michael,Schwab Markus,Eisenmenger Johannes. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.