SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR DEVICE
Номер патента: US20160163545A1
Опубликовано: 09-06-2016
Автор(ы): Horii Taku, Masuda Takeyoshi
Принадлежит: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-06-2016
Автор(ы): Horii Taku, Masuda Takeyoshi
Принадлежит: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for manufacturing a cubic silicon carbide single crystal thin film and semiconductor device based on the cubic silicon carbide single crystal thin film
Номер патента: US20100270561A1. Автор: Masaaki Sakuta,Mitsuhiko Ogihara. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2010-10-28.