EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
Номер патента: US20140055765A1
Опубликовано: 27-02-2014
Автор(ы): Miyake Akira, NAKAYAMA Takahiro
Принадлежит: CANON KABUSHIKI KAISHA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-02-2014
Автор(ы): Miyake Akira, NAKAYAMA Takahiro
Принадлежит: CANON KABUSHIKI KAISHA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.