Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • 使用热和等离子体增强方法的选择性沉积

使用热和等离子体增强方法的选择性沉积

Номер патента: CN116065133A
Опубликовано: 05-05-2023
Автор(ы): A.伊利贝里, A.钱德拉塞卡兰, D.基亚佩, E.托伊斯, M.吉文斯, M.图米恩, V.万达隆, V.马德希瓦拉, 邓少任, 韩镕圭
Принадлежит: ASM IP Holding BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Methods for forming a topographically selective silicon oxide film by a cyclical plasma-enhanced deposition process

Номер патента: US20230143580A1. Автор: Atsuki Fukazawa,Aurélie Kuroda. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-05-11.

Nitride film formed by plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition process

Номер патента: US09865455B1. Автор: James Samuel Sims,Kathryn Merced Kelchner. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma enhanced wafer soak for thin film deposition

Номер патента: US12014921B2. Автор: Ming Li,Tu Hong,Arul N. Dhas. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma enhanced wafer soak for thin film deposition

Номер патента: WO2020081235A1. Автор: Ming Li,Tu Hong,Arul N. Dhas. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-04-23.

Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes

Номер патента: US12040177B2. Автор: Yoshio SUSA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Nitride film formed by plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition process

Номер патента: KR20180028016A. Автор: 제임스 사무엘 심즈,캐서린 메세드 켈츠너. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2018-03-15.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20220119953A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma- enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022086708A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Selective deposition of SiOC thin films

Номер патента: US12068156B2. Автор: Jan Willem Maes,David Kurt De Roest,Oreste Madia. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-20.

Selective deposition of sioc thin films

Номер патента: US20210134586A1. Автор: Jan Willem Maes,David Kurt De Roest,Oreste Madia. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-05-06.

Area selective deposition of metal containing films

Номер патента: WO2021127470A9. Автор: Jean-Marc Girard,Wontae NOH,Jooho Lee. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2021-08-19.

Method of area-selective deposition and method of fabricating an electronic device using the same

Номер патента: US12116667B2. Автор: Daehyun Kim,Changhan Kim,Jinseon LEE,Woo-Hee Kim. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2024-10-15.

Method for the selective deposition of bismuth based ferroelectric thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US6120846A. Автор: Thomas H. Baum,Frank Hintermaier,Bryan Hendrix,Peter Van Buskirk,Jeff Roeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2000-09-19.

Selective deposition of silicon oxide

Номер патента: US20190115207A1. Автор: Dennis M. Hausmann,David Charles Smith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-04-18.

Area selective deposition of metal containing films

Номер патента: EP4078657A1. Автор: Jean-Marc Girard,Wontae NOH,Jooho Lee. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2022-10-26.

Method of area-selective deposition and method of fabricating an electronic device using the same

Номер патента: US20220235461A1. Автор: Daehyun Kim,Changhan Kim,Jinseon LEE,Woo-Hee Kim. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2022-07-28.

Plasma enhanced deposited, fully oxidized PSG film

Номер патента: US20060001127A1. Автор: Jack Linn,Mark Bordelon,Katie Pentas. Владелец: INTERSIL AMERICAS LLC. Дата публикации: 2006-01-05.

Selective deposition of material comprising silicon and nitrogen

Номер патента: US20240162036A1. Автор: Marko Tuominen,Daniele Chiappe,Viraj Madhiwala,Eva Elisabeth Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-16.

Selective deposition of metal silicides and selective oxide removal

Номер патента: EP3881349A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,Jong Choi,Namsung KIM,Raymond Hung,Christopher AHLES,Andrew Kummel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-09-22.

Selective deposition using hydrophobic precursors

Номер патента: US12080548B2. Автор: Antti Niskanen,Eva Tois,Hidemi Suemori,Suvi P. Haukka,Raija H. MATERO,Elina Färm. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Selective deposition of metal oxide

Номер патента: US20240282572A1. Автор: Yonggyu Han,Eva Tois,Charles DEZELAH,Shaoren Deng,Glen Wilk,Marko Tuominen,Daniele Chiappe,Aranzazu MAESTRE CARO,Kranthi Kumar Vaidyula,Vincent Vandalon,Viraj Madhiwala,Nadadur Veeraraghavan Srinath,David Zanders. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-22.

In-situ selective deposition and etching for advanced patterning applications

Номер патента: US20180330963A1. Автор: Kandabara N. Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-15.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US20210317573A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US20230122224A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: WO2021206792A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2021-10-14.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US11993842B2. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Methods of selective deposition and chemical delivery systems

Номер патента: WO2023172736A1. Автор: Ashwin Kumar,Kashish SHARMA,Arpan Pravin Mahorowala,Benjamin Edwards,Nupur BIHARI,Avinash Gouda DODDAMANI,Avinash JAISWAL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma enhanced deposition processes for controlled formation of oxygen containing thin films

Номер патента: US11776807B2. Автор: Sun Ja Kim,Oreste Madia,Viljami J. Pore,Marko Tuominen,Lingyun Jia. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-03.

Selective deposition on silicon containing surfaces

Номер патента: US20210118684A1. Автор: Michael A. Todd. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2021-04-22.

Selective deposition on silicon containing surfaces

Номер патента: WO2018170382A1. Автор: Michael A. Todd. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2018-09-20.

Selective deposition of silicon dielectric film

Номер патента: EP4284958A1. Автор: XINJIAN LEI,Haripin Chandra,Ronald M. Pearlstein. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-12-06.

Selective deposition of silicon dielectric film

Номер патента: US20240170283A1. Автор: XINJIAN LEI,Haripin Chandra,Ronald M. Pearlstein. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon-containing films

Номер патента: US20240327973A1. Автор: Ravi Kumar,Adrien Lavoie,Pulkit Agarwal,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Dustin Zachary Austin,Jonathan Grant BAKER. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Techniques for a hybrid design for efficient and economical plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)

Номер патента: US20210217584A1. Автор: Kuyel Birol. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate

Номер патента: US20230160060A1. Автор: Timothee Blanquart. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-05-25.

Method and apparatus for selective deposition

Номер патента: US09385219B2. Автор: YIN Fan,Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Ellie Y. Yieh,Tristan MA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Selective deposition of silicon nitride

Номер патента: US20200266048A1. Автор: Han Wang,Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Eric CONDO. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Selective deposition of aluminum and nitrogen containing material

Номер патента: US20190103303A1. Автор: Han Wang,Qi Xie,Jan Willem Maes,Chiyu Zhu,Timo Asikainen,David De Roest,Delphine Longrie,Krzysztof Kachel,Julian Hsieh,Harald Profijt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-04-04.

Selective deposition of metal oxides on metal surfaces

Номер патента: US11965238B2. Автор: Michael Eugene Givens,Giuseppe Alessio Verni,Shaoren Deng,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-23.

Method for selective deposition of silicon nitride and structure including selectively-deposited silicon nitride layer

Номер патента: US20240014030A1. Автор: Jun Kawahara,Hiroki Matsuda,Agung Setiadi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-11.

Selective deposition of aluminum and nitrogen containing material

Номер патента: US20200266096A1. Автор: Han Wang,Qi Xie,Jan Willem Maes,Chiyu Zhu,Timo Asikainen,David De Roest,Delphine Longrie,Krzysztof Kachel,Julian Hsieh,Harald Profijt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-08-20.

Method for ultra-uniform sputter deposition using simultaneous rf and dc power on target

Номер патента: WO2010017259A3. Автор: Zhendong Liu,Xianmin Tang,Tza-Jing Gung,Rongjun Wang,Maurice E. Ewert. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-22.

Plasma enhanced atomic layer deposition apparatus and method

Номер патента: EP4321648A1. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Selective plasma enhanced atomic layer deposition

Номер патента: EP4240886A1. Автор: XINJIAN LEI,Yi-Chia Lee,Aiping Wu,Sumit Agarwal,Robert Gordon Ridgeway,Ryan James GASVODA,Wanxing Xu,Ronald M. Pearlstein,Rohit Narayanan Kavassery Ramesh. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-13.

Selective plasma enhanced atomic layer deposition

Номер патента: US20240014036A1. Автор: XINJIAN LEI,Yi-Chia Lee,Aiping Wu,Sumit Agarwal,Robert Gordon Ridgeway,Ryan James GASVODA,Wanxing Xu,Ronald M. Pearlstein,Rohit Narayanan Kavassery Ramesh. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon-containing films

Номер патента: EP4367709A1. Автор: Ravi Kumar,Adrien Lavoie,Pulkit Agarwal,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Dustin Zachary Austin,Jonathan Grant BAKER. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-15.

RF Power Source Operation In Plasma Enhanced Processes

Номер патента: US20210125820A1. Автор: Farhad Moghadam,Hari Ponnekanti,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-29.

Benzyl compound passivation for selective deposition and selective etch protection

Номер патента: US20240145232A1. Автор: David Thompson,Feng Q. Liu,Mark J. Saly. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Benzyl compound passivation for selective deposition and selective etch protection

Номер патента: WO2024091618A1. Автор: David Thompson,Feng Q. Liu,Mark J. Saly. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of selective deposition of small molecules on metal surfaces

Номер патента: WO2023201437A1. Автор: Ishwar Singh,Cathleen M. Crudden,Sean BARRY,Paul Ragogna,Alex Jeffrey Veinot,Eden Ramona Goodwin,Peter George Gordon,Tianchi Zhang,Peter McBreen,Justin Lomax. Владелец: Queen's University At Kingston. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for selective deposition of silicon nitride layer and structure including selectively-deposited silicon nitride layer

Номер патента: US11424119B2. Автор: Eric James Shero,Shankar Swaminathan,Paul Ma,Bed Prasad Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-23.

Method for selective deposition of silicon nitride layer and structure including selectively-deposited silicon nitride layer

Номер патента: US11901175B2. Автор: Eric James Shero,Shankar Swaminathan,Paul Ma,Bed Prasad Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-13.

Simultaneous selective deposition of two different materials on two different surfaces

Номер патента: US20230203644A1. Автор: Suvi Haukka,Michael Eugene Givens,Eva Tois,Charles DEZELAH,Daria Nevstrueva. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of Selective Deposition of Small Molecules on Metal Surfaces

Номер патента: US20230381812A1. Автор: Ishwar Singh,Cathleen M. Crudden,Sean BARRY,Paul Ragogna,Alex Jeffrey Veinot,Eden Ramona Goodwin,Peter George Gordon,Tianchi Zhang,Peter McBreen,Justin Lomax. Владелец: Queens University at Kingston. Дата публикации: 2023-11-30.

Selective deposition of material comprising noble metal

Номер патента: US20230407476A1. Автор: Mikko Ritala,Chao Zhang,Eva Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Selective deposition of silicon oxide on metal surfaces

Номер патента: US20240076775A1. Автор: Michael Givens,Eva Tois,Giuseppe Alessio Verni,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Daniele Chiappe,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Selective deposition of a passivation film on a metal surface

Номер патента: WO2022093801A1. Автор: Yong Wang,John Sudijono,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Doreen Wei Ying Yong,Andrea Leoncini. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2022-05-05.

Selective deposition on metals using porous low-k materials

Номер патента: WO2023083540A1. Автор: Son Nguyen,BALASUBRAMANIAN Pranatharthiharan,Hosadurga Shobha,Rudy Wojtecki,Krystelle Lionti,Noel Arellano. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2023-05-19.

Selective Deposition Of A Passivation Film On A Metal Surface

Номер патента: US20220130664A1. Автор: Yong Wang,John Sudijono,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Doreen Wei Ying Yong,Andrea Leoncini. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-28.

Method for manufacturing semiconductor device using plasma-enhanced atomic layer deposition

Номер патента: US12027364B2. Автор: Ting-Chuan Lee,Chun-Jung Tsai,Chun-Hsien Tsai,Kuang-Jui Chang,Tsung-Fu Yen. Владелец: Taiwan Carbon Nano Technology Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: WO2010088015A2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-05.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US20140008803A1. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US09466574B2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Methods and apparatus for sputtering deposition using direct current

Номер патента: WO2009065039A2. Автор: Hendrik V. Walde,David J. Christie,Ken Nauman,Bruce Fries. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2009-05-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230349046A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Techniques and systems for continuous-flow plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD)

Номер патента: US09972501B1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for selective deposition using a base-catalyzed inhibitor

Номер патента: WO2020072329A1. Автор: Dennis Hausmann,Paul C. LEMAIRE,Alexander R. Fox,David Charles Smith. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-04-09.

Method for selective deposition using a base-catalyzed inhibitor

Номер патента: US20200102650A1. Автор: Dennis Hausmann,Paul C. LEMAIRE,Alexander R. Fox,David Charles Smith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-02.

Selective deposition of metal silicides

Номер патента: US20190103278A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,Jong Choi,Namsung KIM,Raymond Hung,Christopher AHLES,Andrew Kummel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-04-04.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170267A1. Автор: Yoshiki Nakano,Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Techniques for selective deposition using angled ions

Номер патента: US20190256966A1. Автор: Maureen Petterson,Kevin Anglin. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-08-22.

Electronic device fabrication using area-selective deposition

Номер патента: US20240282632A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Mark J. Saly,Zeqing Shen,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Thomas Joseph Knisley,Zachary J. Devereaux. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Electronic device fabrication using area-selective deposition

Номер патента: WO2024173381A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Mark J. Saly,Zeqing Shen,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Thomas Joseph Knisley,Zachary J. Devereaux. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Inherent area selective deposition of mixed oxide dielectric film

Номер патента: US20230343581A1. Автор: Chad Michael BRICK. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Inherent area selective deposition of mixed oxide dielectric film

Номер патента: WO2023205324A1. Автор: Chad Michael BRICK. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2023-10-26.

Selective deposition of sicon by plasma ald

Номер патента: WO2021151067A1. Автор: Ning Li,Mihaela Balseanu,Shuaidi ZHANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-07-29.

Method for selectively depositing a layer on a three dimensional structure

Номер патента: US09847228B2. Автор: Thomas R. Omstead,Anthony Renau,Simon Ruffell. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Combined anneal and selective deposition systems

Номер патента: WO2017184356A1. Автор: Jan Willem Maes,Werner Knaepen. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2017-10-26.

Interrupted deposition process for selective deposition of si-containing films

Номер патента: WO2007027275A2. Автор: Anthony Dip,Seungho Oh,Allen John Leith. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2007-03-08.

Interrupted deposition process for selective deposition of si-containing films

Номер патента: TWI337757B. Автор: Anthony Dip,Seungho Oh,Allen J Leith. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-21.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240331977A1. Автор: Satoru Kawakami,Tsuyoshi Moriya,Hiroyuki Onoda,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo,Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

METHOD FOR SELECTIVE DEPOSITION OF SILICON NITRIDE LAYER AND STRUCTURE INCLUDING SELECTIVELY-DEPOSITED SILICON NITRIDE LAYER

Номер патента: US20200286726A1. Автор: Swaminathan Shankar,Shero Eric James,Ma Paul,Sharma Bed Prasad. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-10.

METHOD FOR SELECTIVE DEPOSITION OF SILICON NITRIDE LAYER AND STRUCTURE INCLUDING SELECTIVELY-DEPOSITED SILICON NITRIDE LAYER

Номер патента: US20220351958A1. Автор: Swaminathan Shankar,Shero Eric James,Ma Paul,Sharma Bed Prasad. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-03.

System and process for high-density, low-energy plasma enhanced vapor phase epitaxy

Номер патента: US09466479B2. Автор: Hans Von Känel. Владелец: OERLIKON METCO AG. Дата публикации: 2016-10-11.

Pulsed plasma enhanced CVD of metal silicide conductive films such as TiSi2

Номер патента: US5344792A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Methods and devices for graphene formation on flexible substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US11823895B2. Автор: Chyi-Ming Leu,Chih-Cheng Lin,Nai-Chang Yeh,Chi-Fu Tseng,Chen-Hsuan LU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-11-21.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Reaction chamber passivation and selective deposition of metallic films

Номер патента: US09803277B1. Автор: Han Wang,SHANG Chen,Qi Xie,Jan Willem Maes,Dai Ishikawa,Toshiharu Watarai,Delphine Longrie,Antti Juhani Niskanen,Takahiro Onuma,Kunitoshi Namba. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for selectively depositing a metallic film on a substrate

Номер патента: US12033861B2. Автор: David Kurt De Roest,Delphine Longrie. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Selective deposition of noble metal thin films

Номер патента: US09469899B2. Автор: Hannu Huotari,Marko Tuominen,Miika Leinikka. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2016-10-18.

Methods and Precursors for Selective Deposition of Metal Films

Номер патента: US20230170210A1. Автор: Ning Li,Atashi Basu,Mihaela A. Balseanu,Kurt FREDRICKSON. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Selectively depositing a metal oxide on a dielectric surface of a substrate

Номер патента: WO2024205914A1. Автор: Kevin McLaughlin,Nupur BIHARI,Yunshan FAN. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-03.

Protective capping layer for area selective deposition

Номер патента: WO2024206261A1. Автор: Andrea Leoncini. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Protective capping layer for area selective deposition

Номер патента: US20240332072A1. Автор: Andrea Leoncini. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Xps metrology for process control in selective deposition

Номер патента: US20240044825A1. Автор: Kavita Shah,Charles Larson,Wei T. LEE. Владелец: Nova Measuring Instruments Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Xps metrology for process control in selective deposition

Номер патента: US20190277783A1. Автор: Wei Ti Lee,Kavita Shah,Charles Thomas Larson. Владелец: Nova Measuring Instruments Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Xps metrology for process control in selective deposition

Номер патента: US20210025839A1. Автор: Wei Ti Lee,Kavita Shah,Charles Thomas Larson. Владелец: Nova Measuring Instruments Inc. Дата публикации: 2021-01-28.

Methods for selective deposition of precursor materials and related devices

Номер патента: US20240170290A1. Автор: Philip S. H. Chen,Shawn Duc NGUYEN,Bryan Clark Hendrix. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Methods for selective deposition of precursor materials and related devices

Номер патента: WO2024112420A1. Автор: Philip S. H. Chen,Shawn Duc NGUYEN,Bryan Clark Hendrix. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-30.

Selective deposition of a barrier layer on a dielectric material

Номер патента: US6939801B2. Автор: Ling Chen,Vincent W. Ku,Hua Chung,Michael X. Yang,Gongda Yao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-09-06.

Selective Deposition On Non-Metallic Surfaces

Номер патента: US20200350204A1. Автор: Lu Chen,Seshadri Ganguli,Sang Ho Yu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Surface treatment for selective deposition

Номер патента: WO2022183106A1. Автор: Yong Jin Kim,Kevin Kashefi,Carmen Leal Cervantes. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

Selective deposition on non-metallic surfaces

Номер патента: WO2020227274A1. Автор: Lu Chen,Seshadri Ganguli,Sang Ho Yu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-12.

Methods and precursors for selective deposition of metal films

Номер патента: US11887847B2. Автор: Ning Li,Atashi Basu,Mihaela A. Balseanu,Kurt FREDRICKSON. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Methods And Precursors For Selective Deposition Of Metal Films

Номер патента: US20200312653A1. Автор: Ning Li,Atashi Basu,Mihaela Balseanu,Kurt FREDRICKSON. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Dual selective deposition

Номер патента: US20210285097A1. Автор: Antti Niskanen,Eva Tois,Suvi P. Haukka,Hannu Huotari,Viljami J. Pore,Marko Tuominen,Raija H. MATERO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-09-16.

Method for manufacturing semiconductor device using plasma-enhanced atomic layer deposition

Номер патента: US12027362B2. Автор: Ting-Chuan Lee,Chun-Jung Tsai,Chun-Hsien Tsai,Kuang-Jui Chang,Tsung-Fu Yen. Владелец: Taiwan Carbon Nano Technology Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

METHOD OF PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION OF TaC AND TaCN FILMS HAVING GOOD ADHESION TO COPPER

Номер патента: WO2007111780A3. Автор: Tadahiro Ishizaka. Владелец: Tadahiro Ishizaka. Дата публикации: 2008-01-17.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20060172087A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20030170982A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Plasma enhanced ALD of tantalum nitride and bilayer

Номер патента: US20050095443A1. Автор: Hyungjun Kim,Stephen Rossnagel,Andrew Kellock. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-05.

Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films

Номер патента: US20050153574A1. Автор: Robert Mandal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Plasma enhanced low temperature atomic layer deposition of metals

Номер патента: WO2023250500A1. Автор: Jon Henri,Elham Mohimi,Ann Erickson,Kyle Jordan BLAKENEY,Chiukin Steven Lai,Alexander Ray FOX,Patrick August VAN CLEEMPUT,David Joseph Mandia. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-12-28.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Semiconductor structure having an ELOG on a thermally and electrically conductive mask

Номер патента: US8368118B2. Автор: Shih-Yuan Wang,Lars Helge Thylen,Sagi Varghese Mathai. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2013-02-05.

Selective deposition using graphene as an inhibitor

Номер патента: US20230245924A1. Автор: Bhadri N. Varadarajan,Kashish SHARMA,Ieva Narkeviciute. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Methods for selective deposition using self-assembled monolayers

Номер патента: US20240352577A1. Автор: CHANG Ke,Wenyu ZHANG,Liqi Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Selective deposition utilizing masks and directional plasma treatment

Номер патента: US09754791B2. Автор: YIN Fan,Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Ellie Y. Yieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Selective deposition of a passivation film

Номер патента: WO2022093804A1. Автор: Yong Wang,Doreen Wei Ying Yong,Andrea Leoncini. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2022-05-05.

Enhanced selective deposition process

Номер патента: WO2019099190A1. Автор: CHANG Ke,CHENG Pan,LEI Zhou,Srinivas D. Nemani,Erica Chen,Biao Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-05-23.

Methods for selective deposition using self-assembled monolayers

Номер патента: US12024770B2. Автор: CHANG Ke,Wenyu ZHANG,Liqi Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Selective deposition of metals, metal oxides, and dielectrics

Номер патента: US20200122191A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Antti Niskanen,Eva Tois,Suvi P. Haukka,Hannu Huotari,Viljami J. Pore,Marko Tuominen,Raija H. MATERO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-04-23.

Selective deposition of metals, metal oxides, and dielectrics

Номер патента: US20220193720A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Antti Niskanen,Eva Tois,Suvi P. Haukka,Hannu Huotari,Viljami J. Pore,Marko Tuominen,Raija H. MATERO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-23.

Apparatus and process for plasma-enhanced atomic layer deposition

Номер патента: US20070119371A1. Автор: Seshadri Ganguli,Christophe Marcadal,Paul Ma,Schubert Chu,Dien-Yeh Wu,Kavita Shah,Frederick Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-31.

Method for selectively depositing material on substrates

Номер патента: US5112439A. Автор: Gary W. Jones,Arnold Reisman. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1992-05-12.

Selective deposition process utilizing polymer structure deactivation process

Номер патента: US20180366318A1. Автор: Ludovic Godet,Christine Y. OUYANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Selective deposition of silicon and oxygen containing dielectric film on dielectrics

Номер патента: EP4225964A1. Автор: XINJIAN LEI,Jacob Woodruff,Bhushan Zope,Guo Liu,Ravindra Kanjolia,Mark POTYEN. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-08-16.

Methods and assemblies for selectively depositing transition metals

Номер патента: US20240096633A1. Автор: Jan Willem Maes,Chiyu Zhu,Eva Tois,Charles DEZELAH,YoungChol Byun,Shinya Iwashita,Arpita Saha,Patricio Eduardo ROMERO,Glen Wilk,Marko Tuominen,Elina Färm,Janne-Petteri Niemelä,Holger Saare,Jonahtan Bakke. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-21.

Selective deposition of metals, metal oxides, and dielectrics

Номер патента: US11975357B2. Автор: Ivo Raaijmakers,Antti Niskanen,Eva Tois,Suvi P. Haukka,Hannu Huotari,Viljami J. Pore,Marko Tuominen,Raija H. MATERO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-07.

Selective deposition of silicon and oxygen containing dielectric film on dielectrics

Номер патента: US20230416911A1. Автор: XINJIAN LEI,Jacob Woodruff,Bhushan Zope,Guo Liu,Ravindra Kanjolia,Mark POTYEN. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-12-28.

Area-selective deposition of metal nitride to fabricate devices

Номер патента: US20220190229A1. Автор: Rudy J. Wojtecki,Damon Brooks Farmer,Alexander Friz,Matthew W. Copel,Noel Arellano,Charles Thomas Rettner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Silicide Films Through Selective Deposition

Номер патента: US20210202256A1. Автор: Swaminathan Srinivasan,Abhijit Basu Mallick,Nicolas Breil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Silicide films through selective deposition

Номер патента: US11978635B2. Автор: Swaminathan Srinivasan,Abhijit Basu Mallick,Nicolas Breil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Silicide films through selective deposition

Номер патента: US20200227265A1. Автор: Swaminathan Srinivasan,Abhijit Basu Mallick,Nicolas Breil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-07-16.

Silicide Films Through Selective Deposition

Номер патента: US20190189453A1. Автор: Swaminathan Srinivasan,Abhijit Basu Mallick,Nicolas Breil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689048A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim,Moonkap Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Apparatus and method for performing plasma enhanced atomic layer deposition employing very high frequency

Номер патента: US20230203661A1. Автор: Il Kwon Oh,Min-Jeong RHEE. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-29.

Combinatorial plasma enhanced deposition techniques

Номер патента: EP2279518A2. Автор: Tony Chiang,Sunil Shanker. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Combinatorial plasma enhanced deposition techniques

Номер патента: WO2009135182A2. Автор: Tony Chiang,Sunil Shanker. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US09663855B2. Автор: Jung-Sik Lee,Seok-won JUNG,Myung-Su Heo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09478401B2. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: AGC Flat Glass North America Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Plasma-enhanced cyclic layer deposition process for barrier layers

Номер патента: US20060292864A1. Автор: Ming Xi,Michael Yang,Toshio Itoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Plasma enhanced chemical vapour deposition apparatus; producing carbon nanotubes

Номер патента: GB2380494A. Автор: Jin Pyo Hong,Chae Ok Kim,Ho Suck Kang,Hyoung Joo Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-09.

Directing plasma distribution in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09543125B2. Автор: Hsiang-Wei Lin,Chia-Ho Chen,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (ALD) Using Radio Frequency (RF) Power Ramping

Номер патента: KR20220097974A. Автор: 제레미 데이비드 필즈,프랭크 로렌 파스콸레. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2022-07-08.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689049A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Selective Deposition Defects Removal By Chemical Etch

Номер патента: US20190080904A1. Автор: CHANG Ke,LEI Zhou,Jeffrey W. Anthis,Paul F. Ma,Guoqiang JIAN,Benjamin Schmiege,Liqi Wu,Michael S. Jackson,Pratham JAIN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-14.

Selective deposition and co-deposition processes for ferromagnetic thin films

Номер патента: US20160194761A1. Автор: Yezdi Dordi,Ernest Chen,Aniruddha JOI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-07.

Selective deposition and co-deposition processes for ferromagnetic thin films

Номер патента: US09476124B2. Автор: Yezdi Dordi,Ernest Chen,Aniruddha JOI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Methods for area-selective deposition of polymer films using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019842A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Inhibitor for selectively depositing thin film and method for selectively depositing thin film

Номер патента: US20240243010A1. Автор: Soyoung LEE,Younjoung CHO,Kiyoshi Murata,Jihyun Lee,Tomoharu Yoshino,Hoon Han,Hiroyuki Uchiuzou,Byungkeun Hwang,Eun Hyea Ko,Thanh Cuong Nguyen. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Selective passivation and selective deposition

Номер патента: US20220208542A1. Автор: Michael Eugene Givens,Suvi P. Haukka,Delphine Longrie,Shaoren Deng,Eva E. Tois,Vamsi Paruchuri,Jan Willem Hub Maes,Ivo Johannes Raaijmakers,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-30.

Selective passivation and selective deposition

Номер патента: US11830732B2. Автор: Michael Eugene Givens,Viljami Pore,Suvi P. Haukka,Delphine Longrie,Shaoren Deng,Eva E. Tois,Vamsi Paruchuri,Jan Willem Hub Maes,Ivo Johannes Raaijmakers,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-28.

Selective passivation and selective deposition

Номер патента: US20240047197A1. Автор: Michael Eugene Givens,Suvi P. Haukka,Delphine Longrie,Shaoren Deng,Eva E. Tois,Viljami J. Pore,Vamsi Paruchuri,Jan Willem Hub Maes,Ivo Johannes Raaijmakers,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-08.

Selectively deposited parylene masks and methods related thereto

Номер патента: US20190221422A1. Автор: Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Pramit MANNA,Shishi Jiang,Miaojun WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-18.

Selectively deposited parylene masks

Номер патента: EP3740965A1. Автор: Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Pramit MANNA,Shishi Jiang,Miaojun WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-25.

Selectively deposited parylene masks

Номер патента: WO2019143533A1. Автор: Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Pramit MANNA,Shishi Jiang,Miaojun WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-07-25.

Method of selectively depositing glass on semiconductor devices

Номер патента: CA1038329A. Автор: Robert B. Comizzoli. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1978-09-12.

Method for mitigating lateral film growth in area selective deposition

Номер патента: US11804376B2. Автор: Kandabara N. Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Methods to reduce gouging for core removal processes using thermal decomposition materials

Номер патента: US20200020523A1. Автор: Akiteru Ko,Kaoru Maekawa,Yuki Kikuchi,Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Inter-metal dielectric of semiconductor device and manufacturing method thereof including plasma treating a plasma enhanced fluorosilicate glass

Номер патента: US7442653B2. Автор: Tae-Young Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-28.

Plasma enhanced chemical vapor reactor with shaped electrodes

Номер патента: US5628869A. Автор: Thomas G. Mallon. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1997-05-13.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Cleaning method and plasma treatment device

Номер патента: US12129544B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yoshiyuki Kondo,Yutaka Fujino,Hideki Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Selective deposition with alcohol selective reduction and protection

Номер патента: WO2016033145A1. Автор: Jiang Lu,David Thompson,Feng Q. Liu,Mei Chang,Hua Ai,Paul F. Ma. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-03-03.

Selective deposition with alcohol selective reduction and protection

Номер патента: EP3186822A1. Автор: Jiang Lu,David Thompson,Feng Q. Liu,Mei Chang,Hua Ai,Paul F. Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-05.

Selective deposition of conductive cap for fully-aligned-via (fav)

Номер патента: WO2021158748A1. Автор: Xinghua Sun,Kai-Hung YU,Yen-Tien Lu,Angelique RALEY. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-08-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: NL2031257B1. Автор: Didden Arjen,Kudlacek Pavel. Владелец: Leydenjar Tech B V. Дата публикации: 2023-09-20.

Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: WO2023172140A1. Автор: Pavel KUDLACEK,Arjen DIDDEN. Владелец: Leydenjar Technologies B.V.. Дата публикации: 2023-09-14.

Selective deposition of metal silicides

Номер патента: US20180342395A1. Автор: Ellie Yieh,Jong Choi,Srinivas Nemani,Namsung KIM,Raymond Hung,Christopher AHLES,Andrew Kummel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Method for enabling self-aligned lithography on metal contacts and selective deposition using free-standing vertical carbon structures

Номер патента: WO2018212905A1. Автор: Steven Verhaverbeke,Ziqing Duan,Abhijit Basu Mallick,Kurtis LESCHKIES. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-22.

Method for enabling self-aligned lithography on metal contacts and selective deposition using free-standing vertical carbon structures

Номер патента: US20180337061A1. Автор: Steven Verhaverbeke,Ziqing Duan,Abhijit Basu Mallick,Kurtis LESCHKIES. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-22.

Process for selectively depositing a nickel-boron coating over a metallurgy pattern on a dielectric substrate and products produced thereby

Номер патента: CA1207464A. Автор: Donald W. Baudrand,Arnold F. Schmeckenbecher,Rebecca P. Fleming,John J. Gniewek,Joseph M. Harvilchuck. Владелец: Richardson Chemical Co. Дата публикации: 1986-07-08.

Selective deposition of silicon oxide on dielectric surfaces relative to metal surfaces

Номер патента: US11898240B2. Автор: Michael Givens,Eva Tois,Giuseppe Alessio Verni,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Daniele Chiappe,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-13.

Area selective deposition of metal containing films

Номер патента: US20210189146A1. Автор: Jean-Marc Girard,Wontae NOH,Jooho Lee. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2021-06-24.

Methods for selective deposition on silicon-based dielectrics

Номер патента: WO2019023001A1. Автор: Mark Saly,Bhaskar Jyoti Bhuyan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-01-31.

Selective deposition for sub 20 nm pitch euv patterning

Номер патента: US20240055255A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,John Sudijono,Zeqing Shen,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Selective deposition for sub 20 nm pitch euv patterning

Номер патента: WO2024030572A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,John Sudijono,Zeqing Shen,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-08.

Pre-treatment method to improve selectivity in a selective deposition process

Номер патента: WO2020033171A1. Автор: Dennis Hausmann,Nagraj Shankar,Elham Mohimi,Pengyi Zhang,Paul C. LEMAIRE,Kashish SHARMA,Alexander R. Fox,Kapu Sirish Reddy,David Charles Smith. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-02-13.

Thin film electrode separation method using thermal expansion coefficient

Номер патента: EP3683824A1. Автор: Ha Na Park,Seung-A LEE,Ha-Chul Jung,Jin-woo Ahn,Young-Jin Kim. Владелец: OSONG MEDICAL INNOVATION FOUNDATION. Дата публикации: 2020-07-22.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Using sub-resolution openings to aid in image reversal, directed self-assembly, and selective deposition

Номер патента: US09633847B2. Автор: Mark H. Somervell,Benjamen M. Rathsack. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma monitoring method and plasma monitoring system

Номер патента: US20150179417A1. Автор: Seiji Samukawa,Tomohiko Tatsumi. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma dicing method and plasma dicing apparatus

Номер патента: US20150262879A1. Автор: Takayuki Sakai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Platform and method of operating for integrated end-to-end area-selective deposition process

Номер патента: US11302588B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily,Jason Mehigan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-12.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: SG11201809012PA. Автор: AJAY Kumar,James S Papanu,Brad Eaton,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Alexander N Lerner,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Device for performing atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition at low temperature

Номер патента: WO2018050758A1. Автор: Mathieu Gerard,Nicolas Boscher,Patrick Choquet,Kamal Baba,Simon Bulou,Miguel Quesada Gonzalez. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Дата публикации: 2018-03-22.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Dielectric on dielectric selective deposition using aniline passivation

Номер патента: US20240120195A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,James Huang,Keith T. Wong,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Dielectric-on-dielectric selective deposition using aniline passivation

Номер патента: WO2024076587A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,James Huang,Keith T. Wong,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2024-04-11.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Selective Deposition of Metal-Organic Frameworks

Номер патента: US20190198391A1. Автор: Silvia Armini,Ivo STASSEN,Rob AMELOOT,Mikhail Krishtab. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-06-27.

Selective deposition method to form air gaps

Номер патента: US20230360964A1. Автор: Chiyu Zhu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-09.

Self-assembled monolayer for selective deposition

Номер патента: US11967523B2. Автор: Xiangjin Xie,Kevin Kashefi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Self-assembled monolayer for selective deposition

Номер патента: WO2023064016A1. Автор: Xiangjin Xie,Kevin Kashefi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Dielectric barrier-type plasma generation device and plasma discharge initiation method for dielectric barrier-type plasma generation device

Номер патента: EP4120803A1. Автор: Takahiro Hiraoka,Kensuke Nakamura,Takanori Samejima. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-01-18.

Process and aparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2009073292A1. Автор: Robert P. Haley,Mark G.C. Vreys,Christina A. Rhoton,Alphonsus J.P. De Rijcke. Владелец: Dow Global Technologies Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Diamond producing method and DC plasma enhanced CVD apparatus

Номер патента: US09534315B2. Автор: Hitoshi Noguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Diamond producing method and dc plasma enhanced cvd apparatus

Номер патента: US20170073836A1. Автор: Hitoshi Noguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-16.

Electrode active material grown by plasma-enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: GB2595877A. Автор: Paul Shashi. Владелец: De Montfort University. Дата публикации: 2021-12-15.

Apparatus and method for inductively-coupled-plasma-enhanced ionized physical-vapor deposition

Номер патента: WO1999027153A1. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Cvc, Inc.. Дата публикации: 1999-06-03.

Integration of fully aligned via through selective deposition and resistivity reduction

Номер патента: US20240030062A1. Автор: Dennis M. Hausmann,Paul C. LEMAIRE,Kashish SHARMA,Arpan Pravin Mahorowala,Pankaj Ghanshyam Ramnani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Method for selective deposition of a semiconductor material

Номер патента: US8492273B2. Автор: Simone Severi,Peter Verheyen,George Bryce. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2013-07-23.

Integration of fully aligned via through selective deposition and resistivity reduction

Номер патента: WO2022221881A1. Автор: Dennis M. Hausmann,Paul C. LEMAIRE,Kashish SHARMA,Arpan Pravin Mahorowala,Pankaj Ghanshyam Ramnani. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-10-20.

Method for Selective Deposition of a Semiconductor Material

Номер патента: US20120034762A1. Автор: Simone Severi,Peter Verheyen,George Bryce. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2012-02-09.

Selective deposition of metal oxides using silanes as an inhibitor

Номер патента: US20230386831A1. Автор: Dennis M. Hausmann,Paul C. LEMAIRE,Kashish SHARMA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Selective deposition of etch-stop layer for enhanced patterning

Номер патента: US11869770B2. Автор: Jon Henri,Nagraj Shankar,Elham Mohimi,Pengyi Zhang,Kapu Sirish Reddy,Bhavin Jariwala,Arpan Pravin Mahorowala. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Method for depositing microcrystalline silicon and monitor device of plasma enhanced deposition

Номер патента: US20110136269A1. Автор: Chia-Hao Chang,Chen-Chung Du,Jen-Rong Huang,Muh-Wang Liang,Sheng-Lang Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-06-09.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Light emitters on transition metal dichalcogenides directly converted from thermally and electrically conductive substrates and method of making the same

Номер патента: US20200328079A1. Автор: Lain-Jong Li,Chao Zhao,Boon Siew Ooi,Tien Khee Ng,Ahmed Y. ALYAMENI,Munir M. ELDESOUKI. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2020-10-15.

Selective deposition process

Номер патента: WO1987003741A1. Автор: George Joseph Collins,Werner Adam Metz, Jr.. Владелец: NCR Corporation. Дата публикации: 1987-06-18.

Techniques and device structure based upon directional seeding and selective deposition

Номер патента: US20240040808A1. Автор: Sony Varghese,Kelvin Chan,M. Arif Zeeshan,Shantanu Kallakuri. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Schemes for Selective Deposition for Patterning Applications

Номер патента: US20180218914A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Atashi Basu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Techniques and device structure based upon directional seeding and selective deposition

Номер патента: US11956978B2. Автор: Sony Varghese,Kelvin Chan,M. Arif Zeeshan,Shantanu Kallakuri. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Process for selectively depositing highly-conductive metal films

Номер патента: WO2023150066A1. Автор: Thomas M. Cameron,Philip S.H. Chen,Bryan Clark Hendrix. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-08-10.

Process for selectively depositing highly-conductive metal films

Номер патента: US20230245894A1. Автор: Thomas M. Cameron,Philip S.H. Chen,Bryan Clark Hendrix. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method of forming vanadium oxide films and vanadium oxide thin-films prepared thereby

Номер патента: US6156395A. Автор: Ping Liu,David K. Benson,C. Edwin Tracy,Ji-Guang Zhang,John A. Turner. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-12-05.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20220025515A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20180010245A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Method of obtaining a graded PECVD layer and plasma source assembly.

Номер патента: NL2016487A. Автор: Willemijn Petronel Elisabeth Lamers Machteld,Wouter Weeber Arthur. Владелец: STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND. Дата публикации: 2017-10-02.

Method of obtaining a graded pecvd layer and plasma source assembly

Номер патента: WO2017164742A1. Автор: Arthur Wouter Weeber,Machteld Willemijn Petronel Elisabeth Lamers. Владелец: STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND. Дата публикации: 2017-09-28.

Selective Deposition for Interdigitated Patterns in Solar Cells

Номер патента: US20200091368A1. Автор: Jef Poortmans,Menglei Xu,Twan Bearda,Hariharsudan SIVARAMAKRISHNAN RADHAKRISHNAN. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2020-03-19.

Selective deposition for interdigitated patterns in solar cells

Номер патента: US10892377B2. Автор: Jef Poortmans,Menglei Xu,Twan Bearda,Hariharsudan SIVARAMAKRISHNAN RADHAKRISHNAN. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-01-12.

Water washable thermal and plasma resistant coating for laser interactive applications

Номер патента: WO2020176457A1. Автор: John Cleaon Moore. Владелец: John Cleaon Moore. Дата публикации: 2020-09-03.

Water washable thermal and plasma resistant coating for laser interactive applications

Номер патента: EP3931272A1. Автор: John Cleaon Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-05.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: WO2024168346A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: US20240282546A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Methods of making an unsupported article of a semiconducting material using thermally active molds

Номер патента: EP2643501A2. Автор: Balram Suman,Alex Usenko,Sergey Potapenko,Lili Tian. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2013-10-02.

Methods of making an unsupported article of a semiconducting material using thermally active molds

Номер патента: WO2012071365A2. Автор: Balram Suman,Alex Usenko,Sergey Potapenko,Lili Tian. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2012-05-31.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Thermally and electrically conductive adhesive composition

Номер патента: US20170210951A1. Автор: Shintaro Abe,Rikia Furusho. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2017-07-27.

Inflatable non-imaging solar concentrator based concentrating hybrid solar thermal and photovoltaic system powered water desalination system

Номер патента: US20210061678A1. Автор: Yonghua Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-03-04.

Precursor Based Method of Synthesis and Fabrication of Hybrid Lighting Phosphors with High Quantum Efficiency, and Significantly Enhanced Thermal and Photostability

Номер патента: US20190292450A1. Автор: YANG FANG,WEI Liu,Jing Li. Владелец: Rutgers State University of New Jersey. Дата публикации: 2019-09-26.

Article and process for selective deposition

Номер патента: US09809882B2. Автор: Owen Hildreth. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-11-07.

Method of selective metal deposition using separated reactant activation and plasma discharging zones

Номер патента: WO2024123432A1. Автор: Jiang Lu,Joung Joo Lee,Avgerinos V. Gelatos,Joseph Hernandez,Xianmin Tang,Dien-Yeh Wu,Weifeng Ye,Yiyang WAN,Ying-Bing JIANG,Gary HOW. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US6412437B1. Автор: Sujit Sharan,Craig M. Carpenter,Philip H. Campbell,Allen P. Mardian. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-02.

Selective Deposition of Thin Films with Improved Stability

Номер патента: US20240110284A1. Автор: Prayudi LIANTO,Guan Huei See,Deenesh Padhi,Sean M. Seutter,Peng Suo,Chris Liu,Kevin Hsiao,Zongbin Wang,Balamurugan RAMASAMY,Chieh-Wen Lo,Lulu XIONG,Shengwei ZENG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Selective deposition of thin films with improved stability

Номер патента: WO2024072923A1. Автор: Prayudi LIANTO,Guan Huei See,Deenesh Padhi,Sean M. Seutter,Peng Suo,Chris Liu,Kevin Hsiao,Zongbin Wang,Balamurugan RAMASAMY,Chieh-Wen Lo,Lulu XIONG,Shengwei ZENG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma generating method, plasma generating apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20070193512A1. Автор: Kenji Kato,Hitoshi Yoneda,Akinori Ebe,Hiroshige Deguchi,Yuichi Setsuhara. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-23.

Plasma generation apparatus and plasma generation method

Номер патента: US09960011B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sang-Won Lee,Young-Rok Kim,Yong-Gwan Lee,Sae-Hoon Uhm,Jin-Joong Kim,Kyu-Hun Lee. Владелец: Plasmart Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: WO2023199450A1. Автор: Mamoru Yakushiji,Kenichi Kuwahara,Andre Amend. Владелец: Hitachi High-Tech Corporation. Дата публикации: 2023-10-19.

Self-alignment of metal and via using selective deposition

Номер патента: US09837314B2. Автор: Jeffrey Smith,Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Self-alignment of metal and via using selective deposition

Номер патента: WO2017136577A1. Автор: Jeffrey Smith,Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2017-08-10.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: WO2024091612A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-05-02.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: US20240162042A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma post-processing apparatus and plasma post-processing method using the same

Номер патента: US20240062992A1. Автор: Daesoo Kim,Sanggab Kim,Daewon CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Plasma poisoning to enable selective deposition

Номер патента: US09947539B2. Автор: Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Plasma poisoning to enable selective deposition

Номер патента: US09716005B1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Method and apparatus for forming self-aligned via with selectively deposited etching stop layer

Номер патента: US09659864B2. Автор: Shau-Lin Shue,Tien-I Bao,Hai-Ching Chen,Yung-Hsu WU,Jung-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method of selectively depositing glass on semiconductor devices

Номер патента: US3895127A. Автор: Robert Benedict Comizzoli. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1975-07-15.

Plasma poisoning to enable selective deposition

Номер патента: US20170323778A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-09.

Directional selective deposition

Номер патента: EP4399736A1. Автор: Ellie Y. Yieh,Bhargav S. CITLA,Joshua RUBNITZ,Soham ASRANI,Srinivas D. NEWMANI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Atomic layer etch and selective deposition process for extreme ultraviolet lithography resist improvement

Номер патента: US12062538B2. Автор: Liu Yang,YANG Pan,Samantha S. H. Tan,Da Li,Andrew Liang,Jengyi Yu,Richard Wise,Boris VOLOSSKIY,Chen-Wei Liang,Ge YUAN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Selective deposition of diamond in thermal vias

Номер патента: WO2015027080A2. Автор: Gregory Lewis,Karl D. Hobart,Ioulia Smorchkova,Bradford B. Pate,Vincent Gambin,Andrew D. Koehler,Travis J. Anderson,Tatyana I. Feygelson,Marko J. Tadjer,Joshua D. Caldwell,Mark Goorsky,Eugene A. Imhoff,Jeff McKay,Rajinder S. Sandhu. Владелец: Northrop Grumman Systems Corporation. Дата публикации: 2015-02-26.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Selective Deposition of Passivating Layer During Spacer Etching

Номер патента: US20240258108A1. Автор: Shihsheng Chang,Eric Chih-Fang Liu,Ya-Ming Chen,Petr Biolsi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Deposited film formation method utilizing selective deposition by use of alkyl aluminium hydride.

Номер патента: MY107418A. Автор: MASU Kazuya,Mikoshiba Nobuo,Tsubouchi Kazuo. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 1995-12-30.

Deposited film formation method utilizing selective deposition by use of alkyl aluminium

Номер патента: SG45388A1. Автор: Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 1998-01-16.

Integrated circuits including selectively deposited metal capping layers on copper lines and methods for fabricating the same

Номер патента: US09484252B2. Автор: Moosung Chae,Larry Zhao. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Gate cut critical dimension shrink and active gate defect healing using selective deposition

Номер патента: US20200135575A1. Автор: Marc Bergendahl,Andrew Greene,Yann Mignot,Ekmini A. De Silva,Gangadhara Raja MUTHINTI,Alex Joseph Varghese,Dallas Lea,Matthew T. Shoudy. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Self-aligned metallization for semiconductor device and process using selectively deposited tungsten

Номер патента: US4937657A. Автор: Janet M. DeBlasi,Paulus Z. A. van der Putte. Владелец: Signetics Corp. Дата публикации: 1990-06-26.

Plasma edge ring, plasma etching apparatus including the same, and plasma etching method using the same

Номер патента: US20230142436A1. Автор: Sang Ki Nam,Hyunjoo Lee,Young Hyun Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Wafer dicing with wide kerf by laser scribing and plasma etching hybrid approach

Номер патента: US20140346641A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Aparna Iyer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-11-27.

Installation of plasma-enhanced deposition and method for production of polycrystalline silicon

Номер патента: RU2404287C2. Автор: Мохд А. АСЛАМИ,Дау ВУ,Чарльз ДЕЛЮКА. Владелец: СИЛИКА ТЕК, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2010-11-20.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Thermally and electrically conductive structure, method of applying a carbon coating to same, and method of reducing a contact resistance of same

Номер патента: US09669425B2. Автор: Nachiket Raravikar,Linda Shekhawat. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Switching device having a thermal and electromagnetic release

Номер патента: CA2582319A1. Автор: Albrecht Vogel,Patrick Claeys. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-01.

Thermally and electrically conductive structure, method of applying a carbon coating to same, and method of reducing a contact resistance of same

Номер патента: US20090061125A1. Автор: Nachiket R. Raravikar,Linda A. Shekhawat. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Thermally and electrically conductive structure, method of applying a carbon coating to same, and method of reducing a contact resistance of same

Номер патента: US20120141664A1. Автор: Nachiket R. Raravikar,Linda A. Shekhawat. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Thermally and electrically conductive structure, method of applying a carbon coating to same, and method of reducing a contact resistance of same

Номер патента: US20150367378A1. Автор: Nachiket Raravikar,Linda Shekhawat. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Thermally and electrically conductive structure, method of applying a carbon coating to same, and method of reducing a contact resistance of same

Номер патента: US20130216828A1. Автор: Nachiket Raravikar,Linda Shekhawat. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-22.

Self-aligned via structure by selective deposition

Номер патента: US11756878B2. Автор: Shau-Lin Shue,Hai-Ching Chen,Shao-Kuan Lee,Cheng-Chin Lee,Hsin-Yen Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Novel self-align via structure by selective deposition

Номер патента: US20240021517A1. Автор: Shau-Lin Shue,Hai-Ching Chen,Shao-Kuan Lee,Cheng-Chin Lee,Hsin-Yen Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor process using selective deposition

Номер патента: US5010030A. Автор: James R. Pfiester,James D. Hayden. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1991-04-23.

Method for threshold voltage tuning through selective deposition of high-k metal gate (HKMG) film stacks

Номер патента: US12020990B2. Автор: Jeffrey Smith,Anton J. deVilliers,Kandabara Tapily,H. Jim Fulford,Daniel Chanemougame,Mark Gardner,Lars Liebmann. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Method for threshold voltage tuning through selective deposition of high-k metal gate (hkmg) film stacks

Номер патента: US20220148924A1. Автор: Jeffrey Smith,Anton J. deVilliers,Kandabara Tapily,H. Jim Fulford,Daniel Chanemougame,Mark Gardner,Lars Liebmann. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Metal surface blocking molecules for selective deposition

Номер патента: WO2023191837A1. Автор: Muthukumar Kaliappan,Feng Q. Liu,Mark Saly,Michael L. McSwiney,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Michael Haverty,Xiangjin Xie,Aaron Dangerfield. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-10-05.

Etching back and selective deposition of metal gate

Номер патента: US12068393B2. Автор: Weng Chang,Cheng-Lung Hung,Mao-Lin Huang,Peng-Soon Lim. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Method for threshold voltage tuning through selective deposition of high-k metal gate (hkmg) film stacks

Номер патента: US20210013111A1. Автор: Jeffrey Smith,Anton J. deVilliers,Kandabara Tapily,H. Jim Fulford,Daniel Chanemougame,Mark Gardner,Lars Liebmann. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Etching back and selective deposition of metal gate

Номер патента: US20240371973A1. Автор: Weng Chang,Cheng-Lung Hung,Mao-Lin Huang,Peng-Soon Lim. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Ultra-thin metal wires formed through selective deposition

Номер патента: US09558999B2. Автор: Chih-Chao Yang,Juntao Li,Yunpeng Yin. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Surface poisoning using ALD for high selectivity deposition of high aspect ratio features

Номер патента: US09460932B2. Автор: Jiang Lu,Paul F. Ma,Guodan Wei. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Selective deposition of tungsten on TiSi2

Номер патента: US5138432A. Автор: James W. Mayer,David Stanasolovich,Leslie H. Allen. Владелец: Cornell Research Foundation Inc. Дата публикации: 1992-08-11.

Method of selectively depositing a metal film

Номер патента: US6013575A. Автор: Hitoshi Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2000-01-11.

Area-selective deposition of metal nitride to fabricate devices

Номер патента: US11882770B2. Автор: Rudy J. Wojtecki,Damon Brooks Farmer,Alexander Friz,Matthew W. Copel,Noel Arellano,Charles Thomas Rettner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Selective deposition of organic films

Номер патента: GB2336553A. Автор: Jeremy Henley Burroughes,Karl Pichler,David John Lacey,Craig Edward Murphy. Владелец: Cambridge Display Technology Ltd. Дата публикации: 1999-10-27.

Integrated circuits including selectively deposited metal capping layers on copper lines and methods for fabricating the same

Номер патента: US20150194344A1. Автор: Moosung Chae,Larry Zhao. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-07-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Selective deposition of doped silion-germanium alloy on semiconductor substrate

Номер патента: US5242847A. Автор: Mehmet C. Ozturk,Douglas T. Grider,Mahesh K. Sanganeria,Stanton P. Ashburn. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 1993-09-07.

Method for fabricating a MOSFET device, with local channel doping, self aligned to a selectively deposited tungsten gate

Номер патента: US5688706A. Автор: Horng-Huei Tseng. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Interconnection structure of selective deposition process

Номер патента: WO2021046212A1. Автор: Mehul B. Naik,He REN,Shi YOU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-11.

Area selective deposition for zero via enclosure and extremely small metal line end space

Номер патента: US20230282514A1. Автор: Chien-Wen Lai,Shih-Wei Peng,Jiann-Tyng Tzeng,Chih-Min HSIAO,Yu-Luen DENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of uv release dicing tape for film frame wafer application

Номер патента: WO2014062582A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-04-24.

Plasma process monitoring apparatus and plasma processing apparatus comprising the same

Номер патента: US20200013596A1. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2020-01-09.

Laser and plasma etch wafer dicing with a double sided uv-curable adhesive film

Номер патента: WO2014004917A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-03.

Power-delivery mechanism and apparatus of plasma-enhanced chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20080295771A1. Автор: Kuan-Chou Chen,Fu-Ching Tung,Yuan-Yuan Chiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2008-12-04.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Plasma enhanced nitride layer

Номер патента: WO2006039028A1. Автор: Jian Chen,Tab A. Stephens,Stanley M. Filipiak,Yongjoo Jeon. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2006-04-13.

Microelectronic Assembly With Thermally and Electrically Conductive Underfill

Номер патента: US20150017763A1. Автор: Belgacem Haba,Simon Mcelrea. Владелец: Invensas LLC. Дата публикации: 2015-01-15.

Technique for enhancing thermal and mechanical characteristics of an underfill material of a substrate/die assembly

Номер патента: US20060246627A1. Автор: Frank Feustel,Matthias Lehr,Frank Kuechenmeister. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-02.

Silicon on diamond thermal and shielding mitigation

Номер патента: US20210104447A1. Автор: Je-Hsiung Lan,Jonghae Kim,Ranadeep Dutta. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2021-04-08.

Selective Deposition of Barrier Layer

Номер патента: US20240266211A1. Автор: Shau-Lin Shue,Hai-Ching Chen,Hsin-Yen Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Dry chamber clean using thermal and plasma processes

Номер патента: WO2024076679A1. Автор: Chen Wang,Daniel Peter,Yoko Yamaguchi,Jason Stevens,Jeremy Todd TUCKER,Alan J. Jensen,Richard Wise,Boris VOLOSSKIY,Jerome S. Hubacek,Timothy William Weidman,Samantha S.H. Tan,Jothilingam RAMALINGAM,Shahd Hassan Labib,Shambhu KC,Andrew Pratheep LUSHINGTON,Michael Thomas MYERS,Seng ONG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-11.

Selective deposition of barrier layer

Номер патента: US11948834B2. Автор: Shau-Lin Shue,Hai-Ching Chen,Hsin-Yen Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma treatment apparatus and plasma treatment method

Номер патента: US20060269691A1. Автор: Kazuo Saki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-30.

Method of selectively depositing a metal on a surface of a substrate

Номер патента: US4261800A. Автор: William M. Beckenbaugh,Michael A. De Angelo. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1981-04-14.

Selectively depositing a metal pattern on the surface of a laminar film

Номер патента: CA1137833A. Автор: David D. Thornburg,Thomas J. Kloffenstein, Jr.. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1982-12-21.

Molecular layer deposition carbon masks for direct selective deposition of silicon-containing materials

Номер патента: US20240105499A1. Автор: XIANG Ji,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praket Prakash JHA,Zeqing Shen,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Molecular layer deposition carbon masks for direct selective deposition of silicon-containing materials

Номер патента: WO2024073272A1. Автор: XIANG Ji,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praket Prakash JHA,Zeqing Shen,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Selective deposition of silicon using deposition-treat-etch process

Номер патента: US11769666B2. Автор: Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Rui CHENG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Selective deposition and planarization for a CMOS image sensor

Номер патента: US09960200B1. Автор: Sheng-Chan Li,Cheng-Hsien Chou,Cheng-Yuan Tsai,Sheng-Chau Chen,Chih-Hui Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Selective deposition and nitridization of bottom electrode metal for mram applications

Номер патента: US20180240968A1. Автор: Chih-Chao Yang,Benjamin D. Briggs,Michael RIZZOLO,Christopher J. Penny,Joe Lee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Vertical floating gate NAND with selectively deposited ALD metal films

Номер патента: US09806090B2. Автор: Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Thomas Jongwan Kwon,George Matamis,Senaka Kanakamedala. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-10-31.

Microelectronic structure by selective deposition

Номер патента: US20080001225A1. Автор: Steven Holmes,Toshiharu Furukawa,David Horak,Charles Koburger. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-01-03.

Microelectronic structure by selective deposition

Номер патента: US20090072317A1. Автор: Toshiharu Furukawa,Steven J. Holmes,David V. Horak,Charles W. Koburger, III. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-03-19.

Methods of selective deposition of heavily doped epitaxial SiGe

Номер патента: US7517775B2. Автор: Yihwan Kim,Arkadii V. Samoilov. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-04-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Method for preparing organic light emitting diode by using thermal transfer film

Номер патента: US20190288242A1. Автор: Hung-Hsin Shih. Владелец: Chien Hwa Coating Technology Inc. Дата публикации: 2019-09-19.

Method of making printed circuit board using thermal transfer techniques

Номер патента: US5826329A. Автор: Joseph D. Roth. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1998-10-27.

High voltage semiconductor device having improvements to the dv/dt capability and plasma spreading

Номер патента: CA1163020A. Автор: Victor A.K.. Temple. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1984-02-28.

Plasma enhanced chemical vapor deposited vertical resistor

Номер патента: GB2186116A. Автор: Leopoldo D Yau,Shih-Ou Chen,Yih Shung Lin. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 1987-08-05.

Semiconductor device design methods and conductive bump pattern enhancement methods

Номер патента: US09760670B2. Автор: Shin-puu Jeng,Shang-Yun Hou,Wei-Cheng Wu,Tzu-Yu Wang,Kuo-Ching Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of assembling an electronic module, which provides improved thermal and overall dimensions

Номер патента: RU2603014C2. Автор: Евгений Александрович Букварёв,Алексей Александрович Кузин,Татьяна Викторовна Букварева. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева". Дата публикации: 2016-11-20.

Resistive memory device and reliability enhancement method thereof

Номер патента: US20220069209A1. Автор: Frederick Chen,Chia-Wen Cheng,Ping-Kun Wang,Ming-Che Lin,Chang-Tsung Pai,Tzu-Yun Huang,He-Hsuan CHAO. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

System and method for adaptive thermal and performance management in electronic devices

Номер патента: US09690340B2. Автор: Nicolas A. KURCZEWSKI,Meenakshi Gupta,James W. Edwards,Brian R. Peil,Nicholas R. Weber. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Method of using laser welding to ohmic contact of metallic thermal and diffusion barrier layer for foil-based metallization of solar cells

Номер патента: US09634178B1. Автор: Nils-Peter Harder,Robert Woehl,Gabriel Harley,Matthieu Moors,Taeseok Kim,Jens-Dirk MOSCHNER,Michel Arsène Olivier Ngamo Toko. Владелец: SunPower Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Enhanced bulk heterojunction devices prepared by thermal and solvent vapor annealing processes

Номер патента: US09768402B2. Автор: Stephen R. Forrest,Mark E. Thompson,Siyi Wang,Guodan Wei. Владелец: University of Southern California USC. Дата публикации: 2017-09-19.

Hybrid solar thermal and photovoltaic panel and heat pump and non-tracking non-imaging solar concentrator based csp stabilized power generation system

Номер патента: US20220060148A1. Автор: Yonghua Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-24.

Process and manufacture of low-dimensional materials supporting both self-thermalization and self-localization

Номер патента: CA3045318A1. Автор: Patrick Curran. Владелец: Seminuclear Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Liquid metal paste for thermal and electrical connections

Номер патента: US5056706A. Автор: Richard D. Nelson,Colin A. MacKay,Thomas P. Dolbear. Владелец: Microelectronics and Computer Technology Corp. Дата публикации: 1991-10-15.

In-situ monitoring and method to determine accumulated printed wiring board thermal and/or vibration stress fatigue using a mirrored monitor chip and continuity circuit

Номер патента: US8461588B2. Автор: Ted R. Schnetker. Владелец: Hamilton Sundstrand Corp. Дата публикации: 2013-06-11.

Thermally and electrically conductive apparatus

Номер патента: CA2606687C. Автор: Ingo Speier. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2015-08-11.

Semiconductor package having a thermally and electrically conductive spacer

Номер патента: US20230223312A1. Автор: Ewald Guenther,Christian Neugirg,Peter Scherl,Adrian Lis. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-07-13.

Triple hybrid solar concentrated type system for the simultaneous production of electrical, thermal and cooling energy

Номер патента: EP1388176A1. Автор: Alexandros Papadopoulos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-11.

Apparatus for selective deposition of nanotubes, using a charging element, a template and a filter

Номер патента: EP3013737A1. Автор: Catherine White,Jane Elizabeth Tateson. Владелец: British Telecommunications plc. Дата публикации: 2016-05-04.

Selective deposition of thin film dielectrics using surface blocking chemistry

Номер патента: US09911591B2. Автор: David Thompson,Mark Saly,Bhaskar Jyoti Bhuyan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Selective deposition of circuit-protective polymers

Номер патента: EP1406977A1. Автор: Alphonsus V. Pocius,Rita A. Latourelle. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2004-04-14.

Plasma enhancement member, and plasma supplying apparatus and medical instrument including the same

Номер патента: US20180366298A1. Автор: Youngmin Kim,Jeonghae CHOI,Seeun YUN. Владелец: Feagle Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

METHOD OF QUALITY DETERMINING OF DEPOSITION MASK, METHOD OF MANUFACTURING DEPOSITION MASK, METHOD OF MANUFACTURING DEPOSITION MASK DEVICE, METHOD OF SELECTING DEPOSITION MASK AND DEPOSITION MASK

Номер патента: US20210242405A1. Автор: Ikenaga Chikao. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-08-05.

High frequency power source, plasma processing apparatus, inspection method for plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20020113738A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Laser-pumped light source and plasma ignition method

Номер патента: RU2732999C1. Автор: Владимир Михайлович Кривцун,Александр Андреевич Лаш,Дмитрий Борисович Абраменко,Роберт Рафилевич Гаязов,Юрий Борисович Кирюхин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН". Дата публикации: 2020-09-28.

Plasma sources and plasma processing apparatus thereof

Номер патента: US20230369017A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma processing apparatus and plasma state estimation method

Номер патента: US20240030015A1. Автор: Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Atomic-scale processing method by combining extreme ultraviolet light and plasma

Номер патента: US20220336189A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-10-20.

Weld portion inspection method using thermal image sensing

Номер патента: US20220357294A1. Автор: Hang June Choi,Mun Chae Joung. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

System and method of extracting or inspecting a feature of an object using thermal imaging, and a method of inspecting an object of a garment product

Номер патента: US20230217087A1. Автор: Yan Nei LAW,Kin Sun CHAN,Zi Qiao LAM. Владелец: Logistics and Supply Chain Multitech R&D Centre Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

System and method of extracting or inspecting a feature of an object using thermal imaging, and a method of inspecting an object of a garment product

Номер патента: US11979646B2. Автор: Yan Nei LAW,Kin Sun CHAN,Zi Qiao LAM. Владелец: Logistics and Supply Chain Multitech R&D Centre Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Method and apparatus for tuning an rf matching network in a plasma enhanced semiconductor wafer processing system

Номер патента: WO2003090351A2. Автор: John Holland,Nicolas Gani,Valentin Todorow. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2003-10-30.

Plasma-enhanced chemical vapour deposition apparatus

Номер патента: WO2023128764A1. Автор: Pavel KUDLACEK,Arjen DIDDEN. Владелец: Leydenjar Technologies B.V. Дата публикации: 2023-07-06.

Thermal and vibrational break for high-temperature gas tubes in a solid-oxide fuel cell

Номер патента: EP1522108A1. Автор: Sean Michael Kelly,Bernhard Edlinger,Curtis A. Richardson,Karl Jacob Haltiner. Владелец: Bayerische Motoren Werke AG. Дата публикации: 2005-04-13.

Thermal and vibrational break for high-temperature gas tubes in a solid-oxide fuel cell

Номер патента: EP1522108A4. Автор: Sean Michael Kelly,Bernhard Edlinger,Karl Jacob Haltiner,Curtis A Richardson. Владелец: Bayerische Motoren Werke AG. Дата публикации: 2008-08-20.

Array antenna bandwidth enhancement method based on phase regulation and control, apparatus and array antenna

Номер патента: US20240088571A1. Автор: Xiaojuan WANG,Junhong Wang,Yujian Li,Fanqi Sun. Владелец: Beijing Jiaotong University. Дата публикации: 2024-03-14.

Multi-spectral artificial target device and a method for producing the same as well as a method of generating a thermal and radar signature of an object with an artificial target device

Номер патента: US12018920B2. Автор: Terho Kololuoma,Arttu HUTTUNEN. Владелец: Dobbelgaenger Oy. Дата публикации: 2024-06-25.

Core-shell structure with magnetic, thermal, and optical characteristics and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1710811A3. Автор: Yuh-Jiuan Lin,Shian-Jy Jassy Wang,Chin-I Lin,Ming-Yao Chen,Wen-Hsian Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-09-02.

Contact element for mechanically, thermally and electrically contacting an energy store

Номер патента: US09543686B2. Автор: Armin Schuelke,Niko DORSCH,Arpad Imre. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Device, method and system to produce thermal and/or kinetic, and also electric energy

Номер патента: RU2414774C2. Автор: Ральф-Хеннинг ШТОЛЬТЕ,Мартин ЗАБАЛЛУС. Владелец: Дойчес Центрум Фюр Люфт-Унд Раумфарт Е.Ф.. Дата публикации: 2011-03-20.

Full field mask illumination enhancement methods and apparatus

Номер патента: US5601733A. Автор: William N. Partlo. Владелец: Cymer Inc. Дата публикации: 1997-02-11.

Thermal and vibrational break for high-temperature gas tubes in a solid-oxide fuel cell

Номер патента: WO2004001886A1. Автор: Sean Michael Kelly,Bernhard Edlinger,Curtis A. Richardson,Karl Jacob Haltiner. Владелец: Bayerische Motoren Werke Aktiengesellsha. Дата публикации: 2003-12-31.

Device for making surgical incisions with combined thermal and ionizing laser beams

Номер патента: CA2043072A1. Автор: Kurt E. Schirmer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-24.

Multi-spectral artificial target device and a method for producing the same as well as a method of generating a thermal and radar signature of an object with an artificial target device

Номер патента: US20230384064A1. Автор: Terho Kololuoma,Arttu HUTTUNEN. Владелец: Dobbelgaenger Oy. Дата публикации: 2023-11-30.

Single or multipole push button actuated excess current switch having thermal and/or electromagnetic trip

Номер патента: US3706057A. Автор: Jakob Ellenberger. Владелец: Ellenberger and Poensgen GmbH. Дата публикации: 1972-12-12.

Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09957618B2. Автор: Karen K. Gleason,Miles C. Barr,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-05-01.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Methods for forming a boron nitride film by a plasma enhanced atomic layer deposition process

Номер патента: US20230272527A1. Автор: Atsuki Fukazawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-31.

Electrical insulator for a plasma enhanced chemical vapor processor

Номер патента: US4761301A. Автор: Charles E. Ellenberger,Hayden K. Piper. Владелец: Pacific Western Systems Inc. Дата публикации: 1988-08-02.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

A plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: WO2006104863A3. Автор: Tadahiro Ishizaka,Kaoru Yamamoto,Tsukasa Matsuda,Jr Frankm Cerio. Владелец: Jr Frankm Cerio. Дата публикации: 2007-10-04.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

A plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: WO2006104864A2. Автор: Tadahiro Ishizaka,Kaoru Yamamoto. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2006-10-05.

DENSIFICATION AND REDUCTION OF SELECTIVELY DEPOSITED Si PROTECTIVE LAYER FOR MASK SELECTIVITY IMPROVEMENT IN HAR ETCHING

Номер патента: US20240222132A1. Автор: Minjoon PARK,JinYing Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Densification and reduction of selectively deposited si protective layer for mask selectivity improvement in har etching

Номер патента: WO2024144856A1. Автор: Minjoon PARK,JinYing Lin. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: US20050194354A1. Автор: Yoji Bito,Katsuhiko Onishi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-08.

Precursor based method of synthesis and fabrication of hybrid lighting phosphors with high quantum efficiency, and significantly enhanced thermal and photostability

Номер патента: WO2017205092A1. Автор: YANG FANG,WEI Liu,Jing Li. Владелец: Rutgers, The State University of New Jersey. Дата публикации: 2017-11-30.

Precursor based method of synthesis and fabrication of hybrid lighting phosphors with high quantum efficiency, and significantly enhanced thermal and photostability

Номер патента: EP3464298A1. Автор: YANG FANG,WEI Liu,Jing Li. Владелец: Rutgers State University of New Jersey. Дата публикации: 2019-04-10.

Thermal and/or electromagnetic interference (emi) management composites including silicone carbinols

Номер патента: US20240268090A1. Автор: Yuqin LI. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Thermal and/or electromagnetic interference (emi) management composites including silicone carbinols

Номер патента: EP4410870A1. Автор: Yuqin LI. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2024-08-07.

Thin thermally and chemically strengthened glass-based articles

Номер патента: US09957190B2. Автор: Timothy Michael Gross,John Christopher Thomas,Richard Orr Maschmeyer,Kevin Lee Wasson,Peter Joseph Lezzi,Charlene Marie Smith,John Philip Finkeldey,Linda GASKILL. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Thermally and/or photochemically crosslinked electroactive polymers in the manufacture of opto-electronic devices

Номер патента: US6107452A. Автор: Robert Dennis Miller,Gerrit Klaerner,John Campbell Scott. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2000-08-22.

Precursor based method of synthesis and fabrication of hybrid lighting phosphors with high quantum efficiency, and significantly enhanced thermal and photostability

Номер патента: WO2017205092A8. Автор: YANG FANG,WEI Liu,Jing Li. Владелец: Rutgers, The State University of New Jersey. Дата публикации: 2018-12-06.

Thermal- and uv-curing adhesive composition

Номер патента: US20220325152A1. Автор: Toshiki Natori. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2022-10-13.

Method for the selective deposition of tungsten on a silicon surface

Номер патента: US5387438A. Автор: Christoph Werner,Ignacio Ulacia. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1995-02-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and manufacturing method of nano-structured particles

Номер патента: KR100779082B1. Автор: 정우석,백문철,유용구. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2007-11-27.

Method for selectively depositing a polycrystalline diamond coating on silicon bases

Номер патента: RU2656627C1. Автор: Степан Андреевич Линник,Виталий Владимирович Охотников,Александр Валерьевич Гайдайчук. Владелец: Александр Валерьевич Гайдайчук. Дата публикации: 2018-06-06.

Catalyst and plasma assisted nucleation and renucleation of gas phase selective laser deposition

Номер патента: WO1993002846A1. Автор: Guisheng Zong,Harris L. Marcus,W. Richards Thissell. Владелец: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM. Дата публикации: 1993-02-18.

Methods and assemblies for selectively depositing molybdenum

Номер патента: US20240218501A1. Автор: Jan Willem Maes,Chiyu Zhu,Sukanya Datta. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Selective deposition

Номер патента: US09816180B2. Автор: Eva Tois,Suvi P. Haukka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-11-14.

Area selective deposition through surface silylation

Номер патента: US20240183035A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,John Sudijono,Zeqing Shen,Long Liu,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Xinke WANG,Jiecong Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Area selective deposition through surface silylation

Номер патента: WO2024112550A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,John Sudijono,Zeqing Shen,Long Liu,Bhaskar Jyoti Bhuyan,Xinke WANG,Jiecong Tang. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2024-05-30.

Methods of selective deposition of molybdenum

Номер патента: US20240035151A1. Автор: Mohith Verghese,Jose Alexandro Romero,Aniruddh Shekhawat,Kunal Bhatnagar,Rand Haddadin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Methods of selective deposition of molybdenum

Номер патента: WO2024025765A1. Автор: Mohith Verghese,Jose Alexandro Romero,Aniruddh Shekhawat,Kunal Bhatnagar,Rand Haddadin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-01.

Low temperature plasma-enhanced formation of integrated circuits

Номер патента: US5975912A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US20160083842A1. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-24.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US09828673B2. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Svt Associates Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma-enhanced deposition of titanium-containing films for various applications using amidinate titanium precursors

Номер патента: US20130089681A1. Автор: Christian Dussarrat,Clement Lansalot-Matras,Vincent M. Omarjee. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2013-04-11.

Atomic layer deposition using tin-based or germanium-based precursors

Номер патента: US20240287677A1. Автор: Jean-Sebastien Materne Lehn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Atomic layer deposition using tin-based or germanium-based precursors

Номер патента: WO2024173112A1. Автор: Jean-Sebastien Materne Lehn. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of coating deposition using dli-mocvd with repeated use of precursor compound

Номер патента: RU2699126C1. Автор: Фредерик ШУСТЕР,Франсис МОРИ,Александр МИШО,Мишель ПОН,Рафаэль БУАШО,Фернандо ЛОМЕЛЛО. Владелец: Коммиссариа А Л'Энержи Атомик Э Оз Энержи Альтернатив. Дата публикации: 2019-09-03.

Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus

Номер патента: US10220107B2. Автор: Yoshihiro Sakaguchi,Minoru Egawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-05.

Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus

Номер патента: US20170281813A1. Автор: Yoshihiro Sakaguchi,Minoru Egawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Method for depositing an in situ coating onto thermally and chemically loaded components of a fluidized bed reactor for producing high-purity polysilicon

Номер патента: CA3006924C. Автор: Simon PEDRON. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2020-01-07.

Impact and erosion resistant thermal and environmental barrier coatings

Номер патента: WO2013085625A9. Автор: Derek Hass,Balvinder Gogia. Владелец: DIRECTED VAPOR TECHNOLOGIES INTERNATIONAL. Дата публикации: 2013-10-31.

Plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US09404181B2. Автор: Chien-Nan Hsiao,Da-ren LIU,Wen-Hao Cho,Chih-Chieh YU,Meng-Yen Tsai,Chi-Chung Kei,Bo-Heng Liu. Владелец: NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES. Дата публикации: 2016-08-02.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Systems, compositions and methods for metal oxynitride deposition using high-base pressure reactive sputtering

Номер патента: WO2023163779A2. Автор: Jeffrey C. Grossman,Jatin Jayesh Patil. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-08-31.

Systems, compositions and methods for metal oxynitride deposition using high-base pressure reactive sputtering

Номер патента: WO2023163779A3. Автор: Jeffrey C. Grossman,Jatin Jayesh Patil. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for selective deposition and devices

Номер патента: US20110120757A1. Автор: David H. Levy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-26.

Methods of selective deposition of fine particles onto selected regions of a substrate

Номер патента: US20090124092A1. Автор: Guy Moshe Cohen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-05-14.

Selective deposition of metal barrier in damascene processes

Номер патента: US20240363403A1. Автор: Chia-Pang Kuo,Ya-Lien Lee,Chieh-Yi Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Selective deposition of metal barrier in damascene processes

Номер патента: US12068194B2. Автор: Chia-Pang Kuo,Ya-Lien Lee,Chieh-Yi Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Bonded assembly formed by hybrid wafer bonding using selectively deposited metal liners

Номер патента: US20220149002A1. Автор: Peter Rabkin,Masaaki Higashitani,Lin Hou,Yangyin Chen. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2022-05-12.

Selective deposition for integrated circuit interconnect structures

Номер патента: US20240258166A1. Автор: Shau-Lin Shue,Hai-Ching Chen,Shao-Kuan Lee,Cheng-Chin Lee,Hsin-Yen Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12002664B2. Автор: Masahiro Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274415A1. Автор: Masahiro Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Selective deposition of metal on metal nitride to form interconnect

Номер патента: US5187120A. Автор: Shein-Sen M. Wang. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1993-02-16.

Selective deposition of metal barrier in damascene processes and the structures formed thereof

Номер патента: US11837500B2. Автор: Chia-Pang Kuo,Ya-Lien Lee,Chieh-Yi Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Selective Deposition of Metal Barrier in Damascene Processes

Номер патента: US20240006234A1. Автор: Chia-Pang Kuo,Ya-Lien Lee,Chieh-Yi Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20200126770A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Physical contact layer for body-worn leadware using selective deposition

Номер патента: WO2013142507A1. Автор: David G. Sime,Richard Koble. Владелец: Soligie, Inc.. Дата публикации: 2013-09-26.

Physical contact layer for body-worn leadware using selective deposition

Номер патента: EP2827768A1. Автор: David G. Sime,Richard Koble. Владелец: Soligie Inc. Дата публикации: 2015-01-28.

Three-dimensional memory device and method of making thereof including non-conformal selective deposition of spacers in memory openings

Номер патента: US20240244844A1. Автор: Senaka Kanakamedala,Kartik SONDHI. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Alcohol And Plasma Enhanced Prechambers For Higher Efficiency, Lower Emissions Gasoline Engines

Номер патента: US20210131337A1. Автор: Daniel R. Cohn,Leslie Bromberg. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2021-05-06.

Monolithic or composite insulating part for plasma torch, in particular torch for plasma cutting, as well as device and plasma torch with this device

Номер патента: RU2691729C2. Автор: Франк ЛАУРИШ,Фолькер КРИНК,Тимо ГРУНДКЕ. Владелец: Кьельберг-Штифтунг. Дата публикации: 2019-06-18.

Device for generating crown discharge plasma and plasma reactor

Номер патента: RU2763742C2. Автор: Пьер ДЕ ЛИНАЖ,Стефан ЛЮНЕЛЬ. Владелец: Эйринспейс С.Е. Дата публикации: 2021-12-30.

Method and device for impact compression of material and plasma cathode for such device

Номер патента: RU2261494C2. Автор: Станислав Васильевич АДАМЕНКО,Станислав Васильевич АДАМЕНКО (UA). Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Протон 21". Дата публикации: 2005-09-27.

Conditioning a non-conductive substrate for subsequent selective deposition of a metal thereon

Номер патента: US4948707A. Автор: Voya R. Markovich,Carlos J. Sambucetti,Gary K. Lemon,Roy H. Magnuson,William H. Lawrence,Robert W. Johnson,Ralph E. Parsons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1990-08-14.

Memory cell that employs a selectively deposited reversible resistance-switching element and methods of forming the same

Номер патента: US20090001343A1. Автор: Michael W. Konevecki,April Schricker,Brad Herner. Владелец: SanDisk 3D LLC. Дата публикации: 2009-01-01.

Cooling pipe, electrode holder and electrode for plasma-arc burner and apparatus consisting of same and plasma-arc burner having same

Номер патента: RU2524919C2. Автор: Франк ЛАУРИШ,Ральф-Петер РАЙНКЕ,Фолькер КРИНК. Владелец: КЬЕЛЬБЕРГ ФИНСТЕРВАЛЬДЕ ПЛАЗМА УНД МАШИНЕН ГМБХ. Дата публикации: 2014-08-10.

Pulse plasma accelerator and plasma acceleration method

Номер патента: RU2253953C1. Автор: Г.А. Попов,В.Н. Яковлев,М.М. Орлов,Н.Н. Антропов,конов Г.А. Дь,Г.А. Дьяконов,В.К. Тютин. Владелец: Государственное научное учреждение "Государственный научно-исследовательский институт прикладной механики и электродинамики Московского авиационного института (государственного технического университета)" (ГНУ НИИ ПМЭ МАИ). Дата публикации: 2005-06-10.

Apparatus for providing stimulation based on radio frequency current and plasma

Номер патента: US20240198120A1. Автор: Ja Young Kim,Suk Bae Seo,Ho Joon Seo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

Connection Between a Plasma Torch Wearing Part and a Plasma Torch Wearing Part Holder, Plasma Torch Wearing Part and Plasma Torch Wearing Part Holder

Номер патента: US20100044351A1. Автор: Frank LAURISCH,Timo GRUNDKE,Ralf-Peter REINKE,Volker KRINK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-02-25.

Infant monitoring systems and methods using thermal imaging

Номер патента: US09843743B2. Автор: Nicholas Högasten,Katrin Strandemar,Andrew C. Teich,Theodore R. Hoelter,Jeffrey D. Frank,Earl R. Lewis,Arthur Stout. Владелец: Flir Systems Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Systems and methods that use thermal energy transfer devices to reduce thermal energy within environments

Номер патента: US20190297746A1. Автор: Jeffrey Scott Holland,Matthew Aaron Heller. Владелец: Lenovo Enterprise Solutions Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Single frame object tracking using thermal imaging

Номер патента: EP3583577A1. Автор: Ruben Rajagopalan,Harry Broers. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2019-12-25.

Auto-annotating objects using thermal imaging

Номер патента: US12026939B2. Автор: Ying Zheng,Hector Sanchez,Juan Terven. Владелец: Aifi Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

System and method for non-contact wetness detection using thermal sensing

Номер патента: EP3714242A1. Автор: Abhishek Mishra,Lav Agarwal,Arish SHAREEF,Sarah REDDY. Владелец: Smartclean Technologies Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-30.

Auto-annotating objects using thermal imaging

Номер патента: US20230049087A1. Автор: Ying Zheng,Hector Sanchez,Juan Terven. Владелец: AiFi Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Coverage enhancement method and related devices

Номер патента: WO2024098213A1. Автор: Yiwei DENG. Владелец: SHENZHEN TCL NEW TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2024-05-16.

Speech presence probability calculating method and system, speech enhancement method and system, and headphones

Номер патента: EP4227941A1. Автор: Xin Qi,Fengyun LIAO,Chengqian Zhang,Le Xiao. Владелец: Shenzhen Shokz Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-16.

Methods and systems for determining speech presence probability, speech enhancement methods and systems, and headphones

Номер патента: US20230260529A1. Автор: Xin Qi,Fengyun LIAO,Chengqian Zhang,Le Xiao. Владелец: Shenzhen Shokz Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Coverage enhancement method and related devices

Номер патента: WO2023137637A1. Автор: Yiwei DENG. Владелец: SHENZHEN TCL DIGITAL TECHNOLOGY LTD.. Дата публикации: 2023-07-27.

Coverage enhancement method and related devices

Номер патента: WO2023137636A1. Автор: Yiwei DENG. Владелец: Tcl Communication Technology (Chengdu) Limited. Дата публикации: 2023-07-27.

Transmission enhancement method, and apparatus

Номер патента: US20240349250A1. Автор: Yajun Zhu. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Image quality enhancing apparatus, image display apparatus, image quality enhancing method, and computer readable storage medium

Номер патента: US09824425B2. Автор: Haifeng Chen,Hiroki Matsuzaki,Masafumi HIGASHI,Reo AOKI,Tadayoshi KATAGIRI. Владелец: Eizo Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Coverage enhancement method and apparatus

Номер патента: AU2021302094A1. Автор: Kai Xu,Quanzhong Gao,Shaofeng Sun. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Enhanced method and apparatus for reducing congestion in dhcp network system

Номер патента: WO2008122146A1. Автор: Zhigang Zhang,Kui Gao,Jiansong Li. Владелец: THOMSON LICENSING. Дата публикации: 2008-10-16.

Enhancement method and apparatus for uplink phase tracking reference signal (pt-rs), and communication device

Номер патента: EP4319370A1. Автор: Yang Liu. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Enhanced method and apparatus for reducing congestion in dhcp network system

Номер патента: EP2132904A1. Автор: Zhigang Zhang,Kui Gao,Jiansong Li. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2009-12-16.

Coverage enhancement method and device

Номер патента: EP4164275A1. Автор: Kai Xu,Quanzhong Gao,Shaofeng Sun. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-12.

Systems and methods for integration of electric vehicle charging stations with photovoltaic, wind, hydro, thermal and other alternative energy generation equipment

Номер патента: US20210229561A1. Автор: Alan White,Valery Miftakhov,Alexander Gurzhi. Владелец: Enel X North America Inc. Дата публикации: 2021-07-29.

Color enhancement method, image-forming apparatus, and storage medium

Номер патента: US12101452B2. Автор: Yangxiao MA. Владелец: Zhuhai Pantum Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Image enhancement method

Номер патента: US20180190239A1. Автор: Shensian Syu,Junling Zhu,Hao Ll. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Intelligent thermal and power management in a wireless communications device in a wireless communications system (WCS)

Номер патента: US12101109B2. Автор: Shirish Nagaraj,Deepak PENGORIA,Hsien Li Woo,Lior Michael Kruh. Владелец: Corning Research and Development Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Multispectral imaging for thermal and electrical detection systems and methods

Номер патента: US12136246B2. Автор: Nicholas Högasten,Austin A. Richards,Selah Argent. Владелец: Teledyne Flir Commercial Systems Inc. Дата публикации: 2024-11-05.

Audio capturing enhancement method and audio capturing system using the same

Номер патента: US09699549B2. Автор: Bhoomek D. Pandya,Nikhil Bhave. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Voice enhancement method

Номер патента: US09666205B2. Автор: Heng-Chih Lin,Wen-Sheng Hou,Chien-Chen Lin. Владелец: Airoha Technology Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Enhancement methods for sampled and multiplexed image and video data

Номер патента: US09438881B2. Автор: Alexandros Tourapis,Athanasios Leontaris,Peshala V. Pahalawatta. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Speech enhancement method and device for mobile phones

Номер патента: US09437209B2. Автор: Liu Song,Bo Li,Shasha Lou. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Enhanced system and enhanced method of multiplexing uplink control channels

Номер патента: RU2486680C2. Автор: Хао СЮЙ,Хуан МОНТОХО,Питер ГААЛ,Дурга Прасад МАЛЛАДИ. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2013-06-27.

A busbar assembly with a bus bar conductor coupled thermally and electrically with a heat transfer line

Номер патента: EP3350915A1. Автор: Jerome GREGOIRE. Владелец: General Electric Technology GmbH. Дата публикации: 2018-07-25.

Audio signal enhancement method, apparatus, device, and readable storage medium

Номер патента: US20240214730A1. Автор: Lijian Ye,Yangzhen Chen. Владелец: AAC Technologies Holdings Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Enhanced methods for establishing user equipment (ue) policy association

Номер патента: WO2024201445A1. Автор: Genadi Velev,Roozbeh Atarius. Владелец: Lenovo (Singapore) Pte. Ltd.. Дата публикации: 2024-10-03.

Image quality enhancing apparatus, image display apparatus, image quality enhancing method, and computer readable storage medium

Номер патента: US09836821B2. Автор: Haifeng Chen,Hiroki Matsuzaki,Masafumi HIGASHI,Reo AOKI,Tadayoshi KATAGIRI. Владелец: Eizo Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Speech enhancing method, device for communication earphone and noise reducing communication earphone

Номер патента: US09484042B2. Автор: Song Liu,Bo Li,Jian Zhao. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

System for inductive heating oil sands and heavy oil deposits using current conductors

Номер патента: RU2455796C2. Автор: Дирк ДИЛЬ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2012-07-10.

Voice activity detection method and system, and voice enhancement method and system

Номер патента: EP4307298A1. Автор: Xin Qi,Fengyun LIAO,Chengqian Zhang,Le Xiao. Владелец: Shenzhen Shokz Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-17.

Multi-frame quality enhancement method and device for lossy compressed video

Номер патента: US20200404340A1. Автор: Ren Yang,Tianyi Li,TIE Liu,Mai Xu,Zhaoji Fang. Владелец: BEIHANG UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-12-24.

Voice activity detection method and system, and voice enhancement method and system

Номер патента: US20240038257A1. Автор: Xin Qi,Fengyun LIAO,Chengqian Zhang,Le Xiao. Владелец: Shenzhen Shokz Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Enhanced method for foreign objects detection

Номер патента: EP3815265A1. Автор: Elieser Mach,Itay Sherman. Владелец: POWERMAT TECHNOLOGIES LTD. Дата публикации: 2021-05-05.

Color enhancement method

Номер патента: CA2350082C. Автор: Brian J. Classen,Jordan C. Christoff. Владелец: CNH Canada Ltd. Дата публикации: 2006-01-10.

Voice enhancement method, apparatus and system, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20240079021A1. Автор: Guoming Chen. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Hearing enhancement methods and systems

Номер патента: US11869526B2. Автор: C. Douglass Thomas,Peter P. Tong,Kwok Wai Cheung. Владелец: IpVenture Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Hardware security module equipment with native implementation of a cryptographic key management communication protocol and remote confidence enhancement method for authorization of operations

Номер патента: US20200195434A1. Автор: André BEREZA JÚNIOR,Conrado Porto Lopes GOUVEA,Felipe Kendi Alves YAMAMOTO,Gabriel Francisco MANDAJI,Anderson Toshiyuki SASAKI,Vitor DE PAULO,Henrique de Medeiros KAWAKAMI,Tiago Toledo PINHEIRO,Roberto Alves Gallo Filho. Владелец: Kryptus Seguranca Da Informacao SA. Дата публикации: 2020-06-18.

Video enhancement method and apparatus

Номер патента: WO2024019337A1. Автор: Jie Chen,Youxin Chen,Longhai WU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-01-25.

Coverage enhancement method

Номер патента: US20230362921A1. Автор: Yajun Zhu. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Image Enhancing Method, Device, Apparatus and Storage Medium

Номер патента: US20210004936A1. Автор: Wencheng WANG. Владелец: Weifang University. Дата публикации: 2021-01-07.

Measurement gap enhancement method and apparatus, terminal device, and network device

Номер патента: US20230413095A1. Автор: Shukun Wang,Rongyi HU. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2023-12-21.

Imbalanced area pilot frequency transmission power enhancement method and base station

Номер патента: US20170006558A1. Автор: Jianming Zhan. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2017-01-05.

Imbalanced area pilot frequency transmission power enhancement method and base station

Номер патента: US9723574B2. Автор: Jianming Zhan. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Speech enhancement method

Номер патента: US20130066626A1. Автор: Hsien Cheng Liao. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-03-14.

Image enhancing method, device, apparatus and storage medium

Номер патента: US11062428B2. Автор: Wencheng WANG. Владелец: Weifang University. Дата публикации: 2021-07-13.

Highly linear receiver front-end with thermal and phase noise cancellation

Номер патента: US20150288398A1. Автор: Hao Wu,Hooman Darabi,David Patrick MURPHY,Mohyee Salahelden MIKHEMAR. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2015-10-08.

Data enhancement method of malicious node identification in the edge computing

Номер патента: LU101534B1. Автор: Aidong Xu,Hong Wen,Yixin Jiang,Yunan ZHANG,Runfa Liao. Владелец: Univ Electronic Sci & Tech China. Дата публикации: 2020-04-16.

Conference speech enhancement method, apparatus, and system

Номер патента: US20230142593A1. Автор: Zhihui Liu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Conference voice enhancement method, apparatus and system

Номер патента: EP4178224A1. Автор: Zhihui Liu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-10.

Data enhancement method, receiver and storage medium

Номер патента: EP4325751A1. Автор: Han Xiao,Wenqiang Tian. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2024-02-21.

Speech Enhancement Method And Device For Mobile Phones

Номер патента: US20150142426A1. Автор: Liu Song,Bo Li,Shasha Lou. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2015-05-21.

Channel quality indicator feedback enhancement method, device and system, user equipment, and base station

Номер патента: AU2019318672A1. Автор: Peng Hao,Wei Lin,Jing Shi,Min Ren,Xianghui HAN,Wei Gou. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Channel quality indicator feedback enhancement method, device and system, user equipment, and base station

Номер патента: AU2019318672B2. Автор: Peng Hao,Wei Lin,Jing Shi,Min Ren,Xianghui HAN,Wei Gou. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-07-07.

Channel quality indicator feedback enhancement method, device and system, user equipment, and base station

Номер патента: US20220360363A1. Автор: Peng Hao,Wei Guo,Wei Lin,Jing Shi,Min Ren,Xianghui HAN. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Harq transmission enhancement method, communication device, and readable storage medium

Номер патента: US20240056231A1. Автор: Jia SHENG,Xiaoxue YIN. Владелец: JRD Communication Shenzhen Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Image enhancement method and electronic device

Номер патента: EP4120183A1. Автор: RUI Guo,Jian Wang,Jieyan MA,Xiaofeng Han,Tian Zhang,Xiaoliang Chen,Guoxing WU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-18.

Image enhancement method, device, and computer program

Номер патента: US20240161452A1. Автор: Bin Huang,Yongjie Li,Lingxiang SHEN. Владелец: Unilumin Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Harq transmission enhancement method, communication device, and readable storage medium

Номер патента: EP4277184A1. Автор: Jia SHENG,Xiaoxue YIN. Владелец: JRD Communication Shenzhen Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Uplink coverage enhancement method and apparatus, communication device and storage medium

Номер патента: EP4247037A1. Автор: Yang Liu. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Image enhancement method and apparatus, computer device, and storage medium

Номер патента: EP4372730A1. Автор: Bin Huang,Yongjie Li,Lingxiang SHEN. Владелец: Unilumin Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Coverage enhancement method and apparatus

Номер патента: AU2021302094B2. Автор: Kai Xu,Quanzhong Gao,Shaofeng Sun. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Service enhancement method, proxy server and communication system

Номер патента: US20100262702A1. Автор: Changcheng WEN,Hongbo Jin. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-14.

Color enhancement method, image-forming apparatus, and storage medium

Номер патента: US20230388437A1. Автор: Yangxiao MA. Владелец: Zhuhai Pantum Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Stereo enhancement system and stereo enhancement method

Номер патента: US20240022855A1. Автор: Chih-Sheng Chen,Chia-Ping Chen,Tsung-Liang Chen,Jen-Feng Li,Chien-Hua Hsu,Hua-Jun HONG,Wei-An CHANG. Владелец: Intelligo Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Underwater image enhancement method and enhancement device

Номер патента: GB2585754A. Автор: MA Xiaoming,Chen Zhehan. Владелец: University of Science and Technology Beijing USTB. Дата публикации: 2021-01-20.

Measurement gap enhancement method and apparatus, terminal device, and network device

Номер патента: EP4304261A1. Автор: Shukun Wang,Rongyi HU. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2024-01-10.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: EP4142276A1. Автор: Fangdong CHEN. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-01.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: AU2021283592A1. Автор: Fangdong CHEN. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: ZA202213049B. Автор: CHEN Fangdong. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Tec. Дата публикации: 2024-04-24.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: AU2021283592B2. Автор: Fangdong CHEN. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Picture enhancement method and apparatus

Номер патента: US20230214969A1. Автор: Fangdong CHEN. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Information enhancement method and apparatus, device, and storage medium

Номер патента: EP4027725A1. Автор: Hao Wu,Yijian Chen,Zhaohua Lu,Yu Ngok Li,Chuangxin JIANG,Shujuan Zhang,Huahua Xiao,Xinquan YE. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-07-13.

Channel quality indicator feedback enhancement method, device and system, user equipment, and base station

Номер патента: US11870568B2. Автор: Peng Hao,Wei Guo,Wei Lin,Jing Shi,Min Ren,Xianghui HAN. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Audio capturing enhancement method and audio capturing system using the same

Номер патента: US20160295320A1. Автор: Bhoomek D. Pandya,Nikhil Bhave. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2016-10-06.

Thermal and power module for a logistics building

Номер патента: EP4333237A1. Автор: Kris Vanrenterghem. Владелец: Koutermolen NV. Дата публикации: 2024-03-06.

Electronic device with a thermal and EMI shield

Номер патента: US11886235B2. Автор: Simon S. Lee,Paul X. Wang,Adam T. Garelli,Nicholas A. Rundle,Eric R. Prather,Pooja B. PATEL. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Enhanced bulk heterojunction devices prepared by thermal and solvent vapor annealing processes

Номер патента: EP2556548A1. Автор: Stephen R. Forrest,Mark E. Thompson,Siyi Wang,Goudang Wei. Владелец: University of Southern California USC. Дата публикации: 2013-02-13.

Technologies for thermal and power awareness and management in a multi-edge cloud networking environment

Номер патента: US20200021502A1. Автор: Francesc Guim Bernat. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Technologies for thermal and power awareness and management in a multi-edge cloud networking environment

Номер патента: US11929888B2. Автор: Francesc Guim Bernat. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Three-dimensional memory device and method of making thereof by non-conformal selective deposition of insulating spacers in a memory opening

Номер патента: US20240237346A1. Автор: Bing Zhou,Fei Zhou,Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Senaka Kanakamedala,Adarsh RAJASHEKHAR,Kartik SONDHI,Roshan Jayakhar TIRUKKONDA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma control method and plasma control apparatus

Номер патента: US20060110933A1. Автор: Makoto Shimosawa. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2006-05-25.

Plasma damage protection device and plasma damage protection method

Номер патента: US20230260934A1. Автор: Jhih-Chun Syu,Chao-Lung Wang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Selective deposition of diamond

Номер патента: WO2024196395A1. Автор: John P. CIRALDO,Jonathan Levine-Miles,Joshua Blackketter. Владелец: M7D Corporation. Дата публикации: 2024-09-26.

Spatially-selective deposition of polysaccharide layer onto patterned template

Номер патента: WO2004059044A1. Автор: Li-Qun Wu,Hyunmin Yi,Reza Ghodssi,Gary W. Rubloff,Gregory F. Payne,William E. Bentley. Владелец: University Of Maryland Biotechnology Institute Columbus Center. Дата публикации: 2004-07-15.

Liquid crystalline sam via spin-coat assembly and their area selective deposition properties

Номер патента: WO2024100183A1. Автор: Rocco Fortte,Nicolas Blouin,Durairaj Baskaran,Sachin BOBADE,Christoph WETZEL. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of extracting germanium from germanium deposit using thermal reduction process

Номер патента: US20170121790A1. Автор: Zhiguo Zhu,Wangchang Wu,Guangwen Li,Shikun PU,Wendong BAO,Decai HU,Tianmin XIE,Caiwei YAO,Kaihong BAO,Zailei YANG,Gao XIE. Владелец: Yunnan Dongchang Metal Tech Co ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Flow cell with selective deposition or activation of nucleotides

Номер патента: US20220097060A1. Автор: Tarun Khurana,Craig Ciesla,Stanley Hong,Merek SIU,Aathavan KARUNAKARAN,Ali Agah,Arvin Emadi. Владелец: Illumina Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Flow cell with selective deposition or activation of nucleotides

Номер патента: US20210146356A1. Автор: Tarun Khurana,Craig Ciesla,Stanley Hong,Merek SIU,Aathavan KARUNAKARAN,Ali Agah,Arvin Emadi. Владелец: Illumina Inc. Дата публикации: 2021-05-20.

Method of extracting germanium from germanium deposit using thermal reduction process

Номер патента: US10156003B2. Автор: Zhiguo Zhu,Wangchang Wu,Guangwen Li,Shikun PU,Wendong BAO,Decai HU,Tianmin XIE,Caiwei YAO,Kaihong BAO,Zailei YANG,Gao XIE. Владелец: Yunnan Dongchang Metal Tech Co ltd. Дата публикации: 2018-12-18.

Flow cell with selective deposition or activation of nucleotides

Номер патента: US20230321651A1. Автор: Tarun Khurana,Craig Ciesla,Stanley Hong,Merek SIU,Aathavan KARUNAKARAN,Ali Agah,Arvin Emadi. Владелец: Illumina Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Pyrolysis and plasma decomposition method for producing carbon nanomaterial

Номер патента: WO2024184005A1. Автор: Mathys Johannes Rossouw,Annelie STAPELA. Владелец: MICROWAVE SOLUTIONS GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of producing fluid fuel and hydrogen from biomass or fossil coal using solar energy, microwaves and plasma

Номер патента: RU2481152C2. Автор: Николас УГОЛИН. Владелец: Николас УГОЛИН. Дата публикации: 2013-05-10.

A pharmaceutical composition comprising a suspension of total cells obtained from hair follicle and plasma derived growth factors for promoting hair follicle regeneration

Номер патента: EP3139946A1. Автор: Alberto Gorrochategui Barrueta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-15.

Methods and systems for demulsification and generation of plasma enhanced treatment fluids using plasma

Номер патента: US20240199962A1. Автор: David Wragg,Jamie Kraus. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

Clarification of blood serum and plasma

Номер патента: US3770631A. Автор: L Fekete,F Peetoom. Владелец: Baxter Laboratories Inc. Дата публикации: 1973-11-06.

Adsorbing material for blood and plasma cleaning method and for albumin purification

Номер патента: AU2003303649A1. Автор: Aniela Leistner,Andre Leistner. Владелец: Polymerics Gmbh. Дата публикации: 2004-07-29.

Insoluble objects for medical or surgical use, such as plasmaphoresis or renal dialysis membranes, probes and plasma purification supports havingan anti-inflammatory activity

Номер патента: CA1297475C. Автор: Jacqueline Jozefonvicz,Denis Labarre,Marcel Jozefonvicz,Marie-Paule Carreno,Michel Kazatchkine. Владелец: Oris Industrie SA. Дата публикации: 1992-03-17.

Aluminum alloy member superior in corrosion resistance and plasma resistance

Номер патента: SG124274A1. Автор: Koji Wada,Jun Hisamoto. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Transgenic non-human animals with expanded mature b cell and plasma cell populations

Номер патента: WO2004037849A3. Автор: Ness Brian G Van,Michael A Linden. Владелец: Michael A Linden. Дата публикации: 2004-07-01.

Thermal and sound insulation material and method of its production

Номер патента: RU2648096C1. Автор: Александр Дмитриевич Орлов,Вадим Вячеславович Киктев. Владелец: Вадим Вячеславович Киктев. Дата публикации: 2018-03-22.

Food systems and longevity enhancement methods

Номер патента: RU2449554C2. Автор: Юанлонг ПАН,Рондо П. МИДДЛТОН,Стивен С. ХАННА. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2012-05-10.

Thermal-and chemical-resistant acid protection coating material and spin- on thermoplastic adhesive

Номер патента: SG169384A1. Автор: John C Moore,Michelle R Fowler. Владелец: Brewer Science Inc Us. Дата публикации: 2011-03-30.

Multi-component system and the use thereof for producing a triple cure mixture which can be hardened thermally and by means of actinic radiation

Номер патента: AU2003285332A1. Автор: Hubert Baumgart,Peter Mayenfels,Thomas Farwick,Vince Cook,Sandra Hasse,Guido Schulze-Finkenbrink. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2004-08-10.

Catalyst compositions and polyolefins for use in coatings, deposited using expedition method

Номер патента: RU2374272C2. Автор: Майкл Д. ДЖЕНСЕН,Джоэл Л. МАРТИН,Макс П. МАКДЭНИЕЛ,Цин ЯНГ,Элизабет А. БЕНХЭМ,Ашиш М. СУКХАДИА,Рэнди МЬЮНИНДЖЕР,Гэри ДЖЕРДИ,Мэттью ТОРН. Владелец: Шеврон Филлипс Кемикал Компани Лп. Дата публикации: 2009-11-27.

Deuterium-Stabilised Ribonucleic Acid (RNA) Molecules Displaying Increased Resistance to Thermal and Enzymatic Hydrolysis, Aqueous Compositions Comprising Stabilised RNA Molecules and Methods for Making Same

Номер патента: US20220144876A1. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: Deutramed Solutions Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Deuterium-stabilised ribonucleic acid (rna) molecules displaying increased resistance to thermal and enzymatic hydrolysis, aqueous compositions comprising stabilized rna molecules and methods for making same

Номер патента: WO2022099411A1. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: deutraMed Solutions Ltd.. Дата публикации: 2022-05-19.

Deuterium-stabilised ribonucleic acid (rna) molecules displaying increased resistance to thermal and enzymatic hydrolysis, aqueous compositions comprising stabilized rna molecules and methods for making same

Номер патента: EP4244351A1. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: Deutramed Solutions Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Deuterium-Stabilised Ribonucleic Acid (RNA) Molecules Displaying Increased Resistance to Thermal and Enzymatic Hydrolysis, Aqueous Compositions Comprising Stabilised RNA Molecules and Methods for Making Same

Номер патента: US20230109802A1. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: Deutramed Solutions Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and device for laser electrochemical composite deposition using rifling hollow rotating electrode

Номер патента: GB2616490A. Автор: XU KUN,Guo Sheng,Wu Yucheng,YANG Shuai,ZHANG Zhaoyang,DAI Xueren,ZHAO Douyan. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2023-09-13.

Composition for detecting nucleotide and colorimetric signal enhancement method of detecting nucleotide using thereof

Номер патента: US20210002695A1. Автор: Sangwoo Lee,Jieon Lee,Woo-Keun Kim,Seokjoo YOON. Владелец: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT. Дата публикации: 2021-01-07.

Thermal and/or acoustic insulation materials shaped from silica

Номер патента: US09903109B2. Автор: Julien Hernandez,Catherine Enjalbert. Владелец: Rhodia Chimie SAS. Дата публикации: 2018-02-27.

Decorative wall plaster with thermal and sound insulation

Номер патента: WO2019027391A2. Автор: Ferah CANİK. Владелец: Canik Ferah. Дата публикации: 2019-02-07.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: CA3099650A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems International Pty Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: US12054618B2. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems International Pty Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method to produce a casein-based biopolymer matrix fiber and thermal and acoustic insulating panel made with said fiber

Номер патента: US20240270966A1. Автор: Angelo Lucchini,Enrico Sergio Mazzucchelli,Antonello Pagliuca,Donato Gallo. Владелец: UNIVERSITA' DEGLI STUDI DELLA BASILICATA. Дата публикации: 2024-08-15.

Process for the extraction of crude oil from an underground deposit using surfactants

Номер патента: CA1314703C. Автор: Harald Luders,Dieter Balzer. Владелец: Huels AG. Дата публикации: 1993-03-23.

Process for forming a thermally and chemically inert multilayer film

Номер патента: US20170290958A1. Автор: Edin Balic. Владелец: Swiss Medical Coatings Sarl. Дата публикации: 2017-10-12.

Cheese yield enhancing method

Номер патента: CA2355762C. Автор: Shoji Sakaguchi,Noriki Nio,Yoshiyuki Kumazawa,Jiro Sakamoto,Chiya Kuraishi. Владелец: Ajinomoto Co Inc. Дата публикации: 2008-10-28.

Microbial enhancement method for cadmium accumulation of hyperaccumulator, and complex suspension used thereby

Номер патента: AU2020103277A4. Автор: JINGWEN WANG,Qichun Zhang,Shuquan JIN,Huanhe WANG. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2021-01-14.

Solid fuel gasifier with cogeneration of thermal and electric power

Номер патента: RU2648932C2. Автор: Сергей Геннадьевич Баякин. Владелец: Сергей Геннадьевич Баякин. Дата публикации: 2018-03-28.

Method and device for thermal and/or catalytic decomposition and/or depolymerization of lower organic matters

Номер патента: RU2181126C2. Автор: Иван МАДАР. Владелец: Иван МАДАР. Дата публикации: 2002-04-10.

Process and apparatus for producing thermal and electric energy

Номер патента: CA2492824C. Автор: Keijo Imelaeinen. Владелец: ANDRITZ OY. Дата публикации: 2011-11-08.

System for thermal and catalytic cracking of crude oil

Номер патента: US20010046460A1. Автор: Victor Tikhonov,Viacheslav Zhurin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-29.

Combined process for thermally and chemically treating lignocellulose-containing biomass and for producing furfural

Номер патента: CA1308112C. Автор: Karl Lackner,Gerard Avignon,Wolfgang Jaeggle,Horst Steinmuller. Владелец: Voest Alpine Industrienlagenbau GmbH. Дата публикации: 1992-09-29.

Aqueous coating material that can be hardened physically, thermally or thermally and with actinic radiation and the utilization thereof

Номер патента: US7297375B2. Автор: Egon Wegner,Stephan Schwarte,Frank Jansing. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2007-11-20.

Aqueous coating material that can be hardened physically, thermally or thermally and with actinic radiation and the utilization thereof

Номер патента: CA2398782C. Автор: Egon Wegner,Stephan Schwarte,Frank Jansing. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2008-07-29.

Aqueous mixtures curable physically, thermally or both thermally and with actinic radiation, processes for preparing them, and use thereof

Номер патента: US20100292377A1. Автор: Frank Jansing,Norbert LÖW,Bernhard Steinmetz,Ingo LÜER. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2010-11-18.

Dual thermal and ultraviolet curable powder coatings

Номер патента: CA2225512C. Автор: Jeno Muthiah,Andrew T. Daly,Richard P. Haley,Joseph J. Kozlowski,Navin B. Shah. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 2001-04-24.

Aqueous slurry for the production of thermal and environmental barrier coatings and processes for making and applying the same

Номер патента: CA2859942C. Автор: Irina Belov,Vladimir V. Belov. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2019-03-19.

Cellular polyurethane exhibiting thermal and oxidative stability

Номер патента: CA1073150A. Автор: Robert V. Russo,Kenneth Treadwell,Bernhard G. Kushlefsky. Владелец: M&T Chemicals Inc. Дата публикации: 1980-03-04.

Aqueous, finely divided to optically clear, thermally and mechanically stable silicone emulsions, a process for their preparation and their use

Номер патента: US5057572A. Автор: Harald Chrobaczek,Günther Tschida. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1991-10-15.

Process for thermal, and optionally catalytic upgrading and hydrogenation of hydrocarbons

Номер патента: CA2297638C. Автор: Olav Ellingsen. Владелец: Thermtech AS. Дата публикации: 2007-01-09.

Dual thermal and ultraviolet curable powder coatings

Номер патента: US6005017A. Автор: Jeno Muthiah,Andrew T. Daly,Richard P. Haley,Joseph J. Kozlowski,Navin B. Shah. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1999-12-21.

Thermal and wear resistant tough nickel based alloy guide rolls

Номер патента: US4727740A. Автор: Takumi Kawamura,Junya Ohe,Ritsue Yabuki. Владелец: Mitsubishi Metal Corp. Дата публикации: 1988-03-01.

Process for thermal, and optionally catalytic upgrading and hydrogenation of hydrocarbons

Номер патента: CA2297638A1. Автор: Olav Ellingsen. Владелец: Industrikontakt Ing O Ellingsen and Co. Дата публикации: 2000-08-11.

Two-stage thermal and catalytic hydrocracking of heavy oils

Номер патента: CA1094491A. Автор: Ramaswami Ranganathan,Marten Ternan,Jean M. Denis. Владелец: Canada Minister of Energy Mines and Resources. Дата публикации: 1981-01-27.

Deuterium-stabilised ribonucleic acid (RNA) molecules displaying increased resistance to thermal and enzymatic hydrolysis, aqueous compositions comprising stabilised RNA molecules and methods for making same

Номер патента: US11780869B2. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: Deutramed Solutions Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Expandable polylactic acid-based thermal and protective packaging and methods thereof

Номер патента: WO2024020191A1. Автор: Saumitra Bhargava,Jonathan Godfrey. Владелец: LIFOAM INDUSTRIES, LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Deuterium-Stabilised Ribonucleic Acid (RNA) Molecules Displaying Increased Resistance to Thermal and Enzymatic Hydrolysis, Aqueous Compositions Comprising Stabilised RNA Molecules and Methods for Making Same

Номер патента: US20230391813A1. Автор: Pavel Gris,Alfred James Farmilo. Владелец: Deutramed Solutions Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Advanced mono-material expandable polylactic acid-based thermal and protective packaging and methods thereof

Номер патента: US20240025622A1. Автор: Saumitra Bhargava,Jonathan Godfrey. Владелец: Lifoam Industries LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Advanced mono-material expandable polylactic acid-based thermal and protective packaging and methods thereof

Номер патента: WO2024020192A1. Автор: Saumitra Bhargava,Jonathan Godfrey. Владелец: LIFOAM INDUSTRIES, LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Expandable polylactic acid-based thermal and protective packaging and methods thereof

Номер патента: US20240026110A1. Автор: Saumitra Bhargava,Jonathan Godfrey. Владелец: Lifoam Industries LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Use of a stabilizer composition for stabilizing organic materials, stabilizer composition, master batch, composition, molding compound for moldings, process for oxidative, thermal and actinic stabilization of a thermoplastic, and use of a composition

Номер патента: US20240174840A1. Автор: Rudolf Pfaendner,Matthias Polidar,Elke METSCH-ZILLIGEN. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-05-30.

Method to produce a casein-based biopolymer matrix fiber and thermal and acoustic insulating panel made with said fiber

Номер патента: EP4352165A1. Автор: Angelo Lucchini,Enrico Sergio Mazzucchelli,Antonello Pagliuca,Donato Gallo. Владелец: Universita Degli Studi Della Basilicata. Дата публикации: 2024-04-17.

Fabrication of Luminescent Quantum Dot Thiol-yne Nanocomposites With Tailorable Optical, Thermal and Mechanical Properties

Номер патента: US20190106624A1. Автор: Kimihiro Susumu,Michael H. Stewart,Darryl A. Boyd,Eunkeu Oh,James P. WISSMAN. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-04-11.

Fabrication of Luminescent Quantum Dot Thiol-yne Nanocomposites With Tailorable Optical, Thermal and Mechanical Properties

Номер патента: US20220228061A1. Автор: Kimihiro Susumu,Michael H. Stewart,Darryl A. Boyd,Eunkeu Oh,James P. WISSMAN. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2022-07-21.

Fabrication of Luminescent Quantum Dot Thiol-yne Nanocomposites With Tailorable Optical, Thermal and Mechanical Properties

Номер патента: US20210324269A1. Автор: Kimihiro Susumu,Michael H. Stewart,Darryl A. Boyd,Eunkeu Oh,James P. WISSMAN. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-10-21.

Thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: US20220228004A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems International Pty Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: AU2019273116A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems Int Pty Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: AU2020289767A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems Int Pty Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: AU2022268341A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems Int Pty Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: AU2022268341B2. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems Int Pty Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: US20220228003A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems International Pty Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: AU2019273116C1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems Int Pty Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

A thermal and/or fire resistant panel, a mounting assembly, and a kit

Номер патента: EP3797093A1. Автор: Carmelo Dell'olio,Roberto Javier HERBON,Lukas KRELLMANN. Владелец: Cbg Systems International Pty Ltd. Дата публикации: 2021-03-31.

Functionally graded and selective deposition of electrode material on current collector in li-ion battery

Номер патента: US20240120457A1. Автор: Navin Sakthivel. Владелец: Baker Hughes Oilfield Operations LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A4. Автор: Wayne L Johnson,Joseph T Verdeyen,Murray D Sirkis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-11-27.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A1. Автор: Murray D. Sirkis,Wayne L. Johnson,Joseph T. Verdeyen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-12.

Method of igniting plasma and plasma generating system

Номер патента: US20220115211A1. Автор: Bryan Liao. Владелец: SPP Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Charged particle beam apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20170278678A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma generating device and plasma cleaning device

Номер патента: US20200139412A1. Автор: Yongqing Wang. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12131889B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Takeshi Ando,Yuki Tanaka,Kiwamu Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Radio frequency (rf) power monitoring device and plasma enhanced (pe) system including the same

Номер патента: US20200343075A1. Автор: Hyungjoon Kim,Myoungwoon KIM,Hee Jong Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-10-29.

Semiconductor process apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20230411120A1. Автор: JING Yang,Gang Wei,Chenyu ZHONG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20230290623A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Method of quality determining of deposition mask, method of manufacturing deposition mask, method of manufacturing deposition mask device, method of selecting deposition mask, and deposition mask

Номер патента: US20230329077A1. Автор: Chikao Ikenaga. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma torch and plasma torch electrode

Номер патента: WO2024184548A1. Автор: Ate WIEKAMP. Владелец: HiiROC-X Developments Limited. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of selecting deposit development system

Номер патента: RU2692369C1. Автор: Алексей Васильевич Якасов,Данила Евгеньевич Кондаков,Алексей Петрович Рощектаев. Владелец: Публичное акционерное общество "Газпром нефть". Дата публикации: 2019-06-24.

Method of development of high-viscosity oil deposit using thermal methods and device for implementation thereof

Номер патента: RU2730504C1. Автор: Айрат Идрисович Каримов,Андрей Владимирович Балякин. Владелец: Публичное акционерное общество «Татнефть» имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2020-08-25.

Selective deposition of materials for composite structures via additive manufacturing

Номер патента: US11999097B2. Автор: Xiaoyu Zheng,Ryan HENSLEIGH. Владелец: Virginia Tech Intellectual Properties Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Fabrication of euv masks using a combination of monolayer lithography and area selective deposition

Номер патента: US20240280899A1. Автор: Nelson Felix,Rudy J. Wojtecki,Krystelle Lionti,Noel Arellano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Fabrication of euv masks using a combination of monolayer lithography and area selective deposition

Номер патента: WO2024176020A1. Автор: Nelson Felix,Rudy J. Wojtecki,Krystelle Lionti,Noel Arellano. Владелец: Ibm Israel - Science & Technology Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method of control of selective deposition of polymer on technical cloth and technical cloth

Номер патента: RU2332533C2. Автор: Франсис Л. ДЭВЕНПОРТ,Чарльз И. КРАМЕР,Джозеф Дж. О`КОННОР,Морис ПАКЕН. Владелец: Олбани Интернэшнл Корп.. Дата публикации: 2008-08-27.

Methods and apparatus to change the mobility of formation fluids using thermal and non-thermal stimulation

Номер патента: WO2009051936A4. Автор: Tim Jones,John Nighswander,Gary Tustin,Anthony Goodwin,Keith James Massie. Владелец: Keith James Massie. Дата публикации: 2009-07-23.

Sacrificial layers in selective deposition-based additive manufacturing of parts

Номер патента: US20200338814A1. Автор: Zeiter Farah,Andrew Rice. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Selective deposition-based additive manufacturing device and method of printing 3d parts with semi-crystalline materials

Номер патента: EP3976348A1. Автор: J. Samuel Batchelder,Eric Carl Stelter. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2022-04-06.

Implementing enhanced ultrafast touchdown measurement scheme using thermal and voltage actuation for hard disk drives

Номер патента: US09401169B1. Автор: Erhard Schreck,Sukumar Rajauria,Sripathi Vangipuram Canchi. Владелец: HGST NETHERLANDS BV. Дата публикации: 2016-07-26.

Processing complex of solid municipal wastes with automated sorting of inorganic part and plasma gasification of organic residue

Номер патента: RU2731729C1. Автор: Анатолий Степанович Аньшаков,Михаил Петрович Токарев,Олег Алексеевич Гобызов,Дмитрий Маркович Маркович,Людмила Николаевна Перепечко,Андрей Святославович Мишнев,Иван Аркадьевич Плохих. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2020-09-08.

Selective deposition modeling method and apparatus for forming three-dimensional objects and supports

Номер патента: AU7550396A. Автор: Christian M. Merot,Charles W Hull,Richard N Leyden,Michael S. Lockard,Dennis R Smalley,Thomas A. Kerekes,Richard P. Fedchenko,Dinh Ton That,Thomas A Almquist,Bryan J. L Bedal,Jocelyn M Earl,Thomas H Pang,Jeffrey S Thayer. Владелец: 3D Systems Inc. Дата публикации: 1997-04-17.

Method for the Selective Deposition of Germanium Nanofilm on a Silicon Substrate and Semiconductor Devices Made Therefrom

Номер патента: US20090302426A1. Автор: Brian Wagner,Sean R. McLaughlin,Narsingh Bahadur Singh,Andre Berghmans,David J. Knuteson,David Kahler,Anthony A. Margarella. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Method of and plasma converter for plasma conversion of engine fuels into synthesis gas

Номер патента: RU2182239C2. Автор: В.Д. Русанов,А.И. Бабарицкий,М.А. Деминский,В.К. Животов,М.Ф. Кротов,Б.В. Потапкин. Владелец: Российский научный центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2002-05-10.

Method of coal combustion, subjected to mechanical and plasma treatment

Номер патента: RU2631959C1. Автор: Юрий Степанович Попов,Сергей Иванович Шторк,Сергей Владимирович Алексеенко,Анатолий Петрович Бурдуков,Виталий Исакович Попов,Евгений Борисович Бутаков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2017-09-29.

Calibrating deposition rates in selective deposition modeling

Номер патента: US6782303B1. Автор: Jon Jody Fong. Владелец: 3D Systems Inc. Дата публикации: 2004-08-24.

Method and apparatus for data manipulation and system control in a selective deposition modeling system

Номер патента: CA2233202A1. Автор: Chris R. Manners,Jeffrey S. Thayer,Jocelyn M. Earl,Thomas A. Kerekes,Paul H. Marygold. Владелец: Paul H. Marygold. Дата публикации: 1997-04-03.

Selective deposition modeling method and apparatus for forming three-dimensional objects and supports

Номер патента: US20020011693A1. Автор: Richard Leyden,Charles Hull,Bryan Bedal,Dennis Smalley,Michael Lockard,Thomas Almquist,Jeffrey Thayer,Jocelyn Earl,Thomas Kerekes,Christian Merot,Richard Fedchenko,Thomas Pang,Dinh That. Владелец: 3D Systems Inc. Дата публикации: 2002-01-31.

Device for selectively depositing molten plastic materials

Номер патента: CA2768762C. Автор: Francisco Javier PLANTÀ TORRALBA,Francesco Puliga,Jorge Ribatallada Diez. Владелец: FUNDACIÒ EURECAT. Дата публикации: 2017-08-29.

Method of thermally transferring images in a selective deposition based additive manufacturing system

Номер патента: US11904531B2. Автор: J. Samuel Batchelder,Chris COUNTS. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Method of thermally transferring layers in a selective deposition-based additive manufacturing system using conductive heat

Номер патента: US11845221B2. Автор: J. Samuel Batchelder. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Building layers with unsupported portions through selective deposition-based additive manufacturing

Номер патента: US11654624B2. Автор: J. Samuel Batchelder,Arun Chowdry,Chris Anton. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2023-05-23.

Compliant transfusion roller for selective deposition based additive manufacturing system

Номер патента: WO2019133840A1. Автор: James W. Comb,Chris COUNTS. Владелец: Evolve Additive Solutions, Inc.. Дата публикации: 2019-07-04.

Selective deposition-based additive manufacturing device and method of printing 3D parts with semi-crystalline materials

Номер патента: US11993006B2. Автор: J. Samuel Batchelder,Eric Carl Stelter. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Selective deposition-based additive manufacturing using dissimilar materials

Номер патента: EP3993987A1. Автор: J. Samuel Batchelder. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2022-05-11.

Layer orientation in selective deposition based additive manufacturing of parts

Номер патента: US20190202113A1. Автор: J. Samuel Batchelder. Владелец: Evolve Additive Solutions Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Centrifugal separation and collection of red blood cells or both red blood cells and plasma

Номер патента: EP4238596A2. Автор: Kyungyoon Min,Benjamin E. KUSTERS. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2023-09-06.

Health supplement for lowering plasma glucose and plasma triglyceride

Номер патента: US20090092695A1. Автор: Ruey-Yu Wang,Jan-Kan Chen. Владелец: Formosa Biomedical Technology Corp. Дата публикации: 2009-04-09.

Method of determining heat conductivity coefficient of heat-insulating coatings based on hollow microspheres using thermal imager

Номер патента: RU2731112C1. Автор: Александр Валерьевич Бояринцев. Владелец: Александр Валерьевич Бояринцев. Дата публикации: 2020-08-28.

Packing machine using thermally-welding film

Номер патента: RU2391266C1. Автор: Алессандра САМБУГАРО. Владелец: Алессандра САМБУГАРО. Дата публикации: 2010-06-10.

Hardware synthesis using thermally aware scheduling and binding

Номер патента: WO2011084237A3. Автор: Farinaz Koushanfar,Miodrag Potkonjak. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2014-04-03.

Hardware synthesis using thermally aware scheduling and binding

Номер патента: WO2011084237A2. Автор: Farinaz Koushanfar,Miodrag Potkonjak. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2011-07-14.

Dynamic operations for 3d stacked memory using thermal data

Номер патента: EP2761620A1. Автор: Ruchir Saraswat,Matthias Gries. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Integrated leukocyte, oxygen and/or CO2 depletion, and plasma separation filter device

Номер патента: US09539375B2. Автор: Tatsuro Yoshida,Paul J. Vernucci. Владелец: New Health Sciences Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Centrifugal Separation And Collection Of Red Blood Cells And Plasma

Номер патента: US20240115777A1. Автор: Kyungyoon Min,Benjamin E. KUSTERS. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Centrifugal separation and collection of red blood cells or both red blood cells and plasma

Номер патента: EP4238596A3. Автор: Kyungyoon Min,Benjamin E. KUSTERS. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2023-12-13.

Centrifugal separation and collection of red blood cells, plasma, or both red blood cells and plasma

Номер патента: US11890399B2. Автор: Kyungyoon Min,Benjamin E. KUSTERS. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

An energy system comprising a mechanical vapor recompression (mvr) unit for using thermal energy generated by the mvr-unit, and a method in relation thereto

Номер патента: EP4411279A1. Автор: Bert-Olof ÅHRSTRÖM,Fredrik CARLMAN. Владелец: Aquafair Ab. Дата публикации: 2024-08-07.

An energy system comprising a mechanical vapor recompression (mvr) unit for using thermal energy generated by the mvr-unit, and a method in relation thereto

Номер патента: WO2024160401A1. Автор: Bert-Olof ÅHRSTRÖM,Fredrik CARLMAN. Владелец: Aquafair Ab. Дата публикации: 2024-08-08.

Wireline cable fatigue monitoring using thermally-induced acoustic waves

Номер патента: US09557300B2. Автор: Hua Xia,John L. Maida,Lizheng Zhang,Yinghui Lu. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Container leakage detection using thermal imaging

Номер патента: US20220390313A1. Автор: Robert Brown,Timothy Pope,Samuel Ouellet. Владелец: Institut National O'dptique. Дата публикации: 2022-12-08.

Container leakage detection using thermal imaging

Номер патента: CA3155492A1. Автор: Robert Brown,Timothy Pope,Samuel Ouellet. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-06.

Container leakage detection using thermal imaging

Номер патента: WO2021081628A1. Автор: Robert Brown,Timothy Pope,Samuel Ouellet. Владелец: Institut National D'optique. Дата публикации: 2021-05-06.

Method for selective deposition of diamond coatings

Номер патента: EP4259843A1. Автор: Olaf Dietrich,Dirk Breidt. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2023-10-18.

Method for determining residual oil concentration of a formation using thermal neutron decay measurements

Номер патента: CA1118912A. Автор: James C. Albright,Preston L. Gant. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1982-02-23.

System to simulate motion and plasma induced signal variations from reentry vehicles

Номер патента: US4005366A. Автор: Joseph L. Poirier,David H. Tropea. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1977-01-25.

Four-dimensional printing method using thermal anisotropy and thermal transformation, and the resulting product

Номер патента: US11358334B2. Автор: Keun Park,Bona Goo. Владелец: Foundation for Research and Business of Seoul National University of Science and Technology. Дата публикации: 2022-06-14.

Using thermally-stable diamond or cbn compacts as tips for rotary drills

Номер патента: CA2049663A1. Автор: David B. Cerutti,David E. Slutz,Thomas J. Broskea. Владелец: Thomas J. Broskea. Дата публикации: 1992-03-05.

Proactive Storage Operation Management Using Thermal States

Номер патента: US20230401005A1. Автор: Ramanathan Muthiah. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Proactive storage operation management using thermal states

Номер патента: US11972148B2. Автор: Ramanathan Muthiah. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-30.

Fiber and bundle orientations, matrix rich regions, and mechanical properties of fiber reinforced composites using thermal digital image correlation

Номер патента: US20200072718A1. Автор: Dayakar Penumadu,Matthew Erich Kant. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2020-03-05.

System for storing and using thermal energy

Номер патента: AU2022406724A1. Автор: Rajesh Mavuri,Bhaskara Kosamana. Владелец: Nuovo Pignone Technologie Srl. Дата публикации: 2024-06-20.

System for storing and using thermal energy

Номер патента: CA3240226A1. Автор: Rajesh Mavuri,Bhaskara Kosamana. Владелец: Nuovo Pignone Technologie Srl. Дата публикации: 2023-06-15.

System for storing and using thermal energy

Номер патента: EP4444996A1. Автор: Rajesh Mavuri,Bhaskara Kosamana. Владелец: Nuovo Pignone Technologie Srl. Дата публикации: 2024-10-16.

Disposable, single-use thermal exchange component

Номер патента: US09849299B2. Автор: Kin-Joe Sham,Jared J. Savela. Владелец: OrthoCor Medical Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Mram cell and method for writing to mram cell using thermally assisted write operation with reduced field current

Номер патента: RU2599941C2. Автор: Иоан Люсиан ПРЕЖБЕАНЮ,Рикардо СУЗА. Владелец: Крокус Текнолоджи Са. Дата публикации: 2016-10-20.

A modular multi-use thermal imaging system

Номер патента: WO2013028939A3. Автор: Vadim Plotsker. Владелец: BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc.. Дата публикации: 2013-08-08.

Water softening method using thermally regenerable ion exchange resin

Номер патента: CA1100242A. Автор: Emmanuel J. Zaganiaris,Sabah S. Dabby. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 1981-04-28.

Conveying vehicle-related information using thermal touch and haptics

Номер патента: US11845322B2. Автор: Hanna Gee,Christopher John TARCHALA. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Non-invasive non-contact system and method for measuring dyslipidemia condition using thermal imaging

Номер патента: US11903742B2. Автор: Sameer Raghuram Shivpure,Jayanthi THIRUVENGADAM,Anuhya Choda,Gayathri CHODA. Владелец: Aarca Research Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

System And Method For Forecasting Fuel Consumption For Indoor Thermal Conditioning Using Thermal Performance Forecast Approach With The Aid Of A Digital Computer

Номер патента: US20190338969A1. Автор: Thomas E. HOFF. Владелец: Clean Power Research LLC. Дата публикации: 2019-11-07.

Method and apparatus for perforating indicia on used thermal transfer ribbon

Номер патента: CA1321322C. Автор: Christopher Smith,William Berson,Julius Gluck,Patrick Murphy,Duc Hoang Tran. Владелец: Pitney Bowes Inc. Дата публикации: 1993-08-17.

Plasma enhanced polymer ultra-thin multi-layer packaging

Номер патента: CA2770610C. Автор: Juergen Burger,Herbert Keppner,Andreas Hogg,Thierry Aellen. Владелец: INTEGRA LIFESCIENCES SWITZERLAND SÀRL. Дата публикации: 2018-12-11.

Device and system for quantifying the useful thermal energy available in a tank

Номер патента: US10295223B2. Автор: Stephane Launay. Владелец: Aix Marseille Universite. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of advanced lubricant for thin film storage medium

Номер патента: US20090263592A1. Автор: Lei Li,Michael Joseph Stirniman,Jing Gui,Jianwei Liu,Yiao-Tee Hsia. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2009-10-22.

System for determining a state of an object using thermal data

Номер патента: US11780471B1. Автор: Yasser Beilouni. Владелец: Zoox Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Bakery products and pasta capable to reduce body weight and plasma cholesterol, lipids and glucose

Номер патента: US9414616B2. Автор: Umberto Cornelli. Владелец: COR CON INTERNATIONAL Srl. Дата публикации: 2016-08-16.

Preparation method for double-layer working medium target tape with plasma-enhanced interfacial bonding force for micro laser thruster

Номер патента: US20240033778A1. Автор: Yanji HONG,Sibo WANG,Jifei YE,Baoyu XING,Nanlei LI. Владелец: Aerospace Engineering University Of People's Liberation Army Pla Strategic Support Force. Дата публикации: 2024-02-01.

Preparation method for double-layer working medium target tape with plasma-enhanced interfacial bonding force for micro laser thruster

Номер патента: US11925956B2. Автор: Yanji HONG,Sibo WANG,Jifei YE,Baoyu XING,Nanlei LI. Владелец: Space Engineering University. Дата публикации: 2024-03-12.

Bakery products and pasta capable to reduce body weight and plasma cholesterol, lipids and glucose

Номер патента: US20090285922A1. Автор: Umberto Cornelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-19.

Development method of oil and gas deposits using high-power laser radiation for their maximum extraction

Номер патента: RU2509882C1. Автор: Александр Петрович Линецкий,Владимир Михайлович Журба. Владелец: Александр Петрович Линецкий. Дата публикации: 2014-03-20.

Method for electrical monitoring of reservoir-collector characteristics during development of oil deposits using steam pumping

Номер патента: RU2736446C2. Автор: Марат Инкилапович Амерханов,Данис Карлович Нургалиев,Марат Расимович Лябипов,Дамир Ирекович Хасанов,Айрат Наильевич Даутов,Борис Григорьевич Червиков,Константин Игоревич Бредников. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ). Дата публикации: 2020-11-17.

Methods for direct geochemical prediction of hydrocarbon deposits using biomarker compounds

Номер патента: RU2731955C1. Автор: Никита Владимирович Морозов,Дарья Юрьевна Калачева,Андрей Васильевич Гончаров,Елена Ивановна Горбенко,Фидан Гилемьянович Гайнетдинов,Оксана Александровна Захарова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпромнефть Научно-Технический Центр" (ООО "Газпромнефть НТЦ"). Дата публикации: 2020-09-09.

Removal of volatile and semi-volatile contaminants from solids using thermal desorption and gas transport at the solids entrance

Номер патента: US5361514A. Автор: Edward J. Lahoda,Donald W. Cash,John A. Paffenbarger,C. Keith Paulson,Jerry C. Seagle. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1994-11-08.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Area selective deposition of metal film on silicon containing surfaces utilizing halides

Номер патента: WO2024215931A1. Автор: Chang-Won Lee,Po-Chun Liu,Tingmin Wang,Lanxia CHENG. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma-enhanced vacuum drying

Номер патента: CA2160208A1. Автор: Robert M. Spencer,Tralance O. Addy. Владелец: Johnson & Johnson Medical, Inc.. Дата публикации: 1996-04-12.

Plasma-enhanced vacuum drying

Номер патента: US6060019A. Автор: Robert M. Spencer,Tralance O. Addy. Владелец: Ethicon Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Plasma enhanced rapidly expanded gas turbine engine transition duct

Номер патента: CA2605525C. Автор: Ching-Pang Lee,Scott Michael Carson,Aspi Rustom Wadia,David Glenn Cherry. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2015-03-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Method for development of permeable upper jurassic deposits using horizontal wells with multi-stage hydraulic fracturing and maintaining reservoir pressure due to high-pressure air injection

Номер патента: RU2764128C1. Автор: Валерий Борисович Карпов,Виктор Иванович Дарищев,Николай Васильевич Паршин,Варвара Дмитриевна Немова,Константин Анатольевич Бугаев,Дмитрий Александрович Метт,Ольга Владимировна Славкина,Ренат Галеевич Нургалиев,Максим Григорьевич Борисов,Константин Александрович Щеколдин,Евгений Орестович Микитин,Александра Евгеньевна Привознова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Российская инновационная топливно-энергетическая компания" (ООО "РИТЭК"). Дата публикации: 2022-01-13.

Method and device for determination of photoelectric, thermal and photobiochemical photosynthetic exergy for three types of solar energy conversion

Номер патента: RU2354104C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Владимир Александрович Гришин,Андрей Александрович Гришин,Иван Иосифович Свентицкий,Александр Петрович Гришин. Владелец: Российская Академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2009-05-10.

Method for training image enhancement model, image enhancement method, and readable medium

Номер патента: EP4394692A1. Автор: Xin Liu,Jing You,Ke Xu,Cong REN,Hengqi Liu,Dehui KONG,Jisong AI. Владелец: Sanechips Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Training method and enhancement method for speech enhancement model, apparatus, electronic device, storage medium and program product

Номер патента: US20240194214A1. Автор: DONG Yang,Muyong CAO,Xuefei FANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for training image enhancement model, image enhancement method, and readable medium

Номер патента: EP4394692A9. Автор: Xin Liu,Jing You,Ke Xu,Cong REN,Hengqi Liu,Dehui KONG,Jisong AI. Владелец: Sanechips Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Text and graphic separation method and text enhancement method

Номер патента: US20080253655A1. Автор: Wu-Jie Liao,Meng-Yun Ying. Владелец: Primax Electronics Ltd. Дата публикации: 2008-10-16.

System for emission-free year-round generation, storage and processing of thermal and electrical energy

Номер патента: EP4193094A1. Автор: Marek Czamara. Владелец: Handlowo Uslugowa Urzadzenia Chlodnicze Marek Czamara Firma. Дата публикации: 2023-06-14.

Method for operation of cooling system for thermal and nuclear power stations with cooling water bodies

Номер патента: RU2285808C2. Автор: Владимир Александрович Хрусталёв,Валентин Лазаревич Подберезный,Василий Александрович Писанец. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Саратовский государственный технический университет (СГТУ). Дата публикации: 2006-10-20.

Method of increasing maneuverability and safety of npp on basis of thermal and chemical accumulation

Номер патента: RU2640409C1. Автор: Александр Николаевич Егоров,Валерий Евгеньевич Юрин. Владелец: Валерий Евгеньевич Юрин. Дата публикации: 2018-01-09.

Device for high-temperature surfaces thermal and noise shielding

Номер патента: RU2650009C1. Автор: Александр Петрович Старостин,Ирина Евгеньевна Карпова,Юрий Михайлович Патраков,Александр Юрьевич Андреев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Крыловский государственный научный центр". Дата публикации: 2018-04-06.

System for production of thermal and electrical energy based on an external combustion engine

Номер патента: RU2755072C1. Автор: Виктор Валентинович Закомолдин,Александр Семенович Федоров,Валерий Михайлович Подлесный. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТЕКРА" (ООО "ТЕКРА"). Дата публикации: 2021-09-13.

Wall covering for thermal and acoustic comfort

Номер патента: RU2604608C2. Автор: Бенжамен БЛАНШАР,Катажина ХУДА. Владелец: Сэн-Гобэн Адфорс. Дата публикации: 2016-12-10.

Onshore equipped ocean thermal and hydraulic energy conversion system and method

Номер патента: EP4081709A1. Автор: Abdulaziz Mohammed AlDossary. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2022-11-02.

Thermal and power aware graphics processing

Номер патента: EP2560091A3. Автор: James Bennett. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2013-04-24.

Thermal and power aware graphics processing

Номер патента: WO2013026029A1. Автор: James Bennett. Владелец: BROADCOM CORPORATION. Дата публикации: 2013-02-21.

Single Detector Detection and Characterization of Thermal and Epithermal Neutrons From an Earth Formation

Номер патента: US20140097335A1. Автор: Feyzi Inanc,Robbie L. Allen,Nikolay N. VELKER. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2014-04-10.

Method, system, and computer program product for schematic driven, unified thermal and electromagnetic interference compliance analyses for electronic circuit designs

Номер патента: US09785141B2. Автор: Taranjit Singh Kukal,Alok Tripathi,An-Yu Kuo,Bradley Brim. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Fiber blends for wash durable thermal and comfort properties

Номер патента: US09745674B2. Автор: Robert Winfred Hines,James Jonathan Bailey. Владелец: DRIFIRE LLC. Дата публикации: 2017-08-29.

Exposure enhancement method and apparatus for a defogged image

Номер патента: US09478015B2. Автор: Zhiming Tan. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Acceleration and enhancement methods and system for ultrasound scatterer structure visualization

Номер патента: US09412167B2. Автор: Chiung-Nein Chen,Yu-Hsin Wang,Argon Chen,Kuo-Chen Huang,Jia-Jiun Chen,Po-Hsiang Tsui,Ming-Chih Ho. Владелец: AmCad BioMed Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Method for selective deposition of diamond coatings

Номер патента: US20240043991A1. Автор: Olaf Dietrich,Dirk Breidt. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2024-02-08.

Thermal-and-vortex power plant

Номер патента: RU2070660C1. Автор: Владимир Герасимович Мосолов. Владелец: Владимир Герасимович Мосолов. Дата публикации: 1996-12-20.

Performance, thermal and power management system associated with an integrated circuit and related method

Номер патента: US20150025829A1. Автор: Alice Wang,Gordon Gammie,Uming Ko. Владелец: Mediatek Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Performance, thermal and power management system associated with an integrated circuit and related method

Номер патента: US20150022254A1. Автор: Alice Wang,Gordon Gammie,Uming Ko. Владелец: Mediatek Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Image enhancement method, chip and image acquisition device

Номер патента: US20240233084A9. Автор: Lin Wang,Caizhi Zhu,Zaichu YANG,Shengning Xiang. Владелец: Intellindust Information Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Speech enhancement method and apparatus, electronic device, and computer readable storage medium

Номер патента: EP4002360A1. Автор: Tao Yu,DONG Yang,Xiaoyu Liu,Wenyan Li,Xiaochun Cui,Congbing LI,Rongxin ZHOU,Muyong CAO,Xuefei FANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-25.

Trust enhancement method and apparatus for intelligent driving system

Номер патента: US20230398995A1. Автор: PENG Ji,Ting Liu,Jinpeng HE,Liyuan HUANG,Yongqiang Chu. Владелец: Zhiji Automotive Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Speech enhancement method and apparatus, electronic device, and computer- readable storage medium

Номер патента: US20220262386A1. Автор: Tao Yu,DONG Yang,Xiaoyu Liu,Wenyan Li,Xiaochun Cui,Congbing LI,Rongxin ZHOU,Muyong CAO,Xuefei FANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Security enhancement method and electronic device therefor

Номер патента: US20190180028A1. Автор: Jaewoo SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-13.

Information enhancing method and information enhancing system

Номер патента: US20240054183A1. Автор: Changming Zhu. Владелец: Shanghai Maritime University. Дата публикации: 2024-02-15.

Image enhancement method for improving color perception of colorblind viewers

Номер патента: US20140270516A1. Автор: Min-Liang Wang,Li-Qi Chen,Huei-Yung Lin,Shih-Chun Chao,Lih-Ching Lai. Владелец: SHOW CHWAN MEMORIAL HOSPITAL. Дата публикации: 2014-09-18.

Single detector detection and characterization of thermal and epithermal neutrons from an earth formation

Номер патента: WO2014056002A1. Автор: Feyzi Inanc,Robbie L. Allen,Nikolay N. VELKER. Владелец: BAKER HUGHES INCORPORATED. Дата публикации: 2014-04-10.

Image data enhancement method and apparatus, computer device, and storage medium

Номер патента: US20240265502A1. Автор: Feng Li,Xiaolan Zhang,Hongli Liu,Zhenzhen ZHOU. Владелец: Suzhou Metabrain Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Image data enhancement method and apparatus, computer device, and storage medium

Номер патента: US12073537B1. Автор: Feng Li,Xiaolan Zhang,Hongli Liu,Zhenzhen ZHOU. Владелец: Suzhou Metabrain Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Speech enhancement methods and processing circuits performing speech enhancement methods

Номер патента: US20240242729A1. Автор: Jie Liu,Fei-Yang TONG,Cheng-Wei Zheng. Владелец: Xiamen Sigmastar Technology Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Data enhancement method and device

Номер патента: US20240273886A1. Автор: Yao Meng,Yun Xing. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

General speech enhancement method and apparatus using multi-source auxiliary information

Номер патента: US12094484B2. Автор: Yu Tian,Jingsong Li,Tianshu ZHOU,Zhenchuan ZHANG. Владелец: Zhejiang Lab. Дата публикации: 2024-09-17.

System and apparatus to apply vibration, thermal and compressive therapy

Номер патента: EP4401696A1. Автор: Anthony Katz,Robert Marton,Trevor Austin Kerth,Alexander Joseph Aguiar,Robert Glen Edwards,John Northrup. Владелец: Hyperice IP Subco LLC. Дата публикации: 2024-07-24.

Visual enhancement method and system based on fusion of spatially aligned features of multiple networked vehicles

Номер патента: US12106551B2. Автор: Qian Huang,Zhifeng Zhao,Yuntao Liu,Yongdong ZHU. Владелец: Zhejiang Lab. Дата публикации: 2024-10-01.

Thermal and / or sound insulation system comprising three dimensional forms

Номер патента: WO2016151512A1. Автор: Ivan SKARICA. Владелец: Skarica Ivan. Дата публикации: 2016-09-29.

Image enhancement method and apparatus for inspecting warehouse ceiling

Номер патента: NL2035796A. Автор: Wang Yu,ZHOU Xuan,Deng Xiaochuan,Pan Yongxian. Владелец: Y2T Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Image enhancement method and electronic device

Номер патента: US20240362759A1. Автор: Hsin-Hui Chen. Владелец: Aspeed Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Underwater image enhancement method and image processing system using the same

Номер патента: US20240362750A1. Автор: Yan-Tsung Peng,Yen-rong Chen. Владелец: National Chengchi University. Дата публикации: 2024-10-31.

Image enhancement method and apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094088B2. Автор: Shan Liu,Songnan Li,Zhihuai XIE. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Thermal-and spatial-aware task scheduling

Номер патента: US09817697B2. Автор: Eun Kyung Lee,Paul W. Coteus,Yoonho Park. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Thermal- and modulated-light-based passive tracking system

Номер патента: US09720086B1. Автор: Christopher M. Wade,Stanislaw K Skowronek,Antonio A Ricco. Владелец: 4Sense Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Image enhancement method and image processing apparatus thereof

Номер патента: US09710892B2. Автор: Chun-Wei Su,Chia-Cheng Liao. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Image enhancement method and device based on non-classical receptive field suppression

Номер патента: US09704225B2. Автор: Dong Wang,Xinyu Du. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Probe station for the simultaneous measurement of thermal and electrical characteristics of thermoelectric module

Номер патента: US09696370B2. Автор: Jinyong Choi,Sangsig Kim,Kyoungah Cho,Jonggoo Lee. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2017-07-04.

Apparatus and method for manufacturing a thermal and/or acoustic insulation product

Номер патента: US09561601B2. Автор: Romain Santamaria,Hannu Konttila. Владелец: Saint Gobain Isover SA France. Дата публикации: 2017-02-07.

Image color enhancement method and device for display

Номер патента: US09548015B2. Автор: Jinjun Wu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Recovery method of high-viscosity oil or bitumen deposit, using hydraulic fractures

Номер патента: RU2626482C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Радик Зяузятович Зиятдинов,Арслан Валерьевич Насыбуллин. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2017-07-28.

Tile for thermal and acoustic insulation and production method

Номер патента: US20240191513A1. Автор: Filippo Perini,Fabrizio Morini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-13.

Speech Enhancement Method and Apparatus

Номер патента: US20200279573A1. Автор: LEI Miao,Weixiang Hu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-03.

CARBON SINK ENHANCEMENT METHOD BASED ON OYSTER-Undaria PINNATIFIDA INTEGRATED AQUACULTURE

Номер патента: US20240196871A1. Автор: TIAN Hu,Jie Su,Tingting Shi,Jingfeng Fan,Hongxia Ming,Kuishuang SHAO. Владелец: National Marine Environmental Monitoring Center. Дата публикации: 2024-06-20.

Radar field-of-view enhancement method and apparatus for matching field-of-view to desired detection zone

Номер патента: WO2001011384A1. Автор: Paul K. Zoratti,Jeffrey Schaeffer. Владелец: VISTEON GLOBAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2001-02-15.

Off-chip driving device and driving capability enhancement method thereof

Номер патента: US20240242747A1. Автор: Chang-Ting Wu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Foam ornament surface enhancing method and exterior wall decorative foam manufactured by the same

Номер патента: US20140250808A1. Автор: Chason Yen. Владелец: MOSPEN PRODUCTS CO. Дата публикации: 2014-09-11.

Resolution enhancing method and apparatus of video

Номер патента: US20070237416A1. Автор: Takeshi Mita,Takashi Ida,Nobuyuki Matsumoto,Yasunori Taguchi,Toshimitsu Kaneko,Hidenori Takeshima,Kenzo Isogawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-10-11.

Weighted image enhancement method

Номер патента: US8938128B2. Автор: Pei-Lin Hsieh,Hsiang-Tan Lin. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2015-01-20.

Image enhancement method and widefield fluorescence imaging system

Номер патента: EP4432216A1. Автор: Tao Huang,Bingxian LIU,Yanhui WANG,Juyan Xie,Kehui WANG. Владелец: Konfoong Biotech International Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Three-dimensional recognition apparatus, terminal, image enhancement method and storage medium

Номер патента: EP4443379A1. Автор: Yongliang Zhang. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-10-09.

Electrocardiograph (ecg) signal enhancement method based on novel generative adversarial network (gan)

Номер патента: US20240324936A1. Автор: Zhaoyang Liu,Yinglong WANG,Minglei Shu,Shuwang Zhou,Pengyao Xu,Tiantian DU. Владелец: Shandong Computer Science Center National Super Computing Center in Jinan. Дата публикации: 2024-10-03.

Video image denoising and enhancing method and device based on random spray retinex

Номер патента: US09978131B2. Автор: Guopeng Zhang,Hai Liu,Deqiang CHENG,Leida LI,Xingge GUO. Владелец: China University of Mining and Technology CUMT. Дата публикации: 2018-05-22.

Image enhancement methods and systems using the same

Номер патента: US09460497B2. Автор: Hsin-Ti Chueh,Jing-Lung Wu,Chia Yen Michael Lin,Chia-Ho Pan. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Method of developing low-permeable oil deposit using separate injection of water and gas

Номер патента: RU2731243C2. Автор: Раис Салихович Хисамов,Вадим Валерьевич Ахметгареев,Илгам Гарифзянович Газизов. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2020-08-31.

Thermal and/or acoustic insulation packaging

Номер патента: EP2646340A2. Автор: Cyrille Lerat. Владелец: KNAUF INSULATION SPRL. Дата публикации: 2013-10-09.

Customized thermal and power policies in computers

Номер патента: US20240192743A1. Автор: Kang-Ning Feng,Yuan-Ti CHANG,Reily Chang. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-06-13.

System and method of controlling development of deposit using electric submersible pumps as virtual sensors

Номер патента: RU2708303C2. Автор: Самир ВИТТАЛ,Рене ХЕ,Марк Эндрю СПОРЕР,Майкл Франклин Хьюз. Владелец: ДжиИ ОЙЛ ЭНД ГЭС ЭСП, ИНК.. Дата публикации: 2019-12-05.

Voice activity detection method and system, and voice enhancement method and system

Номер патента: EP4307296A1. Автор: Xin Qi,Fengyun LIAO,Chengqian Zhang,Le Xiao. Владелец: Shenzhen Shokz Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-17.

Enhanced method of treatment of growth disorders

Номер патента: EP1667671A1. Автор: Wayne Stephen Pfizer Global R & D CUTFIELD,Paul Leslie Pfizer Global R & D HOFMAN,Mark Hedley Pfizer Global R & D VICKERS. Владелец: Pfizer Health Ab. Дата публикации: 2006-06-14.

Speech enhancement method and apparatus, device, and storage medium

Номер патента: EP4261825A1. Автор: Wei Xiao,Meng Wang,Yupeng SHI. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Model structure, model training method, and image enhancement method and device

Номер патента: EP4242917A1. Автор: Yunhe Wang,Chunjing Xu,Hanting Chen,Tianyu Guo. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Model structure, method for training model, image enhancement method, and device

Номер патента: US20230306719A1. Автор: Yunhe Wang,Chunjing Xu,Hanting Chen,Tianyu Guo. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Speech enhancement model training method and apparatus, enhancement method, electronic device, storage medium, and program product

Номер патента: EP4394769A1. Автор: DONG Yang,Muyong CAO,Xuefei FANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Thermal and sound insulation panel system

Номер патента: RU2675388C1. Автор: Дмитрий Владимирович Русецкий. Владелец: Дмитрий Владимирович Русецкий. Дата публикации: 2018-12-19.

Enhanced method for detecting and/or quantifying an analyte in a sample

Номер патента: CA2706763C. Автор: Yuping Tan,Youssouf Badal,Ahmed Chenna,Syed Hasan Tahir. Владелец: Laboratory Corp of America Holdings. Дата публикации: 2013-07-30.

Thermal and acoustic insulating and sealing system for a safing slot in a curtain wall

Номер патента: CA3024748A1. Автор: Christian Förg,Arndt Andresen,Mario Paetow,Markus Kogler,Manfred Klein. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2017-11-23.

Adjustable light and air-admitting window thermal and acoustic barrier system

Номер патента: US4276954A. Автор: Paul L. Romano. Владелец: Acoustic Standards Corp. Дата публикации: 1981-07-07.

Resolution enhancing method and apparatus of video

Номер патента: US7965339B2. Автор: Takeshi Mita,Takashi Ida,Nobuyuki Matsumoto,Yasunori Taguchi,Toshimitsu Kaneko,Hidenori Takeshima,Kenzo Isogawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-06-21.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: US11915392B2. Автор: Rui Zhang,Ming Hong,Hengjie LIN. Владелец: Shanghai Linkchip Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Voice quality enhancement method and related device

Номер патента: US20240096343A1. Автор: JIANG LI,Fan Fan,BIN Li,Meng Liao,Chao Wu,Wenbin Zhao,Yan Qiu,Haiting Li,Xueyan HUANG,Shanyi WEI,Shiqiang Peng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Method and apparatus for vacuum thermal and acoustical insulation

Номер патента: US11891798B1. Автор: Felix A Dimanshteyn,Adam Dimanshteyn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-06.

Image enhancement method and device

Номер патента: US10572986B2. Автор: MING Chen,Xin Duan,Jieqiong WANG,Xiaomang Zhang,Jun Guo,Chengqi Zhou. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-25.

Apparatus for Stabilizing Mechanical, Thermal, and Optical Properties and for Reducing the Fluorescence of Biological Samples for Optical Evaluation

Номер патента: US20120320375A1. Автор: Jan Lipson,Rudolf J. Hofmeister,Robert P. Mcnamara,Donald A. Ice,Jeffrey M. Bernhardt,Janyce Lipson. Владелец: C8 Medisensors Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Multi-image-based image enhancement method and device

Номер патента: US11715186B2. Автор: Lu Fang,Qionghai DAI,Yinheng Zhu. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-08-01.

Image enhancement method and apparatus

Номер патента: US20220005165A1. Автор: Pablo NAVARRETE MICHELINI,Dan Zhu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Video enhancement method and apparatus, and electronic device and storage medium

Номер патента: US20220318950A1. Автор: Dan Zhu,Ran Duan,Guannan Chen. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Trust enhancement method and apparatus for intelligent driving system

Номер патента: EP4289699A1. Автор: PENG Ji,Ting Liu,Jinpeng HE,Liyuan HUANG,Yongqiang Chu. Владелец: Zhiji Automotive Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Thermal and acoustic insulating and sealing system for a safing slot in a curtain wall

Номер патента: US11808036B2. Автор: Arndt Andresen,Mario Paetow,Manfred Klein,Christian Foerg,Markus Koegler. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2023-11-07.

Speech enhancement method and apparatus, and device and storage medium

Номер патента: EP4283618A1. Автор: Wei Xiao,Meng Wang,Yupeng SHI,Shidong Shang,Zurong Wu. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Image enhancement method and apparatus, and storage medium

Номер патента: US11790497B2. Автор: Xin Tao,Xiaoyong Shen,Jiaya Jia,Yuwing TAI,Ruixing WANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Information enhancing method using software agents in a social networking system

Номер патента: US11816743B1. Автор: James Beattie,Gideon Gimlan,Seymour Rapaport,Jeffrey Alan Rapaport,Kenneth Allen Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-14.

Voice signal enhancement method and apparatus, and electronic device

Номер патента: EP4325487A1. Автор: Hongbo Yang. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Mulitfunctional thermal and acoustic insulation system for an aircraft

Номер патента: EP4344997A1. Автор: Christian Thomas,Wolfgang Machunze,Tassilo Witte,Andreas Helwig,Elmar Bonaccurso,Alois Friedberger. Владелец: AIRBUS SAS. Дата публикации: 2024-04-03.

Speech signal enhancement method and apparatus, and electronic device

Номер патента: US20240046947A1. Автор: Hongbo Yang. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Onshore equipped ocean thermal and hydraulic energy conversion system and method

Номер патента: US20210254607A1. Автор: Abdulaziz Mohammed AlDossary. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2021-08-19.

Brightness enhancement method, system and apparatus for low power architectures

Номер патента: US20120076407A1. Автор: Jianping Zhou. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2012-03-29.

Method and device for controlling a thermal and electrical power plant for a rotorcraft

Номер патента: US20230011896A1. Автор: Olivier HONNORAT,Christophe SERR,Jean-Christophe COQUILLAT,Alexandre Madeira. Владелец: Airbus Helicopters SAS. Дата публикации: 2023-01-12.

General speech enhancement method and apparatus using multi-source auxiliary information

Номер патента: US20240079022A1. Автор: Yu Tian,Jingsong Li,Tianshu ZHOU,Zhenchuan ZHANG. Владелец: Zhejiang Lab. Дата публикации: 2024-03-07.

Visual enhancement method and system based on fusion of spatially aligned features of multiple networked vehicles

Номер патента: US20240062533A1. Автор: Qian Huang,Zhifeng Zhao,Yuntao Liu,Yongdong ZHU. Владелец: Zhejiang Lab. Дата публикации: 2024-02-22.

Image enhancement method, chip and image acquisition device

Номер патента: US20240135497A1. Автор: Lin Wang,Caizhi Zhu,Zaichu YANG,Shengning Xiang. Владелец: Intellindust Information Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Image enhancement method and image enhancement apparatus

Номер патента: US20220198723A1. Автор: Yu-Ju Lin,Chi-cheng Ju,Shao-Yang Wang,Ying-Jui Chen,Chia-Hui Kuo,Keh-Tsong Li,Pin-Chung LIN,Hung-Chih Ko. Владелец: MediaTek Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Enhanced Method and Equipment of Forging Bow-Shape Conjointed Rake

Номер патента: US20200047236A1. Автор: Yongjun WANG. Владелец: TANGSHAN SHUSHI HARDWARE TOOLS MANUFACTURE Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.

Performance, thermal and power management system associated with an integrated circuit and related method

Номер патента: US20150022260A1. Автор: Alice Wang,Gordon Gammie,Uming Ko. Владелец: Mediatek Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Thermal and acoustic insulation system for an aircraft

Номер патента: US20240109640A1. Автор: Christian Thomas,Wolfgang Machunze,Tassilo Witte,Andreas Helwig,Elmar Bonaccurso,Alois Friedberger. Владелец: AIRBUS SAS. Дата публикации: 2024-04-04.

Thermal and acoustic insulation system for an aircraft

Номер патента: EP4344993A1. Автор: Christian Thomas,Wolfgang Machunze,Tassilo Witte,Andreas Helwig,Elmar Bonaccurso,Alois Friedberger. Владелец: AIRBUS SAS. Дата публикации: 2024-04-03.

Speech enhancement method and system

Номер патента: US20170365275A1. Автор: Song-Kyu Park,Byeong-Seob Ko,Joon-Hyuk Chang,Seung-Yeol Lee,Tae-jun PARK. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2017-12-21.

Thermal and acoustic insulating and sealing system for a safing slot in a curtain wall

Номер патента: SG11201809148UA. Автор: Christian Förg,Arndt Andresen,Mario Paetow,Markus Kogler,Manfred Klein. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2018-11-29.

Multifunctional thermal and acoustic insulation system for an aircraft

Номер патента: US20240109642A1. Автор: Christian Thomas,Wolfgang Machunze,Tassilo Witte,Andreas Helwig,Elmar Bonaccurso,Alois Friedberger. Владелец: AIRBUS SAS. Дата публикации: 2024-04-04.

Audio signal enhancement method and apparatus, computer device, storage medium, and computer program product

Номер патента: EP4297025A1. Автор: Wei Xiao,Meng Wang,Qingbo HUANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Weighted image enhancement method and system

Номер патента: US20140185953A1. Автор: Pei-Lin Hsieh,Hsiang-Tan Lin. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Selectively depolymerizing cellulosic materials for use as thermal and acoustic insulators

Номер патента: US20230332352A1. Автор: Tanner JOLLY,Jose URIZAR. Владелец: Dte Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Speech enhancement method and apparatus, electronic device, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12009004B2. Автор: Tao Yu,DONG Yang,Xiaoyu Liu,Wenyan Li,Xiaochun Cui,Congbing LI,Rongxin ZHOU,Muyong CAO,Xuefei FANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Video Image Denoising and Enhancing Method and Device Based On Random Spray Retinex

Номер патента: US20180053287A1. Автор: Guopeng Zhang,Hai Liu,Deqiang CHENG,Leida LI,Xingge GUO. Владелец: China University of Mining and Technology CUMT. Дата публикации: 2018-02-22.

Security enhancement method and electronic device therefor

Номер патента: US11100214B2. Автор: Jaewoo SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-24.

Security enhancement method and electronic device therefor

Номер патента: EP3665604A1. Автор: Jaewoo SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-17.

Low-illumination image enhancement method and system based on multi-expression fusion

Номер патента: LU500193B1. Автор: Mingxing LIN. Владелец: Univ Shandong. Дата публикации: 2021-11-24.

Gas turbine system comprising gas turbine and method for reducing thermal and mechanical stresses acting on load junction in gas turbine

Номер патента: RU2616745C2. Автор: Филиппо Вити,Даниэле Маркуччи,Роберто Мерло,Марко Лаццери. Владелец: Нуово Пиньоне С.п.А.. Дата публикации: 2017-04-18.

Novel medical countermeasure for first responder use in mass casualty thermal and/or radiological burn injury event

Номер патента: RU2655766C2. Автор: Марк И. ДИЛЛОН. Владелец: Байо Мед Сайенсиз, Инк.. Дата публикации: 2018-05-29.

Manufacturing method for increasing thermal and electrical conductivities of polymers

Номер патента: US20040131823A1. Автор: Robert Ottaviani,William Rodgers. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 2004-07-08.

Plant for presowing processing of seeds by thermal and electromagnetic fields

Номер патента: RU2658386C2. Автор: Сергей Васильевич Щитов,Сергей Николаевич Воякин,Андрей Викторович Калинин. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Дальневосточный Государственный Аграрный Университет". Дата публикации: 2018-06-21.

Insulation design for thermal and acoustic insulation of an aircraft

Номер патента: US20110067951A1. Автор: Christian Thomas,Rainer Muller,Benjamin Grenzing. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2011-03-24.

Mining and tunneling apparatus involving alternated application of thermal and mechanical energy in response to sensed rock condition

Номер патента: US3876251A. Автор: James Boyd,Lawrence A Garfield,Clifford Hanninen,Eugene Maki. Владелец: Individual. Дата публикации: 1975-04-08.

Utilization of heavy elements in thermal and epithermal reactors

Номер патента: US4123328A. Автор: Chao-Yie Yang,Alvin Radkowsky,Ji-Peng Chien,Horng-Ming Hsieh. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 1978-10-31.

Thermally and mechanically stable muzzle reference system collimator assembly

Номер патента: US5189245A. Автор: Mark L. Bundy. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1993-02-23.

In-core self-powered radiation detector for determining thermal and epithermal flux

Номер патента: CA1171560A. Автор: Cheng-Lin Chen,Norman P. Goldstein,William H. Todt. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1984-07-24.

Core self-powered radiation detector for determining thermal and epithermal flux

Номер патента: US4381451A. Автор: Norman P. Goldstein,William H. Todt,Cheng L. Chen. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1983-04-26.

Composite insulating article for thermal and/or acoustic insulation

Номер патента: CA1171776A. Автор: Paolo Saracino. Владелец: Nord Bitumi Di Marco Danese and C Sas. Дата публикации: 1984-07-31.

Device for thermal and acoustic insulation of windows

Номер патента: CA1112518A. Автор: Sven-Eric Stenberg. Владелец: STENBERG SVEN ERIC. Дата публикации: 1981-11-17.

Manufacturing method for increasing thermal and electrical conductivities of polymers

Номер патента: WO2005062735A3. Автор: William R Rogers,Robert A Ottaviani. Владелец: Gen Motors Corp. Дата публикации: 2005-11-24.

Composite wall element for thermal and acoustic insulation

Номер патента: USRE29517E. Автор: Otto Alfred Becker. Владелец: . Дата публикации: 1978-01-17.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: US11945251B2. Автор: Roger FRANCOEUR,Timothy Darren Livingston. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2024-04-02.

Managing thermal and acoustic characteristics of an information handling system (ihs) based on the use of external peripheral devices

Номер патента: US20230400900A1. Автор: Travis C. North,Daniel L. Hamlin,Suraj M. Varma. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2023-12-14.

Method for determining a displacement of a stopper of a pre-filled medical container during thermal and/or pressure variations

Номер патента: WO2024008749A1. Автор: Guillaume Lehee,Eloïse PERRIN,Ludovic GIL. Владелец: BECTON DICKINSON FRANCE. Дата публикации: 2024-01-11.

Method for determining a displacement of a stopper of a pre-filled medical container during thermal and/or pressure variations

Номер патента: EP4302742A1. Автор: Guillaume Lehee,Eloïse PERRIN,Ludovic GIL. Владелец: Becton Dickinson France SA. Дата публикации: 2024-01-10.

Thermally and electrically switched windows for combined visible and infrared light attenuation

Номер патента: WO2019104265A1. Автор: Piotr POPOV,Wilder Iglesias. Владелец: RavenBrick LLC. Дата публикации: 2019-05-31.

Optimization and integration of thermal and structural analyses

Номер патента: US10466187B2. Автор: Omid B. Nakhjavani,Naveena Mallikarjunaiah,Milan Stefanovic,Mohammad Ali Heidari,Bradley A. Olmstead,Eric John Zimney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2019-11-05.

System adapted for providing a thermal and therapeutical effect at a specific point of body of a patient

Номер патента: EP4282389A1. Автор: Marco Von Gunten. Владелец: Cryothermo 40 Sarl. Дата публикации: 2023-11-29.

Insulation pack having drying openings, for thermally and acoustically insulating an aircraft

Номер патента: US20200001962A1. Автор: Rainer Mueller,Markus Kerber,Marc Wesseloh. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2020-01-02.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: EP3743905A1. Автор: Roger FRANCOEUR,Timothy Darren Livingston. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2020-12-02.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: CA3087585A1. Автор: Roger FRANCOEUR,Timothy Darren Livingston. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2019-07-25.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: AU2019210321A1. Автор: Roger FRANCOEUR,Timothy Darren Livingston. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2020-07-09.

Optimization and integration of thermal and structural analyses

Номер патента: US20160363546A1. Автор: Omid B. Nakhjavani,Naveena Mallikarjunaiah,Milan Stefanovic,Mohammad Ali Heidari,Bradley A. Olmstead,Eric John Zimney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2016-12-15.

Tile for thermal and acoustic insulation and production method

Номер патента: WO2022224034A8. Автор: Filippo Perini,Fabrizio Morini. Владелец: Morini Fabrizio. Дата публикации: 2023-11-16.

Tile for thermal and acoustic insulation and production method

Номер патента: EP4359618A1. Автор: Filippo Perini,Fabrizio Morini. Владелец: Ama Composites Srl. Дата публикации: 2024-05-01.

Tile for thermal and acoustic insulation and production method

Номер патента: WO2022224034A1. Автор: Fabrizio Morini. Владелец: Perini, Filippo. Дата публикации: 2022-10-27.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: AU2019210321B2. Автор: Roger FRANCOEUR,Timothy Darren Livingston. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2024-06-13.

Thermal and/or acoustic insulation packaging

Номер патента: US20190193880A1. Автор: Cyrille Lerat. Владелец: KNAUF INSULATION SPRL. Дата публикации: 2019-06-27.

Direct thermal and thermal transfer label combination

Номер патента: US20240198709A1. Автор: Timothy Darren Livingston,Roger Francoeur et al.. Владелец: Iconex Llc. Дата публикации: 2024-06-20.

Polariser films with high thermal and hygroscopic stability

Номер патента: WO1996038746A1. Автор: Hyun-Nam Yoon,Chia-Chi Teng,Mohammad Mortazavi. Владелец: Hoechst Celanese Corporation. Дата публикации: 1996-12-05.

Customized thermal and power policies in computers

Номер патента: US11960337B2. Автор: Kang-Ning Feng,Yuan-Ti CHANG,Reily Chang. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma treatment and plasma enhanced chemical vapor deposition onto temperature sensitive biological materials

Номер патента: US8920361B2. Автор: Tsung-Chan TSAI,David Staack. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2014-12-30.

Selective deposition of metal on plastic substrates

Номер патента: WO2010147695A1. Автор: Mark Wojtaszek,Robert Hamilton. Владелец: Macdermid, Incorporated. Дата публикации: 2010-12-23.

Surface-selective deposition of organic thin films

Номер патента: EP1746671A3. Автор: Pierre-Marc Allemand. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2010-06-02.

Plasma cleaning head and plasma cleaning equipment for optical parts

Номер патента: US20240238851A1. Автор: Peng Zhang,Qiang Gao,Hang Zhao,Lihua Lu,Yuheng Guan,Jiaxuan CHEN,Yongzhi CAO. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma light source apparatus and plasma light generating method

Номер патента: US20150163893A1. Автор: HASHIMOTO KOHEI,Wook-Rae Kim,Byeong-Hwan Jeon,Young-Kyu Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-11.

Chassis assembly and plasma display apparatus including the same

Номер патента: US20060223348A1. Автор: Yeung-ki Kim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma generation device, plasma treatment device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: EP4351281A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Wear part for an arc torch and plasma torch, arc torch and plasma torch comprising same, method for plasma cutting and method for producing an electrode for an arc torch and plasma torch

Номер патента: ZA202202981B. Автор: Krink Volker,Laurisch Frank,REINKE Ralf-Peter,Jehnert Katrin. Владелец: Kjellberg Stiftung. Дата публикации: 2024-06-26.

Fluorescent probe for plasma cell identification and isolation, and plasma cell identification or isolation method using the probe

Номер патента: US20130029325A1. Автор: Nobuyuki Kurosawa,Masaharu Isobe. Владелец: University of Toyama NUC. Дата публикации: 2013-01-31.

Combination of il-4/il-13 pathway inhibitors and plasma cell abalation for treating allergy

Номер патента: US20240350625A1. Автор: George D. Yancopoulos,Andrew J. Murphy,Jamie M. Orengo,Andre LIMNANDER,Seblewongel ASRAT. Владелец: Regeneron Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Methods and devices for selective deposition of materials including mechanical abrasion

Номер патента: US09995719B2. Автор: Timothy M. Swager,Joseph Walish,Katherine A. Mirica,Kelvin Mitchell Frazier. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-06-12.

Selectively depositing material

Номер патента: US20210229180A1. Автор: Mohammad JOWKAR,Rhys MANSELL,Vicente Granados Asensio. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2021-07-29.

Plasma cutting method and plasma cutting device

Номер патента: US20140353294A1. Автор: Shigeo Morimoto,Yoshihiro Yamaguchi,Katsuo Saio,Satoshi Ohnishi,Kazunori Tsunekawa. Владелец: Komatsu Industries Corp. Дата публикации: 2014-12-04.

Selective deposit of a functional agent

Номер патента: US12042987B2. Автор: Andre Garcia,Luis García Garcia,Michael Alexander Novick,David Ramirez Muela. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-07-23.

Device and apparatus for selectively depositing molten plastic material and production method comprising selective deposition

Номер патента: EP2191956B1. Автор: Francesco Puliga,Francisco Xavier PLANTÀ TORRALBA,Alvaro Pallares Bejarano. Владелец: FUNDACIÒ EURECAT. Дата публикации: 2017-10-25.

DEVICE AND APPARATUS FOR SELECTIVE DEPOSITION OF MOLTEN PLASTIC MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURE BY SELECTIVE DEPOSITION

Номер патента: BRPI0817038A2. Автор: Francesco Puliga,Francisco Xavier PLANTÀ TORRALBA,Alvaro Pallares Bejarano. Владелец: FUNDACIÓ PRIVADA ASCAMM. Дата публикации: 2015-03-24.

Nano structure with selectively deposited nano materials and method for selective deposition of nanomaterials on nano structure

Номер патента: KR20220018887A. Автор: 김태중,신흥주,조우택. Владелец: 울산과학기술원. Дата публикации: 2022-02-15.

Plasma display panel driving method and plasma display apparatus

Номер патента: US20090207162A1. Автор: Hiroki Ikeda,Yoshinori Miyazaki,Ryo Nakano. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-08-20.

Driving method of plasma display panel and plasma display apparatus

Номер патента: US20090033593A1. Автор: Ryo Nakano. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-02-05.

Processing line apparatus for recycling solid household wastes using thermal decomposition

Номер патента: RU2576711C1. Автор: Сергей Иванович Лавров,Сергей Петрович Борисов,Анатолий Дмитриевич Кочегаров,Махмут Ахметович Хамхоев. Владелец: Сергей Иванович Лавров. Дата публикации: 2016-03-10.

Selectively depositing silicon oxide on a dielectric surface of a substrate

Номер патента: WO2024215620A1. Автор: Dennis Hausmann,Bart J. van Schravendijk,Kevin McLaughlin,Kapu Sirish Reddy,Joel David Smith,Nupur BIHARI,Jason Nathaniel BELLING. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-17.

Dispersed mineral raw material processing method and plasma reactor for performing the same

Номер патента: RU2291211C2. Автор: Анатолий Константинович Кычкин,Афанасий Михайлович Иванов,Владимир Егорович Михайлов,Василий Петрович Винокуров. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2007-01-10.

Method of pulse-periodic ion and plasma treatment of product and device for its realization

Номер патента: RU2113538C1. Автор: А.И. Рябчиков,С.В. Дектярев. Владелец: Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете. Дата публикации: 1998-06-20.

Method of control of aerodynamic streamlining of flying vehicle and plasma generator

Номер патента: RU2271307C2. Автор: Владимир Александрович Иванов,Владимир Сергеевич Сухомлинов. Владелец: Владимир Сергеевич Сухомлинов. Дата публикации: 2006-03-10.

Unit for ion-ray and plasma processing

Номер патента: RU2496913C2. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Василий Андреевич Гонтюрев,Марина Константиновна Смыслова,Вячеслав Юрьевич Гордеев,Игорь Борисович Степанов,Александр Ильич Рябчиков,Юрий Михаилович Дыбленко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология". Дата публикации: 2013-10-27.

Method of pulse-periodic implantation of ions and plasma precipitation of coatings

Номер патента: RU2238999C1. Автор: А.И. Рябчиков,бчиков А.И. Р,бчиков И.А. Р,И.А. Рябчиков,И.Б. Степанов. Владелец: Государственное научное учреждение "Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете". Дата публикации: 2004-10-27.

Procedure for hydrocarbon cracking and plasma reactor for its implementation

Номер патента: RU2422493C1. Автор: Евгений Александрович Беленов,Дмитрий Владимирович Гончаров,Владимир Николаевич Житков,Александр Евгеньевич Токарев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КарбЭко". Дата публикации: 2011-06-27.

Method for enzyme immunoassay for anti-progesteron autoantibodies in human blood serum and plasma

Номер патента: RU2567724C1. Автор: Геннадий Тихонович Сухих,Людмила Викторовна Ванько,Любовь Валентиновна Кречетова,Ирина Владимировна Менжинская,Кристина Александровна Гладкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Научный центр акушерства, гинекологии и перинатологии имени академика В.И. Кулакова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2015-11-10.

Method of lowering of ohmic resistance of indium microcontacts using thermal annealing

Номер патента: RU2537085C1. Автор: Лариса Александровна Васильева,Владимир Михайлович Акимов,Евгений Алексеевич Климанов,Ирина Васильевна Кочеткова,Сергей Денисович Коротин,Юрий Павлович Широков. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Министерство промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2014-12-27.

A novel complex formed between the flaviviral non-structural NS1 protein and plasma lipoproteins.

Номер патента: OA21038A. Автор: Felix Rey,James Voss,Marie Flamand,Fasseli Coulibaly,Anavaj Sakuntabhai,Souheyla BENFRID,Carole TAMIETTI,Veasna DUONG,Philippe Dussart,Quentin GIAI GIANETTO,Mariette MATONDO,Mariano DELLAROLE,François BONTEMS,Kyu-Ho Pau PARK. Владелец: 1-Institut Pasteur. Дата публикации: 2023-10-09.

Hydrocarbon-bearing fluid processing plant and plasma reactor incorporated therewith

Номер патента: RU2465303C1. Автор: Юрий Павлович Скакунов,Александр Юрьевич Скакунов,Алла Юрьевна Скакунова,Евгений Валерьевич Федичкин,Олег Валерьевич Федичкин,Валерий Николаевич Федичкин. Владелец: Валерий Николаевич Федичкин. Дата публикации: 2012-10-27.

Method of oil field development by horizontal and vertical well system using thermal impact

Номер патента: RU2550632C1. Автор: Радик Зяузятович Зиятдинов,Марат Инкилапович Амерханов,Ильшат Мухаметович Бакиров,Георгий Владимирович Александров,Айрат Ильшатович Бакиров,Рамиль Хабутдинович Низаев,Алексей Фёдорович Иванов. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2015-05-10.

Tar sand production using thermal stimulation

Номер патента: CA1222445A. Автор: Donald S. Mims,Richard S. Allen. Владелец: Texaco Development Corp. Дата публикации: 1987-06-02.

Method to develop gas hydrate deposits using focused acoustic impact on the layer

Номер патента: RU2586343C2. Автор: Иван Александрович Федоров. Владелец: Иван Александрович Федоров. Дата публикации: 2016-06-10.

Method for physical reconnaissance of mineral deposits using flying vehicles

Номер патента: RU2145104C1. Автор: Р.П. Ковалев. Владелец: Ковалев Роберт Петрович. Дата публикации: 2000-01-27.

Development method of high-viscosity oil deposit using in-situ combustion

Номер патента: RU2494242C1. Автор: Ильшат Мухаметович Бакиров,Георгий Владимирович Александров,Лилия Рафагатовна Оснос,Айрат Ильшатович Бакиров,Рамиль Хабутдинович Низаев,Сергей Николаевич Судыкин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2013-09-27.

Device for thermal and mechanical protection of object

Номер патента: RU2269166C1. Автор: Евгений Федорович Фурмаков,Олег Федорович Петров,Юрий Викторович Маслов. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2006-01-27.

Chicken egg products quality enhancement method

Номер патента: RU2477055C2. Автор: Михаил Петрович Неустроев,Надежда Петровна Тарабукина,Светлана Ивановна Парникова,Анна Михайловна Степанова,Марфа Павловна Федорова,Дмитрий Дмитриевич Неустроев. Владелец: Государственное научное учреждение Якутский научно-исследовательский институт сельского хозяйства Россельхозакадемии. Дата публикации: 2013-03-10.

Onboard device for thermal and mechanical protection of microelectronic object

Номер патента: RU2269169C1. Автор: Евгений Федорович Фурмаков,Олег Федорович Петров,Юрий Викторович Маслов. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2006-01-27.

Apparatus for monitoring dryness, enthalpy, thermal and mass flow of wet steam

Номер патента: RU2521237C2. Автор: Александр Васильевич Коваленко. Владелец: Александр Васильевич Коваленко. Дата публикации: 2014-06-27.

Process of thermal and chemical treatment of face zone of pool

Номер патента: RU2165011C1. Автор: В.Н. Манырин,Г.Н. Позднышев,А.Н. Досов. Владелец: Позднышев Геннадий Николаевич. Дата публикации: 2001-04-10.

Mode of thermal and mechanical protection of an object

Номер патента: RU2268439C1. Автор: Евгений Федорович Фурмаков,Олег Федорович Петров,Юрий Викторович Маслов. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2006-01-20.

Method to produce thermal and electric energy from renewable sources

Номер патента: RU2499954C1. Автор: Михаил Наумович Гиндин,Марк Михайлович Вайнштейн,Владимир Владимирович Кривенко,Игорь Константинович Сторожук. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КИВИ Энерджи". Дата публикации: 2013-11-27.

Method of producing thin-layer, thermally and/or optically stimulated luminescence effect based nuclear radiation charged particle detector based on aluminium oxide

Номер патента: RU2507629C2. Автор: Александр Иванович Сюрдо,Сергей Юрьевич Соковнин,Владислав Генрихович Ильвес,Максим Игоревич Власов,Игорь Игоревич Мильман. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт промышленной экологии Уральского отделения Российской академии наук (ИПЭ УрО РАН). Дата публикации: 2014-02-20.

Method of complex determination of thermal and physical characteristics of solid and dispersive materials

Номер патента: RU2178166C2. Автор: А.А. Чуриков,С.В. Мищенко,Г.В. Шишкина. Владелец: Тамбовский государственный технический университет. Дата публикации: 2002-01-10.

Thermally and optically controlled focusing device

Номер патента: RU2390810C2. Автор: Владимир Владимирович Чесноков,Дмитрий Владимирович Чесноков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА"). Дата публикации: 2010-05-27.

Method of determining thermal and physical characteristics of construction materials (versions)

Номер патента: RU2399911C2. Автор: Владимир Николаевич Чернышов,Алексей Владимирович Чернышов,Дмитрий Олегович Голиков,Алексей Владимирович Чернышов (RU),Дмитрий Олегович Голиков (RU),Владимир Николаевич Чернышов (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тамбовский государственный технический университет" (ГОУ ВПО "ТГТУ"). Дата публикации: 2010-09-20.

Thermal and hydraulic insulating member and method of thermal and hydraulic insulation of pipe lines

Номер патента: RU2095679C1. Автор: М.И. Старшов,В.М. Айдуганов. Владелец: Бугульминский городской центр научно-технического творчества молодежи. Дата публикации: 1997-11-10.

Method for oil extraction and device for controlling pit-face thermal and pressure parameters during oil extraction

Номер патента: RU2244102C1. Автор: А.А. Павлов,Г.А. Павленко. Владелец: Ооо "Вто" "Петросервис". Дата публикации: 2005-01-10.

Thermally and mechanically reinforced steel for ferroconcrete constructions

Номер патента: RU2303646C2. Автор: Евгений Борисович Александров,Анатолий Александрович Карпов,Сергей Николаевич Филипьев,Эдуард Викторович Криночкин,Евгений Александрович Васин,Юрий Михайлович Цикарев,Николай Викторович Наумов,Станислав Андреевич Щербаков,Виктор Анатольевич Решетников,Владимир Егорович Губанов. Владелец: Открытое акционерное общество "Чусовской металлургический завод". Дата публикации: 2007-07-27.

Method for producing of thermally- and fire-resistant textile materials

Номер патента: RU2310701C1. Автор: Владимир Николаевич Кия-Оглу,Геннадий Алфеевич Будницкий,Александра Васильевна Волохина,-Оглу Владимир Николаевич Ки,Нэлли Васильевна Лукашева,Альбина Николаевна Сокира,Зинаида Юлиановна Козинда,Надежда Васильевна Педченко. Владелец: Ооо "Лирсот". Дата публикации: 2007-11-20.

Thermal and acoustic insulated and fire resistence wall system.

Номер патента: MY141741A. Автор: Dag Smestad. Владелец: Dag Smestad. Дата публикации: 2010-06-15.

Process of non-destructive test of thermal and physical characteristics of materials

Номер патента: RU2179718C2. Автор: М.Г. Клебанов,А.И. Фесенко. Владелец: Тамбовский военный авиационный инженерный институт. Дата публикации: 2002-02-20.

Method and device for development of heavy oil or bitumen deposit using two-head horizontal wells

Номер патента: RU2474680C1. Автор: Радик Зяузятович Зиятдинов,Марат Инкилапович Амерханов,Антон Николаевич Береговой,Эдуард Петрович Васильев,Валентин Викторович Шестернин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2013-02-10.

Development method of ultra-thick deposits using block and chamber system

Номер патента: RU2560734C1. Автор: Вячеслав Васильевич Сергеев,Георгий Валикоевич Пухаев,Дмитрий Валерьевич Павлиди,Михаил Валерьянович Джусоев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Северо-Кавказский горно-металлургический институт (государственный технологический университет) (СКГМИ ГТУ). Дата публикации: 2015-08-20.

Method of enhancing economical efficiency of thermal and refrigerating combined plants

Номер патента: RU2170357C1. Автор: В.С. Бекнев. Владелец: Бекнев Виктор Сергеевич. Дата публикации: 2001-07-10.

Method to produce controlled atmosphere for thermal and chemical thermal treatment of pieces

Номер патента: RU2048599C1. Автор: Петр Павлович Емельянов. Владелец: Петр Павлович Емельянов. Дата публикации: 1995-11-20.

Method for development of low-permeable oil deposits using horizontal wells with transversal cracks in hydraulic fracturing

Номер патента: RU2515628C1. Автор: Виталий Анварович Байков,Константин Витальевич Торопов,Александр Валерьевич Колонских,Олег Владимирович Евсеев,Раиль Рамилевич Галеев,Михаил Анатольевич Степанов,Сергей Валерьевич Валеев. Владелец: Открытое акционерное общество "Нефтяная компания "Роснефть". Дата публикации: 2014-05-20.

Method for development of oil deposit using injection of carbon dioxide

Номер патента: RU2704660C1. Автор: Рифхат Зиннурович Сахабутдинов,Ильдар Ильясович Гирфанов,Олег Сергеевич Сотников. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2019-10-30.

Method for extracting oil deposit using horizontal wells

Номер патента: RU2287674C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Рашад Хасанович Фаткуллин,Изиль Галимзянович Юсупов,Изиль Галимз нович Юсупов,Рафаэль Гасимович Загидуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2006-11-20.

Development method of oil-gas deposit using hydraulic fracturing of formation

Номер патента: RU2496001C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Равиль Рустамович Ибатуллин,Вячеслав Гайнанович Салимов,Арслан Валерьевич Насыбуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2013-10-20.

Development method of high-viscosity oil deposit using method of thermal steam action on formation

Номер патента: RU2459940C1. Автор: Марат Инкилапович Амерханов,Ильшат Мухаметович Бакиров,Валентин Викторович Шестернин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2012-08-27.

Method of searching for mineral deposits using submarine geophysical vessel

Номер патента: RU2480793C2. Автор: Сергей Алексеевич Бахарев. Владелец: Сергей Алексеевич Бахарев. Дата публикации: 2013-04-27.

Method of complex determination of thermal and physical characteristics of substance

Номер патента: RU2216011C2. Автор: Е.П. Тетерин,И.Е. Тарасов,Д.С. Потехин,А.И. Лунин,И.Г. Метин. Владелец: Ковровская государственная технологическая академия. Дата публикации: 2003-11-10.

Development method of high-viscosity oil deposit using wells with inclined sections

Номер патента: RU2468194C1. Автор: Радик Зяузятович Зиятдинов,Фарид Баширович Сулейманов,Илфат Нагимович Файзуллин,Рашит Газнавиевич Рамазанов,Роберт Рафаэлович Ахмадуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2012-11-27.

Development method of high-viscosity oil deposit using method of steam gravitational action on formation

Номер патента: RU2444617C1. Автор: Равиль Рустамович Ибатуллин,Марат Инкилапович Амерханов,Ильшат Мухаметович Бакиров,Валентин Викторович Шестернин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2012-03-10.

Device for generation of thermal and electric energy

Номер патента: RU2224190C1. Автор: Н.В. Шалаев,О.А. Новосельцев. Владелец: НОВОСЕЛЬЦЕВ Олег Анатольевич. Дата публикации: 2004-02-20.

Development method of massive oil deposit using hydraulic fracturing of formation

Номер патента: RU2560022C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Радик Зяузятович Зиятдинов,Равиль Рустамович Ибатуллин,Вячеслав Гайнанович Салимов,Арслан Валерьевич Насыбуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2015-08-20.

Development method of stratified deposits using chamber system

Номер патента: RU2479720C1. Автор: Олег Андреевич Носов,Александр Аркадьевич Романовский,Никита Сергеевич Кошурников,Михаил Владимирович Скопинов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Уральский Научно-Исследовательский И Проектный Институт Галургии" (Оао "Галургия"). Дата публикации: 2013-04-20.

Method for open excavation of mineral deposits using crushing link and high-angle conveyors (hac)

Номер патента: RU2501951C2. Автор: Георгий Михайлович Ерёмин. Владелец: Георгий Михайлович Ерёмин. Дата публикации: 2013-12-20.

Development method of oil deposits using formation hydraulic fracturing

Номер патента: RU2496976C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Равиль Рустамович Ибатуллин,Вячеслав Гайнанович Салимов,Арслан Валерьевич Насыбуллин,Олег Геннадьевич Антонов. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2013-10-27.

Method for open development of mineral deposits using excavator-crane line

Номер патента: RU2598609C1. Автор: Виктор Евгеньевич Кисляков,Равиль Зиннурович Нафиков,Хорагай Уран-ооловна Севик. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет". Дата публикации: 2016-09-27.

Reservoir oil recovery enhancement method

Номер патента: RU2266398C2. Автор: В.Н. Манырин,Г.Н. Позднышев,Т.Г. Сивакова,Н.И. Акимов. Владелец: Позднышев Геннадий Николаевич. Дата публикации: 2005-12-20.

Cattle milk productiveness enhancement method

Номер патента: RU2475040C2. Автор: Ольга Александровна Быкова,Ольга Васильевна Горелик. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральская государственная академия ветеринарной медицины". Дата публикации: 2013-02-20.

Respiratorily enhanced method of cranio-sacral therapy

Номер патента: RU2483704C2. Автор: Валерий Валентинович Короткий,Марина Витальевна Рябоконь. Владелец: Марина Витальевна Рябоконь. Дата публикации: 2013-06-10.

Thermal and electric energy generation device

Номер патента: RU2522269C2. Автор: Виктор Владимирович Миронов,Дмитрий Викторович Миронов,Николай Александрович Проскуряков,Юрий Андреевич Иванюшин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭЛЕКТРОРАМ" (ООО "ЭЛЕКТРОРАМ"). Дата публикации: 2014-07-10.

Method of controlling thermal and technological process of glass melting in bath furnaces for producing sheet glass by floatation method

Номер патента: RU2509061C2. Автор: Леонид Яковлевич Левитин,Валентин Дмитриевич Токарев,Сергей Алексеевич Агуреев,Радик Ирекович Султанов,Владимир Иванович Литвин,Анатолий Владимирович Ячевский. Владелец: Открытое акционерное общество "Салаватстекло". Дата публикации: 2014-03-10.

Measurement method of thermal and physical properties of solid materials by method of instantaneous flat heat source

Номер патента: RU2534429C1. Автор: Александр Георгиевич Дивин,Сергей Васильевич Пономарев,Андрей Викторович Гуров,Галина Викторовна Шишкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тамбовский государственный технический университет" ФГБОУ ВПО "ТГТУ". Дата публикации: 2014-11-27.

Method of thermal-and-force processing of long axially symmetric parts and device to this end

Номер патента: RU2552206C2. Автор: Олег Иванович Драчев,Дмитрий Александрович Расторгуев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тольяттинский государственный университет". Дата публикации: 2015-06-10.

Plant for thermal and magnetic treatment of seeds

Номер патента: RU2483513C1. Автор: Александр Евгеньевич Абрамов,Максим Владимирович Сотников,Евгений Григорьевич Кочетков,Анастасия Олеговна Кошкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновская государственная сельскохозяйственная академия". Дата публикации: 2013-06-10.

Broiler chickens productivity enhancement method

Номер патента: RU2440008C1. Автор: Алла Александровна Столбовская,Рустем Борисович Темираев,Анжелика Ахсарбековна Баева,Залина Георгиевна Дзодзиева,Залина Сергеевна Хамицаева,Рустем Борисович Темираев (RU),Анжелика Ахсарбековна Баева (RU),Алла Александровна Столбовская (RU),Залина Георгиевна Дзодзиева (RU),Залина Сергеевна Хамицаева (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Северо-Кавказский горно-металлургический институт (государственный технологический университет) (СКГМИ (ГТУ). Дата публикации: 2012-01-20.

Method for nondestructive inspection of system of thermal and physical characteristics of solid construction materials

Номер патента: RU2421711C2. Автор: Владимир Михайлович Фокин,Андрей Васильевич Ковылин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный архитектурно-строительный университет" (ВолгГАСУ). Дата публикации: 2011-06-20.

Method for monitoring dryness, enthalpy, thermal and mass flux of wet steam

Номер патента: RU2459198C1. Автор: . Владелец: Коваленко Александр Васильевич. Дата публикации: 2012-08-20.

Nondestructive control method for thermal and physical properties of building materials for multilayer building structure erection

Номер патента: RU2245538C1. Автор: А.В. Чернышов. Владелец: Тамбовский государственный технический университет (ТГТУ). Дата публикации: 2005-01-27.

Method of evaluating thermal and physical characteristics of building enclosures made from bricks in winter season based on full-scale test results

Номер патента: RU2454659C2. Автор: Павел Николаевич Муреев,Валерий Николаевич Куприянов,Виталий Геннадьевич Котлов,Татьяна Ивановна Краева,Константин Павлович Муреев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Марийский государственный технический университет. Дата публикации: 2012-06-27.

Apparatus for determining dryness, enthalpy, thermal and mass flow of wet steam

Номер патента: RU2522144C2. Автор: Александр Васильевич Коваленко. Владелец: Александр Васильевич Коваленко. Дата публикации: 2014-07-10.

Gun powder enhancement method and gun powder

Номер патента: RU2564284C1. Автор: Николай Евгеньевич Староверов. Владелец: Николай Евгеньевич Староверов. Дата публикации: 2015-09-27.

Apparatus for thermal and photochrome ultrasound treatment of osteoarthrosis

Номер патента: RU2496537C2. Автор: Валерий Викторович Педдер,Александр Валерьевич Педдер,Геннадий Захарович Рот,Борис Георгиевич Поляков,Ирина Витальевна Сургутскова,Юрий Васильевич Шкуро,Андрей Иванович Трифонов,Максим Владимирович Набока,Елена Владимировна Куликова,Руслан Федорович Ткачев,Ольга Владимировна Педдер,Светлана Дмитриевна Каткова,Татьяна Сергеевна Компаниец. Владелец: Валерий Викторович Педдер. Дата публикации: 2013-10-27.

Onboard unit for thermal and mechanical protection of object

Номер патента: RU2263980C1. Автор: Е.Ф. Фурмаков,О.Ф. Петров,Ю.В. Маслов. Владелец: Открытое акционерное общество "Техприбор". Дата публикации: 2005-11-10.

Method of oil deposit development by thermal and water-gas simulation

Номер патента: RU2534306C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Вадим Валерьевич Ахметгареев,Марс Талгатович Ханнанов,Альфат Салимович Султанов. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2014-11-27.

Method and apparatus for determining porosity and saturation of formations based simultaneously on thermal and epithermal neutrons

Номер патента: RU2468393C1. Автор: Дмитрий Иванович Киргизов,Владимир Валентинович Баженов,Виктор Алексеевич Лифантьев,Лев Николаевич Воронков,Рамиль Сафиевич Мухамадиев. Владелец: Общество с Ограниченной Ответственностью "ТНГ-Групп". Дата публикации: 2012-11-27.

Scots pine seeds germination speed enhancement method

Номер патента: RU2636322C1. Автор: Дмитрий Иванович Пигалин,Юрий Петрович Демаков,Мария Николаевна Чефранова,Алёна Аркадьевна Евсюткина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2017-11-22.

Flywheel and steering based vehicle dynamics enhancements methods

Номер патента: CA3167715A1. Автор: Daniel PILON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-16.

Process determining thermal and physical characteristics of construction materials in multilayer structures without breakdown of their integrity

Номер патента: RU2140070C1. Автор: Ю.Л. Муромцев,В.М. Потапов,Б.Г. Варфоломеев,Л.П. Орлова. Владелец: Научно-информационный центр проблем интеллектуальной собственности. Дата публикации: 1999-10-20.

Heater for bench for thermal and ratio tests of radioparent fairings

Номер патента: RU2583845C1. Автор: Владимир Николаевич Афанасьев,Сергей Иванович Бурцев,Игорь Иванович Лопухов,Александр Викторович Бобров,Александр Борисович Филимонов. Владелец: Акционерное общество "Военно-промышленная корпорация "Научно-производственное объединение машиностроения" (АО "ВПК "НПО машиностроения"). Дата публикации: 2016-05-10.

Waterproof, thermal, and kidney and lower abdominal supporting garment

Номер патента: CA2013890C. Автор: Brian Douglas Prouse,Ray Kenneth Swan. Владелец: Ray Kenneth Swan. Дата публикации: 1994-05-10.

Steam generator having a high pressure combustor having controlled thermal and mechanical stresses and utilizing pyrophoric ignition

Номер патента: CA1220685A. Автор: A. Burl Donaldson,Anthony J. Mulac,Stephen Eisenhawer,Ronald L. Fox. Владелец: Enhanced Energy Systems Inc. Дата публикации: 1987-04-21.

กรรมวิธีการสังเคราะห์ส่วนประกอบซิลิโคนที่สามารถเกิดการเชื่อมขวางโครงสร้าง ทางเคมีได้ด้วยทั้งความร้อนและแสง (Synthetic method of dual thermal and light curable silicone composition)

Номер патента: TH155115A. Автор: ถาวรยุติการต์ นางสาวบุญล้อม,จันทร์วิกูล นางสาววนิดา,งามดี นายภาราดร. Владелец: นางสาวอรกนก พรรณรักษา. Дата публикации: 2016-08-09.

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PLASMA TREATMENT METHOD

Номер патента: US20120000887A1. Автор: Saito Makoto,SUZUKI Keiji,ETO Hideo,Nishiyama Nobuyasu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING DEVICE AND DRIVING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL, AND PLASMA DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120001882A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of continuous selective deposition of cover on belt-type base in vacuum

Номер патента: RU2019573C1. Автор: Л.А. Захарова,Л.Д. Харитонова,С.М. Манякин,Р.И. Терешкина. Владелец: Государственный научно-исследовательский, проектный и конструкторский институт сплавов и обработки цветных металлов. Дата публикации: 1994-09-15.

Method for making shallow trench isolation region by a composite layer of plasma enhanced nitride layer and plasma enhanced oxide layer

Номер патента: TW441007B. Автор: Wei-Ruei Lin,Li-Ye Chen. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2001-06-16.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.