Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates

Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20240258084A1. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-01.

Method and apparatus for plasma etching dielectric substrates

Номер патента: EP4391010A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDEL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US11984304B2. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Local etching apparatus

Номер патента: US6302995B1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: SpeedFam-IPEC Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-16.

Local etching apparatus and local etching method

Номер патента: US20010036741A1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US8192577B2. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Method of controlling plasma etch process

Номер патента: US20030153102A1. Автор: Hsien-Kuang Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-08-14.

Plasma etching process

Номер патента: US5405491A. Автор: Iraj E. Shahvandi,Carol Gelatos,Leroy Grant, Jr.. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20210118690A1. Автор: Shuichi Kuboi,Seiya YOSHINAGA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Photomask plasma etching apparatus, etching method, and photomask forming method

Номер патента: US20060292727A1. Автор: Takeharu Motokawa,Junichi Tonotani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Plasma etching device

Номер патента: US20040134612A1. Автор: Takeomi Numata. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-15.

Portable Die Cleaning Apparatus and Method Thereof

Номер патента: US20080308121A1. Автор: JUNG Keun Oh,Do Hyun Kim,Keun Ho Lee,Hae Ryong Lee,Duk Jae Kim. Владелец: PSM Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Advanced dry cleaning apparatus and method for drive device

Номер патента: US20240194460A1. Автор: Ji Yeon Kim,Jong Hwan Kim,Dae Seok Park,Jeong Min Han,In Soo JEON. Владелец: Lc Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma cleaning device for substrate

Номер патента: US5972163A. Автор: Hiroshi Haji. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-26.

Plasma etching method and apparatus, and method of manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, AND PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20170169997A1. Автор: MORIGUCHI Naoki. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

Plasma etching apparatus and method of plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: EP3958288A1. Автор: Maxime Varvara,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Plasma etching method

Номер патента: US09779962B2. Автор: Shinichi Kozuka,Takao FUNAKUBO,Yuta Seya,Aritoshi Mitani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Reduction of metal oxide in dual frequency plasma etch chamber

Номер патента: EP1078389A1. Автор: ZHENG Xu,Vijay Parkhe,Gilbert Hausmann,Barney M. Cohen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-02-28.

Apparatus and methods for actively controlling rf peak-to-peak voltage in an inductively coupled plasma etching system

Номер патента: WO2001075930A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-05-23.

Method of plasma etching

Номер патента: US20020011464A1. Автор: Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Mamoru Yakushiji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Construction of a chamber casing in a plasma etching system

Номер патента: US5720846A. Автор: Whikun Yi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-24.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Plasma etching method for semiconductor device and etching apparatus of the same

Номер патента: US20020137340A1. Автор: Kye-Hyun Baek,Kil-Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20100133234A1. Автор: Hiroshi Suzuki,Tetsuo Yoshida,Ryoichi Yoshida,Michishige Saito,Akira Obi,Toshikatsu Wakaki,Hayato Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-03.

Plasma Etching with Metal Sputtering

Номер патента: US20240249927A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120244709A1. Автор: Yoshiki Igarashi,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

System, method and apparatus for ion milling in a plasma etch chamber

Номер патента: US09899227B2. Автор: Joydeep Guha,Aaron Eppler,Jun Hee Han,Butsurin JINNAI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20230170188A1. Автор: Huma Ashraf,Janet Hopkins,Kevin RIDDELL,Alex Huw Wood. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma etching method

Номер патента: US7037843B2. Автор: Isamu Namose. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-05-02.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120309203A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US8252694B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US5895551A. Автор: Chang Heon Kwon. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-20.

Plasma etch apparatus with heated scavenging surfaces

Номер патента: US6083412A. Автор: Michael Rice,Jeffrey Marks,David W Groechel,Nicolas J Bright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050061447A1. Автор: Yong-Dae Kim,Do-hyeong Kim,Doo-Won Lee,Soon-Ho Yon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-24.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: EP4322200A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: US20240055238A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20210193908A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Plasma etching electrode

Номер патента: US5993597A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-11-30.

Baffle plate and plasma etching device having same

Номер патента: WO2003098669A1. Автор: Moon Hwan Kim,Jeung Woo Lee,Young Jae Moon. Владелец: Tokyo Electron Korea Ltd.. Дата публикации: 2003-11-27.

Plasma etching method using perfluoroisopropyl vinyl ether

Номер патента: US20230162972A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-05-25.

Plasma etching method using pentafluoropropanol

Номер патента: US20230178341A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20070199657A1. Автор: Hiroshi Akiyama,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Plasma etching unit

Номер патента: US20100024983A1. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Koichiro Inazawa,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-04.

Magnetron-enhanced plasma etching process

Номер патента: US4668338A. Автор: Sasson Somekh,David Cheng,Dan Maydan,Mei Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US4595452A. Автор: Richard F. Landau,Henry A. Majewski. Владелец: Oerlikon Buhrle USA Inc. Дата публикации: 1986-06-17.

Plasma etching chamber

Номер патента: WO2009061104A1. Автор: Hee-Se Lee,Seong-Hyun Chung,Se Mun Park. Владелец: Sosul Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-05-14.

Etching apparatus

Номер патента: US20210111056A1. Автор: Jewoo HAN,Jaehak LEE,Jongkeun LEE,Yunhwan Kim,Kuihyun YOON,Kyohyeok KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-15.

Plasma etching apparatus and method for operating the same

Номер патента: US12046451B2. Автор: Ju Ho Lee,Seung Bo SHIM,Doug Yong SUNG,Nam Kyun Kim,Seung Han BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09887109B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09728418B2. Автор: Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Masaru ISAGO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20190006186A1. Автор: Hiroki Sato,Hisashi Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: EP3843126A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-30.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20210193471A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US11664232B2. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-05-30.

Plasma etching method

Номер патента: US20180240690A1. Автор: Kenta Chito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: US20240030007A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20030203640A1. Автор: Kazue Takahashi,Saburo Kanai,Toshio Masuda,Tetsunori Kaji,Mitsuru Suehiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-30.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: EP4310886A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Etching apparatus and methods of cleaning thereof

Номер патента: US12080582B2. Автор: Wei-Jen Lo,Lun-Kuang Tan,Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Huai-Tei Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Component for film formation apparatus or etching apparatus

Номер патента: US20230223241A1. Автор: Koji Kawahara,Tomonori Ogawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Cleaning method

Номер патента: US09870921B2. Автор: Christopher S. Olsen,Peter Stone,Manoj Vellaikal,Teng-Fang Kuo,Ping Han Hsieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143028A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma control method and plasma control apparatus

Номер патента: US20060110933A1. Автор: Makoto Shimosawa. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2006-05-25.

Etching apparatus and methods

Номер патента: US09640370B2. Автор: Oliver James Ansell. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Remote plasma cleaning method and apparatus for applying said method

Номер патента: EP2311065A1. Автор: Javier Martin,Christoph Ellert,Felix-George Leu,Gerold BÜCHEL. Владелец: Oerlikon Solar AG. Дата публикации: 2011-04-20.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Carrying device, wet etching apparatus and usage method thereof

Номер патента: US20170202091A1. Автор: Zhiyuan Lin,Yinhu HUANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-13.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20240242980A1. Автор: Yonghyun KIM,Kyu-Bum Kim,Jungwoo CHOI,Yeongmin Kim,Seung Ho MYOUNG,Ju Yeong YUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Wafer cleaning apparatus and wafer chuck thereof, and wafer cleaning method

Номер патента: EP4383322A1. Автор: Hongyu Zhao,Ruiting Wang,Aibing Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Wet etch apparatus

Номер патента: US20210391189A1. Автор: Han-Wen LIAO,Hong-Ting LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma etching method

Номер патента: US09960014B2. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: WO2006041634A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis Usa Inc.. Дата публикации: 2006-04-20.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: EP1797578A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2007-06-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: WO2001075931A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-03-21.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: EP1269513A2. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Plasma etching method

Номер патента: US20170084430A1. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US09934941B2. Автор: Yasuyuki Sonoda. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-12.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050211380A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20020014308A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-07.

Improved endpoint detection system and method for plasma etching

Номер патента: WO1991005367A1. Автор: Calvin Gabriel,Jim Nulty. Владелец: Vlsi Technology, Inc.. Дата публикации: 1991-04-18.

Quartz glass member for plasma etching

Номер патента: US20110232847A1. Автор: Tatsuhiro Sato,Kyoichi Inaki. Владелец: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Radio frequency electron cyclotron resonance plasma etching apparatus

Номер патента: US5401351A. Автор: Seiji Samukawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-03-28.

System and method for plasma etching endpoint detection

Номер патента: US5405488A. Автор: Samuel V. Dunton,Calvin T. Gabriel,Dimitrios Dimitrelis. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: EP3465727A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-04-10.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: US20190304757A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-10-03.

Electrode for plasma etching

Номер патента: US6007672A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US20070151950A1. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US7807018B2. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-05.

Remote-plasma clean (rpc) directional-flow device

Номер патента: WO2021237240A1. Автор: James Forest Lee,Michael J. Janicki. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-11-25.

Remote-plasma clean (rpc) directional-flow device

Номер патента: US20220107619A1. Автор: James Forest Lee,Michael J. Janicki. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-04-07.

Remote-plasma clean (rpc) directional-flow device

Номер патента: US20230221697A1. Автор: James Forest Lee,Michael John Janicki. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Remote-plasma clean (RPC) directional-flow device

Номер патента: US12013682B2. Автор: James Forest Lee,Michael John Janicki. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Single-wafer etching method for wafer and etching apparatus thereof

Номер патента: MY147183A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-11-14.

Downstream apparatus and technique

Номер патента: US4554047A. Автор: Daniel L. Flamm,Joel M. Cook,Edward H. Mayer,Bernard C. Seiler. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1985-11-19.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US09653357B2. Автор: Junichi Arami,Kenji Okazaki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20230245897A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma etching of ni-containing materials

Номер патента: WO2003065419A3. Автор: Lee Chen. Владелец: Lee Chen. Дата публикации: 2003-11-13.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US20210119128A1. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Apparatus and method

Номер патента: US11710670B2. Автор: Oliver Ansell,Harry Gordon-Moys. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US11189797B2. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US20190096684A1. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-03-28.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US10510550B2. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-12-17.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20240355635A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, control program and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080190892A1. Автор: Sung Tae Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-08-14.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20080179283A1. Автор: Hiroyuki SHIBAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Plasma etching apparatus and method of etching wafer

Номер патента: WO2009008659A3. Автор: Jung Hee Lee,Kwan Goo Rha,Chul Hee Jang,Young Ki Han,Gil Hun Lee. Владелец: Gil Hun Lee. Дата публикации: 2009-03-12.

Vacuum loadlock ultraviolet bake for plasma etch

Номер патента: US20020046809A1. Автор: Mark Tesauro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Plasma etching method and plasma etching system for carrying out the same

Номер патента: US6159388A. Автор: Shinya Iida,Yasuhiro Horiike,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Method of plasma etching

Номер патента: US20230411164A1. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma etching method, plasma etching method, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: WO2015129719A1. Автор: 尚樹 森口. Владелец: 株式会社 アルバック. Дата публикации: 2015-09-03.

Semiconductor processing flow field control apparatus and method

Номер патента: US20210225673A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Single Wafer Etching Apparatus and Single Wafer Etching Method

Номер патента: US20070175863A1. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Substrate cleaning device and substrate cleaning method

Номер патента: US20240316600A1. Автор: Kenji Kodera,Masayuki Nakanishi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Single wafer etching apparatus

Номер патента: MY148161A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-03-15.

Suction-extraction apparatus for treatment fluid and etching apparatus containing the same

Номер патента: MY188634A. Автор: Jürgen Haungs,Stefan Rapp. Владелец: Gebr Schmid GmbH. Дата публикации: 2021-12-22.

Etching method and bevel etching apparatus

Номер патента: US09623516B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Dry cleaning method

Номер патента: US20020092541A1. Автор: Kenetsu Yokogawa,Shinichi Tachi,Masaru Izawa,Yoshinori Momonoi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-07-18.

Wafer etching apparatus and method for controlling etch bath of wafer

Номер патента: US20150380323A1. Автор: Tai-I Yang,Tien-Lu Lin,Chih-shen Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Wafer cleaning method

Номер патента: US12087602B2. Автор: Kuo-Shu Tseng,Yao-Yuan SHANG,You-Feng CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Wet etching apparatus

Номер патента: US20200075359A1. Автор: Jin Woo Lee,Seung Min Shin,Yong Jun Choi,Seok Hoon Kim,Ji Hoon Cha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Etching method of glass substrate and wet etching apparatus thereof

Номер патента: US09676661B2. Автор: JIA Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200312622A1. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma etching method

Номер патента: US09978566B2. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Tatsuro Ohshita,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Plasma etching method

Номер патента: US09793136B2. Автор: Kosei Ueda,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: WO2024163214A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: US20240266220A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150303069A1. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

High-purity fluorinated hydrocarbon, use as a plasma etching gas, and plasma etching method

Номер патента: US09984896B2. Автор: Tatsuya Sugimoto. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Semiconductor device manufacturing method and plasma etching apparatus

Номер патента: US8772172B2. Автор: Eiichi Nishimura,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-07-08.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20240213030A1. Автор: Binte Kazemi Samira. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US10529582B2. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: WO2023239630A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: US20230395385A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma etching method

Номер патента: US8741166B2. Автор: Tomoyuki Watanabe,Tetsuo Ono,Mamoru Yakushiji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Plasma etching method

Номер патента: EP3989682A1. Автор: Daisuke Sato,Yuki Oka,Kaoru Kaibuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-04-27.

Plasma etching method

Номер патента: US20240006186A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim,Sang-Hyun YOU. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of high density plasma etching for semiconductor manufacture

Номер патента: US5783100A. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Micron Display Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Focus ring for improvement of semiconductor plasma etching process

Номер патента: US20220415621A1. Автор: Seung Ho Yang,Byeong Su An,Sung Dong Cho,Seong Wan BAE. Владелец: One Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Method of plasma etching

Номер патента: US9040427B2. Автор: Huma Ashraf,Anthony Barker. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Plasma etching of additive-containing aln

Номер патента: EP4199687A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Method for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US5955383A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Apparatus for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US6030489A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-02-29.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Cyclical plasma etching

Номер патента: US20170069469A1. Автор: Michael J. Cooke,Andrew L. Goodyear. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2017-03-09.

Plasma etching method

Номер патента: US20190027368A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Plasma etching of porous substrates

Номер патента: US9595422B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma Etching

Номер патента: US20230197457A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190080923A1. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US11456183B2. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-27.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20200043744A1. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Chamber cleaning device and chamber cleaning method

Номер патента: US12065734B2. Автор: Jae Ho Kim,Dong Hwan Lee,Jae Wan Lee,Hyun Il Kim,Ho Jin YUN,Byung Gwan LIM. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170267A1. Автор: Yoshiki Nakano,Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and guide portion

Номер патента: US20160298235A1. Автор: Hideki Horita,Naonori Akae,Masato Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-13.

Manufacturing method of semiconductor device and dry etching apparatus for the same

Номер патента: US20140273482A1. Автор: Masaki Matsui,Yoshinori Tsuchiya,Shinichi Hoshi. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Cleaning method and film deposition method

Номер патента: US20200141001A1. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Makoto ISHIGO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Etching apparatus

Номер патента: US09691643B2. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Film formation apparatus and film formation method and cleaning method

Номер патента: SG114589A1. Автор: Yamazaki Shunpei,MURAKAMI Masakazu. Владелец: Semiconductor Energy Lab. Дата публикации: 2005-09-28.

Thin film forming apparatus and thin film forming apparatus cleaning method

Номер патента: JP4272486B2. Автор: 一秀 長谷部,充弘 岡田,弘道 小番. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-03.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: EP3712927A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: US20200365379A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma generation and pulsed plasma etching

Номер патента: US09793127B2. Автор: yu chao Lin,Chao-Cheng Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Plasma Etching Method

Номер патента: US20120052688A1. Автор: Shoichi Murakami,Akimitsu Oishi,Masayasu Hatashita. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Plasma etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220068652A1. Автор: Yoshimasa Inamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma etching method

Номер патента: US09966273B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma etching method

Номер патента: US20170372915A1. Автор: Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Formation of removable shroud by anisotropic plasma etch

Номер патента: US20050287762A1. Автор: John Lee,Barbara Haselden. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Plasma etching gas

Номер патента: US20030017708A1. Автор: Ming-Chung Liang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Plasma etching method

Номер патента: US09680090B2. Автор: Kentaro Yamada,Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Daisuke Fujita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of plasma etching thin films of difficult to dry etch materials

Номер патента: WO2001020655A1. Автор: Martin Gutsche,Satish D. Athavale. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-03-22.

Method for selectivity enhancement during dry plasma etching

Номер патента: US09666447B2. Автор: Vinayak Rastogi,Alok Ranjan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Plasma etching techniques

Номер патента: WO2022173633A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma etching techniques

Номер патента: US20220254645A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Plasma etching method

Номер патента: US20190096689A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Method for manufacturing electronic device by forming a hole in a multilayer insulator film by plasma etching

Номер патента: US09530664B2. Автор: Shingo Kitamura,Aiko Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma etching methods

Номер патента: US6010967A. Автор: Kevin G. Donohoe,Richard L. Stocks. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: EP1729978A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-12-13.

Method for plasma etching of Ir-Ta-O electrode and for post-etch cleaning

Номер патента: US20020187645A1. Автор: HONG Ying,Sheng Hsu,Fengyan Zhang,Jer-shen Maa. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2002-12-12.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476B1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: US20050178740A1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Space and Mission Systems Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION. Дата публикации: 2005-09-01.

Selective silicon nitride plasma etching

Номер патента: US5188704A. Автор: Bang C. Nguyen,Kenneth L. Devries,Wayne T. Babie,Chau-Hwa J. Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-02-23.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20190013209A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-10.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US09934984B2. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Damage free gate dielectric process during gate electrode plasma etching

Номер патента: US5843835A. Автор: Ming-Hsi Liu. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-12-01.

Device fabrication by plasma etching with lessened loading effect

Номер патента: CA1124207A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: US20240162042A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma etching method

Номер патента: US5928963A. Автор: Akira Koshiishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-07-27.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1124208A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etching of silicon carbide

Номер патента: WO2002097852A3. Автор: Si Yi Li. Владелец: Si Yi Li. Дата публикации: 2003-04-03.

Plasma etch process for single-crystal silicon with improved selectivity to silicon dioxide

Номер патента: WO1985002818A1. Автор: Mammen Thomas,Atiye Bayman. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1985-07-04.

Method for etching oxide film in plasma etching system

Номер патента: US6103137A. Автор: Jae-Hyun Park. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Two step plasma etching

Номер патента: CA1191479A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-08-06.

Process for plasma etching of vias

Номер патента: US5514247A. Автор: Robert Wu,Hongching Shan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Method of reducing dielectric damage from plasma etch charging

Номер патента: US5843827A. Автор: Richard William Gregor,Chung Wai Leung. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1121305A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Plasma etching method

Номер патента: US20100264116A1. Автор: Tatsuya Sugimoto,Masahiro Nakamura,Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Plasma etching techniques

Номер патента: US11538690B2. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Method and system for reducing polymer build up during plasma etch of an intermetal dielectric

Номер патента: US20020158247A1. Автор: Mohammad Massoodi,Mehrdad Mahanpour,Jose Hulog. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Improvements relating to plasma etching

Номер патента: EP1188180A1. Автор: Srinivasan Anand,Carl-Fredrik Carlstrom,Gunnar Landgren. Владелец: Surface Technology Systems Ltd. Дата публикации: 2002-03-20.

Plasma etching method

Номер патента: US20190228983A1. Автор: Takaaki Sakurai,Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Two step plasma etching

Номер патента: US4457820A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-03.

Hard mask for copper plasma etch

Номер патента: US20010035582A1. Автор: Peter D. Nunan,Mark Richard Tesauro. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2001-11-01.

Process for developing fine openings in a flexible electronic component with a plasma-etching technique

Номер патента: US20240071824A1. Автор: Gurinder S. Saini,David J. Crary. Владелец: Tech Etch Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Device fabrication by plasma etching of aluminum rich surfaces

Номер патента: CA1121306A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4226665A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-10-07.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20180122649A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Anisotropic plasma etching of trenches in silicon by control of substrate temperature

Номер патента: GB2341348A. Автор: Franz Laermer,Andrea Schilp,Volker Becker. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2000-03-15.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4208241A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-06-17.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: WO2017044154A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2017-03-16.

Anisotropic polysilicon plasma etch using fluorine gases

Номер патента: US5453156A. Автор: Ming-Shry Cher,Chung-Hsing Shan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1995-09-26.

Process for the plasma etching of materials not containing silicon

Номер патента: US7071110B2. Автор: Josef Mathuni,Günther Ruhl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-04.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US8008211B2. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-30.

Enhanced plasma etching

Номер патента: US4985112A. Автор: Walter E. Mlynko,Frank D. Egitto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-01-15.

Plasma etching of dielectric layer with etch profile control

Номер патента: US20030045114A1. Автор: Lumin Li,Tuqiang Ni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4256534A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1981-03-17.

Method of manufacturing a ferroelectric device using a plasma etching process

Номер патента: US5443688A. Автор: Steven R. Collins,Abron S. Toure,Bruce W. LeBlanc. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1995-08-22.

Etching apparatus and method for fabricating alternating phase shift mask using the same

Номер патента: US20110159415A1. Автор: Sang Jin Jo. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-06-30.

Lithographic apparatus and surface cleaning method

Номер патента: US09645508B2. Автор: Takeshi Kaneko,Kornelis Tijmen Hoekerd. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-09.

Lithographic apparatus and surface cleaning method

Номер патента: US09927716B2. Автор: Takeshi Kaneko,Kornelis Tijmen Hoekerd. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-27.

Passivation layer formation by plasma clean process to reduce native oxide growth

Номер патента: WO2009085958A2. Автор: Mei Chang,Chien-Teh Kao,Haichun Yang,Xin Liang Lu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-07-09.

Passivation layer formation by plasma clean process to reduce native oxide growth

Номер патента: WO2009085958A3. Автор: Mei Chang,Chien-Teh Kao,Haichun Yang,Xin Liang Lu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-09-03.

Method of monitoring output intensity of laser beam in bevel etching apparatus

Номер патента: US09905485B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Sealing surfaces of components used in plasma etching tools using atomic layer deposition

Номер патента: US20230215703A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Robin Koshy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20210115555A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2021-04-22.

Irregular-surface forming method using plasma-etching process, and electrode member

Номер патента: US20130008697A1. Автор: Takeshi Kondo,Satoshi Naganawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20200080197A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-03-12.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: EP3423610A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2019-01-09.

Cleaning method

Номер патента: SG11201906677VA. Автор: Martin ZAHRADKA,Miroslav STRASIL. Владелец: Edwards S R O. Дата публикации: 2019-08-27.

Plasma etching using improved electrode

Номер патента: US4297162A. Автор: Randall S. Mundt,Timothy A. Wooldridge,Thomas O. Blasingame. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1981-10-27.

Cleaning method

Номер патента: EP3580774A1. Автор: Martin ZAHRADKA,Miroslav STRASIL. Владелец: Edwards sro. Дата публикации: 2019-12-18.

Cleaning method

Номер патента: WO2018146312A1. Автор: Martin ZAHRADKA. Владелец: Edwards, S.R.O.. Дата публикации: 2018-08-16.

Plasma cleaning for mass spectrometers

Номер патента: US09589775B2. Автор: Gershon Perelman,Mehrnoosh Vahidpour,Guthrie Partridge,Mark Denning. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma generating device and plasma cleaning device

Номер патента: US20200139412A1. Автор: Yongqing Wang. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Non-thermal plasma cleaning device and cleaning method

Номер патента: WO2024017676A1. Автор: Thomas Parias,Marie-Paule Gelle,Florian Le Bras. Владелец: AURORA. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US09869941B2. Автор: Yasushi Takiguchi,Ryoichi Uemura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US09570326B2. Автор: Yasushi Takiguchi,Ryoichi Uemura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

A method of determining the end point of a plasma cleaning operation

Номер патента: WO2001077406A2. Автор: Rao Venkateswara Annapragada. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-10-18.

A method of determining the end point of a plasma cleaning operation

Номер патента: EP1274877A2. Автор: Rao Venkateswara Annapragada. Владелец: Philips Semiconductors Inc. Дата публикации: 2003-01-15.

A method of determining the end point of a plasma cleaning operation

Номер патента: WO2001077406A3. Автор: Rao Venkateswara Annapragada. Владелец: Philips Semiconductors Inc. Дата публикации: 2002-01-24.

Plasma cleaning of a CVD or etch reactor using helium for plasma stabilization

Номер патента: US5454903A. Автор: Fred C. Redeker,Charles Dornfest,John Y. Leong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1995-10-03.

Systems and methods for remote plasma clean

Номер патента: WO2002004691A9. Автор: Steven C Selbrede,Neil M Mackie,Martin L Zucker. Владелец: Mattson Tech Inc. Дата публикации: 2003-10-23.

Silicon controlled rectifier soaking control method and apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20240255923A1. Автор: Qingfeng ZHUO,Shulu ZHENG. Владелец: Vertiv Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Display apparatus and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240334802A1. Автор: Joonsam KIM,Dongbin Um,Jinsic MIN,Euncheol SON,Kyeongyeol HEO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Solid polymer electrolyte composite membrane comprising plasma etched porous support

Номер патента: WO2006036957A2. Автор: HAN Liu,Anthony B. LaConti. Владелец: GINER ELECTROCHEMICAL SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2006-04-06.

Apparatus and method for automatic recharging of self-moving cleaner

Номер патента: RU2260369C2. Автор: Бьюнг-Жу ДАН. Владелец: Эл Джи Электроникс Инк.. Дата публикации: 2005-09-20.

RTK base station apparatus and signal interaction system and method

Номер патента: AU2019386760A1. Автор: Jie Liang,Tianyong LIANG. Владелец: Guangzhou Xaircraft Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-03.

Card socket apparatus and electronic device

Номер патента: US20230283028A1. Автор: Zhen Liu,Shaoru FU. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Electrochemical apparatus and electric device

Номер патента: EP4425686A1. Автор: WEN Chen,Daolin Deng,Shiwei SU,Xingfu YANG. Владелец: Ningde Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Electrochemical apparatus and electronic device

Номер патента: EP4207437A1. Автор: Hui Dong,Tengteng CHEN,Daozheng Zhu. Владелец: Ningde Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2023-07-05.

Battery, electrical apparatus, and method and device for manufacturing battery

Номер патента: EP4425676A1. Автор: PENG Wang,Feng Qin,Runyong HE. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Apparatus and method for folding sealing portion of pouch-type battery cell

Номер патента: EP4446095A1. Автор: Song Yi Park. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Battery, electrical apparatus, and method and device for manufacturing battery

Номер патента: EP4451456A1. Автор: PENG Wang,Feng Qin,Runyong HE. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Apparatus and methods for monitoring objects in a surgical field

Номер патента: US09974625B2. Автор: Steven J. Fleck,David Szakelyhidi,Gautam Gandhi. Владелец: Stryker Combo LLC. Дата публикации: 2018-05-22.

Apparatus and methods for monitoring objects in a surgical field

Номер патента: US09672397B2. Автор: Steven J. Fleck,David Szakelyhidi,Gautam Gandhi. Владелец: Stryker Combo LLC. Дата публикации: 2017-06-06.

Analysis apparatus and analysis method

Номер патента: US09638729B2. Автор: Makoto Yonezawa,Yoshihiro Nishimura,Takumi Hirakawa,Seiji Morishita,Hiroyuki Maekawa,Hisahiro YAMAOKA. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma etching method

Номер патента: US8293127B1. Автор: Joseph F. Rypl. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US20170273187A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: WO2017160459A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US09820386B2. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma Etched Catalytic Laminate with Traces and Vias

Номер патента: US20190014666A1. Автор: Konstantine Karavakis,Kenneth S. Bahl. Владелец: Sierra Circuits Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Non-thermal plasma cleaning device and cleaning method

Номер патента: EP4309680A1. Автор: Thomas Parias,Marie-Paule Gelle,Florian LEBRAS. Владелец: AURORA. Дата публикации: 2024-01-24.

Cleaning apparatus and cleaning method

Номер патента: US20200099826A1. Автор: Yohei Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Multichannel audio signal encoding apparatus and method

Номер патента: RU2450369C2. Автор: Джонатан Аластэр ГИББЗ. Владелец: Моторола Мобилити, Инк.,. Дата публикации: 2012-05-10.

Image processing apparatus and method

Номер патента: RU2506713C2. Автор: Дзунити ТАНАКА,Одзи НАКАГАМИ,Ёити ЯГАСАКИ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2014-02-10.

Method, apparatus and system for allocating downlink power

Номер патента: RU2486707C1. Автор: Цян ЛИ,Дэнкунь СЯО. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2013-06-27.

Method, apparatus and system of paging

Номер патента: RU2692040C1. Автор: Вэйшэн ЦЗИНЬ,Юян ЮЙ,Хуань ЛИ. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-06-19.

Method, apparatus and system for quality of service control based on charging system

Номер патента: RU2518948C1. Автор: Цзе ТАН. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-06-10.

Method, apparatus and device for image segmentation

Номер патента: RU2577188C1. Автор: Чжицзюнь ЧЭНЬ,Линь ВАН,Сяочжоу СЮЙ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2016-03-10.

Fingerprint identification method and apparatus, and mobile terminal

Номер патента: RU2647638C2. Автор: Кунь ЯН,Чжуншэн ЦЗЯН,Дань ЛЮ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-03-16.

Method, apparatus and system for diversity transmission and reception

Номер патента: RU2536165C2. Автор: Гуйсюэ ЧЖАО. Владелец: Хаувэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-12-20.

Video encoding method and apparatus, and video decoding method and apparatus

Номер патента: EP4391546A1. Автор: Jinsong Wen,Weiwei Xu,Jiantong Zhou,Quanhe YU,Yutong HU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Resource deployment and application data routing methods and apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4395239A1. Автор: Bin Tan,Guangping Huang. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Full-azimuth irradiation tracking method, detection apparatus and solar tracker

Номер патента: AU2021105669A4. Автор: Shitao Wang,Caixia Li. Владелец: Arctech Solar Holding Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Uplink and downlink transmission conflict resolution method and apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4106261A1. Автор: QUN ZHAO. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Voice recording apparatus and method for recording voice by using the apparatus

Номер патента: WO2001057645A1. Автор: Suk-Jin Hong,Yoon-Deuk Seo,Han-Kyo Kim,Seung-Jeong Park. Владелец: Havin Co., Ltd.. Дата публикации: 2001-08-09.

White balance adjustment apparatus and method for a digital image device

Номер патента: US20050041115A1. Автор: Hyung-ok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-02-24.

Information recording apparatus and method, and information reproduction apparatus and method

Номер патента: MY142355A. Автор: Motoki Kato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-11-30.

Apparatus and method to measure ac power

Номер патента: US20180143228A1. Автор: Joon Hyung LIM. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Patient support apparatus and medical device networks

Номер патента: AU2021411478A9. Автор: Krishna Sandeep Bhimavarapu,Alexander Josef Bodurka. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Cooperative channel management method and apparatus, and base station

Номер патента: EP4013102A1. Автор: Wei Si,Ang Fu,Jinglan Li. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-06-15.

Casing for electrical apparatus and power control apparatus

Номер патента: US20220224240A1. Автор: takafumi Takagi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Qos control method and apparatus, and readable storage medium

Номер патента: AU2020430353A1. Автор: Jianhua Liu. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2022-07-28.

Signal transmission method and apparatus, and storage medium

Номер патента: US20230308234A1. Автор: Qiubin Gao,Qiuping Huang. Владелец: Datang Mobile Communications Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Heating apparatus and refrigerator

Номер патента: AU2020211630B2. Автор: Peng Li,Haijuan WANG. Владелец: Haier Smart Home Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Circuit board, related apparatus and control method

Номер патента: EP4412418A1. Автор: Lixin Zhang. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Patient support apparatus and medical device networks

Номер патента: US20240296947A1. Автор: Krishna Sandeep Bhimavarapu,Alexander Josef Bodurka. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Image encoding method and apparatus, and image decoding method and apparatus

Номер патента: EP4412206A1. Автор: Yi Song,Peiyun Di,Shaolin Chen,Yixuan Zhang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Voice processing method, apparatus and system, smart terminal and electronic device

Номер патента: EP4243019A1. Автор: Zhiye YANG. Владелец: Beijing ByteDance Network Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Video processing method and apparatus, and device, storage medium and program product

Номер патента: EP4425422A1. Автор: Ruizhi QIAO,Ligeng ZHONG,Yunquan ZHU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Beam indication method and apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240306136A1. Автор: LEI Song,HUI Li,Runhua Chen,Qiubin Gao,Yajuan Luo. Владелец: Datang Mobile Communications Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Multi-function apparatus and method for receiving and printing electronic letter

Номер патента: US20020091878A1. Автор: Hyun-Jun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-07-11.

Mapping relationship generation method and apparatus and storage medium

Номер патента: EP4407447A1. Автор: Yong Hu,Jun Ye. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Digital key generating system and method, vehicle unlocking method and apparatus, and device

Номер патента: AU2023285836A1. Автор: JIANG He. Владелец: Chongqing Changan Automobile Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Digital key generation system and method, vehicle unlocking method and apparatus, and device

Номер патента: EP4439499A1. Автор: JIANG He. Владелец: Chongqing Changan Automobile Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Resource conflict processing method and apparatus and terminal

Номер патента: EP4451596A1. Автор: Xueming PAN,Lihui Wang. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Media data encryption method and apparatus, and media data playback method and system

Номер патента: EP4446919A1. Автор: FENG Qi,Chengzhi Yu. Владелец: Unilumin Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Image processing apparatus and image processing method including area setting and perspective conversion

Номер патента: US09902341B2. Автор: Takeo Oshima,Takatoshi Nakata. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Preamble sequence sending and receiving method and apparatus, and system

Номер патента: US09871680B2. Автор: Fan Wang,Xiaoshu Si,Tao OUYANG,Xingli Xu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Method, apparatus and system for realizing security detection in heterogeneous network

Номер патента: US09853987B2. Автор: FENG He,XIN Wang. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Login method and apparatus, and open platform system

Номер патента: US09769155B2. Автор: Minghui Wang,Jinjing Cao. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Casing for electrical apparatus and power control apparatus

Номер патента: US12126270B2. Автор: takafumi Takagi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Machine-to-machine (M2M) oriented service platform interface apparatus and method

Номер патента: US09686634B2. Автор: Aifang Sun. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Methods, apparatus and systems for time-based and geographic navigation of video content

Номер патента: US09640223B2. Автор: Paul Shen,Matthew Richard McEwen,Shiwen YAO. Владелец: TVU Networks Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Method, apparatus, and system for correcting receiving and sending channel response, and BBU

Номер патента: US09516664B2. Автор: Hui Huang,Tianxiao Wu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Ink jet type recorder, ink jet head section cleaning apparatus and ink jet head section cleaning method

Номер патента: CN101102898A. Автор: 坂本泰宏. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2008-01-09.

Silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US9290391B2. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-22.

Method and apparatus for micromachining using a magnetic field and plasma etching

Номер патента: US20030040178A1. Автор: Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Device for fabricating a mask by plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: US20060148274A1. Автор: Michel Puech,Martial Chabloz. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-07-06.

Cleaning method and apparatus, and base station and storage medium

Номер патента: EP4397223A1. Автор: PAN Cheng. Владелец: Beijing Rockrobo Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Cleaning method for jet engine

Номер патента: US12065939B2. Автор: Jorge Ivan Saenz. Владелец: AeroCore Technologies LLC. Дата публикации: 2024-08-20.

Mask cleaning apparatus and mask cleaning method

Номер патента: US09636718B2. Автор: Peng Zhang,Kelvin CHIANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Memory cleaning method and apparatus, and terminal device

Номер патента: US09965188B2. Автор: Zhen Wu,Yonghong QIAO. Владелец: Huawei Device Dongguan Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Cleaning apparatus and cleaning method for pcb board

Номер патента: ZA202306726B. Автор: Chao Guo,Yunhua Zhao. Владелец: Wan An Yu Wei Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-31.

Cleaning method of semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20070074738A1. Автор: Takayuki Furusawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Cleaning method for jet engine

Номер патента: US20210254498A9. Автор: Jorge Ivan Saenz. Владелец: AeroCore Technologies LLC. Дата публикации: 2021-08-19.

Non-thermal plasma cleaning device and cleaning method

Номер патента: US20240024527A1. Автор: Thomas Parias,Marie-Paule Gelle,Florian Le Bras. Владелец: AURORA. Дата публикации: 2024-01-25.

Reactor cleaning apparatus and reactor cleaning method

Номер патента: US11998963B2. Автор: Jong Hun SONG,Jeong Seok Lee,You Na Kim,Hong Min LEE,Moon Sub HWANG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Medicine powder cleaning apparatus and medicine powder cleaning method

Номер патента: US10583467B2. Автор: Yu-Ting Wang. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-10.

Apparatus and method for cleaning metal filter

Номер патента: US12064720B2. Автор: Eun Hee Kim,Hyun Uk Kim,Seong Bae Kim,Kyoung Wan Park,Young Su Park,Yi Rang Lim,Sang Soo Jang. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Liquid ejection device, cleaning apparatus and cleaning method for module substrate

Номер патента: US20200047506A1. Автор: Noriyasu Hasegawa,Akiko Iimura,Hisashi Namba,Masahiro Kuri. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Discharge tube for a local etching apparatus and a local etching apparatus using the discharge tube

Номер патента: US6429399B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-06.

Cleaning apparatus and cleaning method

Номер патента: US10710126B2. Автор: Fei Liu,Zhiwei Xu,Yangkun Jing,Xiaopan CHE,Chuanhui CHEN. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-14.

Medicine powder cleaning apparatus and medicine powder cleaning method

Номер патента: US20180071796A1. Автор: Yu-Ting Wang. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Cleaning method for jet engine

Номер патента: US20200131928A1. Автор: Jorge Ivan Saenz. Владелец: AeroCore Technologies LLC. Дата публикации: 2020-04-30.

Lidar device, cleaning method, and vehicle

Номер патента: US20240295641A1. Автор: Hao Wei,Xu Peng,Qun FANG,Xiangbing FENG,Bolin Huang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Laser radar device, cleaning method, and vehicle

Номер патента: EP4414741A1. Автор: Hao Wei,Xu Peng,Qun FANG,Xiangbing FENG,Bolin Huang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Air conditioner cleaning apparatus and method

Номер патента: EP1677999A1. Автор: Mikael Nutsos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-12.

Thread cleaning method and apparatus

Номер патента: US20230321739A1. Автор: Scott Williams. Владелец: Rimwest Pty Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Thread Cleaning Method and Apparatus

Номер патента: AU2021105384A4. Автор: Scott Williams. Владелец: Rimwest Pty Ltd. Дата публикации: 2021-10-14.

Thread cleaning method and apparatus

Номер патента: AU2021346948A1. Автор: Scott Williams. Владелец: Rimwest Pty Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Tube cleaning methods and apparatus

Номер патента: WO2006020092A3. Автор: Peter D Mccowin,Richard J Buckwitz,Mark R Weber. Владелец: Mark R Weber. Дата публикации: 2007-07-05.

Pneumatic cleaning methods and systems

Номер патента: EP1773517A2. Автор: Peter D. McCowin,Mark R. Weber,Richard J. Buckwitz. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2007-04-18.

Tube cleaning methods and apparatus

Номер патента: WO2006020092A2. Автор: Peter D. McCowin,Mark R. Weber,Richard J. Buckwitz. Владелец: The Boeing Company. Дата публикации: 2006-02-23.

Adsorbing material for blood and plasma cleaning method and for albumin purification

Номер патента: AU2003303649A1. Автор: Aniela Leistner,Andre Leistner. Владелец: Polymerics Gmbh. Дата публикации: 2004-07-29.

Mask cleaning apparatus and mask cleaning method

Номер патента: US20100043656A1. Автор: Masatoshi Sugiura. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-02-25.

Cleaning method

Номер патента: CA2565851A1. Автор: Johannes J. Verhagen,Cornelis G. Van Kralingen,Hank R. Reinhoud,Harm J. Riksen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-10.

Apparatus and method of collecting magnetic particles captured by magnetic plug

Номер патента: RU2553721C2. Автор: Фабрис КОЛЛАДОН,Жилль БЕРТО. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2015-06-20.

Fish breeding apparatus and method

Номер патента: RU2720096C1. Автор: Геир НОРДАЛЬ-ПЕДЕРСЕН. Владелец: Геир НОРДАЛЬ-ПЕДЕРСЕН. Дата публикации: 2020-04-24.

Method, apparatus and system for processing audio data

Номер патента: RU2579926C1. Автор: Чжэ ВАН. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-04-10.

Apparatus and method for applying device for occluding blood vessels

Номер патента: RU2262898C2. Автор: Клод МИАЛЬ. Владелец: Клод МИАЛЬ. Дата публикации: 2005-10-27.

Medical apparatus and method for detecting a short circuit therein

Номер патента: RU2763983C2. Автор: Курт ФРИДЛИ. Владелец: Ф. Хоффманн-Ля Рош Аг. Дата публикации: 2022-01-12.

Apparatus and method of tracking cleaning operations performed

Номер патента: RU2727215C2. Автор: Мартин КУДЗИЛО. Владелец: Мартин КУДЗИЛО. Дата публикации: 2020-07-21.

Apparatus and method for producing of paper rolls (versions)

Номер патента: RU2291924C2. Автор: Фабио ПЕРИНИ. Владелец: Фабио ПЕРИНИ. Дата публикации: 2007-01-20.

Apparatus and method for preparing a beverage from solvent and ingredients

Номер патента: RU2651887C2. Автор: Ван Кей Рики ХА. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2018-04-24.

Apparatus and method for composting with the use of vermiculite culture

Номер патента: RU2244698C1. Автор: Ю.М. Лужков. Владелец: Лужков Юрий Михайлович. Дата публикации: 2005-01-20.

Vacuum adiabatic body, cooling or heating apparatus and vehicle

Номер патента: RU2765915C2. Автор: Бонгдзин КИМ,Сунгсуб ЛИ. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2022-02-04.

Apparatus and process for building tyres for vehicle wheels

Номер патента: RU2684096C2. Автор: Джанни ПОРТИНАРИ,Серджо САККИ. Владелец: ПИРЕЛЛИ ТАЙР С.П.А.. Дата публикации: 2019-04-03.

Apparatus and method of controlling well device

Номер патента: RU2587657C2. Автор: Кржистоф Мачоки. Владелец: Ойлско Текнолоджис Лтд.,. Дата публикации: 2016-06-20.

X-ray diffraction apparatus and x-ray diffraction method

Номер патента: RU2449262C2. Автор: Хидео ТОРАЯ. Владелец: Ригаку Корпорейшн. Дата публикации: 2012-04-27.

Positioning apparatus and method of contact generation

Номер патента: RU2750400C2. Автор: Александер ПАХЛЕР. Владелец: Шунк Транзит Системс ГмбХ. Дата публикации: 2021-06-28.

Screw apparatus and manual screw system

Номер патента: RU2743181C1. Автор: Томас ЛАНГХОРСТ. Владелец: Йоханнес Любберинг Гмбх. Дата публикации: 2021-02-15.

Apparatus and method for determining occurrence of qrs complex in ecg data

Номер патента: RU2683409C1. Автор: Вэй Ли,Дэн ЧЖАО. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-28.

Apparatus and method for vacuum skin packaging of a product and a skin packaged product

Номер патента: RU2663067C2. Автор: Риккардо ПАЛУМБО. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2018-08-01.

Apparatus and method of recognizing fingerprint

Номер патента: RU2642369C2. Автор: Тао Чжан,Пинцзэ ВАН,Шэнкай ЧЖАН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-01-24.

Zoom lens, optical apparatus and zoom lens manufacturing method

Номер патента: RU2602406C2. Автор: Такахиро ИСИКАВА. Владелец: Никон Корпорейшн. Дата публикации: 2016-11-20.

Dishwasher and cleaning method

Номер патента: RU2765140C2. Автор: Алдо ФУМАГАЛЛИ. Владелец: Канди С.П.А.. Дата публикации: 2022-01-26.

Pouring apparatus and cap with built-in pouring apparatus

Номер патента: RU2254275C2. Автор: Жак ГРАНЖЕ,Жан-Мари БУРРО. Владелец: Пешинэ Амбаллаж Алиментер. Дата публикации: 2005-06-20.

Method, apparatus and terminal for angle measurement

Номер патента: RU2599178C2. Автор: Инь ЧЖУ,Сяовэй ХУ,Вэй ХАН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2016-10-10.

Method, apparatus and data processing device

Номер патента: RU2662408C2. Автор: Лэй Чэнь. Владелец: Хуавей Дивайс (Дунгуань) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-07-25.

Apparatus and method for chilling or freezing

Номер патента: RU2648780C2. Автор: Гари Д. ЛАНГ,Джон М. ДЖИРАРД. Владелец: Праксайр Текнолоджи, Инк.. Дата публикации: 2018-03-28.

Apparatus and method for testing photocatalytic performance

Номер патента: AU2021102717A4. Автор: Yu Liu,Bin Hu,Feng Hu,Qianjin DAI,Shouxi JIANG. Владелец: Xuzhou University of Technology. Дата публикации: 2021-07-08.

Apparatus and method for compressing and decompressing image files

Номер патента: WO2002017230A2. Автор: Yue Chengbo. Владелец: Airzip, Inc.. Дата публикации: 2002-02-28.

An alteration processing method,apparatus and system

Номер патента: WO2014206121A1. Автор: Yao Zhao,Shuai Yang,Wei Luo,Jianchun Zhao. Владелец: TENCENT TECHNOLOGY (SHENZHEN) COMPANY LIMITED. Дата публикации: 2014-12-31.

Cooktop, cooktop system, control method and apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4022225A1. Автор: YE Lu,Lei Zhang,Tong Xie,Mingzhi Wang. Владелец: BSH HAUSGERAETE GMBH. Дата публикации: 2022-07-06.

Cooktop, cooktop system, control method and apparatus, and storage medium

Номер патента: WO2021037821A1. Автор: YE Lu,Lei Zhang,Tong Xie,Mingzhi Wang. Владелец: BSH HAUSGERÄTE GMBH. Дата публикации: 2021-03-04.

Apparatus and method for simultaneously performing delamination and adhesion processes

Номер патента: US20180222175A1. Автор: Ki Wan Kim,Myeong Won LEE,Young Kyun HONG. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Vehicle door opening and closing apparatus and vehicle

Номер патента: ZA202308194B. Автор: Sun Wei,Li Pei,WANG Baolei,Zhou Xue,Ling Chunying,Jia Zhixue. Владелец: CRRC Qiqihar Rolling Stock Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-24.

Apparatus and method for automatically defibering and extracting kraft pulp from old corrugated cardboard

Номер патента: EP1546451A1. Автор: Sun-Ho Chung. Владелец: GPK TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2005-06-29.

Laser beam collimation apparatus and manufacturing method thereof

Номер патента: US20150116839A1. Автор: QIANG LI. Владелец: Hisense USA Corp. Дата публикации: 2015-04-30.

System, Apparatus and Method for Supporting Formal Verification of Informal Inference on a Computer

Номер патента: US20240095554A1. Автор: Eric Burton Baum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-21.

Orthopaedic plate and spreader apparatuses and methods

Номер патента: EP2693966A2. Автор: Matthew S. Solar,William Krauss,Albert Dacosta,Thomas SANGIOVANNI. Владелец: Paragon 28 Inc. Дата публикации: 2014-02-12.

Machine-retrievable card and card retrieval apparatus and method therefor

Номер патента: US4601397A. Автор: Paul J. Neumeier. Владелец: Access Corp. Дата публикации: 1986-07-22.

Machine-retrievable card and card retrieval apparatus and method therefor

Номер патента: US4330063A. Автор: Paul Neumeier. Владелец: O K Partnership. Дата публикации: 1982-05-18.

Cleaning method for workpiece and cleaning apparatus

Номер патента: US20210276051A1. Автор: Yoshiteru Kawamori. Владелец: Sugino Machine Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Real-Time Blood Glucose Monitoring Apparatus and Manufacturing Method Therefor

Номер патента: US20240156373A1. Автор: PAN Zheng,FEI Yu,Guodong Wang,Zhe Song. Владелец: Microtech Medical Hangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Real-time blood glucose monitoring apparatus and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4316369A1. Автор: PAN Zheng,FEI Yu,Guodong Wang,Zhe Song. Владелец: Microtech Medical Hangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Apparatus and method for performing semi-occluded vocal tract exercises

Номер патента: US20230414996A1. Автор: Joseph Patrick Lundquist. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Apparatus and method for controlling operation of elevator using monitor

Номер патента: MY171642A. Автор: Ii Shil Yoon. Владелец: Yoon Ii Shik. Дата публикации: 2019-10-22.

Ink-jet recording unit, ink-jet recording method and recording head cleaning method for ink-jet recording unit

Номер патента: US20040227790A1. Автор: Tamito Kagami. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-18.

Apparatus and method for assessment and biofeedback training of leg coordination and strength skills

Номер патента: WO1994028791A1. Автор: Lewis M. Nashner. Владелец: Neurocom International, Inc.. Дата публикации: 1994-12-22.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US20150191842A1. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Apparatus and method for controlling and stabilizing the swing mechanics of a golfer

Номер патента: US20020137572A1. Автор: Brian Mckeon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Water intake device for washing apparatus, and washing apparatus

Номер патента: EP4130373A1. Автор: Tao Huang,Baozhen Cheng. Владелец: Qingdao Haier Drum Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Refrigerant reclamation and purification apparatus and method

Номер патента: WO1997005435A1. Автор: James J. Todack. Владелец: Todack James J. Дата публикации: 1997-02-13.

Lifting apparatus and synchronisation apparatus therefor

Номер патента: GB2580627A. Автор: Taylor William. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2020-07-29.

Machine-retrievable card andcard retrieval apparatus and method therefor

Номер патента: USRE32170E. Автор: Paul Neumeier. Владелец: O K Partnership. Дата публикации: 1986-06-03.

Combination of a baler and wrapping apparatus, and a chassis to accommodate them

Номер патента: US20020043048A1. Автор: Jean Viaud,Arsene Roth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-18.

Flexible pressure vessel, apparatus and method for making same

Номер патента: US20020175088A1. Автор: Stan Sanders. Владелец: SANDERS INDUSTRIAL DESIGNS Inc. Дата публикации: 2002-11-28.

Safety belt retracting and locking apparatus and automobile seat

Номер патента: EP4403423A1. Автор: Kezhao WEI. Владелец: Autoliv Development AB. Дата публикации: 2024-07-24.

Structural building panels, apparatus and method for fabricating structural building panels

Номер патента: US20070204557A1. Автор: Robert Timbrook. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-06.

Cleaning method for workpiece and cleaning apparatus

Номер патента: EP3878567A1. Автор: Yoshiteru Kawamori. Владелец: Sugino Machine Ltd. Дата публикации: 2021-09-15.

Apparatus and method for a retractable basketball backboard and hoop assembly

Номер патента: US20010036875A1. Автор: Delbert Pile. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Linear driving apparatus, safety gear apparatus, and method for controlling elevator system

Номер патента: EP3904262A1. Автор: Felix Grimm,Yinghui LIU,Zhaoyang Ding. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-03.

Roof greening, wind breaking and vibration suppressing apparatus, and building

Номер патента: US20210115689A1. Автор: Rongzhang Liu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-04-22.

Bagmaking and packaging apparatus and weighing and packaging system

Номер патента: EP4417530A1. Автор: Toshiharu Kageyama,Ryota Nagashima. Владелец: Ishida Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Method, system, apparatus, and program for real-time and online freight management

Номер патента: PH12019501966A1. Автор: Jr Eugenio Ynion. Владелец: Jr Eugenio Ynion. Дата публикации: 2019-12-02.

Sample-and-hold apparatus and operating method thereof

Номер патента: US20080211545A1. Автор: Chih-Jen Yen,Chih-Yuan Hsieh,Chiu-Hung Cheng. Владелец: NOVATEK MICROELECTRONICS CORP. Дата публикации: 2008-09-04.

Cleaning method for workpiece and cleaning apparatus

Номер патента: US11213865B2. Автор: Yoshiteru Kawamori. Владелец: Sugino Machine Ltd. Дата публикации: 2022-01-04.

Automatic inkjet head cleaning method for powder bed and inkjet 3d printer

Номер патента: US20180170058A1. Автор: Chih-Hung Lin,Hsueh-Kuan Shih. Владелец: XYZ Printing Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Automatic inkjet head cleaning method for powder bed and inkjet 3D printer

Номер патента: US10022971B2. Автор: Chih-Hung Lin,Hsueh-Kuan Shih. Владелец: XYZ Printing Inc. Дата публикации: 2018-07-17.

Apparatus and method for use in casting of metals and/ or metal alloys

Номер патента: CA3143884A1. Автор: John Campbell,William Benjamin SHAW. Владелец: Sylatech Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Apparatus and method for loading drums into a drum container

Номер патента: EP2355109A3. Автор: Sung-jin Kim,Jong-Rak Choi,Sung-Hwan Chung. Владелец: Bukwang Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-27.

Apparatus and method for providing flight operations integrated planning and analysis tools

Номер патента: US20070055417A1. Автор: Thomas Chatfield,Robert Garneau,David Foy,J. Farr. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-08.

Atomization apparatus and clothing treatment device

Номер патента: AU2022410986A1. Автор: Lijun Zhang,Yonghong Xu,Xueli ZHAO,Hanwu YU. Владелец: Qingdao Haier Laundry Electric Appliances Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Infant care apparatus and system

Номер патента: CA3040944A1. Автор: Glenn Fernandes,Sarita Parikh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-10-24.

Mark data obtaining method and apparatus, training method and apparatus, and medical device

Номер патента: EP3819861A1. Автор: HAO Yan,Jiuliang Li,Jinsheng Li,Tianchang GOU. Владелец: Our United Corp. Дата публикации: 2021-05-12.

Flushing apparatus and method

Номер патента: GB201119839D0. Автор: . Владелец: SAINT WILLIAM H. Дата публикации: 2011-12-28.

Data preprocessing method, data preprocessing apparatus, and chip

Номер патента: EP4421534A1. Автор: Min Li,Guangli DONG,Zongnan LI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Lifting and leveling apparatus and method

Номер патента: US20020145262A1. Автор: Thomas Oldiges. Владелец: Axis Corp. Дата публикации: 2002-10-10.

Toner purging development apparatus and a method of producing custom color on demand using same

Номер патента: US20030235434A1. Автор: Ronald Godlove. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Plasma display apparatus and driving method thereof

Номер патента: US20070063930A1. Автор: Won Kim,Won Woon,Kyoung Jung,Hyun Do. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-03-22.

Apparatus and method for performing box queries in ray traversal hardware

Номер патента: US20240282053A1. Автор: Karthik Vaidyanathan,Sven Woop,Carsten BENTHIN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Apparatus and method of noninvasively and separately measuring lung ventilation and cardiac blood flow components

Номер патента: US20240090776A1. Автор: Hun Wi,Geuk Young JANG. Владелец: Bilab Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma display apparatus and driving method thereof

Номер патента: EP1764766A3. Автор: Won Jae Kim,Kyoung Jin Jung,Won Sik Yoon,Hyun Lark Do. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2008-11-05.

Lathe control apparatus and method

Номер патента: EP4393639A1. Автор: Min Su Kim,Sung Min HA,Chang Ju So. Владелец: Hanwha Precision Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Apparatus and method for comparing regions associated with first and second bounded pointers

Номер патента: US20200042464A1. Автор: Graeme Peter BARNES,Lee Evan Eisen,Daniel ARULRAJ. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

Cat litter cleaning method and automatic cat litter box

Номер патента: EP4427585A1. Автор: Hongye Huang,Weiping JIAN,Weiyu QIN. Владелец: Petgugu Technology Pte Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Waste-heat quenching apparatus and method for gears

Номер патента: LU506248B1. Автор: JIANG Liu,Hao Xu. Владелец: Chongqing Vocational Inst Eng. Дата публикации: 2024-07-30.

Detection and collimation unit, detection apparatus, and spect imaging system

Номер патента: AU2021329704B2. Автор: Zhong Wang,Xuewu Wang,Tianyu Ma,Yaqiang Liu. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-19.

Apparatus and process for separating components of a multiphase hydrocarbon stream

Номер патента: EP4399031A1. Автор: Wolfgang Hofer,Martina BARONCELLI,Andreas LECHLEITNER. Владелец: OMV Downstream GmbH. Дата публикации: 2024-07-17.

Cache management method and apparatus, and system and storage medium

Номер патента: EP4435578A1. Автор: Xiaoming Zhu,Yigang ZHOU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Method for dispatching unmanned mining truck, control apparatus and system

Номер патента: WO2024186433A1. Автор: Jianping Song,Qi Dang,Weijun CHEN,Xiangchang Wu,Genbo LV,Xiaoshi GU. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2024-09-12.

Atomization apparatus and clothing treatment device

Номер патента: EP4450701A1. Автор: Lijun Zhang,Yonghong Xu,Xueli ZHAO,Hanwu YU. Владелец: Qingdao Haier Washing Electric Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Tensor calculation unit and use method, and data processing apparatus and operation method

Номер патента: EP4446870A1. Автор: Hang ZUO. Владелец: Hygon Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Method, apparatus and device for constructing simulated vehicle lane change trajectory, and storage medium

Номер патента: EP3989015A1. Автор: Haining DU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-27.

Stretching apparatus and method of stretching

Номер патента: US12128268B1. Автор: Teo Biele. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-29.

Method, apparatus and device for positioning and attitude determination

Номер патента: EP4459230A1. Автор: Jinghui Xu,Dongyang Chen,Shihao TANG,Zhiwu Chang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Flashing apparatus, booting and recovery apparatus, and electronic device

Номер патента: US12072768B2. Автор: Jian Cao. Владелец: Wingtech Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US09994968B2. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Flag and banner hanging apparatus and install method

Номер патента: US09852668B2. Автор: Calvin R. Peters. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-12-26.

Apparatus and method for controlling level 0 cache

Номер патента: US09823963B2. Автор: Young-Su Kwon,Jin-Ho HAN. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2017-11-21.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US09738987B2. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Hook and bobbin locator apparatus and method

Номер патента: US09617673B1. Автор: John D. Martelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-11.

Apparatus and method for producing nanocellulose

Номер патента: RU2754655C1. Автор: Михаэль ЙАРОЛИМ. Владелец: Йаролим Фазертехник ГмбХ. Дата публикации: 2021-09-06.

PLASMA ETCHING METHOD AND APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID EJECTION HEAD

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Takahashi Shuji. Владелец: . Дата публикации: 2012-07-12.

Apparatus and method for plasma cleaning a substrate

Номер патента: JP3334289B2. Автор: 和宏 野田,哲博 岩井,勇 森迫. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2002-10-15.

PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20120003838A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

CLEANING AGENT FOR SUBSTRATE AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20120000485A1. Автор: Mizuta Hironori,Kakizawa Masahiko,Hayashida Ichiro. Владелец: WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

POWERED AIR CLEANING SYSTEM AND AIR CLEANING METHOD

Номер патента: US20120000356A1. Автор: MOREDOCK James G.,Ehrenberg Eric I.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ADVERTISING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000102A1. Автор: Bruce Shad E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

BODY CONDITION EVALUATION APPARATUS, CONDITION ESTIMATION APPARATUS, STRIDE ESTIMATION APPARATUS, AND HEALTH MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20120000300A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR CUTTING POROUS SUBSTRATES

Номер патента: US20120000330A1. Автор: Griffin Weston Blaine. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

SINGLE CRYSTAL COOLING APPARATUS AND SINGLE CRYSTAL GROWER INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000416A1. Автор: Wang Hak-Eui,Na Gwang-Ha. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NEBULIZER APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000461A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR ADMINISTRATION OF POSITIVE AIRWAY PRESSURE THERAPIES

Номер патента: US20120000463A1. Автор: Bordewick Steven S.,Bowman Bruce,Baser Joseph A.. Владелец: SOMNETICS GLOBAL PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

WET BENCH APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000494A1. Автор: PAULMAN Jason,Smith Bruce Kenneth,Sohn Raymond. Владелец: ATS AUTOMATION TOOLING SYSTEM INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Laser Beam Irradiation Apparatus and Substrate Sealing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20120000611A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PAPER MACHINE BELT CONDITIONING SYSTEM, APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000622A1. Автор: WEINSTEIN David I.,Perry Peter E.,Rivard James P.,Cirocki Pawel. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus And Methods For Producing Oil and Plugging Blowouts

Номер патента: US20120000656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WEIGHING APPARATUS AND METHOD FOR WEIGHING VEHICLES

Номер патента: US20120000715A1. Автор: Saigh Fathi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Deposition Apparatus And Methods To Reduce Deposition Asymmetry

Номер патента: US20120000772A1. Автор: Cox Michael S.,RITCHIE ALAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA-ARC-THROUGH APPARATUS AND PROCESS FOR SUBMERGED ELECTRIC ARCS

Номер патента: US20120000787A1. Автор: . Владелец: MAGNEGAS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DISINFECTING WATER

Номер патента: US20120000862A1. Автор: Belluati Mario,Colombi Giorgio,Danesi Enrico,Donnini Nicola,Petrucci Giuseppe,Rosellini Massimiliano,Giuseppina Peri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE CONFIGURATION SHELVING APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120000873A1. Автор: . Владелец: Edsal Manufacturing Co., Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PLASMA TREATMENT METHOD

Номер патента: US20120000887A1. Автор: Saito Makoto,SUZUKI Keiji,ETO Hideo,Nishiyama Nobuyasu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

CODE READING APPARATUS AND CODE READING METHOD

Номер патента: US20120000980A1. Автор: . Владелец: TOSHIBA TEC KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

EQUIPMENT MOUNTING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001033A1. Автор: Foster John,Wilde Gary P.,Billingsley Bryan,Sovic Matthew,Bond Dean,Desmond Aaron,Wilde Joshua. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING APPARATUS AND IMAGING APPARATUS

Номер патента: US20120001057A1. Автор: Yamagata Yuuki,Koseki Ken,Kikuchi Masaru,Inada Yoshiaki,Inutsuka Junichi,Tajima Akari. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR USE IN FLASH DETECTION

Номер патента: US20120001071A1. Автор: SNIDER Robin Terry,MCGEE Jeffrey Dykes,PERRY Michael Dale. Владелец: General Atomics. Дата публикации: 2012-01-05.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OR ADDITION OF SUBSTANCES FROM OR TO A BODY OF LIQUID

Номер патента: US20120001112A1. Автор: Alkemade Patrick William,Shellcot Brent. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET CONVEYING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001384A1. Автор: Koyanagi Noriaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET STACKING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001385A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SPARK PLUGS

Номер патента: US20120001532A1. Автор: Kyuno Jiro,Kure Keisuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING OPERATION THEREOF

Номер патента: US20120001551A1. Автор: Abe Hirohisa,Hong Cheng. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOTOR CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS AND MOTOR CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001579A1. Автор: Mori Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR AC ELECTRIC MOTOR

Номер патента: US20120001581A1. Автор: Maeda Daisuke,Tobari Kazuaki,NOTOHARA Yasuo,SUMITA Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD OF CONTROLLING IMAGE CONTRAST

Номер патента: US20120001632A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD

Номер патента: US20120001635A1. Автор: Ookawa Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GAS SENSOR CONTROL APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001641A1. Автор: . Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS TO REDUCE POWER CONSUMPTION IN DIGITAL CIRCUITS

Номер патента: US20120001682A1. Автор: VENKATA HARISH N.. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING APPARATUS AND AUTO GAIN CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001687A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING RADIATION

Номер патента: US20120001761A1. Автор: Voutilainen Martti,Pasanen Pirjo. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS COMMUNICATION APPARATUS AND PLANAR ANTENNA THEREOF

Номер патента: US20120001820A1. Автор: . Владелец: ARCADYAN TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MEDICAL IMAGE DISPLAY APPARATUS AND MEDICAL IMAGE MANAGEMENT APPARATUS

Номер патента: US20120001853A1. Автор: TANAKA Sho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING 3D AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001901A1. Автор: PARK Sun-Hyung. Владелец: Pantech Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR PROVIDING A CONSTANT LEVEL OF INFORMATION IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001938A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR AUTOMATICALLY GENERATING SUGGESTED INFORMATION LAYERS IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001939A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RGBW DISPLAY APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001947A1. Автор: Cheng Sheng-Wen,CHU-KE Hui. Владелец: AU OPTRONICS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS AND PRINTING POSITION ADJUSTING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001972A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD FOR MAINTAINING HEAD

Номер патента: US20120001976A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MIST COLLECTING APPARATUS, LIQUID EJECTING APPARATUS, AND METHOD OF CONTROLLING MIST COLLECTING APPARATUS

Номер патента: US20120001985A1. Автор: . Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001994A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001997A1. Автор: TAKADA Kazumasa. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MONITORING CAMERA SYSTEM, VIDEO RECORDING APPARATUS AND VIDEO RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002054A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE RECORDING APPARATUS AND IMAGE RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002078A1. Автор: NAKAMURA Satoshi,Watanabe Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

OPHTHALMOLOGIC APPARATUS AND OPHTHALMOLOGIC SYSTEM

Номер патента: US20120002166A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT SOURCE APPARATUS AND PROJECTION DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002172A1. Автор: . Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL TOMOGRAPHIC IMAGING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120002214A1. Автор: Utsunomiya Norihiko,Miyata Kazuhide. Владелец: CANON LABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS, IMAGE READING APPARATUS, AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002235A1. Автор: Hinaga Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SCANNING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF DOCUMENT SIZE DETECTION LIGHT SOURCE

Номер патента: US20120002247A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120002260A1. Автор: . Владелец: KYOCERA MITA CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT SWITCHING APPARATUS AND MICROSCOPE SYSTEM

Номер патента: US20120002275A1. Автор: Hayashi Kunihiko,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INTEGRATED CROSSFLOW BLOWER MOTOR APPARATUS AND SYSTEM

Номер патента: US20120002368A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002486A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002487A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE DELAY CIRCUIT, RECORDING APPARATUS, AND DELAY AMOUNT CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20120002528A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING TRANSMISSION POWER OF TERMINAL HAVING HETEROGENEROUS MODEM CHIPS

Номер патента: US20120002559A1. Автор: KIM Pilsang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SELECTING AP IN CONSIDERATION OF NETWORK PERFORMANCE

Номер патента: US20120002560A1. Автор: . Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING SAME

Номер патента: US20120002562A1. Автор: Kawade Takahisa. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR TRANSMITTING AND RECEIVING MBS DATA

Номер патента: US20120002582A1. Автор: . Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION DOWNLOADING APPARATUS AND MOBILE TERMINAL

Номер патента: US20120002585A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION APPARATUS, MOBILE STATION APPARATUS, AND COMMUNICATION METHOD

Номер патента: US20120002602A1. Автор: . Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION APPARATUS, USER APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002613A1. Автор: Kishiyama Yoshihisa,Higuchi Kenichi,Sawahashi Mamoru. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

BASE STATION APPARATUS AND METHOD IN MOBILE COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002616A1. Автор: Kiyoshima Kohei,Okubo Naoto,Ishii Hiroyuki. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS PACKET TRANSMISSION APPARATUS AND PACKET PRIORITY CONTROL SCHEDULING METHOD

Номер патента: US20120002618A1. Автор: Nakagawa Koichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION SYSTEM, COMMUNICATION APPARATUS, AND FREQUENCY ALLOCATION METHOD

Номер патента: US20120002633A1. Автор: Higashinaka Masatsugu,Nakajima Akinori. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR ALLOCATING DOWNLINK POWER

Номер патента: US20120002636A1. Автор: XIAO Dengkun,Li Qiang. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

RADIO TRANSMISSION APPARATUS AND RADIO TRANSMISSION METHOD

Номер патента: US20120002645A1. Автор: SUGAYA Shigeru. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Telephone Exchange Apparatus and Telephone Terminal and a Control Method Used for a Telephone System

Номер патента: US20120002665A1. Автор: KIMURA Shingo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

STEREO VIDEO CODING APPARATUS AND STEREO VIDEO CODING METHOD

Номер патента: US20120002723A1. Автор: Abe Kiyofumi,Kobayashi Yuki,Maruyama Yuki,ARAKAWA Hiroshi,OHGOSE Hideyuki,URANO Katsuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSMISSION APPARATUS, RADIO COMMUNICATION APPARATUS, AND TRANSMISSION METHOD

Номер патента: US20120002754A1. Автор: Matsuura Toru. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

X-RAY CT APPARATUS AND TOMOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20120002782A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radiographic image capturing apparatus and radiographic image capturing system

Номер патента: US20120002784A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING DEPTH SIGNAL

Номер патента: US20120002862A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Non-transitory computer readable storage medium, marker creating apparatus, restoration apparatus, and marker creating method

Номер патента: US20120002877A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DECODING DATA FOR PROVIDING BROWSABLE SLIDE SHOW, AND DATA STORAGE MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002942A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND DEVELOPING DEVICE

Номер патента: US20120002983A1. Автор: . Владелец: Konica Minolta Business Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002987A1. Автор: ODANI Makoto. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE QUALITY CONTROL METHOD

Номер патента: US20120002991A1. Автор: Sakai Tetsuro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOCONDUCTOR, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE

Номер патента: US20120003007A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS, CONTROL METHOD OF PRINTING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120003023A1. Автор: Igarashi Hiroya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET CONVEYING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120003024A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

UNDERWATER PIPE-LAYING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120003047A1. Автор: Signaroldi Teresio,Giovannini Umberto. Владелец: SAIPEM S.p.A.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120003396A1. Автор: . Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurweten schappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLLOW MEMBER AND AN APPARATUS AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

Номер патента: US20120003496A1. Автор: Tomizawa Atsushi,Kubota Hiroaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

STROBO THIN FILM CHEMICAL ANALYSIS APPARATUS AND ASSAY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003659A1. Автор: Yoo Jae Chern. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPORATION APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120003740A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SEAT CONDITIONING HOOD APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120003909A1. Автор: . Владелец: W.E.T. AUTOMOTIVE SYSTEMS AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Method, Apparatus, and Terminal for Determining Transmission Mode

Номер патента: US20120003941A1. Автор: . Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method, Apparatus, and Network Device for Power Control

Номер патента: US20120004007A1. Автор: ZHOU Mingyu,Wan Lei,Ren Xiaotao,Zhao Yajun. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and Method for Playing Poker-Style Games Involving a Draw

Номер патента: US20120004022A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and Method for Viewing an Object

Номер патента: US20120004513A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Ultrasonic diagnosis apparatus and ultrasonic diagnosis method

Номер патента: US20120004550A1. Автор: KATSUYAMA Kimito. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Ultrasonic diagnosis apparatus and ultrasonic diagnosis method

Номер патента: US20120004551A1. Автор: KATSUYAMA Kimito. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRASONIC DIAGNOSTIC APPARATUS AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120004553A1. Автор: Kamiyama Naohisa,KANAYAMA Yuko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR STIMULATION OF BIOLOGICAL TISSUE

Номер патента: US20120004580A1. Автор: Wagner Timothy Andrew,Eden Uri Tzvi. Владелец: HIGHLAND INSTRUMENTS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and process for producing CO2 enriched medical foam

Номер патента: US20120004598A1. Автор: Levy Frank. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WOUND DRESSING APPARATUS AND METHOD OF USE

Номер патента: US20120004628A1. Автор: . Владелец: Smith & Nephew PLC. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR DELIVERING A STENT INTO AN OSTIUM

Номер патента: US20120004717A1. Автор: KROLIK Jeff,Khosravi Fred,Sanati Arashmidos,Kim Elliot. Владелец: INCEPT LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

SEEDING APPARATUS AND METHOD OF DETERMINING A SEED SPACING VARIABILITY VALUE

Номер патента: US20120004768A1. Автор: Walter Jason D.,Peterson James R.,Schweitzer John M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ROBOT APPARATUS AND GRIPPING METHOD FOR USE IN ROBOT APPARATUS

Номер патента: US20120004774A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA YASKAWA DENKI. Дата публикации: 2012-01-05.

ROBOT APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120004775A1. Автор: . Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ENERGY MANAGEMENT

Номер патента: US20120004784A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ENERGY CONTROL APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120004785A1. Автор: OH Jung Hwan,Park Jae Seong,SON Dong Min. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL MEASURING APPARATUS AND SPECIMEN DISCRIMINATING AND DISPENSING APPARATUS

Номер патента: US20120004864A1. Автор: Takahashi Toru,Tsukii Ken,Xu Jie. Владелец: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ENERGY MANAGEMENT OF ELECTRIC DEVICES

Номер патента: US20120004872A1. Автор: OH Jung Hwan,Park Jae Seong,SON Dong Min. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ESTIMATING WALKING STATUS FOR STEP LENGTH ESTIMATION USING PORTABLE TERMINAL

Номер патента: US20120004881A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Storage sump cleaning method

Номер патента: RU2267579C1. Автор: Виктор Иванович Попов. Владелец: Виктор Иванович Попов. Дата публикации: 2006-01-10.

Exhaust gas catching and cleaning method

Номер патента: RU2705354C1. Автор: Кирилл Николаевич Войнов. Владелец: Кирилл Николаевич Войнов. Дата публикации: 2019-11-06.

Storage sump cleaning method

Номер патента: RU2267580C1. Автор: Виктор Иванович Попов. Владелец: Виктор Иванович Попов. Дата публикации: 2006-01-10.

Improved Apparatus and Processes for the Rapid Production of Photographs on Post Cards and the like

Номер патента: GB190225942A. Автор: Hugo Lauterbach. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-02-19.

Improvements in and relating to Projecting Apparatus and Cameras for Kinetoscopic Pictures.

Номер патента: GB189800681A. Автор: William Charles Hughes. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-03-12.