Plasma etching apparatus and plasma cleaning method
Номер патента: US20100140221A1
Опубликовано: 10-06-2010
Автор(ы): Takamichi Kikuchi
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-06-2010
Автор(ы): Takamichi Kikuchi
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma etching apparatus and plasma cleaning method
Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.