Structure and method for multi-gate semiconductor devices
Номер патента: US20240162331A1
Опубликовано: 16-05-2024
Автор(ы): Chang-Miao Liu, Ko-Cheng Liu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-05-2024
Автор(ы): Chang-Miao Liu, Ko-Cheng Liu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Metal oxide semiconductor device and method for manufacturing the same
Номер патента: US20230170401A1. Автор: He Sun,Jiakun Wang. Владелец: Hangzhou Silicon Magic Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.