Werkwijze voor het vervaardigen van een silicium lichaam met een n-type toplaag en een daaraan grenzende, hoger gedoteerde n-type basislaag.
Номер патента: NL9000972A
Опубликовано: 18-11-1991
Автор(ы):
Принадлежит: Philips Nv
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-11-1991
Автор(ы):
Принадлежит: Philips Nv
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Conductivity modulation type semiconductor device and method for manufacturing the same
Номер патента: US5128277A. Автор: Wataru Takahashi,Makoto Hideshima,Masahi Kuwahara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1992-07-07.