Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Electrostatic deflector, for electron beam exposure apparatus, with reduced charge-up

Electrostatic deflector, for electron beam exposure apparatus, with reduced charge-up

Номер патента: TW419734B
Опубликовано: 21-01-2001
Автор(ы): HIROSHI Yasuda, Tomohiko Abe, Yoshihisa Ooae
Принадлежит: Advantest Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Heat-spreading blanking system for high throughput electron beam apparatus

Номер патента: US09881764B2. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang,Douglas Larson. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Electron beam processing

Номер патента: US20030047691A1. Автор: Christian Musil,J. Casey,Thomas Gannon,Clive Chandler,Xiadong Da. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2003-03-13.

Electron beam processing

Номер патента: WO2003012551A1. Автор: Clive Chandler,Xiadong Da,Christian R. Musil,David J. Casey, Jr.,Thomas J. Gannon. Владелец: FEI COMPANY. Дата публикации: 2003-02-13.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20140120475A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2014-05-01.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20150243482A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-27.

Electron beam exposure method

Номер патента: US9116434B2. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-25.

Electron beam exposure system and methods of performing exposing and patterning processes using the same

Номер патента: US09588415B2. Автор: Jin Choi,Sukjong Bae,Sunghoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-07.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Electron beam exposure method

Номер патента: US9213240B2. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-12-15.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Systems and methods providing electron beam writing to a medium

Номер патента: US8927947B2. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-01-06.

Systems and Methods Providing Electron Beam Writing to a Medium

Номер патента: US20120235063A1. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-09-20.

Systems and methods providing electron beam writing to a medium

Номер патента: US20140217305A1. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-08-07.

Systems and methods providing electron beam writing to a medium

Номер патента: US20130146780A1. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Systems and methods providing electron beam writing to a medium

Номер патента: US8610083B2. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-12-17.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Frame member for electron beam lithography device and electron beam lithography device

Номер патента: US20210375579A1. Автор: Koji Akashi,Shigenobu Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Frame member for electron beam lithography device and electron beam lithography device

Номер патента: US11934096B2. Автор: Koji Akashi,Shigenobu Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for controlling the electronic beam exposure of wafers and masks using proximity correction

Номер патента: US20120293787A1. Автор: Reinhard Galler. Владелец: EQUICON SOFTWARE GMBH JENA. Дата публикации: 2012-11-22.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20180166254A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Electron beam apparatus and positional displacement correcting method of electron beam

Номер патента: US20180090298A1. Автор: Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-29.

Electron beam drawing apparatus, electron beam drawing method, and storage medium

Номер патента: US09430607B2. Автор: Masakazu HAMAJI,Takuya Tao. Владелец: Nippon Control System Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

Deflector for equipment of electron beam lithography and equipment of electron beam lithography

Номер патента: US7521689B2. Автор: Yoshimasa SANMIYA,Kenji Ohtoshi,Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-04-21.

Direct nanolithography or printing method for electron beams in wet environment

Номер патента: US20170075234A1. Автор: Yue Lu,Furong CHEN,Manling Sui. Владелец: BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-03-16.

Patterning method using electron beam and exposure system configured to perform the same

Номер патента: US09411236B2. Автор: Yongseok Jung,Sanghee Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

Photoresist inspection apparatus, photoresist inspection method using the same, and electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20230042743A1. Автор: Johan Hofkens,Sukjong Bae,Haifeng Yuan,Flip de Jong. Владелец: Katholieke Universiteit Leuven. Дата публикации: 2023-02-09.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device production method

Номер патента: EP1544895A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-01-17.

Substrate for electronic high-resolution lithography and relevant lithography method

Номер патента: RU2632581C2. Автор: Жан-Луи ЭМБЕР,Кристоф КОНСТАНСИА. Владелец: Коммиссариат А Л'Энержи Атомик Э О Энержи Альтернатив. Дата публикации: 2017-10-06.

E-Beam Exposure Apparatus

Номер патента: US20090166552A1. Автор: Dong Sik Jang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Multicolumn charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170323760A1. Автор: Shinichi Kojima,Akio Yamada,Takamasa Sato,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Electron beam lithography with a bilayer resist

Номер патента: AU2021236441A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-19.

Electron beam lithography with a bilayer resist

Номер патента: EP3995895A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-11.

Electron Beam Lithography With a Bilayer Resist

Номер патента: US20220137510A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-05.

Method for estimating patterns to be printed on a plate or mask by means of electron-beam lithography and corresponding printing device

Номер патента: US09430597B2. Автор: Jerome Belledent. Владелец: Aselta Nanographics SA. Дата публикации: 2016-08-30.

Spectrometer objective for electron beam mensuration techniques

Номер патента: US4808821A. Автор: Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-02-28.

Deflector for multiple electron beams and multiple beam image acquiring apparatus

Номер патента: US20190378676A1. Автор: John Hartley. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2019-12-12.

Electron Beam Interference Device and Electron Beam Interferometry

Номер патента: US20140332684A1. Автор: Hiroto Kasai,Ken Harada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2014-11-13.

Radiation correction method for electron beam lithography

Номер патента: US20040086786A1. Автор: San-De Tzu,Wei-Zen Chou,Chia Wu,Ching Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-05-06.

Mask inspection apparatus, mask inspection method, and electron beam exposure system

Номер патента: US20060076491A1. Автор: HIROSHI Yasuda,Takeshi Haraguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-04-13.

Charged particle beam exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US6255663B1. Автор: Atsushi Yamada,Koichi Kamijo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-07-03.

Method for correcting electron beam exposure data

Номер патента: US20060284120A1. Автор: Hiroshi Takita. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-12-21.

Apparatus and methods for patterning a reticle blank by electron-beam inscription with reduced exposure of the reticle blank by backscattered electrons

Номер патента: US20020012853A1. Автор: Atsushi Yamada,Hajime Yamamoto,Shohei Suzuki,Sumito Shimizu,Wakako Suganuma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-01-31.

Electron beam exposure device and exposure method

Номер патента: US20060252160A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Shigetoshi Sugawa,Kiwamu Takehisa,Kimio Yanagida. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-09.

Method for electron beam-induced processing of a defect of a microlithographic photomask

Номер патента: US20240036456A1. Автор: Gilles Tabbone. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

High resolution electron beam apparatus with dual-aperture schemes

Номер патента: EP4281988A1. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang,Luca Grella,Nikolai Chubun. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Alignment marks for electron beam lithography

Номер патента: US4407933A. Автор: David B. Fraser,Roderick K. Watts. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1983-10-04.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: WO2002013226A8. Автор: Paul C Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Device and method for optimizing diffusion section of electron beam

Номер патента: US09767985B2. Автор: Lei Cao,Kaifeng Liu,CHEN ZUO,Jiang Huang,Jun Yang,Lige ZHANG,Mingwu FAN,Tiaoqin YU,Yongqian XIONG,Gerald F. WU. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-09-19.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: WO2002013226A3. Автор: Paul C Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-06.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: EP1309983A2. Автор: Paul C. Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-14.

Electron beam inspection apparatus and electron beam inspection method

Номер патента: US10712295B2. Автор: Hideaki Hashimoto,Ryoichi Hirano,Hideo Tsuchiya,Riki Ogawa,Masataka Shiratsuchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Electron beam depicting method, mother die manufacturing method, mother die, metallic mold manufacturing method, metallic mold and optical element

Номер патента: US20040185354A1. Автор: Osamu Masuda,Kazumi Furuta. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2004-09-23.

Simplified reticle stage removal system for an electron beam system

Номер патента: US20030141461A1. Автор: Douglas Watson,W. Novak. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-07-31.

Method and system for adaptively scanning a sample during electron beam inspection

Номер патента: US09734987B2. Автор: HONG Xiao,Vivekanand Kini,David Chen,Gary Fan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Electron beam control method, electron beam drawing apparatus and method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20060097191A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-11.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20010045528A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2001-11-29.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20020020354A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-02-21.

Electromagnetic lens for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US8957389B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-02-17.

Apparatus and methods for electron beam lithography using array cathode

Номер патента: US09715995B1. Автор: Keith Standiford,Alan D. Brodie,Paul F. Petric. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Electron-beam irradiation apparatus and maintenance method for electron-beam irradiation apparatus

Номер патента: US20240087836A1. Автор: Masahiro Nagai,Toshio Kimura. Владелец: NHV Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Electron beam diagnostic for profiling high power beams

Номер патента: WO2006088486A1. Автор: John W. Elmer,Alan T. Teruya,Todd A. Palmer. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2006-08-24.

Test method of mask for electron-beam exposure and method of electron-beam exposure

Номер патента: US20010054697A1. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-12-27.

Electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method

Номер патента: GB2379082A. Автор: Hitoshi Tanaka. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-26.

Exposure method for correcting dimension variation in electron beam lithography, and recording medium for recording the same

Номер патента: US20030027064A1. Автор: Won-tai Ki. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-02-06.

Manufacturing method of mask for electron beam proximity exposure and mask

Номер патента: US20020071994A1. Автор: Nobuo Shimazu,Takao Utsumi. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Methods for forming pattern using electron beam and cell masks used in electron beam lithography

Номер патента: US20070166646A1. Автор: Seong-Woon Choi,Hee-Bom Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-07-19.

Methods for electron beam patterning

Номер патента: US9182660B2. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-11-10.

Plasma polymerized electron beam resist

Номер патента: EP1521997A2. Автор: Dominique Drouin,Yousef Awad,Jacques Beauvais,Eric Lavallee. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2005-04-13.

Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method

Номер патента: US20200174373A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Electron beam lithography with reduced charging effects

Номер патента: CA2103411C. Автор: Christophe Pierrat,John Joseph Demarco. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1998-09-15.

Electron Beam Transport System

Номер патента: US20190246486A1. Автор: Roelof Harm KLUNDER,Gijsbertus Geert PGORTER,Johannes Aldegonda Theodoras Marie VAN DEN HOMBERG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-08-08.

Light exposure apparatus with cooling means

Номер патента: US4535234A. Автор: Takashi Fujimura,Masahiro Nishizawa,Katsuyu Takahashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-08-13.

Low energy electron beam lithography

Номер патента: US09557658B2. Автор: Takao Utsumi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-31.

Method for creating electron-beam hologram, magnetic field information measurement method and magnetic field information measuring device

Номер патента: US20200124687A1. Автор: Takafumi Sato,Daisuke Shindo. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2020-04-23.

Electron beam device

Номер патента: EP4170693A1. Автор: Alexander Henstra,Yuchen Deng,Holger Kohr. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-04-26.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Deflector for equipment of electron beam lithography and equipment of electron beam lithography

Номер патента: US20070181819A1. Автор: Yoshimasa SANMIYA,Kenji Ohtoshi,Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2007-08-09.

Scanning electron microscope device and electron beam inspection apparatus

Номер патента: US11908658B2. Автор: Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Method for manufacturing electrostatic deflector, and electrostatic deflector

Номер патента: EP4254466A1. Автор: Takeshi Muneishi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Manufacturing method for electrostatic deflector and electrostatic deflector

Номер патента: US20240153731A1. Автор: Takeshi Muneishi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Diaphragm with windows for electron beam, having inhomogeneous cross sections

Номер патента: RU2702336C2. Автор: Имтиаз РАНГВАЛЛА,Рич АЛЕКСИ,Джонатан БАРОУД. Владелец: Энерджи Сайенсиз Инк.. Дата публикации: 2019-10-08.

Electron beam window tile having non-uniform cross-sections

Номер патента: US09715990B2. Автор: Imtiaz Rangwalla,Rich ALEXY,Jonathan Baroud. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Electrostatic deflector for charged particle optics

Номер патента: EP4303907A1. Автор: Markus DRESCHER,Jette Heyer,Philipp Wessels-Staarmann. Владелец: UNIVERSITAET HAMBURG. Дата публикации: 2024-01-10.

Exposure apparatus for forming a reticle

Номер патента: US20140218710A1. Автор: URAZAEV Vladimir,Jin Choi,Jin-Ha Jeong,Hea-Yun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-08-07.

Exposure apparatus for forming a reticle and method of forming a reticle using the same

Номер патента: US20130052569A1. Автор: URAZAEV Vladimir,Jin Choi,Jin-Ha Jeong,Hea-Yun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-02-28.

Exposure apparatus for forming a reticle and method of forming a reticle using the same

Номер патента: US8697317B2. Автор: URAZAEV Vladimir,Jin Choi,Jin-Ha Jeong,Hea-Yun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-04-15.

Electron beam recording materials

Номер патента: GB1333902A. Автор: . Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1973-10-17.

Magnetic deflector for an electron column

Номер патента: US20100148086A1. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiating method

Номер патента: US20030178581A1. Автор: Hiroshi Kawase,Setsuo Norioka,Masanobu Yamamoto,Yoshihisa Miura,Naoki Date,Yuichi Aki,Mitsuru Koizumi,Gakuo Komatsubara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2003-09-25.

Method of forming a multipole device, method of influencing an electron beam, and multipole device

Номер патента: US20240274396A1. Автор: John Breuer,Ivo LISKA,Dominik Patrick Ehberger,Kathrin Mohler. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-15.

Electron Microscope And Electron Beam Inspection System

Номер патента: US20080265161A1. Автор: Masaki Hasegawa,Hideo Todokoro,Hisaya Murakoshi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-10-30.

Electron beam irradiation apparatus and method

Номер патента: EP1339084A3. Автор: Setsuo Norioka,Naoki Date,Masanobu C/O Sony Corporation Yamamoto,Yoshihisa c/o Sony Corporation Miura,Yuichi c/o Sony Corporation Aki,Hiroshi c/o Sony Corporation Kawase,Mitsuru Koikumi,Gakuo Komatsubara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2010-05-05.

Micro-column electron beam apparatus

Номер патента: US20060151716A1. Автор: Dae Kim,Jin Jeong,Sang Choi. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2006-07-13.

Electron beam processing with condensed ice

Номер патента: WO2012099635A3. Автор: Jene A. Golovchenko,Daniel Branton,Anpan Han. Владелец: President and Fellows of Harvard College. Дата публикации: 2012-12-27.

Electron beam inspection apparatus and electron beam inspection method

Номер патента: US12046445B2. Автор: Takuro Nagao. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Apparatus and methods for high-resolution electron beam imaging

Номер патента: US20130256530A1. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Electron optical module for providing an off-axial electron beam with a tunable coma

Номер патента: EP4167265A1. Автор: Alexander Henstra,Peter Christiaan Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari,Tomas RADLICKA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-04-19.

Electron beam microscope

Номер патента: US20240304410A1. Автор: Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Technique of exposing a resist using electron beams having different accelerating voltages, and method of manufacturing a photomask using the technique

Номер патента: US20020042005A1. Автор: Seung-hune Yang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-04-11.

Electron beam application apparatus

Номер патента: US20220319798A1. Автор: Takeshi Morimoto,Akira Ikegami,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-10-06.

Creating multiple electron beams with a photocathode film

Номер патента: EP4427255A1. Автор: Michael Steigerwald,Xinrong Jiang,Ralph Nyffenegger,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Electrostatic quadrupole deflector for microcolumn

Номер патента: US09666407B2. Автор: Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Tae Sik Oh. Владелец: Industry University Cooperation Foundation of Sun Moon University. Дата публикации: 2017-05-30.

Electron beam equipment

Номер патента: US09543053B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Takeyoshi Ohashi,Takafumi Miwa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Electron beam illumination device, and exposure apparatus with electron beam illumination device

Номер патента: US6037601A. Автор: Masahiko Okunuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam exposure apparatus, and defect detection method

Номер патента: US6784426B2. Автор: Takayuki Sugiura,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-31.

Electron-beam irradiation apparatus and maintenance method for electron-beam irradiation apparatus

Номер патента: US12033828B2. Автор: Masahiro Nagai,Toshio Kimura. Владелец: NHV Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Extractor electrode for electron source

Номер патента: EP3549151A1. Автор: Kevin Cummings,Christopher Sears,Xinrong Jiang,Luca Grella,Nikolai Chubun,Laurence S. Hordon,Oscar G. Florendo,Daniel Bui. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-10-09.

Extractor electrode for electron source

Номер патента: US09934933B1. Автор: Kevin Cummings,Christopher Sears,Xinrong Jiang,Luca Grella,Nikolai Chubun,Laurence S. Hordon,Oscar G. Florendo,Daniel Bui. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Detector for electron column and method for detecting electrons for electron column

Номер патента: EP1929505A1. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-11.

Detector for electron column and method for detecting electrons for electron column

Номер патента: US20090014650A1. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-15.

Detector for electron column and method for detecting electrons for electron column

Номер патента: WO2007021163A1. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: Cebt Co. Ltd.. Дата публикации: 2007-02-22.

Calibration method for electron beam exposer

Номер патента: US4763004A. Автор: HIROSHI Yasuda,Takayuki Miyazaki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-08-09.

Illumination system for electron beam lithography tool

Номер патента: EP1091386A3. Автор: Victor Katsap,Daniel Moonen,Warren Kazmir Waskiewicz,Peter Kruit. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2006-03-01.

Extractor electrode for electron source

Номер патента: WO2018136817A1. Автор: Kevin Cummings,Christopher Sears,Xinrong Jiang,Luca Grella,Nikolai Chubun,Laurence S. Hordon,Oscar G. Florendo,Daniel Bui. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Detector for electron column and method for detecting electrons for electron column

Номер патента: US8324573B2. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-04.

System for tomographic determination of the power distribution in electron beams

Номер патента: US5468966A. Автор: Dennis W. O'Brien,John W. Elmer,Alan T. Teruya. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1995-11-21.

Electron beam length-measurement apparatus and measurement method

Номер патента: US20030052270A1. Автор: Jun Matsumoto,Takayuki Nakamura. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

Electron beam pattern-writing column

Номер патента: WO1997025735A1. Автор: Thomas Chisholm. Владелец: Leica Lithography Systems Ltd.. Дата публикации: 1997-07-17.

Adjustment method and electron beam device

Номер патента: US20210012997A1. Автор: Tatsuya Kohama,Kenji Watanabe,Takehide Hayashi,Tsutomu Karimata,Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Coherence measuring device for spin-polarized electron beam and method using the same

Номер патента: US09881767B2. Автор: Nobuo Tanaka,Toru Ujihara,Makoto Kuwahara,Koh Saitoh. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2018-01-30.

Multi-electron beam image acquiring apparatus and multi-electron beam image acquiring method

Номер патента: US20240079200A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsushi Ando,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

High throughput multi-electron beam system

Номер патента: US11869743B2. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

High throughput multi-electron beam system

Номер патента: EP4285399A1. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Miniature hybrid electron beam column

Номер патента: EP4427256A1. Автор: James Spallas,Lawrence Muray,Alan Brodie,John Gerling. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US09960007B2. Автор: Takashi Sato,Hiroyuki Kashiwagi,Kazuto Matsuki,Ryoichi SUSUKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09823571B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of reducing proximity effect in electron beam resists

Номер патента: US4936951A. Автор: Noboru Nomura,Kazuhiko Hashimoto,Kenji Kawakita,Taichi Koizumi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1990-06-26.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: US11862524B2. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Alignment target for electron-beam write system

Номер патента: CA1195437A. Автор: T. Grant Davis. Владелец: Fairchild Camera and Instrument Corp. Дата публикации: 1985-10-15.

Electron-beam (e-beam) based semiconductor device features

Номер патента: WO2016133837A1. Автор: Stanley Seungchul SONG,Jeffrey Junhao XU,Da YANG,Choh fei Yeap. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2016-08-25.

Faraday cup for determination of power density distribution of electron beams

Номер патента: WO2000072048A1. Автор: John W. Elmer,Alan T. Teruya. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2000-11-30.

Electron-beam (E-beam) based semiconductor device features

Номер патента: US09502283B2. Автор: Stanley Seungchul SONG,Jeffrey Junhao XU,Da YANG,Choh fei Yeap. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

Emitter for an electron beam, electron beam device and method for producing and operating an electron emitter

Номер патента: US09633815B1. Автор: Pavel Adamec,Harry Kleinschmidt. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-25.

Ceramic structure and electrostatic deflector

Номер патента: US20230257307A1. Автор: Yuta Imaeda. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Electron beam exposure system and electron lens

Номер патента: US6777694B2. Автор: Takeshi Haraguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-17.

Incident axis alignment method for electron gun equipped with photocathode, computer program, and electron gun equipped with photocathode

Номер патента: US20210375578A1. Автор: Atsushi Koizumi,Tomohiro Nishitani,Reiki Watanabe,Haruka Shikano. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2021-12-02.

Electron exit window foil for electron beam emitter

Номер патента: US20230402245A1. Автор: Alaa Omrane. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2023-12-14.

Incidence axis alignment method for electron gun equipped with photocathode, computer program, and electron gun equipped with photocathode

Номер патента: EP3796361A1. Автор: Atsushi Koizumi,Tomohiro Nishitani,Reiki Watanabe,Haruka Shikano. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Exposure regulated scanning illumination means for electron projection systems

Номер патента: US3854071A. Автор: M Heritage,G Wardly. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1974-12-10.

Multi-electron-beam imaging apparatus with improved performance

Номер патента: US20200090899A1. Автор: Gerard Nicolaas Anne Van Veen,Peter Christiaan Tiemeijer,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-03-19.

Electron beam device, cold field emitter, and method for regeneration of a cold field emitter

Номер патента: US09847208B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-12-19.

Method for Focusing Electron Beam in Electron Column

Номер патента: US20090200482A1. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

Method for focusing electron beam in electron column

Номер патента: WO2007066961A1. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: Cebt Co. Ltd.. Дата публикации: 2007-06-14.

Method for focusing electron beam in electron column

Номер патента: US7902521B2. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-08.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20200411275A1. Автор: Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Electron beam apparatus, inspection tool and inspection method

Номер патента: WO2019228922A1. Автор: Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-12-05.

Electron beam line evaporator

Номер патента: US4778974A. Автор: Siegfried Schiller,Manfred Neumann,Henry Morgner,Peter Unganz. Владелец: Bakish Materials Corp. Дата публикации: 1988-10-18.

Electron beam system

Номер патента: US20230317404A1. Автор: Shuai Li. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrical inspection of electronic devices using electron-beam induced plasma probes

Номер патента: US09523714B2. Автор: Abraham Gross,Daniel Toet,Alexander Kadyshevitch,Arie Glazer,Ofer Kadar,Ronen Loewinger. Владелец: Photon Dynamics Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Magnetic object lens for an electron beam exposure apparatus which processes a wafer carried on a continuously moving stage

Номер патента: US4929838A. Автор: HIROSHI Yasuda,Masahiko Suzuki, deceased. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1990-05-29.

Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method

Номер патента: US20020047096A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Deflecting Device for Electron Beams, Magnetic Deflecting Unit for Such a Deflecting Device, and Device for Vapor Coating a Planar Substrate Using Such a Deflecting Device

Номер патента: US20120298041A1. Автор: Cristian Jans,Juergen Zinsstag. Владелец: Ferrotec GmbH. Дата публикации: 2012-11-29.

System and method for electron cryomicroscopy

Номер патента: US20230135352A1. Автор: Richard Henderson,Christopher J. Russo,Katerina NAYDENOVA,Greg MCMULLAN,Mathew J. PEET. Владелец: United Kingdom Research and Innovation. Дата публикации: 2023-05-04.

System and method for electron cryomicroscopy

Номер патента: EP4042465A1. Автор: Richard Henderson,Christopher J Russo,Katerina NAYDENOVA,Greg MCMULLAN,Mathew J PEET. Владелец: United Kingdom Research and Innovation. Дата публикации: 2022-08-17.

System and method for electron cryomicroscopy

Номер патента: WO2021069728A1. Автор: Richard Henderson,Christopher J Russo,Katerina NAYDENOVA,Greg MCMULLAN,Mathew J PEET. Владелец: United Kingdom Research and Innovation. Дата публикации: 2021-04-15.

System for electron beam detection

Номер патента: US09778186B2. Автор: Shinichi Kojima,Michael R. Gluszczak,Joseph A. DiRegolo,Hamada WAHBA. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

System for electron beam detection

Номер патента: WO2015160922A1. Автор: Shinichi Kojima,Michael R. Gluszczak,Joseph A. Di Regolo,Hamada WAHBA. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-10-22.

Height sensing system for electron beam metrology tool

Номер патента: US20240355579A1. Автор: Peter Lin,Yeishin Tung,Chengping Zhang,Mi ZHANG,Sameet SHRIYAN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Height sensing system for electron beam metrology tool

Номер патента: WO2024226248A1. Автор: Peter Lin,Yeishin Tung,Chengping Zhang,Mi ZHANG,Sameet SHRIYAN. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-10-31.

Electron beam exposure equipment and electron beam exposure method

Номер патента: EP1432009A2. Автор: Yasunari Hitachi Ltd. Sohda,Osamu Hitachi Ltd. Kamimura,Hiroya Hitachi Ltd. Ohta,Susumu Gotoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2004-06-23.

Electron beam exposure equipment and electron beam exposure method

Номер патента: EP1432009A3. Автор: Yasunari Hitachi Ltd. Sohda,Osamu Hitachi Ltd. Kamimura,Hiroya Hitachi Ltd. Ohta,Susumu Gotoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2010-06-23.

Liquid crystal alignment using electron beam exposure

Номер патента: US20060000986A1. Автор: Satyendra Kumar,Carlos Vargas-Aburto,Qingbing Wing. Владелец: KENT STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2006-01-05.

Device for electron-beam heating of materials

Номер патента: US4105890A. Автор: Boris A. Movchan,Viktor A. Timashov,Konstantin N. Kljuev. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-08-08.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Multi-beam inspection apparatus with improved detection performance of signal electrons

Номер патента: US11721521B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-08.

Multi-electron beam image acquisition apparatus and multi-electron beam image acquisition method

Номер патента: US20240282547A1. Автор: Koichi Ishii,Atsushi Ando. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Multi-electron beam inspection apparatus and adjustment method for the same

Номер патента: US20230080062A1. Автор: Koichi Ishii,Kazuhiko Inoue,Toshikatsu Akiba,Shohei Mikami. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-03-16.

Electron beam recorder, electron beam irradiation position detecting method and electron beam irradiation position controlling method

Номер патента: US20050232114A1. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-20.

Electron beam recorder, electron beam irradiation position detecting method and electron beam irradiation position controlling method

Номер патента: EP1577928A3. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-15.

Electron beam lithography process with multiple columns

Номер патента: US09589764B2. Автор: Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Electron beam device and semiconductor device production method using the device

Номер патента: EP1261016A1. Автор: Takao Kato,Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Muneki Hamashima,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2002-11-27.

Electron beam recorder and electron beam irradiation position detecting method

Номер патента: US20080144472A1. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-19.

Electron beam monitoring device and electron beam irradiation system

Номер патента: EP4390975A1. Автор: Shinjiro Matsui. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-06-26.

Evaluation method and evaluation apparatus for electronic device

Номер патента: US11062876B2. Автор: Shoji Ikeda,Masaaki Niwa,Tetsuo Endoh,Kosuke Kimura. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-07-13.

Evaluation method and evaluation apparatus for electronic device

Номер патента: US20190304741A1. Автор: Shoji Ikeda,Masaaki Niwa,Tetsuo Endoh,Kosuke Kimura. Владелец: Toray Research Center Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Calibration sample, electron beam adjustment method and electron beam apparatus using same

Номер патента: US20210131801A1. Автор: Yoshinori Nakayama,Yasunari Sohda,Yusuke Abe,Hiroya Ohta,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Electron beam deflector

Номер патента: WO2023094795A1. Автор: Alex O'FARRELL. Владелец: Aquasium Technology Limited. Дата публикации: 2023-06-01.

Electron beam inspection equipment and inspection method

Номер патента: EP4403909A1. Автор: Yang Wang,Jie Zeng,Xiaoshan Shi,Guizhen Xin,Yanzhong HAO,Qitao LIU,Taotao GUAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Multiple-beam system for high-speed electron-beam inspection

Номер патента: WO2012128967A3. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han,John D. Greene. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-13.

Electron beam applying apparatus for recording information

Номер патента: EP1769521B1. Автор: Takashi Obara,Takeshi Miyazaki,Hideyuki Ohyi. Владелец: Crestec Corp. Дата публикации: 2012-03-07.

Scanning electron beam device with focus adjustment based on acceleration voltage and dimension measurement method using same

Номер патента: US09644955B2. Автор: Hajime Kawano,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Yasunari Sohda,Tasuku Yano,Katsunori Onuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Iridium tip, gas field ion source, focused ion beam apparatus, electron source, electron microscope, electron beam applied analysis apparatus, ion-electron multi-beam apparatus, scanning probe microscope, and mask repair apparatus

Номер патента: US09583299B2. Автор: Hiroshi Oba,Osamu Matsuda,Anto Yasaka,Fumio Aramaki,Yasuhiko Sugiyama,Tomokazu Kozakai,Kazuo Aita. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Enhanced defect detection in electron beam inspection and review

Номер патента: US09449788B2. Автор: HONG Xiao,Kumar Raja GUVINDAN RAJU,Wade Lenn Jensen,Lorraine Ellen Young,Gary G. FAN. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: EP3959730A2. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2022-03-02.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: US20200343013A1. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2020-10-29.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: WO2020219817A2. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs, LLC. Дата публикации: 2020-10-29.

Apparatus for adjusting a focal position of an electron beam and electron beam projection apparatus including the same

Номер патента: US5272347A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-12-21.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US7705330B2. Автор: Seitaro NAKAO. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2010-04-27.

Multi-column electron beam lithography including field emitters on a silicon substrate with boron layer

Номер патента: US09966230B1. Автор: Xuefeng Liu,Yung-ho Chuang,John Fielden,Yinying Xiao-Li. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Electron beam apparatus with means for generating a rotation-symmetrical magnetic field

Номер патента: US3731094A. Автор: Poole J Le. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1973-05-01.

Projection electron beam lithography apparatus and method employing an estimator

Номер патента: US20020147507A1. Автор: Stuart Stanton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

System and method for aligning electron beams in multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20230280293A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi,Xinan LUO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Electron-Beam Lithography Process with Multiple Columns

Номер патента: US20160284504A1. Автор: Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Wafer inspecting method, wafer inspecting instrument, and electron beam apparatus

Номер патента: EP1273907A1. Автор: Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Muneki Hamashima,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20140021348A1. Автор: Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Scintillation detection unit for the detection of back-scattered electrons for electron or ion microscopes

Номер патента: US8779368B2. Автор: Silvie Dokulilova,Petr Horodysky,Martin Zadra{hacek over (z)}il,Karel Bla{hacek over (z)}ek. Владелец: Crytur sro. Дата публикации: 2014-07-15.

Electron beam vaporizer and method for vaporizing a vaporization material by means of an electron beam

Номер патента: US20190318909A1. Автор: Carsten Deus. Владелец: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-10-17.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Electron beam source and electron optical apparatus with one

Номер патента: DE10245052A1. Автор: Michael Dr. Steigerwald. Владелец: Leo Elektronenmikroskopie GmbH. Дата публикации: 2004-04-08.

Electron beam exposure apparatus and method

Номер патента: US20140131589A1. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Electron-beam exposure system

Номер патента: US20060284119A1. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-12-21.

Electron beam exposure data processing method, electron beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5210696A. Автор: Keiko Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-05-11.

Method and apparatus for electron-beam lithography

Номер патента: US7342241B2. Автор: Yasuko Aoki,Tsutomu Tawa,Yoshimitsu Saze. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-03-11.

Method and apparatus for electron-beam lithography

Номер патента: US20060011080A1. Автор: Yasuko Aoki,Tsutomu Tawa,Yoshimitsu Saze. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-19.

System and method for electron beam irradiation

Номер патента: EP1339085A3. Автор: Setsuo Norioka,Toshiaki Miyokawa,Naoki Date,Yoshihisa c/o Sony Corporation Miura,Yuichi c/o Sony Corporation Aki,Jun c/o Sony Corporation Sasaki. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-08-17.

Multi-electron beam exposure method and apparatus

Номер патента: EP1387389A3. Автор: Shinichi Hashimoto,Haruo Yoda,Yoshikiyo Yui,Hiroya Hitachi Ltd. Ohta,Yasunari Hitachi Ltd. Souda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Optically-addressed phase modulator for electron beams

Номер патента: US12033829B2. Автор: Mark A. Kasevich,Adam Bowman,Stewart A. KOPPELL. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2024-07-09.

Electron beam exposure system

Номер патента: US5105089A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-04-14.

High resolution electron beam exposure machines

Номер патента: US20040217303A1. Автор: Martin Lepselter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-04.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: WO2001009913A3. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T Coyle. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: WO2001009913A2. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T. Coyle. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-02-08.

Charged-beam exposure system

Номер патента: US4914304A. Автор: Kiyomi Koyama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1990-04-03.

Charged beam exposure method and apparatus as well as aperture stop and production method thereof

Номер патента: US5334845A. Автор: Shinji Okazaki,Fumio Murai,Hiroaki Wakabayashi,Yoshinori Nakayama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-08-02.

Method of operating emitter for electron-beam projection lithography system

Номер патента: US20070278425A1. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-06.

Emitter for electron-beam projection lithography system, and method of manufacturing and operating the emitter

Номер патента: US20050077833A1. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-04-14.

Emitter for electron-beam projection lithography system, and method of manufacturing and operating the emitter

Номер патента: US7256406B2. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-08-14.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: EP1200977A2. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T. Coyle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Electron beam exposure device

Номер патента: US5945683A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Yoshihisa Ooae,Tatsuro Ohkawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Electron-beam exposure system having an improved rate of exposure throughput

Номер патента: US5448075A. Автор: HIROSHI Yasuda,Shunsuke Fueki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-09-05.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Electron beam lithography system, electron beam lithography apparatus, and method of lithography

Номер патента: US20020145119A1. Автор: Haruo Yoda,Hajime Kawano,Minoru Wakita,Masato Kamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Particle-beam exposure apparatus with overall-modulation of a patterned beam

Номер патента: WO2007112465A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication AG. Дата публикации: 2007-10-11.

Specimen stages for electron beam instruments

Номер патента: GB1477458A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-06-22.

Misalignment inspection method, charge beam exposure method, and substrate for pattern observation

Номер патента: US20010006216A1. Автор: Toru Koike. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2001-07-05.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Electron beam writing method and system using large range deflection in combination with a continuously moving table

Номер патента: US4818885A. Автор: Samuel K. Doran,Hans C. Pfeiffer,Merlyn H. Perkins,Donald E. Davis. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-04-04.

Device and method for controlling focussed electron beams

Номер патента: WO2002082497A1. Автор: Dieter Winkler,Pavel Adamec. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2002-10-17.

Automatic electron gun with an anastigmatic device and a method for correcting electron beam astigmatism for an electron gun

Номер патента: RU2769346C1. Автор: Сяодун ХУАН,Бинь Ван,Цян ТАН,Тун Чжан,Шоуци Вэй,Сян Фэй,Найбо Су,Ян Дун,Вэньмин Го,Цзумин Лян,Гохуа Хуан. Владелец: Гуйлинь Тхд Текнолоджи Ко. Лтд. Дата публикации: 2022-03-30.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20050161599A1. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-07-28.

Electron gun, electron beam application device, and method for forming multi-electron beam

Номер патента: EP4432328A1. Автор: Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-09-18.

Charged particle beam exposure method utilizing subfield proximity corrections

Номер патента: US6087052A. Автор: Yasuo Manabe,Hiromi Hoshino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-07-11.

Electron beam aperture element with beam shielding

Номер патента: EP1121704A1. Автор: Tao Zhang. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2001-08-08.

Method of and machine for pattern writing by an electron beam

Номер патента: EP1000437A1. Автор: David Martin Platton King,Barrie James Hughes. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2000-05-17.

Method of and machine for pattern writing by an electron beam

Номер патента: WO1999007009A1. Автор: David Martin Platton King,Barrie James Hughes. Владелец: Leica Lithography Systems Ltd.. Дата публикации: 1999-02-11.

Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator

Номер патента: US09443696B2. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Electron beam irradiating apparatus and irradiating method

Номер патента: US7326943B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-02-05.

Electron beam irradiating apparatus and irradiating method

Номер патента: US20060192148A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-31.

Electron Beam Apparatus And Method Of Generating An Electron Beam Irradiation Pattern

Номер патента: US20100078555A1. Автор: Yuji Inoue,Masato Muraki,Haruo Yoda,Ryo Fujita,Kimiaki Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-01.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

System and method for drift compensation on an electron beam based characterization tool

Номер патента: WO2017165308A1. Автор: Christopher Sears,Frank Laske. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2017-09-28.

System and method for drift compensation on an electron beam based characterization tool

Номер патента: US09892885B2. Автор: Christopher Sears,Frank Laske. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Apparatus and methods for aberration correction in electron beam based system

Номер патента: US09607802B2. Автор: Christopher F. Bevis. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Electronic beam generator

Номер патента: RU2557078C2. Автор: Геста МАТТАУШ,Петер ФАЙНОЙГЛЕ,Фолькер КИРХХОФФ,Дитер ВАЙСКЕ,Хенрик ФЛАСКЕ,Райнер ЦАЙБЕ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2015-07-20.

Dual-mode electron beam lithography machine

Номер патента: GB2404783A. Автор: Timothy Groves. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2005-02-09.

Dual-mode electron beam lithography machine

Номер патента: US7053388B2. Автор: Gerhard Schubert,Brian Rafferty,Klaus-Dieter Adam,Nigel Crosland,Timothy Groves,Jeffrey Kristoff. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2006-05-30.

Electron beam apparatus

Номер патента: US20140361168A1. Автор: MITSUHIRO Togashi,TAKASHI Ogawa,YASUTSUGU Usami. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-11.

Electron beam observation device, electron beam observation system, and image correcting method and method for calculating correction factor for image correction in electron beam observation device

Номер патента: US11791130B2. Автор: Makoto Sakakibara,Satoru Yamaguchi,Koichi Hamada,Megumi Kimura,Momoyo Enyama,Kei Sakai,Ryou Yumiba,Katsumi Setoguchi,Masumi Shirai,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Minimization of electron fogging in electron beam lithography

Номер патента: EP1200979A1. Автор: Lee H. Veneklasen,Chen Hwa,Robert Innes,Allan L. Sagle,Sergey V. Babin. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US7205558B2. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-04-17.

Electron-beam spot optimization

Номер патента: WO2017184232A1. Автор: Eric Miller,Richard Zimmerman,Dustin Peterson,Vince Jones. Владелец: Moxtek, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Electron-Beam Spot Optimization

Номер патента: US20170309436A1. Автор: Eric Miller,Richard Zimmerman,Dustin Peterson,Vince Jones. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

High voltage electron beam system and method

Номер патента: US09911571B2. Автор: Yosef Basson. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Method and means for dynamic correction of electrostatic deflector for electron beam tube

Номер патента: US4142132A. Автор: Kenneth J. Harte. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1979-02-27.

Output window for electron beam in isotope production

Номер патента: RU2762668C9. Автор: Дуглас УЛРИХ. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2022-02-17.

Output window for electron beam in isotope production

Номер патента: RU2762668C2. Автор: Дуглас УЛРИХ. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2021-12-21.

Electron beam emitter

Номер патента: RU2688941C2. Автор: Урс ХОСТЕТТЛЕР. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2019-05-23.

Radially inwardly directed electron beam source and window assembly for electron beam source or other source of electromagnetic radiation

Номер патента: US20100065752A1. Автор: Edgar B. Dally,Robert J. Espinosa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-18.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US11996336B2. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20220301946A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20210166979A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-06-03.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20240355685A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Dielectric guide for electron beam transport

Номер патента: US4079285A. Автор: Roger G. Little. Владелец: Simulation Physics Inc. Дата публикации: 1978-03-14.

Linear accelerator system having a magnet unit for electron beam deflection

Номер патента: US20220104339A1. Автор: Sven Mueller,Martin Koschmieder,Stefan Willing,Claudia Noak,Marvin Moeller. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2022-03-31.

Electron beam exposure device

Номер патента: US6008495A. Автор: Hitoshi Tanaka,Yoshihisa Ooae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-12-28.

Control method for electron beam sterilizing device and device performing said method

Номер патента: EP2332148A1. Автор: Kurt Holm. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2011-06-15.

Apparatus and methods for electron beam irradiation

Номер патента: US5530255A. Автор: Bernard J. Lyons,Marlin N. Schuetz,David A. Vroom. Владелец: Raychem Corp. Дата публикации: 1996-06-25.

Electron beam irradiation device and electron beam irradiation method

Номер патента: US20200266024A1. Автор: Tatsuya Matsumura. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2020-08-20.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810A1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2006-12-27.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810A4. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2009-08-05.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: WO2005086201A1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: KOREA ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2005-09-15.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810B1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2012-05-23.

Nozzle-type electron beam irradiation device, and electron beam sterilization equipment equipped with same

Номер патента: US10568980B2. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Nozzle-type electron beam irradiation device, and electron beam sterilization equipment equipped with same

Номер патента: US20190134241A1. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2019-05-09.

Device and method for irradiating objects with electron beam

Номер патента: US09675718B2. Автор: Hans Hallstadius,Lars-Ake Naslund,Hakan Mellbin,Fredrik Hansen,Kristoffer BENGTSSON,Marco LAVALLE. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and device for cooling window foil of electron beam accelerator

Номер патента: RU2175172C2. Автор: Тацуя НИСИМУРА. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 2001-10-20.

Conductive fixation for electron microscopy

Номер патента: US20200373121A1. Автор: Eduardo ROSA-MOLINAR. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2020-11-26.

Conductive fixation for electron microscopy

Номер патента: EP3737927A1. Автор: Eduardo ROSA-MOLINAR. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2020-11-18.

Conductive fixation for electron microscopy

Номер патента: CA3093534A1. Автор: Eduardo ROSA-MOLINAR. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2019-07-18.

Electron beam detecting device

Номер патента: US20150331018A1. Автор: Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Yuichi Takenaka,Youhei Sakamoto. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Electron beam detecting device

Номер патента: US09632117B2. Автор: Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Yuichi Takenaka,Youhei Sakamoto. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Method for verifying characteristics of an electron beam

Номер патента: US09543116B2. Автор: Tomas Lock. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2017-01-10.

Alignment of members to electron beams

Номер патента: GB1361804A. Автор: . Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1974-07-30.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US20210113722A1. Автор: Tatsuya Matsumura,Takeaki HATTORI,Keigo Uchiyama. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2021-04-22.

Apparatus for measuring total pressure and partial pressure with common electron beam

Номер патента: WO2003103005A1. Автор: Robert E. Ellefson,Louis C. Frees. Владелец: Inficon, Inc.. Дата публикации: 2003-12-11.

Electron accelerator having a wide electron beam

Номер патента: WO2000034958A3. Автор: Avnery Tzvi. Владелец: Applied Advanced Technologies. Дата публикации: 2000-11-23.

Apparatus for measuring total pressure and partial pressure with common electron beam

Номер патента: US20020153820A1. Автор: Robert Ellefson,Louis Frees. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2002-10-24.

Sensor and system for sensing an electron beam

Номер патента: EP2033016A1. Автор: Benno Zigerlig,Hans Hallstadius,Lars Ake Naslund,Werner Haag,Anders Kristiansson,Kurt Holm. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2009-03-11.

Electron beam-generating apparatus, image-forming apparatus, and driving methods thereof

Номер патента: AU681097B2. Автор: Hidetoshi Suzuki,Ichiro Nomura,Tetsuya Kaneko,Shinya Mishina,Naoto Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-21.

Switchable electron beam sterilizing device

Номер патента: EP2332149A1. Автор: Werner Haag,Kurt Holm,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2011-06-15.

Electron beam electrical power transmission system

Номер патента: CA1039797A. Автор: Robert S. Symons. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1978-10-03.

Characterization of an electron beam

Номер патента: US11892576B2. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2024-02-06.

Low voltage electron beam dosimeter device and method

Номер патента: EP3220963A1. Автор: Alaa Omrane. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2017-09-27.

Characterization of an electron beam

Номер патента: EP4062441A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2022-09-28.

Characterization of an electron beam

Номер патента: US20220404514A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2022-12-22.

Characterization of an electron beam

Номер патента: WO2021099202A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2021-05-27.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: EP1810299A2. Автор: Conrad W. Schneiker. Владелец: Biomed Solutions LLC. Дата публикации: 2007-07-25.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: EP1810299A4. Автор: Conrad W Schneiker. Владелец: Biomed Solutions LLC. Дата публикации: 2008-04-16.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: WO2006052549A2. Автор: Conrad W. Schneiker. Владелец: Biomed Solutions, LLC. Дата публикации: 2006-05-18.

Electron beam tube with moving display or memory

Номер патента: US3790851A. Автор: J Baring. Владелец: Honeywell Inc. Дата публикации: 1974-02-05.

Blanking of electron beam during dynamic focal spot jumping in circumferential direction of a rotating anode disk of an X-ray tube

Номер патента: US09659739B2. Автор: Christoph Helmut Bathe,Thorben Repenning. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-05-23.

Convergent photon and electron beam generator device

Номер патента: US09583302B2. Автор: Rodolfo FIGUEROA SAAVEDRA,Mauro VALENTE. Владелец: Universidad Nacional de Cordoba. Дата публикации: 2017-02-28.

Emitter for electron-beam projection lithography system and manufacturing method thereof

Номер патента: US6953946B2. Автор: Dong-Wook Kim,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-10-11.

Emitter for electron-beam projection lithography system and manufacturing method thereof

Номер патента: US20040178405A1. Автор: Dong-Wook Kim,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong,In-Keyong Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-09-16.

Manufacturing method for emitter for electron-beam projection lithography

Номер патента: US7091054B2. Автор: Dong-Wook Kim,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-08-15.

Clean room arrangement for electron beam lithography

Номер патента: US20030015670A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Detecting registration marks with a low energy electron beam

Номер патента: WO1999053518A1. Автор: Tai-Hon Philip Chang,Hoseob Kim. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 1999-10-21.

Electron beam lithography system and method

Номер патента: EP1406291A3. Автор: Takashi Hitachi High-Techologies Corp. Onishi,Masaki Hitachi High-Technologies Corp. Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2005-11-09.

Dual-lens-gun electron beam apparatus and methods for high-resolution imaging with both high and low beam currents

Номер патента: EP2896062A1. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-07-22.

Electron beam lithography system and method therefor

Номер патента: US20040065848A1. Автор: Takashi Onishi,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-04-08.

Electron gun, electron beam applicator, and emission method of electron beam

Номер патента: US20240212967A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Electron beam measuring apparatus

Номер патента: US5117111A. Автор: Shinichi Kato,Kazumitsu Nakamura,Yoshio Sakitani,Yoshihisa Minamikawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-05-26.

Electron-beam lithography system

Номер патента: GB2337359A. Автор: Koji Enomoto. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-11-17.

Improvements in and relating to vacuum chambers, particularly for electron beam welding machines

Номер патента: GB1101521A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1968-01-31.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Electron beam welding systems employing a plasma cathode

Номер патента: US20240153739A1. Автор: John Noonan,Dean Walters. Владелец: Us Electron Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Electron-beam chamber

Номер патента: US3745320A. Автор: H Kindler,S Baumgartner. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1973-07-10.

Electron beam welding machine

Номер патента: US4317022A. Автор: Yoji Akutsu,Hisanao Kita,Yoshinori Karatsu,Takamitsu Nakazaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-02-23.

Multiple electron-beam image acquisition apparatus and multiple electron-beam image acquisition method using beam arrangement with omitted corners in a scan direction

Номер патента: US11961703B2. Автор: Chosaku Noda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Electron gun, electron beam applicator, emission axis verification method for electron beam emitted from photocathode, and emission axis alignment method for electron beam emitted from photocathode

Номер патента: US12080507B2. Автор: Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Thermal field emitter tip, electron beam device including a thermal field emitter tip and method for operating an electron beam device

Номер патента: US09697983B1. Автор: Stefan Lanio,Aleksandra Kramer,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-07-04.

Traveling wave deflector for electron beams

Номер патента: CA1088992A. Автор: Ronald E. Correll,Alvin B. Christie. Владелец: Tektronix Inc. Дата публикации: 1980-11-04.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A8. Автор: Lawrence P Muray,James P Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: EP1153411A1. Автор: Lawrence P. Muray,James P. Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-11-14.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A9. Автор: Lawrence P Muray,James P Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2002-09-12.

Electron-beam exposure apparatus

Номер патента: US4879473A. Автор: Masahiko Sakamoto,Susumu Hoshinouchi,Nobuyuki Zumoto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-11-07.

Non-planar extractor structure for electron source

Номер патента: EP2847781A1. Автор: Mehran Nasser-Ghodsi,Robert G. Haynes,Tomas Plettner,Christopher Malcolm Stanley Sears. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-03-18.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A1. Автор: Lawrence P. Muray,James P. Spallas. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2001-05-17.

Electron beam application device and method for creating detection data in electron beam application device

Номер патента: EP4421842A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-08-28.

Observation apparatus and observation method using an electron beam

Номер патента: EP1274114A3. Автор: Masanari Intellectual Property Group Koguchi,Kuniyasu Intellectual Property Group Nakamura,Kaoru Intellectual Property Group Umemura,Yoshifumi Intellectual Property Group Taniguchi,Mikio Intellectual Property Group Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-11-28.

System and method for imaging a sample with an electron beam with a filtered energy spread

Номер патента: US09905391B2. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Electron beam generator, image apparatus including the same and optical apparatus

Номер патента: US09460888B2. Автор: Jin Sun Kim,Moon Youn Jung,Dong Hoon SONG. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2016-10-04.

Electron beam drawing apparatus, deflection amplifier, deflection control device, electron beam drawing method, method of manufacturing semiconductor device, and electron beam drawing program

Номер патента: US20060151721A1. Автор: Hiroyuki Mizuno,Noriaki Sasaki,Takeshi Koshiba,Kazuo Tawarayama,Takumi Ota,Tatsuhiko Higashiki,Tetsuro Nakasugi,Shunko Magoshi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-13.

Electron Beam Inspection System

Номер патента: US20220406560A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Ryuichi Kusakabe. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Ultra broad band continuously tunable electron beam pulser

Номер патента: US20170162361A1. Автор: Chunguang Jing,Yimei Zhu,Jiaqi Qiu,Sergey V. Baryshev,June W. Lau. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2017-06-08.

Method and apparatus for controlling an electron beam with a phase modulator driven by analog multiplexing

Номер патента: WO2023222733A1. Автор: Vincenzo Grillo,Enzo ROTUNNO,Alberto RONCAGLIA,Luca BELSITO. Владелец: CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE. Дата публикации: 2023-11-23.

Scanning electron beam device

Номер патента: US5422486A. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Steffen Beck,Karl H. Herrmann,Hans P. Feuerbaum,Andreas Benez,Gerold Schonecker. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 1995-06-06.

Electron gun, electron beam applying equipment and an electron beam emission method

Номер патента: EP4310883A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Electron gun, electron beam applying device, and electron gun control method

Номер патента: EP3780063A1. Автор: Atsushi Koizumi,Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2021-02-17.

Electron Gun, Electron Beam Applicator, and Method for Controlling Electron Gun

Номер патента: US20230131413A1. Автор: Atsushi Koizumi,Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Electrostatic deflection control circuit and method of electronic beam measuring apparatus

Номер патента: US20070063146A1. Автор: Hiroshi Sasaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-03-22.

Spot grid array electron beam imaging system

Номер патента: EP1446676A2. Автор: Gilad Almogy,Oren Reches. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-08-18.

Method of electron beam imaging of a specimen by combining images of an image sequence

Номер патента: US20140239176A1. Автор: Liang Jin,Benjamin Eugene BAMMES. Владелец: Direct Electron LP. Дата публикации: 2014-08-28.

Electron beam detection element, electron microscope, and transmission electron microscope

Номер патента: US20190139737A1. Автор: Yukihiro Kuroda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Control Method for Electron Microscope and Electron Microscope

Номер патента: US20210074506A1. Автор: Mitsuru Koizumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-11.

Improved system for electron diffraction analysis

Номер патента: WO2019064013A1. Автор: Angus Bewick,Peter STATHAM. Владелец: Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited. Дата публикации: 2019-04-04.

Improved system for electron diffraction analysis

Номер патента: EP3688785A1. Автор: Angus Bewick,Peter STATHAM. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2020-08-05.

Buried junction mos memory capacitor target for electron beam addressable memory and method of using same

Номер патента: CA1104722A. Автор: Floyd O. Arntz. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1981-07-07.

Method and device for producing gamma-ray laser; method and device for shaping high- power coherent electron beam

Номер патента: RU2143773C1. Автор: Икегами Хидецугу. Владелец: Джапэн Сайенс энд Текнолоджи Корпорейшн. Дата публикации: 1999-12-27.

Coupling a thermally conductive plate to a semiconductor device for electron beam analysis

Номер патента: US20240103073A1. Автор: Robert Wadell,Michael Apodaca,Tewodros WONDIMU,Amir Raveh,Patrick Pardy,Joshua Freier,Eric Brummer. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Electron beam irradiation apparatus and method

Номер патента: WO2001002082A1. Автор: Yoshihiko Naitoh. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2001-01-11.

Connector assembly for electronic device

Номер патента: RU2659896C2. Автор: Самир ШАРМА,Дуглас Б. СЭЦГЕР,Гади АМИТ,Ёсикадзу ХОСИНО,Чедвик ХАРБЕР,Даниэль КЛИФТОН,Станислав МОИСЕЕНКО,Натан ДЖОВТИС,Филип Дж. II ХАУДЕК. Владелец: Интел Корпорейшн. Дата публикации: 2018-07-04.

Electronic apparatus and antenna setting method for electronic apparatus

Номер патента: US20180152214A1. Автор: Lin Wang,Hongyi Zhang,Peijie ZHAO,Degang Zhao. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Conveyance apparatus for electronic components

Номер патента: US09926145B2. Автор: Tomoyuki Otani,Hideaki Nozawa. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Electron beam type substrate inspecting apparatus

Номер патента: US20110204230A1. Автор: Daiji Fujiwara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Case for electronic devices

Номер патента: US20240243518A1. Автор: Daniele Pellegrini,Enrico TOIGO. Владелец: Luxottica SRL. Дата публикации: 2024-07-18.

Array of compliant connectors for electronic assemblies

Номер патента: US20240356255A1. Автор: Aydin Nabovati,Rishabh BHANDARI,Yong Guo Li,Mitchell Heschke,Mohamed Haitham Helmy NASR,Samuel Lichy,Shiva FARZINAZAR. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Electric-programmable magnetic module and picking-up and placement process for electronic devices

Номер патента: US09607907B2. Автор: Chia-Hsin Chao,Ming-Hsien Wu,Yen-Hsiang Fang. Владелец: PlayNitride Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Connector assembly for electronic device

Номер патента: RU2681337C2. Автор: Самир ШАРМА,Дуглас Б. СЭЦГЕР,Гади АМИТ,Ёсикадзу ХОСИНО,Чедвик ХАРБЕР,Даниэль КЛИФТОН,Станислав МОИСЕЕНКО,Натан ДЖОВТИС,Филип Дж. II ХАУДЕК. Владелец: Интел Корпорейшн. Дата публикации: 2019-03-06.

Electron beam generation method for electron beam treatment of metal materials surface

Номер патента: RU2746265C1. Автор: Тамара Васильевна Коваль,Николай Николаевич Коваль,Павел Владимирович Москвин,Антон Дмитриевич Тересов,Максим Сергеевич Воробьёв,Владислав Игоревич Шин,Сергей Юрьевич Дорошкевич,Елизавета Алексеевна Петрикова,Владислав Викторович Яковлев,Камилла Тахировна Ашурова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН). Дата публикации: 2021-04-12.

Electron beam exposure system and an apparatus for carrying out the same

Номер патента: CA1125441A. Автор: HIROSHI Yasuda,Kenichi Kawashima,Kenyu Uema. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-06-08.

Raster shaped beam, electron beam exposure strategy using a two dimensional multipixel flash field

Номер патента: EP1070335A1. Автор: Weidong Wang,Lee H. Veneklasen,Stephen A. Rishton,Allan L. Sagle,Jeffrey K. Varner. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-01-24.

Method of exposing using electron beam

Номер патента: US20050184258A1. Автор: Jin-Seung Sohn,Hae-Sung Kim,Eun-Hyoung Cho,Myung-bok Lee,Mee-suk Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-08-25.

Protective beam catcher for electron beam apparatus

Номер патента: US4152574A. Автор: Sigwalt Hart. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1979-05-01.

Multi-beam electron microscope for electron channeling contrast imaging of semiconductor material

Номер патента: US09741532B1. Автор: Devendra K. Sadana,Stephen W. Bedell,John A. Ott,Brent A. Wacaser,Kunal Mukherjee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Test structure for electron beam inspection and method for defect determination using electron beam inspection

Номер патента: US09711326B1. Автор: Shih-Cheng Chen,Chung-Chih Hung,Yung-Teng Tsai,Kuan-Chun Lin,Chih-Chieh Chou,Chi-Hung Chan. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Electrostatic deflector, lithography apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US20130344700A1. Автор: Toshiro Yamanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-26.

Charged beam exposure method and charged beam exposure apparatus

Номер патента: US20020072012A1. Автор: Hideaki Abe,Yuichiro Yamazaki,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Metal wire cathode for electron beam apparatus

Номер патента: US4419561A. Автор: Jan B. Le Poole,Heico J. Frima. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1983-12-06.

Method for electron beam welding with beam oscillation

Номер патента: RU2760201C1. Автор: Артём Юрьевич Марченков,Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Егор Валериевич Терентьев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2021-11-22.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US4647782A. Автор: Shunichi Sano,Mamoru Nakasuji,Ryoichi Yoshikawa,Hirotsugu Wada. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-03-03.

Operative control method for electron-beam welding

Номер патента: RU2519155C2. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2014-06-10.

Apparatus for electron beam lithography

Номер патента: US4199688A. Автор: Susumu Ozasa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-04-22.

Method of exposing using electron beam

Номер патента: US7154105B2. Автор: Jin-Seung Sohn,Hae-Sung Kim,Eun-Hyoung Cho,Myung-bok Lee,Mee-suk Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-26.

Electron beam duplication lithography method and apparatus

Номер патента: US20050121623A1. Автор: Seiichi Iwamatsu. Владелец: Applied Nanotech Holdings Inc. Дата публикации: 2005-06-09.

Electron gun with linear hot cathode for electron-beam heating

Номер патента: RU2238602C1. Автор: Борис Алексеевич Мовчан,Олег Якович Гаврилюк. Владелец: Международный центр электронно-лучевых технологий Института электросварки им. Е.О. Патона. Дата публикации: 2004-10-20.

Variable-spot scanning in an electron beam exposure system

Номер патента: US4393312A. Автор: Michael G. R. Thomson,Robert J. Collier. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1983-07-12.

Electron beam plasma source with reduced metal contamination

Номер патента: US09721760B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf,Gonzalo Antonio Monroy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Electron beam control device for electron microscopes

Номер патента: US4451737A. Автор: Shigeto Isakozawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-05-29.

Dose modification proximity effect compensation (PEC) technique for electron beam lithography

Номер патента: US5736281A. Автор: George Patrick Watson. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-04-07.

Improvements in ion generators for electron beam devices such as microscopes

Номер патента: GB999380A. Автор: . Владелец: Philips Electronics and Pharmaceutical Industries Corp. Дата публикации: 1965-07-21.

Scanning system for electron beam machining equipment

Номер патента: AU2020103865A4. Автор: Li Li,Yang Dong,Xiang Fei,Wei Wang,Bin Wang,Xiaodong Huang,Tong Zhang,Jianhui Wang,Shouqi Wei,Wenming Guo,Zuming Liang,Fengbin Wang. Владелец: Guilin Thd Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Specimen moving device for electron microscope

Номер патента: US4710633A. Автор: Shigeru Suzuki. Владелец: Akashi Seisakusho KK. Дата публикации: 1987-12-01.

Filament for electron guns

Номер патента: US3869636A. Автор: Glen S Lawrence. Владелец: United Aircraft Corp. Дата публикации: 1975-03-04.

Method for exposing an electron beam

Номер патента: US4413187A. Автор: Masayuki Hattori,Toshihiko Osada,Yuji Tanaka,Yuji Akazawa,Takaharu Shima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-11-01.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Specimen box for electron microscope capable of observing general specimen and live cell

Номер патента: EP1796133A3. Автор: Chih-Yu Chao,Wen-Jiunn Hsien. Владелец: Lee Bing-Huan. Дата публикации: 2007-09-19.

Beam generating system for electron beam measuring instruments

Номер патента: CA1302592C. Автор: Dieter Winkler,Burkhard Lischke. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1992-06-02.

Metal wire cathode for electron beam apparatus

Номер патента: CA1151320A. Автор: Jan B. Le Poole,Heico J. Frima. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1983-08-02.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20020028398A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-03-07.

Cathode assembly for electron gun

Номер патента: US12062518B2. Автор: Ulric Ljungblad,Robin STEPHANSEN. Владелец: Freemelt AB. Дата публикации: 2024-08-13.

Cathode assembly for electron gun

Номер патента: US20240363303A1. Автор: Ulric Ljungblad,Robin STEPHANSEN. Владелец: Freemelt AB. Дата публикации: 2024-10-31.

Device for manual electron beam processing of materials in space

Номер патента: US5869801A. Автор: Boris E. Paton,Vsevolod F. Lapchinskii,Victor V. Stesin,Valeri A. Kryukov,Victor F. Shulim,Sergei S. Gavrish,Alexandr R. Bulatsev,Vladimir V. Demyanenko,Alexandr A. Zagrebelnii,Vladimir P. Nikitskii,Yuri P. Semenov,Svetlana E. Savitskaya,Vladimir A. Dzhanibekov,Alexandr V. Markov,Boris I. Perepechenko. Владелец: E O Paton Electric Welding Inst of National Acad of Sci Of Ukraine. Дата публикации: 1999-02-09.

Method of electron beam exposure

Номер патента: US4625121A. Автор: Shin-ichi Hamaguchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-11-25.

Electron beam exposure system

Номер патента: US4482810A. Автор: Larry Cooke. Владелец: Storage Technology Partners II. Дата публикации: 1984-11-13.

Method for charged particle beam exposure with fixed barycenter through balancing stage scan

Номер патента: US5981118A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Nobuyuki Yasutake,Kazushi Ishida,Yoshihisa Ooae,Akiyoshi Tsuda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-11-09.

Charged particle beam exposure method and method for producing charged particle beam exposure data

Номер патента: US20030160192A1. Автор: Atsushi Ando,Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Electron analysis apparatus with heat-protective shield means spacedly overlying a sample supporting surface

Номер патента: US3800152A. Автор: B Daigne,F Girard. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 1974-03-26.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20180233374A1. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-16.

Method for creating detection data in electron beam application device, method for synthesizing image of object being irradiated, program, recording medium, and electron beam application device

Номер патента: EP4401109A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Electron beam adjustment method and three-dimensional powder bed fusion additive manufacturing apparatus

Номер патента: EP3912752A1. Автор: Takashi Sato,Shio EN. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-11-24.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US10446404B2. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-15.

Electron beam direct drawing method, system and recording medium

Номер патента: US6103434A. Автор: Naka Onoda. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-08-15.

Electron beam exciter for use in chemical analysis in processing systems

Номер патента: US09997325B2. Автор: Matthew J. Goeckner,Jimmy W. Hosch,Andrew Weeks Kueny,Mike Whelan,Kenneth C. Harvey,P.L. Stephan Thamban. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Method and apparatus for controlling electron beam intensity

Номер патента: RU2498442C2. Автор: Алоис МОНЦЕЛЬ,Гернот КАЙЛ. Владелец: Кхс Гмбх. Дата публикации: 2013-11-10.

Electron-beam gun with increased service life

Номер патента: RU2709793C1. Автор: Валерий Николаевич Иванов,Виктор Вениаминович Константинов,Андрей Викторович Константинов,Николай Николаевич Чупятов,Валерий Вячеславович Дьяков,Сергей Альбертович Гусев,Николай Викторович Павлушин. Владелец: Публичное акционерное общество "Электромеханика". Дата публикации: 2019-12-20.

Cathode-heating unit for an electron beam gun

Номер патента: RU2756845C1. Автор: Александр Владимирович Щербаков. Владелец: Акционерное Общество "Наука И Инновации". Дата публикации: 2021-10-06.

Plant for substrate electron-beam physical vapour plating

Номер патента: RU2556197C2. Автор: Йорг ВИТТИХ,Юрген ХОТЦ,Павел ЗЕЗЕРКО,Гельмут ЭБЕРХАРДТ,Манфед КИРШНЕР,Вольфганг РАЙТ. Владелец: Алд Вакуум Текнолоджиз Гмбх. Дата публикации: 2015-07-10.

Source of pulse electronic beams

Номер патента: RU2754347C1. Автор: Евгений Павлович Павлов,Константин Иванович Ткаченко,Николай Петрович Щеголихин. Владелец: Акционерное Общество "Нииэфа Им. Д.В. Ефремова". Дата публикации: 2021-09-01.

Enhanced electron beam generation

Номер патента: EP3729484A1. Автор: Johan Backlund,Mattias Fager. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2020-10-28.

Electron beam plasma formation for surface chemistry

Номер патента: WO2001015199A1. Автор: George Wakalopulos. Владелец: Ushio International Technologies, Inc.. Дата публикации: 2001-03-01.

Apparatus and Method for Modifying Physical Properties of Nanostructure Using Focused Electron Beam, and Nano-Barcode and Serial-Junction Nanowire Fabricated Thereby

Номер патента: US20110282021A1. Автор: Young Ki Hong,Dong Hyuk Park,Min Ho KOO,Jinsoo Joo,Seong Gi JO. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2011-11-17.

System of naked conductors and method of counting electron beams

Номер патента: RU2407040C2. Автор: Ханс ХАЛЛСТАДИУС,Андерс КРИСТИАНССОН,Ларс Аке НЕСЛУНД,ОЛССОН Андерс ХЕДСЕ. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2010-12-20.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Electron beam-generating apparatus

Номер патента: US5763889A. Автор: Atsushi Kimura,Shoji Kato,Takeshi Tomita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 1998-06-09.

Electron beam shielding apparatus and methods for shielding electron beams

Номер патента: EP1204984A1. Автор: Mark Hall,Leonard C. Ii Hainz,Ingo A. Grosse. Владелец: ATI Properties LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Electron beam shielding apparatus and methods for shielding electron beams

Номер патента: WO2001006537A1. Автор: Mark Hall,Leonard C. Ii Hainz,Ingo A. Grosse. Владелец: ATI PROPERTIES, INC.. Дата публикации: 2001-01-25.

Electron beam writing apparatus and cathode life span prediction method

Номер патента: US11749491B2. Автор: Nobuo Miyamoto,Takahito Nakayama,Satoshi Nakahashi,Shunji Shinkawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of cutting super-hard materials using an electron beam and a range of beam scanning velocities

Номер патента: US09555499B2. Автор: Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Electron-beam welding method of heterogeneous metals

Номер патента: RU2615101C1. Автор: Дмитрий Витальевич Панов,Виктор Иванович Кулик,Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Михаил Вячеславович Ерёмин,Владимир Глебович Бещеков,Иван Иванович Коптев,Александр Михайлович Ильинский. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш". Дата публикации: 2017-04-03.

Metal protective layer for electron emitters with a diffusion barrier

Номер патента: EP3766092A1. Автор: Frances Hill,Rudy Garcia,Mike Romero,Katerina Ioakeimidi,Gildardo DELGADO,Gary Lopez,Zefram Marks. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-20.

Metal protective layer for electron emitters with a diffusion barrier

Номер патента: US20190362927A1. Автор: Gildardo R. Delgado,Frances Hill,Rudy F. Garcia,Katerina Ioakeimidi,Zefram Marks,Gary V. Lopez Lopez,Michael E. Romero. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Electron beam plasma source with segmented suppression electrode for uniform plasma generation

Номер патента: US20140265855A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US20180269028A1. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US20170154755A1. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US09997329B2. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Electron beam plasma source with segmented suppression electrode for uniform plasma generation

Номер патента: US09443700B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Electron-beam evaporator

Номер патента: GB1540944A. Автор: . Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1979-02-21.

Electron Beam Apparatus.

Номер патента: GB1196787A. Автор: . Владелец: Air Reduction Co Inc. Дата публикации: 1970-07-01.

Electron beam gun

Номер патента: US4731537A. Автор: P. Michael Fletcher,Kenneth E. Williams. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-03-15.

Dual-mode electron beam column

Номер патента: GB2421630B. Автор: Brian Rafferty. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2006-11-29.

Electron-beam apparatus and method of welding with this apparatus

Номер патента: US3602686A. Автор: Joseph Lempert. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1971-08-31.

Multiple electron-beam vapor source assembly

Номер патента: CA1101076A. Автор: Paul S. Mcleod,Kazumi N. Tsujimoto. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1981-05-12.

Electron beam heating apparatus having means for sweeping the beam spot

Номер патента: US4035573A. Автор: Sergio Negri. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1977-07-12.

Electron beam writing equipment and method

Номер патента: EP1523028A3. Автор: Osamu Kamimura,Yoshinori Nakayama,Masato Muraki,Yasunari Sohda,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2011-06-01.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20070228285A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: E Beam Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20080067429A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-20.

Electron beam lithography

Номер патента: GB2041639A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-09-10.

Electron beam generator for multiple columns

Номер патента: US20070296343A1. Автор: Takamasa Sato. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2007-12-27.

Electron beam patterning

Номер патента: US7958464B1. Автор: Luca Grella,Allen M. Carroll. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2011-06-07.

Overhead electron beam source for plasma ion generation in a workpiece processing region

Номер патента: WO2013059097A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Kallol Bera. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

Switched electron beam plasma source array for uniform plasma production

Номер патента: WO2013059132A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf,Gary Leray. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

Nanofabrication using a new class of electron beam induced surface processing techniques

Номер патента: US20170073814A1. Автор: James Bishop,Milos Toth,Charlene Lobo,Toan Trong Tran,Igor Aharonovich. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Electron beam generator device and method for producing the same

Номер патента: US20050212395A1. Автор: Shinsuke Okada,Masaki Hirakata,Miho Watanabe,Taishi Shigematsu,Shigeki Ooma,Chikara Manabe,Hiroyuki Watanabe,Kentaro Kishi,Takashi Isozaki,Kazunori Anazawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

An electron beam evaporator with prolonged inter-maintenance periods and greater film thickness monitoring stability

Номер патента: GB201117595D0. Автор: . Владелец: UNIVERSITY OF YORK. Дата публикации: 2011-11-23.

An electron beam evaporator

Номер патента: GB201218384D0. Автор: . Владелец: BOSTECH Ltd. Дата публикации: 2012-11-28.

Electron-beam irradiation method and device (alternatives)

Номер патента: RU2250532C2. Автор: Ацуси НАКАМУРА,Масахиро КИГА. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 2005-04-20.

Manufacturing method of spacer for electron-beam apparatus and manufacturing method of electron-beam apparatus

Номер патента: US20020123292A1. Автор: Nobuhiro Ito,Koji Yamazaki,Masahiro Fushimi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US7898162B2. Автор: Michael D. Tiberi,Vladimir I. Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2011-03-01.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US20080054782A1. Автор: Michael Tiberi,Vladimir Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2008-03-06.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US20080081107A1. Автор: Michael Tiberi,Vladimir Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2008-04-03.

Diamond supported photocathodes for electron sources

Номер патента: WO2001009915A8. Автор: Timothy Thomas,Andres Fernandez,Ming Yu,Marian Mankos,Xiaolan Chen,Steven T Coyle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-23.

Diamond supported photocathodes for electron sources

Номер патента: EP1200974A1. Автор: Timothy Thomas,Andres Fernandez,Ming Yu,Marian Mankos,Xiaolan Chen,Steven T. Coyle. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Ferroelectric emitter for electron beam emission and radiation generation

Номер патента: US09646797B2. Автор: Moshe Einat. Владелец: Ariel University Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: WO2022104168A3. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: US20240258061A1. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Color cathode-ray tube having electrostatic quadrupole lens exhibiting different intensities for electron beams

Номер патента: US6400105B2. Автор: Shinichi Kato,Go Uchida,Syoji Shirai,Masafumi Nagaoka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-06-04.

Electron-beam device and semiconductor device for use in such an electron-beam device

Номер патента: CA1249012A. Автор: Arthur M.E. Hoeberechst,Gerardus G.P. Van Gorkom. Владелец: Gerardus G.P. Van Gorkom. Дата публикации: 1989-01-17.

Convergence correction device for electron beams in color picture tube and process of using

Номер патента: US20030048065A1. Автор: Song Shik. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Electron beam tube and window for electron beam extraction

Номер патента: US6870174B2. Автор: Katsuya Okumura,Masanori Yamaguchi. Владелец: Octec Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Image display apparatus with deformable accelerating electrodes

Номер патента: US4642517A. Автор: Mitsunori Yokomakura,Takashi Kanehisa. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1987-02-10.

Decelerating and scan expansion lens system for electron discharge tube incorporating a microchannel plate

Номер патента: US4752714A. Автор: John H. Sonneborn,Kenneth W. Hawken. Владелец: Tektronix Inc. Дата публикации: 1988-06-21.

Single-beam and multiple-beam klystrons using periodic permanent magnets for electron beam focusing

Номер патента: WO1997038436A1. Автор: Robert M. Phillips,George Caryotakis,Daryl W. Sprehn,Neville C. LUHMANN, Jr.. Владелец: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY. Дата публикации: 1997-10-16.

Cathode member for electron beam generation, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220336179A1. Автор: Kenji Koga,Toshiaki Takagi,Tatsuhiko Kusamichi,Fumiaki Kudo. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2022-10-20.

Cathode member for electron beam generation and method for producing same

Номер патента: EP4026635A1. Автор: Kenji Koga,Toshiaki Takagi,Tatsuhiko Kusamichi,Fumiaki Kudo. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2022-07-13.

Electron beam deflection apparatus using an auxiliary deflection coil and a compensation coil

Номер патента: US6097163A. Автор: Jacques Chauvin,Bernhard Malota,Albert Runtze. Владелец: Deutsche Thomson Brandt GmbH. Дата публикации: 2000-08-01.

An improved cathode ray tube apparatus with reduced beam spot size

Номер патента: WO1994006146A1. Автор: Kern K. N. Chang. Владелец: Chang Kern K N. Дата публикации: 1994-03-17.

Electronic sealed-off gun for electrons flow output into the atmosphere or other gas medium

Номер патента: RU2680823C1. Автор: Игорь Анатольевич Леонтьев,Юрий Михайлович ЯШНОВ,Юрий Дмитриевич Степанов,Олег Юрьевич КУДРЯШОВ,Михаил Петрович Духновский,Карл Георгиевич Симонов,Юрий Юрьевич Федоров. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн". Дата публикации: 2019-02-27.

Improvements in and relating to amplifiers for electron current

Номер патента: GB497160A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1938-12-14.

Improvements in or relating to arrangments for producing concentrated beams of electrons, particularly for electron discharge apparatus of the velocity modulation type

Номер патента: GB539422A. Автор: . Владелец: Standard Telephone and Cables PLC. Дата публикации: 1941-09-10.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: US11961693B2. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: EP4244880A2. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc. Дата публикации: 2023-09-20.

Cathode ray tube with arrangement for electron ray control

Номер патента: US6552503B2. Автор: Hans-Helmut Bechtel,Wolfgang Busselt,Harald Glaeser. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2003-04-22.

Cathode ray tube with arrangement for electron ray control

Номер патента: US20020079821A1. Автор: Hans-Helmut Bechtel,Wolfgang Busselt,Harald Glaeser. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-27.

Vacuum display device with reduced ion damage

Номер патента: EP1537593A1. Автор: Ramon P. Van Gorkom,Nijs C. Van Der Vaart,Johannes J. W. M. Rosink. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-06-08.

Cathode ray tubes with reduced browning properties

Номер патента: EP1153410A1. Автор: Richard L. Lehman. Владелец: International Lead Zinc Research Organization Inc. Дата публикации: 2001-11-14.

Cathode/heater assembly for electron-beam devices

Номер патента: CA2034920A1. Автор: Nikolai F. Osaulenko,Olgerd I. Babich,Nikolai N. Demchenko. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-07-26.

Electron-beam-pumped light source

Номер патента: US20130322484A1. Автор: Masanori Yamaguchi,Hiroyuki Takada,Ken Kataoka,Hiroshige Hata,Tsuyoshi Maesoba. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2013-12-05.

Electron emitter assembly and method for adjusting a power level of electron beams

Номер патента: US20060098783A1. Автор: COLIN Wilson,Bruce Dunham,John Price. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2006-05-11.

Electron capture dissociation (ecd) utilizing electron beam generated low energy electrons

Номер патента: US20190287775A1. Автор: Kenneth R. Newton,Nigel P. Gore,Mark Denning. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2019-09-19.

Electron beam melting furnace and method for operating same

Номер патента: US09773642B2. Автор: Takashi Oda,Takeshi Shiraki,Hisamune Tanaka. Владелец: Toho Titanium Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Color display tube system with reduced spot growth

Номер патента: US5027042A. Автор: Albertus A. S. Sluyterman,Marinus L. A. Vrinten,Lambert J. Stil. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1991-06-25.

High voltage standoff, current regulating, hollow electron beam switch tube

Номер патента: WO2000028569A1. Автор: Richard Brownell True. Владелец: Litton Systems, Inc.. Дата публикации: 2000-05-18.

Electron Beam 3D Printing Machine

Номер патента: US20190202000A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2019-07-04.

Electron beam 3d printing machine

Номер патента: WO2018025239A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2018-02-08.

Electron beam 3d printing machine

Номер патента: EP3493932A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2019-06-12.

Technique for multi-stream electron beam generation with different energies and comparable currents from a single cathode potential for high power microwave sources

Номер патента: US20230420212A1. Автор: Edl Schamiloglu,Khandakar Nusrat ISLAM. Владелец: UNM Rainforest Innovations. Дата публикации: 2023-12-28.

Electron beam deflection lens for color crt

Номер патента: WO1993022790A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chen Hsing Yao. Дата публикации: 1993-11-11.

Hybrid linear accelerator with a broad range of regulated electron and X-ray beam parameters includes both standing wave and traveling wave linear sections for providing a multiple-energy high-efficiency electron beam or X-ray beam useful for security inspection, non-destructive testing, radiation therapy, and other applications

Номер патента: US09854662B2. Автор: Andrey Mishin. Владелец: Varex Imaging Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Method for radiation by electron beams

Номер патента: RU2139753C1. Автор: Саито Муцуми,Йосиока Такеси,Нисимура Тацу,Нисимура Тацуя. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 1999-10-20.

Electronic sealed-off gun for electron stream discharge from the vacuum region of the gun to atmosphere or other gas medium

Номер патента: RU2647487C1. Автор: Сергей Константинович Гордеев,Светлана Борисовна Корчагина,Игорь Анатольевич Леонтьев,Юрий Михайлович ЯШНОВ,Юрий Дмитриевич Степанов,Олег Юрьевич КУДРЯШОВ,Михаил Петрович Духновский,Карл Георгиевич Симонов,Юрий Юрьевич Федоров. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн". Дата публикации: 2018-03-16.

Amplifier hub of electron beam with electron membrane

Номер патента: RU2619767C2. Автор: Богдан Николаевич Казьмин,Иван Васильевич Трифанов,Дмитрий Ринатович Рыжов,Людмила Ивановна Оборина,Владимир Иванович Трифанов,Марина Викторовна Савельева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ). Дата публикации: 2017-05-18.

Improvements in or relating to cathodes for electron discharge devices

Номер патента: GB455351A. Автор: . Владелец: Ferranti PLC. Дата публикации: 1936-10-16.

Color cathode ray tube system with reduced spot growth

Номер патента: US4988926A. Автор: Albertus A. S. Sluyterman,Marinus L. A. Vrinten. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1991-01-29.

Electrode structure for electron gun

Номер патента: US6847158B1. Автор: Philippe Arnaud,Arnaud Farizon. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2005-01-25.

X-ray generation using electron beam

Номер патента: US20210319971A1. Автор: Ryosuke Yabushita,Shinya Hattori,Naofumi Kosugi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2021-10-14.

Electron beam device, a getter sheet and a method of manufacturing an electron beam device provided with said getter sheet

Номер патента: US20140145589A1. Автор: Benno Zigerlig,Werner Haag,Toni Waber,Urs Hostettler,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2014-05-29.

An electron beam device, a getter sheet and a method of manufacturing an electron beam device provided with said getter sheet

Номер патента: EP2729954A2. Автор: Benno Zigerlig,Werner Haag,Toni Waber,Urs Hostettler,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2014-05-14.

Three-dimensional electron beam computed tomography

Номер патента: WO2005104952A8. Автор: Hermann Schomberg. Владелец: Hermann Schomberg. Дата публикации: 2006-10-05.

Multi-target x-ray tube with stationary electron beam position

Номер патента: US20140314209A1. Автор: Todd S. Parker,Dave Reynolds,Steven D. Liddiard. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Laser electron-beam device

Номер патента: RU2192686C2. Автор: О.М. Макиенко,Н.Г. Румянцев. Владелец: Самсунг Дисплей Дивайсиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2002-11-10.

Making fused thorium carbide-tungsten cathodes for electron guns

Номер патента: US3590242A. Автор: Homer H Glascock Jr. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1971-06-29.

Improvements relating to cathodes for electron emissive devices

Номер патента: GB733191A. Автор: John Heywood Ludlow,Humphrey Grahame Bennetts. Владелец: Metropolitan Vickers Electrical Co Ltd. Дата публикации: 1955-07-06.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: EP3475971A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-01.

Electron beam welding method and apparatus

Номер патента: EP4387801A1. Автор: Colin Nigel Ribton,Vitalijs JEFIMOVS. Владелец: TWI Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power rf vacuum devices

Номер патента: WO2017112411A1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2017-06-29.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power rf vacuum devices

Номер патента: EP3394875A1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2018-10-31.

Electron beam deflection device for cathode ray tube

Номер патента: US6346769B1. Автор: Ichiro Saito,Koichi Iida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-02-12.

Color cathode ray tube having improved arrangement of electron beams

Номер патента: US6320307B1. Автор: Toshiyuki Tanaka. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-11-20.

Electron beam welding methods and apparatus

Номер патента: US20240359254A1. Автор: Vitalijs JEFIMOVS,Colin Ribton. Владелец: TWI Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, rotary target, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09966217B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-05-08.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, rotary target, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09947501B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-04-17.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09941090B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-04-10.

Device for producing an electron beam

Номер патента: US09916960B2. Автор: Oliver Heid. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-03-13.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power RF vacuum devices

Номер патента: US09502203B1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2016-11-22.

Color picture tube apparatus with pincushion distortion correction

Номер патента: US6984929B1. Автор: Etsuji Tagami,Toshihiko Shichijyo. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-10.

Tuning the scanning electron beam computed tomography scanner

Номер патента: US5224137A. Автор: Roy E. Rand,Mark C. Nicely,Susan E. Plomgren,John L. Couch. Владелец: Imatron Inc. Дата публикации: 1993-06-29.

Electron emitter assembly and method for adjusting a size of electron beams

Номер патента: US20060098780A1. Автор: COLIN Wilson,Bruce Dunham,John Price. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2006-05-11.

High density electron beam generated by low voltage limiting aperture gun

Номер патента: US5220239A. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 1993-06-15.

Electron beam focusing system

Номер патента: GB1242003A. Автор: . Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1971-08-11.

Electron beam generator, plasma processing apparatus having the same and plasma processing method using the same

Номер патента: US11195696B2. Автор: Akira Koshiishi,Soonam Park,Dongkyu Shin,Kyuhee Han,Sangki NAM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-07.

Multiple focal spot X-ray tube with multiple electron beam manipulating units

Номер патента: US7949102B2. Автор: Rolf Karl Otto Behling. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2011-05-24.

Electron gun for in-line color cathode ray tube having differently shaped electron beam passage apertures

Номер патента: US6031325A. Автор: Yasunobu Amano. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-02-29.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: EP1522084B1. Автор: Mark J. CATTELINO,Fred I. FRIEDLANDER. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2011-11-16.

Apparatus and method for trajectory modulation of an electron beam

Номер патента: WO2008022004A3. Автор: Mark Frederick Kirshner,Craig Bisset Wilsen,Richard Donald Kowalczyk. Владелец: Richard Donald Kowalczyk. Дата публикации: 2008-06-19.

Electron beam deflection lens for crt

Номер патента: WO1993022791A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chen Hsing Yao. Дата публикации: 1993-11-11.

Display device with electron beam guiding channels

Номер патента: EP1518254A1. Автор: Michel C. J. M. Vissenberg,Willem L. Ijzerman,Hubertus M. R. Cortenraad. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-03-30.

Display device with electron beam guiding channels

Номер патента: WO2004001788A1. Автор: Michel C. J. M. Vissenberg,Willem L. Ijzerman,Hubertus M. R. Cortenraad. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2003-12-31.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: WO2004006281A3. Автор: Mark J Cattelino,Fred I Friedlander. Владелец: Comm And Power Ind Inc. Дата публикации: 2004-07-22.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: WO2004006281A2. Автор: Mark J. Cattelino,Fred I. Friedlander. Владелец: Communications And Power Industries, Inc.. Дата публикации: 2004-01-15.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: EP1522084A2. Автор: Mark J. Comm. & Power Industries Inc CATTELINO,Fred I. Comm. & Power Industries Inc FRIEDLANDER. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2005-04-13.

Electron beam apparatus and image displaying apparatus using the same

Номер патента: US20100201247A1. Автор: Toshihiko Takeda,Tamayo Hiroki,Takanori Suwa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-12.

Semiconductor device for emitting highly spin-polarized electron beam

Номер патента: CA2067843A1. Автор: Toshihiro Kato,Tsutomu Nakanishi,Takashi Saka,Hiromichi Horinaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-03.

Cathode ray tube with electron beam convergence regulator

Номер патента: US5955830A. Автор: Toshio Uyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-09-21.

Method of manufacturing a spacer used in an electron beam generating device, an electron beam generating device using the spacer and image-forming apparatus

Номер патента: US20020034916A1. Автор: Yasushi Shimizu,Masahiro Fushimi,Yasushi Shioya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Electron beam equipment

Номер патента: US4064543A. Автор: Peter Harold Phillips,David William Warwick. Владелец: Plessey Handel und Investments AG. Дата публикации: 1977-12-20.

Electron beam pumped semiconductor laser screen and associated fabrication method

Номер патента: US20040028109A1. Автор: Robert Morgan,Robert Rice,Neil Ruggieri,J. Whiteley,Richard Skogman. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2004-02-12.

Electron beam apparatus using electron source, image-forming apparatus using the same and method of manufacturing members to be used in such electron beam apparatus

Номер патента: US20050003730A1. Автор: Hideaki Mitsutake,Yoichi Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-01-06.

Electron beam apparatus using electorn source, image-forming apparatus using the same and method of manufacturing members to be used in such electron beam apparatus

Номер патента: US20020190635A1. Автор: Hideaki Mitsutake,Yoichi Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-19.

Method and system for controlling electron beams from field emission cathodes

Номер патента: US20040017166A1. Автор: Kent Kalar,Byron Zollars,John Lorr. Владелец: Extreme Devices Inc. Дата публикации: 2004-01-29.

Electron beam accelerator

Номер патента: EP1194944A1. Автор: Tzvi Avnery,Kenneth P. Felis. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2002-04-10.

Microwave electron beam tubes

Номер патента: US3621316A. Автор: Geoffrey Thomas Clayworth. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1971-11-16.

Composite Electron Beam Vacuum Tube

Номер патента: US20240312754A1. Автор: Michael K. Strahan,Kyle Eversole. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-09-19.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Aligning and focusing an electron beam in an X-ray source

Номер патента: US09947502B2. Автор: Oscar Hemberg,Tomi Tuohimaa,Björn SUNDMAN. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2018-04-17.

Nonlinear transmission line based electron beam density modulator

Номер патента: US09685296B1. Автор: Donald A. Shiffler,David Michael French,Brad Winston Hoff,Susan L. Heidger,Wilkin W. Tang. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2017-06-20.

Method of forming bunches of high energy density in an electron beam and a transit klystron

Номер патента: RU2744218C1. Автор: Игорь Анатольевич Гузилов. Владелец: Игорь Анатольевич Гузилов. Дата публикации: 2021-03-03.

Apparatus and method for providing a modulated electron beam

Номер патента: US4703228A. Автор: William P. West. Владелец: GA Technologies Inc. Дата публикации: 1987-10-27.

Electronically beam steerable antenna device

Номер патента: EP2715869A1. Автор: Roman Olegovich Maslennikov,Aleksey Andreevich ARTEMENKO. Владелец: "RADIO GIGABIT" LLC. Дата публикации: 2014-04-09.

Electronically beam-steerable antenna device

Номер патента: US09590300B2. Автор: Roman Olegovich Maslennikov,Aleksey Andreevich ARTEMENKO. Владелец: RADIO GIGABIT. Дата публикации: 2017-03-07.

Method for curing spin-on-glass film utilizing electron beam radiation

Номер патента: US6132814A. Автор: William R. Livesay,Matthew F. Ross,Anthony L. Rubiales. Владелец: Electron Vision Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Method for polishing silicon wafer with reduced wear on carrier, and polishing liquid used therein

Номер патента: US20230178376A1. Автор: Eiichiro ISHIMIZU,Hayato Yamaguchi,Yusuke Tanatsugu. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Electron-beam-curable electrically conductive paste and process for production of circuit board using same

Номер патента: EP2528066A4. Автор: Shigeo Ota,Kazutoshi Koshimizu. Владелец: Goo Chemical Industries Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-29.

Chip embedded composite for electron beam lithography, preparation method and application thereof

Номер патента: US20230343605A1. Автор: Zhaoyu Zhang,Yaoran HUANG,Gexing LIU,Haochuan LI. Владелец: Chinese University of Hong Kong Shenzhen. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for polishing silicon wafer with reduced wear on carrier, and polishing liquid used therein

Номер патента: US11984320B2. Автор: Eiichiro ISHIMIZU,Hayato Yamaguchi,Yusuke Tanatsugu. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Electronic beam scanning lens antenna

Номер патента: RU2494506C1. Автор: Роман Олегович Масленников,Алексей Андреевич Артеменко,Андрей Викторович Можаровский,Владимир Николаевич Ссорин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Радио Гигабит". Дата публикации: 2013-09-27.

Method for manufacturing polycrystalline silicon thin-film solar cells by means method for crystallizing large-area amorphous silicon thin film using linear electron beam

Номер патента: US09680047B2. Автор: Sun Hwa Lee,Ho Sung Kim,Sang Ryu,Chae Hwan Jeong,Seong Jae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and apparatus for producing a high gain free electron laser using a large energy spread electron beam

Номер патента: US12057674B2. Автор: Roderick J. Loewen,Ronald D. Ruth. Владелец: Lyra Acquisition Holdings LLC. Дата публикации: 2024-08-06.

Methods and apparatus for providing a broadband tunable source of coherent millimeter, sub-millimeter and infrared radiation utilizing a non-relativistic electron beam

Номер патента: US20020060299A1. Автор: Anissim Silivra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-23.

Method of manufacturing resistance change layer using irradiation of electron beam and resistive random access memory device using the same

Номер патента: US09337425B2. Автор: Dong Uk Lee,Byung Cheol Lee,Dongwook Kim,Eun Kyu Kim,Gyu Jin Oh,Seong Guk Cho,Sang Woo Pak,Hyung Dal PARK. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2016-05-10.

Charging pack for electronic cigarettes

Номер патента: RU2656616C1. Автор: Мэтью Джоуэл НЕТТЕНСТРОМ,Стивен Майкл ШЕННУМ,Дэонь ДИН,Рянь ЧЖАН. Владелец: Никовенчерс Холдингз Лимитед. Дата публикации: 2018-06-06.

Metal for electronics and method of production of such metal

Номер патента: RU2224808C2. Автор: Джеймс А. ФАЙФ. Владелец: Кабот Корпорейшн. Дата публикации: 2004-02-27.

Method for producing nanoparticles for magnetic fluids by electron-beam evaporation and condensation in vacuum, a magnetic fluid producing method and magnetic fluid produced according to said method

Номер патента: US20110001079A1. Автор: Boris Paton,Boris Movchan,Iurii Kurapov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-06.

Picking-up and placing process for electronic devices and electronic module

Номер патента: US09773711B2. Автор: Ming-Hsien Wu,Yen-Hsiang Fang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2017-09-26.

Device for electronic aerosol generation system, method for manufacturing such device, aerosol forming unit for such device and aerosol supply system

Номер патента: RU2745911C1. Автор: Джереми РАЙТ. Владелец: Никовенчерс Трейдинг Лимитед. Дата публикации: 2021-04-02.

Device for controlling decoupling causes for electronic decoupling device

Номер патента: RU2676334C2. Автор: Бертран МАССБЕФ,Жоэль СОРЕН. Владелец: ШНЕЙДЕР ЭЛЕКТРИК ЭНДЮСТРИ САС. Дата публикации: 2018-12-28.

Machine for unloading micro-electronic beam lead chips

Номер патента: US3961409A. Автор: Theodore R. Sherwood. Владелец: Lockheed Missiles and Space Co Inc. Дата публикации: 1976-06-08.

Compositional buffers for electronic ceramics containing volatile elements and the fabrication method

Номер патента: US20040115441A1. Автор: Kazuyuki Suzuki,Kaori Nishizawa,Takeshi Miki,Kazumi Kato,Hiroshi Ishiwara,Desheng Fu. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2004-06-17.

Processing device for electronic components

Номер патента: MY196926A. Автор: Hajime Takamatsu. Владелец: Ueno Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Cooling system for electronic components and led lamp having the same

Номер патента: US09521777B2. Автор: Istvan Bakk. Владелец: Tridonic Jennersdorf GmbH. Дата публикации: 2016-12-13.

Epoxy-diphenolic radiation-resistant compound for the manufacturing of the electron-beam gun insulators

Номер патента: RU2660058C1. Автор: Юрий Николаевич Быков,Аркадий Анатольевич Лысов. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский и конструкторский институт монтажной технологии - Атомстрой" (АО "НИКИМТ-Атомстрой"). Дата публикации: 2018-07-04.

Silicon-organic composition for electronic equipment protection

Номер патента: RU2631820C1. Автор: Римма Александровна Газзаева,Лариса Борисовна Коблова,Ольга Владимировна Неёлова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Осетинский государственный университет имени Коста Левановича Хетагурова" (СОГУ). Дата публикации: 2017-09-26.

Method for improving electron-beam

Номер патента: US20120115087A1. Автор: Qiuxia Xu,Gaobo Xu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2012-05-10.

Production of molybdenum-99 with use of electron beams

Номер патента: RU2667072C2. Автор: Дуглас УЛРИХ,Уильям ДАЙАМОНД,Вайней НАГАРКАЛ,ЖОН Марк ДЕ,Кристофер РЕЖЬЕ,Линда ЛИН. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2018-09-14.

Polymerizable composition, polymer, resist, and process for electron beam lithography

Номер патента: US20040081910A1. Автор: Klaus Elian,Rafael Abargues. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.

Polymerizable composition, polymer, resist, and process for electron beam lithography

Номер патента: US6821706B2. Автор: Klaus Elian,Rafael Abargues. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-11-23.

System, devices and methods for electron beam for plasma heating

Номер патента: US20230403779A1. Автор: Sergey Korepanov,Anton TKACHEV. Владелец: TAE Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Method of curing color filter for electronic display using electron-beam and method of fabricating color filter for electronic display using the same

Номер патента: US8168353B2. Автор: Jung Min Cho,Chae Il Cheon,Kyoung Ho Lee,Jeong Seog Kim,Young Hwan Han. Владелец: Academic Cooperation Foundation of Hoseo University. Дата публикации: 2012-05-01.

Method and apparatus for correcting proximity effect of electron beam

Номер патента: US20240184217A1. Автор: Shang Yang,Jian Xu,Yayi Wei. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2024-06-06.

System, devices and methods for electron beam for plasma heating

Номер патента: AU2021373891A9. Автор: Sergey Korepanov,Anton TKACHEV. Владелец: TAE Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Electronic Doorbell System with Reduced Latency

Номер патента: US20200280701A1. Автор: Rajinder Singh,Nisheeth Gupta,Justin Maggard,Dnyanesh Patil,Dennis Aldover,Velabhai Bhedaru. Владелец: Arlo Technologies Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Electronic doorbell system with reduced latency

Номер патента: EP3703360A1. Автор: Rajinder Singh,Nisheeth Gupta,Justin Maggard,Dnyanesh Patil,Dennis Aldover,Velabhai Bhedaru. Владелец: Arlo Technologies Inc. Дата публикации: 2020-09-02.

Front panel for electronic apparatus and method for manufacturing front panel for electronic apparatus

Номер патента: PH12015000159A1. Автор: Yoshinori Kaneko. Владелец: Sanyo Electric Co. Дата публикации: 2016-12-05.

Improvements in or relating to apparatus for fold hinge assemblies for electronic devices and associated methods

Номер патента: WO2009156578A1. Автор: Masaaki Inaba,Mikael Kontkanen,Mikko Laaksonen,Tommi Teuri,Kaisu KERÄNEN. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2009-12-30.

Visualization system and method for electronic steam generation systems

Номер патента: RU2698432C1. Автор: Алфред Винсент СПЕНСЕР,Анна АЦЦОПАРДИ. Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед. Дата публикации: 2019-08-26.

Multi-beam exposure scanning method and apparatus, and method for manufacturing printing plate

Номер патента: WO2010064730A1. Автор: Ichirou Miyagawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-06-10.

Electron beam radiation system with collision detection functionality

Номер патента: US20240245933A1. Автор: Richard L. Johnson,Michael F. Turk. Владелец: Intraop Medical Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

System of heat control for electronic display

Номер патента: RU2513043C2. Автор: Уилльям Р. ДАНН,Уэр БЕДЕЛЛ,Тимоти ХАББАРД. Владелец: Мэньюфэкчеринг Ресорсиз Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2014-04-20.

Charging case for electronic vaping device (options)

Номер патента: RU2762715C2. Автор: Шмуэль Гавриэлов,Бернард ДЖАСТЕР,Арие ХОЛЬЦ. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-12-22.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Ruggedizing apparatus and method for electronic equipment mounted on spacecraft

Номер патента: EP4243586A3. Автор: Norihiko Mochida. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-11-22.

Ruggedizing apparatus and method for electronic equipment mounted on spacecraft

Номер патента: EP4243586A2. Автор: Norihiko Mochida. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-09-13.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

System and method for electronic display temperature control

Номер патента: RU2493575C2. Автор: Уилльям Р. ДАНН. Владелец: Мэньюфэкчеринг Ресорсиз Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2013-09-20.

3d lens with reduced back reflectance

Номер патента: US20170068028A1. Автор: Brian Thomas Sullivan,Peter Hook,Graham Carlow,Michelle Derouin. Владелец: Iridian Spectral Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-03-09.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Control Method for Electronic Price Tags, Electronic Price Tag, and Electronic Price Tag System

Номер патента: US20240046060A1. Автор: YANG Zhao,Min Liang,YAPING Ji,QI JIANG,Jianguo Zhao,Yujing WANG,Shiguo HOU. Владелец: Hanshow Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Ruggedizing apparatus and method for electronic equipment mounted on spacecraft

Номер патента: EP4236643A1. Автор: Norihiko Mochida. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Device-independent audio for electronic devices

Номер патента: US20240267674A1. Автор: Jonathan D. Sheaffer,Joshua D. Atkins,Mehrez SOUDEN,Jason Wung,Siyuan YUAN. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of producing an etch-resistant polymer structure using electron beam lithography

Номер патента: US20030180627A1. Автор: Dominique Drouin,Jacques Beauvais,Eric Lavallee,Melanie Cloutier. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2003-09-25.

Case for electronic devices and related electronic device

Номер патента: WO2024209228A1. Автор: Dino MICHELON,Gianluca CANDIOTTO. Владелец: LUXOTTICA S.R.L.. Дата публикации: 2024-10-10.

Control Method for Electronic Price Tags, Electronic Price Tag, and Electronic Price Tag System

Номер патента: US20240296306A1. Автор: YANG Zhao,Min Liang,YAPING Ji,QI JIANG,Jianguo Zhao,Yujing WANG,Shiguo HOU. Владелец: Hanshow Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Accessory authentication for electronic devices

Номер патента: US09754099B2. Автор: Mitchell Adler,Anthony M. Fadell,John Wesley Archibald,Jonathan J. Rubinstein,Jesse Lee Dorogusker. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Cylindrical dual axis hinge for electronic devices

Номер патента: US09487981B1. Автор: Russell S. Aoki. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Protective case for electronic product

Номер патента: US09417662B1. Автор: Youru Feng. Владелец: Guangzhou Wenyi Communication Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: US12055859B2. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Method of manufacturing mask for electron beam lithography and mask blank for electron beam lithography

Номер патента: US7029801B2. Автор: Mitsuhiro Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-18.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: US20230324810A1. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Method and apparatus for multi-beam exposure

Номер патента: US20060060798A1. Автор: Ichirou Miyagawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-23.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: WO2023278174A1. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-01-05.

Positive resist composition for electron beam, x-ray or euv and pattern forming method using the same

Номер патента: US20090246685A1. Автор: Katsuhiro Yamashita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Electron beam negative working resist composition

Номер патента: US6153354A. Автор: Kiyoshi Ishikawa,Katsumi Oomori,Yasuhiko Katsumata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2000-11-28.

Scattering reticle for electron beam systems

Номер патента: US5674413A. Автор: Werner Stickel,Hans Christian Pfeiffer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1997-10-07.

Resist composition for electron beam, x-ray, or euv, and pattern-forming method using the same

Номер патента: EP2020616A2. Автор: Katsuhiro Yamashita,Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-04.

Capacitance height gage applied in reticle position detection system for electron beam lithography apparatus

Номер патента: CA1239785A. Автор: John R. Shambroom,Alan P. Sliski. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1988-08-02.

Overlay design for electron beam and scatterometry overlay measurements

Номер патента: WO2023278142A1. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-01-05.

Exposure apparatus with irradiation device for irradiating optical element with pulsed light having infrared wavelength, and corresponding exposure method

Номер патента: US09568835B2. Автор: Takahiro Nakayama,Akira Miyake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Microelectromechanical Apparatus with Heating Element

Номер патента: US20240085661A1. Автор: Arnd Kaelberer,Ralf Noltemeyer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Exposure method using electron beam and substrate manufacturing method using the same

Номер патента: US09709893B2. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Jin Choi,Inkyun Shin,So-Eun Shin,Sook Hyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-18.

Mask for charged particle beam exposure, and method of forming the same

Номер патента: US20050008946A1. Автор: Kenichi Morimoto,Yoshinori Kinase,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-01-13.

METHOD OF PRODUCING AN ETCH−RESISTANT POLYMER STRUCTURE USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

Номер патента: EP1485757A1. Автор: Dominique Drouin,Jacques Beauvais,Eric Lavallee,Melanie Cloutier. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2004-12-15.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Electron beam curable toners and processes thereof

Номер патента: EP1610186A3. Автор: Chieh-Min Cheng,T Hwee Ng. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2008-07-23.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: AU2020202165B2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2024-07-04.

Mobile system for electron beam intraoperative radiation therapy

Номер патента: WO2009050577A3. Автор: Nikolai Ivanovich Pakhomov,Vasily Ivanovich Shvedunov,Merkulov Youri Alex Koubychine. Владелец: Merkulov Youri Alex Koubychine. Дата публикации: 2009-08-13.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: EP4290983A3. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2024-02-28.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: EP4290983A2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2023-12-13.

Device and method for sterilizing flexible bags by electron beam irradiation

Номер патента: US11850315B2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2023-12-26.

Hand strap for electronic apparatus

Номер патента: US20170244438A1. Автор: Eiji Saitoh,Shinji Tomobe,Masami Tatehana. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

Beam position monitor for electron linear accelerator

Номер патента: US9736922B2. Автор: Stefan Trummer. Владелец: Astyx GmbH. Дата публикации: 2017-08-15.

Video signal reproducing apparatus with electron beam scanning velocity modulation

Номер патента: CA1087302A. Автор: Susumu Yoshida,Yoshio Ishigaki,Takao Tsuchiya,Kinya Shinkai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1980-10-07.

Timebase stabilization and correction system for electron beam apparatus

Номер патента: US3573358A. Автор: Bob V Markevitch. Владелец: Ampex Corp. Дата публикации: 1971-04-06.

Interlace to non-interlace conversion for electron beam film recording

Номер патента: GB2268659A. Автор: John William Richards. Владелец: Sony Broadcast and Communications Ltd. Дата публикации: 1994-01-12.

Compensated electron beam deflection device

Номер патента: US4017805A. Автор: Herbert M. Wagner. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1977-04-12.

Device and method for adjusting collision timing between electron beam and laser light

Номер патента: EP2164307A4. Автор: Yasuo Sakai,Hiroyuki Nose,Namio Kaneko,Fumito Sakamoto,Katsuhiro Dobashi,Daisuke Ishida,Mitsuru Uesaka. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2011-08-31.

Personal charging case for electronic device for vaping

Номер патента: RU2726749C2. Автор: Берина ЙЕРЕКИЦ-ХЕСУЙНОВИЦ,Терри Баш,Эрик Хоус,Дэвид ШИФФ.,Эдвард МИТЧЕЛЛ,Крис Фелан,Джейсон ЦЕРВЕК,Тони ГАТТА. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2020-07-15.

Screening device for electronic units on electronic board

Номер патента: RU2314664C2. Автор: Вальтер ФЮРЗИХ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2008-01-10.

Cooling device for electronic power unit integrated into rear part of alternating current generator or alternating current starter

Номер патента: RU2332771C2. Автор: Жан Жюльен ПФИФФЕР,Жан-Мари ПЬЕРРЭ,Мишель ФАК,Дирк ШУЛЬТЕ. Владелец: Валео Экипман Электрик Мотёр. Дата публикации: 2008-08-27.

Controlling x-ray tube electron beam optics during kvp switching

Номер патента: WO2024132742A1. Автор: Timothy Striker,Helmut Gerhard SCHMÜCKER. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US20020145549A1. Автор: Sadeg Faris. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US20050035889A1. Автор: Sadeg Faris. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: WO2002073809A3. Автор: Sadeg M Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2004-03-04.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: WO2002073809A2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo, Inc.. Дата публикации: 2002-09-19.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: EP1413056A2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2004-04-28.

Circuit board for electronic structural components

Номер патента: RU2367126C2. Автор: Мартин ЛАНГ,Вольфганг Ройтер,Хорст БЕССЕРЕР,Ахмет САВАСДЖИ. Владелец: Ритталь Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2009-09-10.

Device of conditioning for cooling of air in cabinet for electronic devices

Номер патента: RU2515530C2. Автор: Бретислав СКЛЕНАК. Владелец: Штульц Гмбх. Дата публикации: 2014-05-10.

Charging pack for electronic cigarettes

Номер патента: RU2692458C2. Автор: Томас Майкл МАККЕОН,Мэтью Джоуэл НЕТТЕНСТРОМ,Стивен Майкл ШЕННУМ,Джастин Бэнкер ПИРТ. Владелец: Никовенчерс Холдингз Лимитед. Дата публикации: 2019-06-24.

Charging pack for electronic cigarettes

Номер патента: RU2655602C1. Автор: Томас Майкл МАККЕОН,Мэтью Джоуэл НЕТТЕНСТРОМ,Стивен Майкл ШЕННУМ,Джастин Бэнкер ПИРТ. Владелец: Никовенчерс Холдингз Лимитед. Дата публикации: 2018-05-28.

Hybrid cartridge for electronic vaping, electronic vaping apparatus containing hybrid cartridge for electronic vaping, and method for manufacture thereof

Номер патента: RU2750169C2. Автор: Кристофер С. ТАКЕР,Барри С. Смит,Уилльям Дж. Кроу,Нам ТРАН,Эдмон КАДЬЕ. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-06-22.

Multi-layered interface for interconnecting application programs to system bus lines for electronic devices

Номер патента: WO1998021862A1. Автор: Billy Gayle Moon. Владелец: ERICSSON INC.. Дата публикации: 1998-05-22.

Flame retardant benzocyclobutene resin with reduced brittleness

Номер патента: WO2001048071A1. Автор: Michael W. Wagaman,Thomas F. McCarthy. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2001-07-05.

Flame retardant benzocyclobutene resin with reduced brittleness

Номер патента: EP1303562A1. Автор: Michael W. Wagaman,Thomas F. McCarthy. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-04-23.

Method of generation and conclusion of the electron beam in the field of high gas pressure, to the atmospheric

Номер патента: RU2650101C1. Автор: Сергей Юрьевич Корнилов,Николай Гербертович Ремпе. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2018-04-09.

Inductive charger for electronic cigarette

Номер патента: RU2630431C2. Автор: Роберт Левиц,Бернард ДЖАСТЕР,Дорон Леви,Эяль ПЕЛЕГ,Нехемия АМИР. Владелец: Сис Рисорсез Лтд.. Дата публикации: 2017-09-07.

Body for electronic circuit

Номер патента: RU2435339C2. Автор: Мартин АЙХЛЕР,Рудольф ШМИДТ. Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2011-11-27.

Reservoir with compressible fibrous matrix for electronic device for vaping

Номер патента: RU2740724C2. Автор: Питер Липович,Джейсон Эндрю МАККО. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-01-20.

Shock-resistant assembly for electronic circuit (modifications), assembly unit for converter and delayed-action detonator

Номер патента: RU2160883C1. Автор: Пол Н. МАРШАЛЛ,Томас К. ТСЕКА,Брендан М. УОЛШ,Джеймс Е. ФРИЦ. Владелец: Дзе Энсайн-Бикфорд Компани. Дата публикации: 2000-12-20.

Cooling device with liquid for electronic cards, in particular for high performance processing units

Номер патента: EP2599371A1. Автор: Mauro Rossi,Giampietro Tecchiolli,Pierfrancesco Zuccato. Владелец: EUROTECH SPA. Дата публикации: 2013-06-05.

Casing structure for electronic equipment

Номер патента: US20050061529A1. Автор: Hiroaki Ohashi,Hiroyoshi Omura. Владелец: Kyocera Mita Corp. Дата публикации: 2005-03-24.

Method of fabricating contact pads for electronic substrates

Номер патента: US11765826B2. Автор: Thomas Scott Morris,John August Orlowski,David Jandzinski. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Refrigeration system for transport refrigeration vehicle and heat dissipation method for electronic components therein

Номер патента: EP4393733A1. Автор: Jie Li,Linhui Chen,Kangshan Xie. Владелец: Carrier Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Contact pads for electronic substrates and related methods

Номер патента: US20210007224A1. Автор: Thomas Scott Morris,John August Orlowski,David Jandzinski. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Charging case for electronic smoking device

Номер патента: US11758949B2. Автор: Hitesh Bagai,Andreas Ingo Beer. Владелец: Fontem Holdings 1 BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Singulating and loading device for elongate holders for electronic components

Номер патента: MY143311A. Автор: Harmsen Wilhelmus Hendrikus Johannes,In Den Bosch Wilhelmus Johannes. Владелец: Fico BV. Дата публикации: 2011-04-15.

Charging case for electronic smoking device

Номер патента: US20240122270A1. Автор: Hitesh Bagai,Andreas Ingo Beer. Владелец: Fontem Holdings 1 BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US6980142B2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2005-12-27.

Computing apparatus with cross-subframe scheduling

Номер патента: US09800387B2. Автор: SEUNGHEE HAN,DEBDEEP CHATTERJEE,Gang Xiong,Marta MARTINEZ-TARRADELL. Владелец: Intel IP Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Method and system for electron radiotherapy

Номер патента: US09711253B2. Автор: Itzhak Orion,Dror Alezra,Eran Nardi,Sion Koren. Владелец: Ben Gurion University of the Negev Research and Development Authority Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Electron beam exposure system and electron beam exposure method

Номер патента: US20120250479A1. Автор: Seiichi Izawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-10-04.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A2. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered System, Llc. Дата публикации: 2010-09-16.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US20110062351A1. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A8. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered Systems, Llc. Дата публикации: 2010-11-04.

Methods, systems, and articles of manufacture for enhancing timing analyses with reduced timing libraries for electronic designs

Номер патента: US09710593B1. Автор: Igor Keller,Xiaojun Sun,Mikhail Chetin. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Methods and apparatuses for electron beam testing electrical connections of a substrate

Номер патента: WO2023193889A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-10-12.

Apparatus for electron beam irradiation of objects

Номер патента: US4492873A. Автор: Stanislav P. Dmitriev,Andrei S. Ivanov,Mikhail P. Sviniin,Mikhail T. Fedotov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-01-08.

System to decode instructions indicating the addresses of control codes and providing patterns to direct an electron beam exposure apparatus

Номер патента: US5500930A. Автор: Shunsuke Fueki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1996-03-19.

Control system for electron beam magnetometer sensor

Номер патента: US3657643A. Автор: Clarence Williams,James F Nicholson. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1972-04-18.

Active microwave cavity for electron paramagnetic resonance (EPR) apparatus

Номер патента: US4674513A. Автор: Louis J. Jasper, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1987-06-23.

Electron beam system

Номер патента: CA2963246A1. Автор: Rily Carl Grunwald,John Charles Drenter. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2016-04-07.

Method for eliminating artifacts in scanning electron beam computed tomographic images due to cone beam geometry

Номер патента: US6130929A. Автор: Partha Saha. Владелец: Imatron Inc. Дата публикации: 2000-10-10.

Additive layer manufacturing apparatus with process monitoring facility

Номер патента: WO2018134555A1. Автор: William Thomas RICHARDSON. Владелец: Reliance Precision Limited. Дата публикации: 2018-07-26.

Method and apparatus for electron curing on a cooled drum

Номер патента: CA1256397A. Автор: Edwin P. Tripp Iii. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 1989-06-27.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US8227776B2. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Method for rapid assessment of results of electron-beam thermal action on objects in a vacuum chamber

Номер патента: RU2702537C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2019-10-08.

Real time monitoring of electron beam radiation dose

Номер патента: EP1206714A1. Автор: John Masefield,Sergey Alexandrovich Korenev,Jerry Kriebel,Stephen Scott Johnson. Владелец: Steris Inc. Дата публикации: 2002-05-22.

Method and device for treating poultry eggs using electron beams to sterilize the calcareous shell

Номер патента: CA3028861C. Автор: Björn Fischer,Sven Meißner. Владелец: Skan Stein Ag. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of processing signals in scanning devices with a highly focused electron beam

Номер патента: RU2713090C1. Автор: Кирилл Николаевич Смирнов,Дмитрий Олегович Новиков,Алексей Владимирович Бородин,Вячеслав Васильевич Казьмирук,Татьяна Николаевна Савицкая,Илья Геннадьевич Курганов,Александр Владимирович Веретенников,Максим Николаевич Кузьмин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Экспериментальный завод научного приборостроения со Специальным конструкторским бюро Российской академии наук. Дата публикации: 2020-02-03.

Apparatus for electron curing of resin coated webs

Номер патента: CA1171383A. Автор: Alton K. Miller. Владелец: Kennecott Corp. Дата публикации: 1984-07-24.

Internal surface electron beam-irradiating device

Номер патента: US20190015535A1. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shape object

Номер патента: US20060138352A1. Автор: Kazushi Tanaka. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-06-29.

On-line measurement of absorbed electron beam dosage in irradiated product

Номер патента: WO2002061464A1. Автор: Sergey A. Korenev. Владелец: STERIS INC.. Дата публикации: 2002-08-08.

Ultra-high density storage device with electron beam steering

Номер патента: US20020196725A1. Автор: Daniel Marshall. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2002-12-26.

Electron beam sterilization apparatus

Номер патента: US20170239379A1. Автор: Shinichi Takeda,Kazuaki Sasaki,Takayasu Yokobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-08-24.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20060098550A1. Автор: Yukio Kaneko,Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama,Takeshi Umega. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-11.

Electron beam addressed liquid crystal light valve with input sheet conductor

Номер патента: WO1988006746A1. Автор: Jan Grinberg,Philip G. Reif,Murray S. Welkowsky,Arno G. Ledebuhr,William P. Bleha,Nubuo J. Koda. Владелец: Hughes Aircraft Company. Дата публикации: 1988-09-07.

Systems and methods for controlling electron beam in radiotherapy

Номер патента: EP4090421A1. Автор: Peng Cheng,CHENG Ni,PENG Wang,Shoubo HE,Feichao FU. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Method for testing through-silicon vias at wafer sort using electron beam deflection

Номер патента: US09903910B2. Автор: Brian D. Erickson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for testing through-silicon vias at wafer sort using electron beam deflection

Номер патента: US09529041B2. Автор: Brian D. Erickson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-27.

Method of operating an electronic device equipped with a security system and a security system for electronic devices

Номер патента: RU2740780C1. Автор: Леонид Владимирович Алексеев,Вадим Павлович Цывьян. Владелец: Фьюче Ресорсес Кэпитал Ллп. Дата публикации: 2021-01-21.

Immersion cooling system for electronic devices

Номер патента: RU2643173C1. Автор: Александр Михайлович Федоров,Илья Израилевич Левин,Дмитрий Леонидович Удовенко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НИЦ супер-ЭВМ и нейрокомпьютеров". Дата публикации: 2018-01-31.

System controller for electronic ophthalmic lens with variable optical properties

Номер патента: RU2605796C2. Автор: Адам ТОНЕР,Рэндалл Брэкстон ПЬЮ,Скотт Роберт ХАМФРИЗ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2016-12-27.

Electron beam addressable memory system

Номер патента: US3774116A. Автор: F Marlowe,C Wine. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1973-11-20.

System and method for monitoring and controlling build quality during electron beam manufacturing

Номер патента: WO2020036630A3. Автор: John Scott Price,Vance Scott Robinson,Vincent Scott Smentkowski,Vladimir Anatolievich Lobastov. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2020-04-23.

Card sheet with electron-beam curable polymers as breakable layers in pre-cut substrates

Номер патента: EP1708874A4. Автор: Wayne L Bilodeau. Владелец: Avery Dennison Corp. Дата публикации: 2008-07-09.

Electron beam sterilization device

Номер патента: EP3974001A1. Автор: Ichiro Sakai,Ryuta Tanaka,Hiroki Yamada. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Method of writing a servo pattern on a magnetic recording medium with an electron beam

Номер патента: EP1420399A3. Автор: Kazunori Fuji Photo Film Co. Ltd. Komatsu,Toshihiro Fuji Photo Film Co. Ltd. Usa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US09601224B2. Автор: Ichiro Sakai,Takayasu Yokobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method of electron beam transport in an X-ray scanner

Номер патента: US09442213B2. Автор: Joseph Bendahan,James Kevin Jones,Deepa Angal-Kalinin,Kiril Borisov Marinov. Владелец: Rapiscan Systems Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Diagnostic technique for pulsed high-current relativistic electron beam in linear induction accelerator

Номер патента: RU2601772C1. Автор: Анатолий Владимирович Родигин,Виктор Павлович Грицына,Олег Владимирович Зверев,Борис Ильич Модель. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"). Дата публикации: 2016-11-10.

Method for electronic online trading on electronic trading platform and automated online system for its implementation

Номер патента: RU2730408C2. Автор: Андрей Александрович ТУНИКОВ. Владелец: Андрей Александрович ТУНИКОВ. Дата публикации: 2020-08-21.

Accessory for electronic cigarette

Номер патента: RU2651475C2. Автор: Кеннет Х. ШЕЙФЕР. Владелец: Олтриа Клайент Сервисиз Ллк. Дата публикации: 2018-04-19.

Generation of information for electronic device calendar application

Номер патента: RU2392663C2. Автор: Киммо ЭКЛУНД. Владелец: Нокиа Корпорейшн. Дата публикации: 2010-06-20.

Adapter for electronic devices

Номер патента: RU2577248C1. Автор: Джеффри Дж. ТЕРЛИЦЦИ,Дэниел Дж. ФРИТЧМАН,Скотт КРЮГЕР,Терри ТИКАЛЬСКИ,Дебра А СИЛЛМАН,Тони Чи Ванг НГ. Владелец: ЭППЛ ИНК.. Дата публикации: 2016-03-10.

Method for continuous monitoring of the thickness of ceramics sprayed onto the blades in an electron beam vacuum installation

Номер патента: RU2765136C1. Автор: Николай Васильевич Нестеров,Владимир Геннадьевич Опокин,Ринат Галимчанович Равилов. Владелец: Публичное акционерное общество "ОДК-Уфимское моторостроительное производственное объединение" (ПАО "ОДК-УМПО"). Дата публикации: 2022-01-25.

Method and system for electronic control of payments

Номер патента: RU2291491C2. Автор: Бинх Т. НГУЙЕН,Крейг А. ПОЛСЕН,Майкл Т. Б-ДЖЕНСЕН. Владелец: Ай Джи Ти. Дата публикации: 2007-01-10.

Additive layer manufacturing apparatus with process monitoring facility

Номер патента: EP3571540A1. Автор: William Thomas RICHARDSON. Владелец: Reliance Precision Ltd. Дата публикации: 2019-11-27.

Device and method for electronic document viewing

Номер патента: WO2013190339A1. Автор: Damir NAZAREVlĆ. Владелец: Nazarevlc Damir. Дата публикации: 2013-12-27.

Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master and pinhole mechanism

Номер патента: US20050058054A1. Автор: Eiichi Ito,Shinya Abe,Shuji Sato,Morio Tomiyama,Masahiko Tsukuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-17.

Systems and methods for generating and managing dynamic customized electronic tokens for electronic device interaction

Номер патента: US20230298006A1. Автор: Thomas S. Poole,Matthew DE GANON,Paul Y. Moreton. Владелец: Capital One Services LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and apparatus for correcting multipole aberrations of an electron beam in an ebt scanner

Номер патента: US20030230731A1. Автор: Roy Rand,Khem Garewal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-18.

Electron beam apparatus for work function measurements

Номер патента: US20080035845A1. Автор: Alexei Ermakov,Barbara Hinch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-14.

Enhanced electron beam (e-beam) apparatus and methodology with nano-scale e-beam probe tips for fault isolation in integrated circuits and other structures

Номер патента: US20240219460A1. Автор: Yunfei WANG,Shuai ZHAO,May Ling Oh,Xianghong Tong,Martin Von Haartman,Hyuk Ju Ryu,Kimberlee CELIO,Prasoon Joshi,Jennifer Huening,Joshua KEVEK,Mitchell SENGER,Tristan DEBORDE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US4755686A. Автор: Satoshi Miyazaki,Hironori Muraki,Teruo Araki. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1988-07-05.

Electronic voter card and method for electronic voting

Номер патента: US09418498B2. Автор: Rodney L. Griggs. Владелец: Vecsys LLC. Дата публикации: 2016-08-16.

Lens driver for electronic ophthalmic lens with measured optical properties

Номер патента: RU2577461C2. Автор: Адам ТОНЕР,Дэниел Б. ОТТС,Рэндалл Брэкстон ПЬЮ,Уилльям Честер НИЛИ,Скотт Роберт ХАМФРИЗ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2016-03-20.

Method for outputting audio information about the technological process of electron-beam action

Номер патента: RU2727339C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2020-07-21.

Flow meter having unit of mounting console for electronic devices

Номер патента: RU2712963C2. Автор: Рандип Сингх ГРЕВАЛ,Керри Дуэйн ГРОШЕЛ,Ник БОР,Хорхе ЭНСИСО. Владелец: ДЭНИЕЛ МЕЖЕМЕНТ энд КОНТРОЛ, ИНК.. Дата публикации: 2020-02-03.

Electron beam addressed liquid crystal light valve

Номер патента: CA1301971C. Автор: Jan Grinberg,William P. Bleha, Jr.,Murray S. Welkowsky,Nobuo J. Koda,Arno G. Ledebuhr,Phillip G. Reif. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-05-26.

Electron beam addressed liquid crystal light valve with input sheet conductor

Номер патента: CA1298646C. Автор: Jan Grinberg,Philip G. Reif,Murray S. Welkowsky,Arno G. Ledebuhr,William P. Bleha,Nubuo J. Koda. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-04-07.

Intention-based user interface control for electronic devices

Номер патента: US20240211053A1. Автор: James T. Turner,Peter L. Hajas. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for measuring fusion width of t-shaped electron beam weld

Номер патента: EP4400807A1. Автор: Yonghong Wang,Peng Zhang,Jianchao Wang,Dongfang Wang,Can Zhao,Zhaoyi PAN,Shaobin CHEN. Владелец: Xi'an Space Engine Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Automated generation of content-limited previews for electronic media in a sharing platform

Номер патента: WO2017053601A1. Автор: Daniel William LANGSTON,David William DUNHAM,Joel David DUNHAM. Владелец: Bookgrabbr, Inc.. Дата публикации: 2017-03-30.

System, method, and device for electronically providing paving information

Номер патента: EP4158566A1. Автор: John Marsolek,Gautham Subramanian,Jacob McALPINE. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2023-04-05.

System, method, and device for electronically providing paving information

Номер патента: AU2021278104A1. Автор: John Marsolek,Gautham Subramanian,Jacob McALPINE. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2023-01-19.

System, method, and device for electronically providing paving information

Номер патента: CA3180377A1. Автор: John Marsolek,Gautham Subramanian,Jacob McALPINE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-02.

System, method, and device for electronically providing paving information

Номер патента: WO2021242517A1. Автор: John Marsolek,Gautham Subramanian,Jacob McALPINE. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2021-12-02.

Electron-beam addressed active-matrix spatial light modulator

Номер патента: WO2005091749A3. Автор: Duane A Haven,Marcial Vidal,David K Mutchler. Владелец: David K Mutchler. Дата публикации: 2009-03-26.

Retail engine for electronic smoking device

Номер патента: EP3051966A1. Автор: Ramon Alarcon,Christopher Kepner. Владелец: Fontem Holdings 4 BV. Дата публикации: 2016-08-10.

Textile covering for electronic device

Номер патента: EP3931673A1. Автор: Anatoly Churikov,Lincoln Matthew Ghioni,Paul Ryan SANDOVAL,Kelly Marie BOGAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2022-01-05.

Generating, using a machine learning model, request agnostic interaction scores for electronic communications, and utilization of same

Номер патента: US20190130304A1. Автор: Harish CHANDRAN,Hariharan Chandrasekaran,Archit Gupta. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2019-05-02.

Non-contact electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20190355418A1. Автор: Zengtao T. Liu,Hongmei Wang,Amitava Majumdar,Shawn D. Lyonsmith,Ervin T. Hill,Rajesh Kamana,Marlon W. Hug. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Magnetic semiconductor memory and the reading method using spin-polarized electron beam

Номер патента: US6912148B2. Автор: Eric C. Hannah,Michael A. Brown. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-06-28.

Intention-based user interface control for electronic devices

Номер патента: EP4416579A1. Автор: James T. Turner,Peter L. Hajas. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Generating, using a machine learning model, request agnostic interaction scores for electronic communications, and utilization of same

Номер патента: WO2019084143A1. Автор: Harish CHANDRAN,Hariharan Chandrasekaran,Archit Gupta. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2019-05-02.

Generating, using a machine learning model, request agnostic interaction scores for electronic communications, and utilization of same

Номер патента: EP3701394A1. Автор: Harish CHANDRAN,Hariharan Chandrasekaran,Archit Gupta. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2020-09-02.

System and process for electronic calendar payments

Номер патента: US12079850B2. Автор: Brian Chan,Kashif ARSHAD,Peter Hing-Cheong POON. Владелец: Bank of Montreal. Дата публикации: 2024-09-03.

Display methods, techniques, and systems for electronic levels

Номер патента: US20240288269A1. Автор: Jacob Thomas,David Chin,Owen Barnes,David Dorrough,Karen Garcia,Daniel Toborg,Jay Paxman,Natalie Boehm. Владелец: Franklin Sensors Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Display methods, techniques, and systems for electronic levels

Номер патента: WO2024178218A1. Автор: Jacob Thomas,David Chin,Owen Barnes,David Dorrough,Karen Garcia,Daniel Toborg,Jay Paxman,Natalie Boehm. Владелец: FRANKLIN SENSORS INC.. Дата публикации: 2024-08-29.

Fast 3D radiography with multiple pulsed X-ray sources by deflecting tube electron beam using electro-magnetic field

Номер патента: US12102469B2. Автор: Jianqiang Liu,Chwen-Yuan Ku,Manat Maolinbay,Linbo Yang. Владелец: Aixscan Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

System and method for electronic delivery of media

Номер патента: EP1801713A1. Автор: Are Stenberg,Nikolai Petchenikov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-27.

Apparatuses, systems and methods for electronic data logging

Номер патента: EP3951672A1. Автор: Yusuf Ozturk,Maged Riad,Ravi Kodavarti. Владелец: RM Acquisition LLC. Дата публикации: 2022-02-09.

Attestation for electronic signatures

Номер патента: US09984242B2. Автор: Benjamin David Follis. Владелец: Adobe Systems Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Writing device for electronic paper and electronic paper tag system

Номер патента: US09886109B2. Автор: Shiming Shi,Yanliu Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Magnified screen cover protector for electronic devices

Номер патента: US09772498B2. Автор: Dana Conrad Kowasic. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-26.

Magnetic resonance imaging apparatus with segmented data acquisition

Номер патента: US09739858B2. Автор: Yuji Iwadate. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-08-22.

Automatically constructing training sets for electronic sentiment analysis

Номер патента: US09704097B2. Автор: Saratendu Sethi,Kalpesh Padia,Ravinder Devarajan,David James Caira,Jordan Riley Benson,James Allen Cox,Christopher G. Healey,Gowtham Dinakaran. Владелец: SAS Institute Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Methods, systems, and computer program product for implementing three-dimensional operations for electronic designs

Номер патента: US09672308B1. Автор: Chayan Majumder. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Methods, systems, and articles of manufacture for implementing scalable statistical library characterization for electronic designs

Номер патента: US09594858B1. Автор: Ling Wang,Hing Key Kenneth Tseng,Shuilong Chen. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Method for acoustic monitoring of electron-beam surface alloying in vacuum chambers

Номер патента: RU2727338C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2020-07-21.

Pressure regulator operation method with reduced power consumption and system for performing the same

Номер патента: RU2292577C2. Автор: Ричард Дж. ВАНДЕРАХ,Пол Р. АДАМС,Дэвид Э. ВУЛЛАМС,Джон Б. МИЛЛИКЕН. Владелец: Фишер Контролз Интернэшнл Ллс. Дата публикации: 2007-01-27.

Electron Beam Apparatus

Номер патента: GB1195271A. Автор: Andrew David Garry Stewart,Alistar John Campbell. Владелец: Cambridge Instruments Ltd. Дата публикации: 1970-06-17.

Method for electron beam surfacing with vertical filler wire supply

Номер патента: RU2753069C1. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Степан Владимирович Варушкин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-08-11.

Method of electron-beam welding and welded joints made by this method

Номер патента: RU2346795C2. Автор: Джон Томас МЕРФИ. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2009-02-20.

Method for electron-beam welding of closed spherical and cylindrical vessels and protective device for its implementation

Номер патента: RU2733964C1. Автор: Сергей Викторович Ковалев,Лариса Павловна Шуваева,Сергей Степанович Юхневич,Евгений Владимирович Паничев,Геннадий Иванович Бабичев. Владелец: Акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики" (АО КБХА). Дата публикации: 2020-10-08.

Method for electron-beam surfacing

Номер патента: RU2205094C2. Автор: В.А. Клименов,В.Е. Панин,С.И. Белюк,В.П. Самарцев,Н.К. Гальченко,В.Г. Дураков,Г.А. Прибытков. Владелец: Ассоциация учебно-научных организаций "Российский Материаловедческий Центр". Дата публикации: 2003-05-27.

Methods for electron-beam induced deposition of material inside energetic-beam microscopes

Номер патента: WO2010033420A2. Автор: Thomas Moore,Lyudmila Zaykova-Feldman,Rocky Kruger,Herschel Marchman. Владелец: Omniprobe, Inc.. Дата публикации: 2010-03-25.

Special tooling and method for electron beam welding of cavity body and beam tube of superconducting niobium cavity

Номер патента: US20240227059A9. Автор: Wei Wen,Jia Tao,Zhihong Liu,Jianguo Ma,Nian Liu,Liming Peng,Zhenfei Liu,Jiefeng Wu. Владелец: Huainan New Energy Research Center. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for electron-beam additive production of workpieces

Номер патента: RU2725537C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Егор Валериевич Терентьев,Александр Викторович Гуденко. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2020-07-02.

Fusing one or more cross sections by electron beam powder bed fusion

Номер патента: EP4217135A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Jan Drendel,Ruslan Logvinov. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2023-08-02.

Fusing one or more cross sections by electron beam powder bed fusion

Номер патента: WO2022117326A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Jan Drendel,Ruslan Logvinov. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2022-06-09.

Electron-beam welded joint, steel for electron-beam welding, and method of manufacturing the same

Номер патента: US20130189536A1. Автор: Tadashi Ishikawa,Akihiko Kojima,Manabu Hoshino,Ryuichi Honma,Ryuji Uemori. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Method for electron-beam butt welding

Номер патента: RU2701262C1. Автор: Татьяна Алексеевна Ващенко. Владелец: Ефремов Никита Андреевич. Дата публикации: 2019-09-25.

Method for electron-beam application of hardening coating on articles made from polymer materials

Номер патента: RU2709069C1. Автор: Анна Павловна Андрейчик. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники". Дата публикации: 2019-12-13.

Method of electron-beam welding of thin-wall tubes made of molybdenum alloys

Номер патента: RU2664746C1. Автор: Андрей Равильевич Абитов,Валерий Иванович Выбыванец,Евгений Геннадиевич Колесников,Аркадий Васильевич Приезжев,Владимир Александрович Толченников. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ"). Дата публикации: 2018-08-22.

Executive clutch mechanism for electronic lock cylinders, identifiable by low energy consumption, and the method of operation of the specific mechanism

Номер патента: RU2648630C1. Автор: Карлос ФЕРРЕЙРА,Андер МУНЬОС. Владелец: Сальто Системс С.Л.. Дата публикации: 2018-03-26.

Method of electron-beam welding of parts from ferromagnetic materials

Номер патента: RU2739931C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Игорь Николаевич Старков. Владелец: Акционерное общество "Пермский завод "Машиностроитель". Дата публикации: 2020-12-29.

Method for electron beam welding (dot matrix)

Номер патента: CA1179741A. Автор: Albert M. Sciaky,William J. Farrell,Julius L. Solomon. Владелец: Sciaky Brothers Inc. Дата публикации: 1984-12-18.

Electron accelerator unit for electron beam therapy

Номер патента: US4638814A. Автор: Keith A. Spanswick. Владелец: Siemens Medical Laboratories Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Crucible for electron-beam evaporator

Номер патента: US20170044658A1. Автор: Ki-Hwan Kim,Ara Cho,Jae-Ho Yun,Seoung-Kyu Ahn,Jun-Sik Cho,SeJin Ahn,Jihye Gwak,Jin-Su Yoo,Joo-Hyung Park,Young-Joo Eo,Kyung Hoon YOON,Kee Shik Shin. Владелец: Korea Institute of Energy Research KIER. Дата публикации: 2017-02-16.

Ink jet ink for electron beam curing, ink set, and image recording method

Номер патента: US20240327667A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Electron beam-curing inkjet ink, ink set, and image recording method

Номер патента: EP4455232A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-30.

Beam/seam alignment control for electron beam welding

Номер патента: US4183055A. Автор: James H. Burkhardt, Jr.,J. James Henry,Clyde M. Davenport. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1980-01-08.

Electron beam machining using rotating and shaped beam power distribution

Номер патента: US5534677A. Автор: Dennis W. O'Brien,John W. Elmer. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1996-07-09.

Tungsten eye shields for electron beam treatment

Номер патента: US5487394A. Автор: Almon S. Shiu,Samuel S. Tung,Robert J. Gastorf. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 1996-01-30.

Method and apparatus for electron beam welding

Номер патента: US4163890A. Автор: Hiroyoshi Nagai,Kiyohide Terai. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 1979-08-07.

Special tooling and method for electron beam welding of cavity body and beam tube of superconducting niobium cavity

Номер патента: US20240131612A1. Автор: Wei Wen,Jia Tao,Zhihong Liu,Jianguo Ma,Nian Liu,Liming Peng,Zhenfei Liu,Jiefeng Wu. Владелец: Huainan New Energy Research Center. Дата публикации: 2024-04-25.

Electron beam curing inkjet ink, ink set, and image recording method

Номер патента: EP4316850A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Ink jet ink for electron beam curing, ink set, and image recording method

Номер патента: US20240018374A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Method of producing welded seam by electron-beam welding of parts from titanium alloys

Номер патента: RU2737187C1. Автор: Валерий Викторович Соснин,Александр Викторович Макаров,Марина Львовна Андреева,Алексей Владимирович Шиманов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"). Дата публикации: 2020-11-25.

Radiotherapy system provided with a program for calculation of the intensity of an electron beam

Номер патента: RU2655070C2. Автор: Лидия СТРИГАРИ,Марчелло БЕНАССИ,Сандро КАРПИНО,Марко Д'АНДРЕА,Антонелла СОРЬЯНИ,Джузеппе ЯККАРИНО. Владелец: Иститути Физьотерапичи Оспитальери. Дата публикации: 2018-05-23.

Method of forming coating on metal with electron-beam surfacing of ceramic powder

Номер патента: RU2735688C1. Автор: Илья Юрьевич Бакеев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники». Дата публикации: 2020-11-05.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2668648C2. Автор: Владимир Романович Петренко,Роман Юрьевич Киреев,Сергей Викторович Шахов,Владимир Петрович Чумарный. Владелец: Публичное Акционерное Общество "Воронежское акционерное самолетостроительное общество". Дата публикации: 2018-10-02.

Method of electron-beam welding of dissimilar ferro- and paramagnetic materials

Номер патента: RU2635445C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2017-11-13.

Method of electron-beam welding of parts

Номер патента: RU2681067C1. Автор: Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Евгений Владимирович Паничев,Андрей Александрович Татаринцев. Владелец: Акционерное общество "Государственный космический научно-производственный центр имени М.В. Хруничева" (АО "ГКНПЦ им. М.В. Хруничева"). Дата публикации: 2019-03-01.

Device for sterilization of flexible packages with electron beam irradiation and a method of sterilizing flexible packages

Номер патента: RU2737900C9. Автор: БОНОРА Хорди БОЙРА,КОЙТ Даниэль ФЛЕТА,САЛЬЕТТИ Карлос РОУРА. Владелец: Грифольс Энджиниринг, С.А.. Дата публикации: 2021-01-25.

Method of electron-beam melting lateral surface ingots of heat-resistant alloys

Номер патента: RU2673702C1. Автор: Павел Михайлович Явтушенко,Анатолий Данилович Рябцев,Максим Викторович Клочай,Алексей Иванович Амелин. Владелец: Публичное акционерное общество "Русполимет". Дата публикации: 2018-11-29.

Backer for electron beam hole drilling

Номер патента: US4239954A. Автор: Curtiss G. Howard,Lester W. Jordan,Chester E. Yaworsky. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1980-12-16.

Precursors for electron beam-induced deposition of gold and silver

Номер патента: WO2016033148A1. Автор: Lisa Mcelwee-White,Jakub PEDZIWIATR,D. Howard FAIRBROTHER. Владелец: UNIVERSITY OF FLORIDA RESEARCH FOUNDATION, INC.. Дата публикации: 2016-03-03.

Electronic radiotherapy apparatus and electron beam transmission structure applied to apparatus, and beam needle

Номер патента: EP3878509A1. Автор: PING Wang,WEI Gai. Владелец: Shenzhen Mingjie Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-15.

Use of beam deflection to control an electron beam wire deposition process

Номер патента: WO2012082091A1. Автор: Karen M. Taminger,Robert A. Hafley,William H. Hofmeister. Владелец: United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration. Дата публикации: 2012-06-21.

Target, meant for evaporation under effect of electron beam, method of making said target, heat barrier and coating made from said target and mechanical component with such coating

Номер патента: RU2370471C2. Автор: Андре МАЛИ,Бертран СЭН-РАМОН,Кристоф ШАПЮ,Изабель ПОРТ,Сириль ДЕЛАЖ. Владелец: Снекма Сервис. Дата публикации: 2009-10-20.

Method of electron-beam welding of annular connection of thin-wall shell with cylindrical cover, made of high-strength aluminum alloys

Номер патента: RU2708724C1. Автор: Владимир Афанасьевич Архипов,Владислав Христианович Даммер,Александр Борисович Ворожцов,Василий Владимирович Соловьев,Марина Григорьевна Хмелева. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (НИ ТГУ). Дата публикации: 2019-12-11.

Electron beam sterilised medical device with bioactive coating

Номер патента: RU2591829C2. Автор: Джонатон З. ЧЖАО,Роберт ФАЛОТИКО,Теодор Л. ПАРКЕР,Тай Минх НГУЙЕН,Чэнсюэ ЛИ. Владелец: Кордис Корпорейшн. Дата публикации: 2016-07-20.

Reducing molecular weight of polysaccharides by electron beam treatment

Номер патента: RU2323943C2. Автор: Кристиан ПРИУ,Лео Джаоцин ЛЮ,Кристиан ПРИУ (FR),Лео Джаоцин ЛЮ (US). Владелец: Родиа, Инк.. Дата публикации: 2008-05-10.

Guar graph-interpolymerization and other polysaccharides by electron-beam machining

Номер патента: RU2325405C2. Автор: Кристиан ПРИУ,Лео Джаоцин ЛЮ. Владелец: Родиа, Инк.. Дата публикации: 2008-05-27.

Apparatus and method for electronic exclusion and confinement of animals relative to a selected area

Номер патента: US20010032598A1. Автор: James Barry,John Titus,Denis Larson. Владелец: Joint Techno Concepts International Inc. Дата публикации: 2001-10-25.

Apparatus and method for electronic exclusion and confinement of animals relative to a selected area

Номер патента: WO1998034473A2. Автор: John Titus,James F. Jenne,Jim Barry,Max Hendrickson. Владелец: Joint Techno Concepts International, Inc.. Дата публикации: 1998-08-13.

Cigarette case for electronic cigarette

Номер патента: RU2590876C2. Автор: Киуминг ЛИУ. Владелец: Кимри Хай-Тек Инк.. Дата публикации: 2016-07-10.

Method and device of electron-beam or plasma smelting of metal from crystalliser to crystalliser

Номер патента: RU2489506C2. Автор: Анатолий Евгеньевич Волков. Владелец: Анатолий Евгеньевич Волков. Дата публикации: 2013-08-10.

Electron beam irradiation process and polymerizable stain applied to wood planking

Номер патента: US12043756B2. Автор: Paul Smith,Scott Fishel,Connor Fishel. Владелец: BOND DISTRIBUTING Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for generating sterile zeugodacus scutellata males by using electron beam irradiation and method for controlling zeugodacus scutellata by using same

Номер патента: US20220400659A1. Автор: Yong Gyun Kim. Владелец: Andong National University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2022-12-22.

Electron beam melting method for metallic material

Номер патента: US20030084751A1. Автор: Norio Yamamoto,Katsuhiko Sakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-08.

Electron beam irradiated osteoinductive bone implant

Номер патента: US20240277898A1. Автор: Erick Vasquez,Daniel A. Shimko,Kelly W. Schlachter. Владелец: WARSAW ORTHOPEDIC INC. Дата публикации: 2024-08-22.

Electron beam welding

Номер патента: US20220402067A1. Автор: Stanley G. READYHOOF. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2022-12-22.

Method of electron-beam welding of titanium alloy ring compounds

Номер патента: RU2644491C2. Автор: Александр Владимирович Гребенщиков,Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Михаил Вячеславович Ерёмин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный космический научно-производственный центр имени М.В. Хруничева" (ФГУП "ГКНПЦ им. М.В. Хруничева"). Дата публикации: 2018-02-12.

Method of layer electron-beam sintering of products from ceramic powder

Номер патента: RU2627796C2. Автор: Александр Сергеевич Климов,Илья Юрьевич Бакеев,Юрий Александрович Бурачевский,Виктор Алексеевич Бурдовицин,Алексей Александрович Зенин,Ефим Михайлович Окс. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2017-08-11.

Vehicle with reduced noise emission

Номер патента: RU2603631C2. Автор: Штеффен ТРЕБСТ. Владелец: Ман Трак Унд Бас Аг. Дата публикации: 2016-11-27.

Method of electron-beam welding glass tube parts

Номер патента: RU2635592C2. Автор: Александр Сергеевич Климов,Виктор Алексеевич Бурдовицин,Алексей Александрович Зенин,Ефим Михайлович Окс. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2017-11-14.

Liquid composition for electronic device for hovering

Номер патента: RU2706839C2. Автор: Сан Ли,Герд Кобал,Барри С. Смит. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2019-11-21.

Dissimilar materials bonding with electronic beam technique

Номер патента: RU2635123C1. Автор: Игорь Святославович Гареев,Дмитрий Николаевич Лежнев,Сергей Аркадьевич Собко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина". Дата публикации: 2017-11-09.

Chemical reactions with reduced moisture content

Номер патента: RU2375298C2. Автор: Эндрю ХИЛЛ,Джон ХИЛЛ. Владелец: Атраверда Лимитед. Дата публикации: 2009-12-10.

Control method and device for electronic expansion valve and refrigerating unit

Номер патента: RU2744305C2. Автор: Фэн Ли,Цзин Ван,Хайтао ЯН,Яньтао ГУ,Юн ЧЗАН. Владелец: Чунцин Мидеа Дженерал Рефриджерейшн Эквипмент Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-03-05.

Fire resistant cover for electronic device

Номер патента: RU2683980C1. Автор: Тофик Насир оглы Насиров. Владелец: Тофик Насир оглы Насиров. Дата публикации: 2019-04-03.

Low-consumption clutch actuating mechanism for electronic cylinders in locks and method for operating the same

Номер патента: CA2958710C. Автор: Carlos Ferreira,Ander Munoz. Владелец: Salto Systems SL. Дата публикации: 2023-09-19.

Pressure-sensitive adhesive sheet for electronic devices

Номер патента: US20200095474A1. Автор: Shigeki Watanabe,Masataka Nishiwaki,Kazuki Minoura,Masahito Niwa. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2020-03-26.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor

Номер патента: WO2001011103A3. Автор: Robert William Bruce,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans Sr. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2001-08-16.

Multiple wire electron beam melting

Номер патента: EP2961557A1. Автор: Benjamin Zimmerman. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-06.

Device comprising low outgassing photo or electron beam cured rubbery polymer material

Номер патента: US20050152595A1. Автор: Robert Sabia,Paul Shustack,David Sauer,Kelsee Coykendall,Paul Dewa,Kamal Soni. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2005-07-14.

Atmosphere purification reactor using electron beam and atmosphere purification apparatus including the same

Номер патента: US12036504B2. Автор: Byung Nam Kim,Myun Joo Lee,Youn Mook Lim,Kyu Ha Jang,Byun Young CHUNG. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2024-07-16.

Surface modification method of fluoropolymers by electron beam irradiation and the fabrication of superhydrophobic surfaces using the same

Номер патента: US20120056108A1. Автор: Young-Chang Nho,Chan-Hee Jung,Jae-Hak Choi,In-Tae Hwang,Sung Oh Cho,Eun Je Lee. Владелец: Korea Hydro and Nuclear Power Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-08.

Hydrogel preparation method using crosslinking structure control by electron beam irradiation and natural polysaccharide hydrogel prepared by the same

Номер патента: US20230331936A1. Автор: Ji-Hyun Park,Yeon-hee Kim,Tae-Sung HA,Pyeong-Hwan JUNG,Young-Ah Kim,Yu-Ji KANG. Владелец: Biocos Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Catalyst-Free Removal of NOx and Other Contaminants From Combustion Exhausts Using Intense Pulsed Electron Beams

Номер патента: US20170087509A1. Автор: Matthew C. Myers,John D. Sethian,Frank Hegeler,Matthew F. Wolford. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-03-30.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: WO2005013288A3. Автор: Marshall R Cleland,Richard Galloway,David R Kerluke,Victor R Balmer. Владелец: Victor R Balmer. Дата публикации: 2005-05-12.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: EP1651680A2. Автор: Richard Galloway,Marshall R. Cleland,David R. Kerluke,Victor R. Balmer. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2006-05-03.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: WO2005013288A2. Автор: Richard Galloway,Marshall R. Cleland,David R. Kerluke,Victor R. Balmer. Владелец: Ion Beam Applications, S.A.. Дата публикации: 2005-02-10.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: EP1651680A4. Автор: Marshall R Cleland,Richard Galloway,David R Kerluke,Victor R Balmer. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2006-11-02.

Electron beam-curable printing ink composition and electron beam-curable overprint varnish composition

Номер патента: US12116489B2. Автор: Keishiro Hishinuma,Naoki Omi,Aika NISHIMOTO. Владелец: Sakata Inx Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Electron beam patterning system in additive manufacturing

Номер патента: US12115720B2. Автор: Heiner Fees,Eugene Berdichevsky,James A. DEMUTH,Francis L. Leard,Erik Toomre,Kourosh Kamshad. Владелец: Seurat Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: EP4142976A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: CSG Electric Power Research Institute. Дата публикации: 2023-03-08.

Joining Method to Perform Defect-Free, Electron Beam Welds Using a Slope-Out Technique

Номер патента: US20240342822A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-17.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: CA3181575A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: Electric Power Research Institute Inc. Дата публикации: 2021-11-04.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: WO2021222259A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: ELECTRIC POWER RESEARCH INSTITUTE, INC.. Дата публикации: 2021-11-04.

Device and method for sterlizing packaging containers by electron beam

Номер патента: US09969512B2. Автор: Mats ÅKESSON,Jonas Dickner,Hakan Mellbin,roger LINDGREN,Roy EIDEBAKKEN. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2018-05-15.

Titanium slab for hot rolling produced by electron-beam melting furnace, process for production thereof, and process for rolling titanium slab for hot rolling

Номер патента: US09962760B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Takashi Oda,Takeshi Shiraki,Norio Yamamoto,Hisamune Tanaka,Yoshihiro Fujii,Yoshimasa Miyazaki. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

System and method for converting gaseous hydrocarbon mixtures into highly-branched hydrocarbons using electron beam combined with electron beam-sustained non-thermal plasma discharge

Номер патента: US09908094B2. Автор: Jacob G. Appelbaum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Multiple wire electron beam melting

Номер патента: US09902015B2. Автор: Benjamin J. Zimmerman. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Height control and deposition measurement for the electron beam free form fabrication (EBF3) process

Номер патента: US09764415B2. Автор: Robert A. Hafley,William J. Seufzer. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2017-09-19.

Catalyst-free removal of NOx and other contaminants from combustion exhausts using intense pulsed electron beams

Номер патента: US09757684B2. Автор: Matthew C. Myers,John D. Sethian,Frank Hegeler,Matthew F. Wolford. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-09-12.

Method for production of a dairy product with reduced plasmin activity

Номер патента: RU2703403C2. Автор: Харри КАЛЛИОЙНЕН,Саара ЛЯХТЕВЯНОЯ. Владелец: Валио Лтд. Дата публикации: 2019-10-16.

Method of treating patients with reduced face height and deforming the occlusal plane

Номер патента: RU2701098C1. Автор: Александр Сергеевич Попов,Роман Александрович Фадеев,Константин Александрович Овсянников,Татьяна Александровна Гилина,Абутаир Фарес. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Новгородский государственный университет имени Ярослава Мудрого". Дата публикации: 2019-09-24.

Refrigerating device with receiving slot for electronic module

Номер патента: RU2455594C2. Автор: Кристоф БЕКЕ. Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2012-07-10.

Method of ensuring the viability of functioning of the liquefied natural gas production complex with reduced methane emissions into the atmosphere of the earth named after v. a. abramov

Номер патента: RU2745461C2. Автор: Валентин Алексеевич Абрамов. Владелец: Валентин Алексеевич Абрамов. Дата публикации: 2021-03-25.

Method for predicting the survival of a patient with chronic heart failure with reduced left ventricular ejection fraction

Номер патента: RU2646749C1. Автор: Борис Иванович Смирнов,Лариса Васильевна Прокопова,Мария Юрьевна Ситникова. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Северо-Западный федеральный медицинский исследовательский центр имени В.А. Алмазова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-03-06.

New type cigarette with reduced temperature of tobacco steam and improved taste

Номер патента: RU2698740C1. Автор: Хуачэнь ЛЮ,Икунь ЧЭНЬ,Вэйчан КЭ,Чэнхао ЛО,Сянхао ЛЮ. Владелец: Хубэй Чайна Тобакко Индастри Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-08-29.

Method of manufacture of dry building mixtures with reduced dust formation

Номер патента: RU2655697C1. Автор: Андрей Петрович Пустовгар,Ирина Сергеевна Иванова,Дмитрий Юрьевич Кольчугин,Сергей Владимирович Нефедов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Московский государственный строительный университет" (НИУ МГСУ). Дата публикации: 2018-05-29.

Electric cartridge for electronic cigarette and method for electric cartridge manufacture

Номер патента: RU2709955C2. Автор: Роберто ПОЛЛОНИ,Лука ФЕДЕРИЧИ,Иван ЭУСЕПИ. Владелец: Г.Д С.П.А.. Дата публикации: 2019-12-23.

Method to prepare coffee extract for large cup from capsule with reduced time of outflow

Номер патента: RU2430670C2. Автор: Пауль АЙХЛЕР,Петер КОХ,Сильвия ОРЕССЕР,Эрнест РЭТЦ. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2011-10-10.

Reducer tank, segment for such reducer tank and vehicle with reducer tank

Номер патента: RU2721060C2. Автор: Марко МИШКЕ,Даниэль ТОЙБНЕР,Амир-Реза АФКХАМИ. Владелец: Ман Трак Унд Бас Аг. Дата публикации: 2020-05-15.

Method for preparing medicinal composition for “electronic cigarettes”

Номер патента: RU2735707C1. Автор: Артур Витович Жиурис. Владелец: Артур Витович Жиурис. Дата публикации: 2020-11-06.

Genetic construct based on non-viral vector plasmid including p4na2 gene cdna for reducing manifestations of human body conditions associated with reduced expression of p4na2 gene and/or reducing amount of prolyl 4-hydroxy acid alpha 2 protein, method of producing and use

Номер патента: RU2700649C2. Автор: Наталиа Савелиева,Всеволод Петрович Лехин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Прорывные Инновационные Технологии". Дата публикации: 2019-09-18.

Abramov complex for production of liquefied natural gas (lng) with reduced emission of methane into earth atmosphere

Номер патента: RU2686773C2. Автор: Валентин Алексеевич Абрамов. Владелец: Валентин Алексеевич Абрамов. Дата публикации: 2019-04-30.

Control body for electronic smoking article

Номер патента: RU2685836C2. Автор: Фредерик Филиппе АМПОЛИНИ,Майкл Райан ГЭЛЛОВЭЙ,Стивен Л. ВОРМ,Дэвид Глен КРИСТОФЕРСОН,Рэнди Ли МАКНАЙТ. Владелец: РАИ СТРЕТЕДЖИК ХОЛДИНГС, ИНК.. Дата публикации: 2019-04-23.

Fat-simulating composition, food composition with reduced caloricity comprising thereof, and method for preparing composition alkoxylated polyol esterified with fatty acids

Номер патента: RU2258382C2. Автор: Бернард Чарльз СЕКУЛА. Владелец: Бестфудс. Дата публикации: 2005-08-20.

Method of measuring and stabilizing the diameter of heating point on workpiece in electron beam welding machine and on automatic device for realization thereof

Номер патента: US4158122A. Автор: Nikolai V. Podola,Alexei P. Obolonsky,Evgeny L. Tsokol. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-06-12.

Environmentally safe steel sheet with surface finish for electronic components with excellent solder wettability, whisker-proof properties and exterior stability, and method of sheet production

Номер патента: RU2391445C2. Автор: Кендзи ИМАИ,Реуити ЕСИХАРА,Ясухико МИУРА,Казухиде ХИДАКА. Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2010-06-10.

Adhesive composition for electronic microwave technology

Номер патента: RU2662513C1. Автор: Тамара Николаевна Ершова,Галина Владимировна Смирнова,Дарья Викторовна Ковшова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2018-07-26.

Use of Beam Deflection to Control an Electron Beam Wire Deposition Process

Номер патента: US20100270274A1. Автор: Karen M. Taminger,Robert A. Hafley,William H. Hofmeister. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2010-10-28.

Vehicle windshield defrost apparatus with reduced dashboard space requirements

Номер патента: CA1239173A. Автор: Ronald D. Stouffer. Владелец: Bowles Fluidics Corp. Дата публикации: 1988-07-12.

Niedrigenergetische Elektronenstrahlimpulsbearbeitung (engl:"Low Energy High Current Pulsed Electron Beam"/"LEHCPEB") für biologisch abbaubare Implantat aus Magnesiumlegierungen

Номер патента: DE102014006195A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-11-05.

Integrated apparatus for electronic opening and closing of vehicle door

Номер патента: WO2020036373A1. Автор: Hae Il Jeong. Владелец: Woobo Tech Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-02-20.

Apparatus and method for sterilizing vessel with electron beam

Номер патента: US20130202481A1. Автор: Hideki Nishikawa,Yukihiro Yamamoto,Yukinobu Nishino,Masami Hayashi,Toshiya Kobayashi,Tokuo Nishi,Tomohiko Sugimori,Mitsuomi Narita,Tsunehiko Yokoi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-08.

Wheelchair power apparatus for electronic driving conversion

Номер патента: US20190183698A1. Автор: Joon-Hyung Kim,Seong Hyun PAEK. Владелец: ROBO3 Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-20.

Method for electronically controlling a pneumatic braking system in a vehicle, and electronically controllable pneumatic braking system

Номер патента: US20190248350A1. Автор: Oliver Wulf. Владелец: WABCO Europe BVBA. Дата публикации: 2019-08-15.

Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam

Номер патента: AU7034391A. Автор: Arnold James Kelly. Владелец: Charged Injection Corp. Дата публикации: 1991-06-13.

Electron beam curable inkjet ink composition

Номер патента: EP3423530A1. Автор: Kenji Suzuki. Владелец: INX International Ink Co. Дата публикации: 2019-01-09.

Method for creating a 3d print using organic ice and focused electron beam

Номер патента: WO2024218125A1. Автор: Anpan Han,Affan Kaysa WAAFI,Joachim LYNGHOLM-KJÆRBY. Владелец: Danmarks Tekniske Univresitet. Дата публикации: 2024-10-24.

Molding, production method therefor, part for electronic devices and electronic device

Номер патента: US09556513B2. Автор: Takeshi Kondo,Wataru Iwaya. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Method of electron-beam welding of parts

Номер патента: RU2635637C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Константин Анатольевич Рожков,Сергей Евгеньевич Дударев. Владелец: Акционерное общество "Пермский завод "Машиностроитель". Дата публикации: 2017-11-14.

Method of stimulating motor skills in children with reduced muscle tone

Номер патента: RU2728423C1. Автор: Галина Сергеевна Лупандина-Болотова,Дмитрий Андреевич Игнатов,Андрей Петрович Фисенко,Екатерина Николаевна Стрижко. Владелец: Федеральное государственное автономное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр здоровья детей" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГАУ "НМИЦ здоровья детей Минздрава России). Дата публикации: 2020-07-29.

Medication with reduced bitter taste perception

Номер патента: RU2666531C2. Автор: Якан ЛИН,Джейсон Уильям НЬЮЛОН,Коти СРЕЕКРИШНА,Молли Кристина ФИНДЛИ. Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2018-09-11.

Method of producing semi-smoked sausage from poultry meat with reduced content of table salt

Номер патента: RU2634967C1. Автор: Ольга Михайловна Мышалова,Ирина Сергеевна Патракова,Оксана Яковлевна Алексеевнина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кемеровский технологический институт пищевой промышленности (университет)". Дата публикации: 2017-11-08.

Method for producing gadolinium (iii) chloride with reduced content of uranium and thorium

Номер патента: RU2753711C1. Автор: Михаил Борисович Гришечкин,Игорь Христофорович Аветисов,Роман Игоревич Аветисов,Андрей Владимирович Хомяков,Марина Павловна Зыкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева» (РХТУ им. Д.И. Менделеева). Дата публикации: 2021-08-20.

Curing mixture with reduced sodium content

Номер патента: RU2652831C1. Автор: Анастасия Артуровна Семенова,Виктория Викторовна Насонова,Елена Карленовна Туниева,Кирилл Игоревич Спиридонов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный центр пищевых систем им. В.М. Горбатова" РАН. Дата публикации: 2018-05-03.

Insulin analogues with reduced affinity to insulin receptor and their use

Номер патента: RU2764197C1. Автор: Норберт ТЕННАГЕЛЬС,Ин Юн ЧОЙ,Сун Юб ДЖУН,Маркус КОРН,Стефан ГЮСРЕГЕН. Владелец: Ханми Фарм. Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-01-14.

Multilayer micro granules for electronic cigarettes

Номер патента: RU2741513C2. Автор: Трэвис М. СВИД,Исабель АММЕРМАН,Челси КУК,Кэндис КАННИНГЭМ,Чэнь СУН,Энтони ТЕЙЛОР. Владелец: Раи Стратэджик Холдингс, Инк.. Дата публикации: 2021-01-26.

System for intraoperative electron beam radiotherapy using remotely located beam generator

Номер патента: US5161546A. Автор: Donald G. Bronn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-10.

Plate based on a wood material with reduced release of volatile organic compounds (voc) and application thereof

Номер патента: RU2766678C2. Автор: Норберт ДР. КАЛЬВА. Владелец: СВИСС КРОНО Тек АГ. Дата публикации: 2022-03-15.

Method and means for dynamic correction of electrostatic deflector for electron beam tube

Номер патента: CA1130929A. Автор: Kenneth J. Harte. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1982-08-31.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of electron-beam backfilling with control of filler wire position relative to electron beam (versions)

Номер патента: RU2704682C1. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Степан Владимирович Варушкин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2019-10-30.

Method for electron-beam surfacing of multimodal-structure coatings

Номер патента: RU2309827C1. Автор: Борис Федорович Советченко,Сергей Федорович Гнюсов,Василий Григорьевич Дураков,Дмитрий Анатольевич Маков,Константин Сергеевич Гнюсов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский политехнический университет. Дата публикации: 2007-11-10.

High-voltage power supply for electron-beam equipment

Номер патента: RU2349020C1. Автор: Николай Сергеевич Комаров,Юрий Владимирович Руденко. Владелец: Институт Электродинамики Национальной Академии Наук Украины. Дата публикации: 2009-03-10.

Method for electron-beam materials treatment

Номер патента: RU2025520C1. Автор: В.И. Жаботинский,В.Я. Нерода,В.И. Заренков. Владелец: Институт физико-химических проблем и технологий. Дата публикации: 1994-12-30.

Device for turning the electron beam for electron beam technologies

Номер патента: RU2623578C2. Автор: Павел Владимирович Логачев,Олег Николаевич Алякринский,Юрий Игнатьевич Семенов,Александр Анатольевич Старостенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН). Дата публикации: 2017-06-28.

Vacuum plant for electron-beam sputtering of coatings

Номер патента: RU2014364C1. Автор: Э.И. Семенов,В.П. Сидоркин. Владелец: Рыбинский Авиационный Технологический Институт. Дата публикации: 1994-06-15.

Injector of electron with output of electron beam into overpressure medium and electron-beam unit on its basis

Номер патента: RU2348086C1. Автор: Владимир Филиппович Мартынов,Михаил Александрович Завьялов,Павел Михайлович Тюрюканов,Алексей Иванович Казаков,лов Михаил Александрович Завь (RU),Владимир Филиппович Мартынов (RU),Павел Михайлович Тюрюканов (RU),Алексей Иванович Казаков (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский электротехнический институт им. В.И. Ленина". Дата публикации: 2009-02-27.

Method for electron-beam surfacing

Номер патента: RU2217279C2. Автор: В.Е. Панин,С.И. Белюк,В.Г. Дураков,В.П. Безбородов. Владелец: Российский материаловедческий центр. Дата публикации: 2003-11-27.

Apparatus for electron beam welding

Номер патента: RU2217281C2. Автор: В.Т. Доронин,В.Ф. Задонцев. Владелец: Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова. Дата публикации: 2003-11-27.

Electron-beam projection lithographer

Номер патента: RU2183040C1. Автор: В.В. Дворкин,Н.В. Суетин,Н.Н. Дзабановский,П.В. Минаков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Центр прикладных исследований". Дата публикации: 2002-05-27.

Method of and device for electron-beam welding

Номер патента: RU2090327C1. Автор: В.М. Язовских,В.Я. Беленький,Л.Н. Кротов. Владелец: Пермский государственный технический университет. Дата публикации: 1997-09-20.

Method for electron beam strengthening of hard-alloy tool or item

Номер патента: RU2457261C1. Автор: Владимир Ефимович Овчаренко,Николай Николаевич Коваль,Юрий Федорович Иванов,Антон Дмитриевич Тересов,Алексей Александрович Моховиков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" (ГОУ ВПО НИ ТПУ). Дата публикации: 2012-07-27.

Electron-beam installation

Номер патента: RU2192687C2. Автор: М.А. Завьялов,В.Н. Лисин,В.Ф. Мартынов,П.М. Тюрюканов,С.И. Гусев,Л.Я. Гринченко,Н.С. Гусев,А.П. Еремин,А.Г. Уваев,А.М. Филачев. Владелец: Федеральное государственное унитарное дочернее предприятие "Научно-исследовательский институт электронной и ионной оптики Государственного унитарного предприятия "НПО "ОРИОН". Дата публикации: 2002-11-10.

Apparatus for electron beam irradiation of the objects

Номер патента: CA1177901A. Автор: Stanislav P. Dmitriev,Andrei S. Ivanov,Mikhail P. Sviniin,Mikhail T. Fedotov,Leonid V. Komorin,Valery P. Ovchinnikov,Oleg A. Gusev. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-11-13.

Apparatus for electron beam welding

Номер патента: RU2186665C2. Автор: В.Т. Доронин. Владелец: Алтайский государственный технический университет им. И.И.Ползунова. Дата публикации: 2002-08-10.

Apparatus for cold-cathode electron beam generation for sterilization of surfaces and similar applications applications

Номер патента: CA1128725A. Автор: Richard N. Cheever. Владелец: Tetra Pak Developpement SA. Дата публикации: 1982-08-03.

Method for electron-beam welding of monocrystallyne pipes from refractory metals and alloys

Номер патента: RU2067516C1. Автор: А.В. Коробов,В.С. Кузнецов,Ю.В. Николаев,Е.М. Годжиева,В.П. Качкин,Б.Ш. Кишмахов,А.И. Мелешков,А.А. Ястребков. Владелец: Отделение Научно-технический центр "Источники тока" Научно-исследовательского института Научно-производственного объединения "Луч". Дата публикации: 1996-10-10.

Method of determining energy spectrum of electrons in electron beam

Номер патента: RU2523424C1. Автор: Александр Викторович Архипов,Геннадий Гиршевич Соминский,Олег Игоревич Лукша,Наталья Владиславовна Дворецкая,Гантенбейн Герд,Керн Стефан. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный политехнический университет" (ФГБОУ ВПО "СПбГПУ"). Дата публикации: 2014-07-20.

Alignment of electron beam with ring joint butt (versions)

Номер патента: RU2552824C2. Автор: Дмитрий Николаевич Лежнев,Владимир Александрович Куликов,Сергей Аркадьевич Собко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина". Дата публикации: 2015-06-10.

Method of electron beam welding of nonmagnetic metals and alloys

Номер патента: RU2433024C1. Автор: Рудольф Михайлович Голубчик,Владимир Николаевич Мартынов,Александр Сергеевич Саяпин,Александр Сергеевич Хохловский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский энергетический институт (технический университет)" (ГОУВПО "МЭИ"(ТУ)"). Дата публикации: 2011-11-10.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2494846C2. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Степан Владимирович Варушкин,Елена Львовна Кротова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2013-10-10.

Method for generating subnanosecond electron beam

Номер патента: RU2244361C1. Автор: В.Ф. Тарасенко,С.Б. Алексеев,В.М. Орловский. Владелец: Институт сильноточной электроники СО РАН. Дата публикации: 2005-01-10.

Device for producing polarized electron beam

Номер патента: RU2069938C1. Автор: Валерий Викторович Закутин,Александр Маркович Шендерович,Владимир Павлович Ефимов,Виктор Павлович Ромасько,Игорь Александрович Ильичев. Владелец: Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт". Дата публикации: 1996-11-27.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2527112C2. Автор: Евгений Давыдович Бланк,Раиса Васильевна Додон,Николай Васильевич Александров,Никита Вильевич Вовченко,Сергей Николаевич Курта. Владелец: Росссийская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2014-08-27.

Device for determination of energy density distribution and control of electron beam focusing

Номер патента: RU2580266C1. Автор: Татьяна Васильевна Ольшанская,Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Глеб Львович Пермяков,Елена Львовна Кротова,Николай Андреевич Мусихин,Екатерина Сергеевна Саломатова,Елена Георгиева Колева. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2016-04-10.

Electromagnetic filter for separating electron beams

Номер патента: RU2305345C1. Автор: Леонид Борисович Розенфельд,Инна Семеновна Гайдукова,Дмитрий Эдуардович Гринфельд. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "ОРИОН" (ФГУП "НПО "ОРИОН"). Дата публикации: 2007-08-27.

Crystallizer for producing ingots in electron-beam furnaces

Номер патента: RU2309997C2. Автор: Михаил Михайлович Веселков,Евгений Владимирович Ильенко,Михаил Георгиевич Штуца,Вадим Витальевич Антипов,Валентина Михайловна Аржакова,Сергей Геннадьевич Ахтонов,Владимир Александрович Богатырев,Николай Васильевич Родченков,вский Вадим Борисович Черн,Вадим Борисович Чернявский,Михаил Анатольевич Кияненко,ненко Михаил Анатольевич Ки,Сергей Васильевич Ладохин. Владелец: Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод" (ОАО ЧМЗ). Дата публикации: 2007-11-10.

Pulsed electron beam source (versions)

Номер патента: RU2395866C1. Автор: Владимир Иванович Энгелько,Константин Иванович Ткаченко,Георг МЮЛЛЕР,Владимир Иванович Энгелько (RU),Константин Иванович Ткаченко (RU),Георг МЮЛЛЕР (DE). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им. Д.В. Ефремова" (ФГУП "НИИЭФА им. Д.В. Ефремова"). Дата публикации: 2010-07-27.

Recycling Method For Electronics Scrap In Order To Obtain Reusable Materials While Avoiding The Release Of Harmful Substances

Номер патента: US20120000999A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CASING FOR ELECTRONIC BALLAST

Номер патента: US20120002384A1. Автор: . Владелец: OSRAM GESELLSCHAFT MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG. Дата публикации: 2012-01-05.

IMMUNOGLOBULINS WITH REDUCED AGGREGATION

Номер патента: US20120003211A1. Автор: Chennamsetty Naresh,Helk Bernhard,Kayser Veysel,Trout Bernhardt,Voynov Vladimir. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of generating multi-velocity non-laminar electron beams

Номер патента: RU2531267C2. Автор: Юрий Александрович Калинин,Андрей Викторович Стародубов. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Саратовский Государственный Университет Имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2014-10-20.

Electron beam welding method

Номер патента: RU2071401C1. Автор: Юрий Иванович Пастушенко,Анатолий Андреевич Кайдалов,Валерий Александрович Калачев. Владелец: Валерий Александрович Калачев. Дата публикации: 1997-01-10.

Electron beam gun

Номер патента: RU2518502C1. Автор: Павел Евгеньевич Могилевский. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский технологический институт "Прогресс". Дата публикации: 2014-06-10.

Method of electron-beam zone melting of metal and device for realization of this method

Номер патента: RU2287023C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Алексей Иванович Пашков,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Римма Алексеевна Казанцева,Анастаси Вадимовна Пискунова,Анастасия Вадимовна Пискунова,Виктор Васильевич Ломейко. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2006-11-10.

Subnanosecond electron beam generator

Номер патента: RU2242062C1. Автор: В.Ф. Тарасенко,С.Б. Алексеев,В.М. Орловский. Владелец: Институт сильноточной электроники СО РАН. Дата публикации: 2004-12-10.

Electronically sensitive array with charge transfer for electron-optical image converters

Номер патента: RU2324256C1. Автор: Александр Сергеевич Терехов,Юлий Абрамович Концевой,Владимир Викторович Чернокожин,Петр Борисович Константинов,Евгений Вильевич Костюков,Александр Сергеевич Скрылев,рев Евгений Викторович Дегт,Евгений Викторович Дегтярев,Генрих Эрнстович Шайблер,Сергей Николаевич Косолобов. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Предприятие "Пульсар". Дата публикации: 2008-05-10.

Electron beam welding unit

Номер патента: RU2486041C1. Автор: Иван Владимирович Скворцов,Наталия Ивановна Шаронова,Евгений Михайлович Наговицын,Виктор Васильевич Докашев,Сергей Георгиевич Пузанов,Евгений Олегович Фомичев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственный центр газотурбостроения "Салют" (ФГУП "НПЦ газотурбостроения "Салют"). Дата публикации: 2013-06-27.

Radionuclide production using intense electron beams

Номер патента: WO1998019740A9. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1998-08-27.

อุปกรณ์ก๊าซเซนเซอร์แบบฟิลม์บางที่สร้างโดยกระบวนการ ion-assisted electron beam evaporation และ กระบวนการผลิตอุปกรณ์ดังกล่าว

Номер патента: TH26223B. Автор: วิศิษฎ์สรอรรถ นายอนุรัตน์. Владелец: นายเกรียงศักดิ์ ก้อนทอง นายกนกศักดิ์ ทองพานิชย์ นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล. Дата публикации: 2009-07-02.

อุปกรณ์ก๊าซเซนเซอร์แบบฟิลม์บางที่สร้างโดยกระบวนการ ion-assisted electron beam evaporation และ กระบวนการผลิตอุปกรณ์ดังกล่าว

Номер патента: TH75910A. Автор: วิศิษฎ์สรอรรถ นายอนุรัตน์. Владелец: นายกนกศักดิ์ ทองพานิชย์. Дата публикации: 2006-02-23.

LITHIUM CONDITIONED ENGINE WITH REDUCED CARBON OXIDE EMISSIONS

Номер патента: US20120000449A1. Автор: Taplin,JR. Harry R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device Including Ultra Low-K (ULK) Metallization Stacks with Reduced Chip-Package Interaction

Номер патента: US20120001323A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DETECTION OF CABLE CONNECTIONS FOR ELECTRONIC DEVICES

Номер патента: US20120003863A1. Автор: Kim Gyudong,Sung Baegin,Kim MyounHwan,Harrell Chandlee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for obtaining hafnium ingots in electron beam furnace

Номер патента: RU2443789C2. Автор: Александр Владимирович Александров,Евгений Владимирович Ильенко,Валентина Михайловна Аржакова,Александр Гусманович Зиганшин,Надежда Константиновна Филатова,Андрей Владиславович Андреев,Вадим Борисович Чернявский,Михаил Анатольевич Кияненко,Ольга Григорьевна Моренко. Владелец: Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод". Дата публикации: 2012-02-27.

High-strength steel electronic beam welding method

Номер патента: RU2238828C1. Автор: А.С. Павлов. Владелец: Нижегородское открытое акционерное общество "Гидромаш". Дата публикации: 2004-10-27.

Composition material for wear-resistant surfacing by means of electron beam

Номер патента: RU2322335C1. Автор: Борис Федорович Советченко,Сергей Федорович Гнюсов,Василий Григорьевич Дураков,Дмитрий Анатольевич Маков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский политехнический университет. Дата публикации: 2008-04-20.

Heat shield for electronic memory module

Номер патента: RU2473982C1. Автор: Валентин Николаевич Хабаров,Леонид Германович Аливаник. Владелец: Валентин Николаевич Хабаров. Дата публикации: 2013-01-27.

Magnetron-type electron gun for generating helical electron beams with reflected electron trap

Номер патента: RU2523447C2. Автор: Михаил Юрьевич Глявин,Михаил Иванович Петелин,Аркадий Львович Гольденберг. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики Российской академии наук(ИПФ РАН),. Дата публикации: 2014-07-20.

Method of welding by electron beam

Номер патента: RU2448822C1. Автор: Владислав Александрович Парфенов,Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ МЭИ"). Дата публикации: 2012-04-27.

Forming of butt between large-depth parts from titanium alloys to be jointed by electron-beam welding

Номер патента: RU2527566C1. Автор: Анатолий Леонидович Пискунов,Сергей Иванович Башкиров,Александр Владимирович Соснин. Владелец: Открытое акционерное общество Научно-производственное объединение "Искра". Дата публикации: 2014-09-10.

Electronic unsoldered gun for electron flow discharge from vacuum field gun to atmosphere or other gas medium

Номер патента: RU2590891C1. Автор: Игорь Анатольевич Леонтьев,Юрий Михайлович ЯШНОВ,Юрий Дмитриевич Степанов,Олег Юрьевич КУДРЯШОВ,Михаил Петрович Духновский,Карл Георгиевич Симонов,Юрий Юрьевич Федоров. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн". Дата публикации: 2016-07-10.

Method of electron-beam welding

Номер патента: RU2259264C1. Автор: А.Н. Семенов,Г.С. Черемных,В.Б. Филиппов,В.Н. Тюрин,Г.Н. Шевелев,А.М. Блинов,В.В. Мелюков,М.И. Плышевский,А.Г. Корепанов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2005-08-27.

Ionization x-ray electron-beam detector

Номер патента: RU2268762C2. Автор: Михаил Георгиевич Петрушанский,Евгений Андреевич Корнев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет". Дата публикации: 2006-01-27.

Remote control station for electronic units

Номер патента: RU2330336C2. Автор: Сергей Евгеньевич Варламов,Николай Борисович Болотин. Владелец: Николай Борисович Болотин. Дата публикации: 2008-07-27.

Device for controlling shape and density of electron-beam gun flow

Номер патента: RU2275710C1. Автор: Валерий Михайлович Якушев,Николай Иванович Каргин,Александр Валерьевич Якушев,Андрей Арсеньевич Брагин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Северо-Кавказский государственный технический университет". Дата публикации: 2006-04-27.

Method and device for measuring current distribution of radially convergent ribbon electron beams

Номер патента: RU2202116C2. Автор: А.П. Семенов,В.П. Нархинов. Владелец: Бурятский научный центр СО РАН. Дата публикации: 2003-04-10.

Controller for electronic device

Номер патента: CA172043S. Автор: . Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2018-01-25.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2532626C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Анатолий Леонидович Пискунов,Валерий Евгеньевич Щавлев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2014-11-10.

Tube electron-beam welding method

Номер патента: RU2259906C1. Автор: А.Н. Семенов,Г.С. Черемных,В.Б. Филиппов,В.Н. Тюрин,Г.Н. Шевелев,А.М. Блинов,В.В. Мелюков,М.И. Плышевский,А.Г. Корепанов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2005-09-10.

Method of obtaining electron beam and device to this end (versons)

Номер патента: RU2341846C1. Автор: Александр Разумникович Сорокин. Владелец: Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2008-12-20.

Method for electronic jamming of radio communication system

Номер патента: RU2540108C2. Автор: Игорь Георгиевич Дорух,Виктор Михайлович Курейчик,Сергей Федорович Огурцов,Владимир Викторович Курейчик,Евгений Сергеевич Огурцов,Александр Алексеевич Федотов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южный федеральный университет" (Южный федеральный университет). Дата публикации: 2015-02-10.

Method of electron beam cutting

Номер патента: RU2088389C1. Автор: А.П. Семенов,Е.И. Гырылов. Владелец: Бурятский институт естественных наук СО РАН. Дата публикации: 1997-08-27.

Electron beam generation method and device for realising said method (versions)

Номер патента: RU2383079C1. Автор: Александр Разумникович Сорокин. Владелец: Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2010-02-27.

Concentrator power module (cpm) of uninterruptible power supply system for electronics (versions)

Номер патента: RU2498474C1. Автор: Валерий Алексеевич Колосов. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт вычислительных комплексов им. М.А. Карцева". Дата публикации: 2013-11-10.

Method of performing objective analysis of radio-frequency electromagnetic field in facilities equipped with means for electronic jamming of wireless communication systems

Номер патента: RU2569640C1. Автор: Андрей Сергеевич Титенко,Владимир Михайлович Дорохов,Антон Владимирович Меркулов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Центр безопасности информации "МАСКОМ" (ООО "ЦБИ "МАСКОМ"). Дата публикации: 2015-11-27.

Method for irradiation of polymer films with electronic beam

Номер патента: RU2119431C1. Автор: Г.А. Виноградов,Г.И. Бацких,С.В. Денисюк,Г.И. Кленов. Владелец: Московский радиотехнический институт РАН. Дата публикации: 1998-09-27.

Cooling device for electronic components

Номер патента: RU2474888C2. Автор: Владимир Юрьевич Кравец,Юрий Викторович Бухтияров,Игорь Юрьевич Штурма,Алексей Яковлевич Паламарчук. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Видео Интернет Технологии" (ООО "Видео Интернет Технологии"). Дата публикации: 2013-02-10.

Electron beam welding control device

Номер патента: RU2469827C1. Автор: Алексей Владимирович Щербаков. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ МЭИ"). Дата публикации: 2012-12-20.

Net with reduced bulk, enhanced elasticity, reduced hydrodynamic resistance

Номер патента: RU2268328C2. Автор: Валентин Гаврилович ПЕРЕВОЩИКОВ,Шериф Адхам САФВАТ. Владелец: Кандис Ехф.. Дата публикации: 2006-01-20.

Method of electron-beam melting of product from high-melting metal or alloy, and device for its implementation

Номер патента: RU2469115C1. Автор: Дмитрий Владимирович Прохоров,Юрий Романович Колобов,Виктор Иванович Внуков,Евгений Витальевич Голосов,Михаил Иванович Карпов,Валерий Поликарпович Коржов,Валерий Николаевич Семенов,Ирина Сергеевна Желтякова,Виктор Васильевич Ломейко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-12-10.

Method of electron-beam welding of pipes

Номер патента: RU2085347C1. Автор: В.И. Белов,А.Н. Семенов,В.Н. Тюрин,Г.Н. Шевелев,М.И. Плышевский,А.Е. Фефилов. Владелец: Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники. Дата публикации: 1997-07-27.

Method of electron-beam welding

Номер патента: RU2207235C1. Автор: В.А. Поклад,И.В. Скворцов,В.А. Гейкин,С.Г. Пузанов,Н.И. Шаронова,В.Н. Клишин. Владелец: ЗАО "Центр эффективных технологий материалов и оборудования "Плазмалуч". Дата публикации: 2003-06-27.

Thermal chamber for electronics tests

Номер патента: RU2523098C2. Автор: Сергей Геннадьевич Емельянов,Николай Сергеевич Кобелев,Татьяна Васильевна Алябьева,Владимир Николаевич Кобелев,Сергей Сергеевич Федоров,Станислав Игоревич Бобылев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ). Дата публикации: 2014-07-20.

Method for measurement of forest allotment for electronic theme forest map

Номер патента: RU2378823C2. Автор: Петр Матвеевич Мазуркин,Александр Николаевич Фадеев,Наталья Владимировна Русинова,Петр Матвеевич Мазуркин (RU),Александр Николаевич Фадеев (RU),Наталья Владимировна Русинова (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Марийский государственный технический университет. Дата публикации: 2010-01-20.

Method for producing of smoking tobacco article with reduced resin and nicotine content

Номер патента: RU2290046C1. Автор: Олег Иванович Квасенков,Ирина Игоревна Татарченко,Ольга Алексеевна Бирюкова. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2006-12-27.

Electron-beam welding set

Номер патента: RU2027567C1. Автор: Анатолий Иванович Волков,Сергей Иванович Глазов. Владелец: Сергей Иванович Глазов. Дата публикации: 1995-01-27.

Metalised ceramic substrate for electronic power packs and method of ceramics metalisation

Номер патента: RU2490237C2. Автор: Олег Викторович Медведко,Владимир Федорович Косарев,Юрий Кондратьевич Непочатов,Светлана Аликовна Кумачёва. Владелец: Холдинговая компания "Новосибирский Электровакуумный Завод-Союз" в форме открытого акционерного общества. Дата публикации: 2013-08-20.

Method for electronic jamming of equipment of satellite radio navigation system consumers within secure territory

Номер патента: RU2581602C1. Автор: Василий Николаевич Юдин,Евгений Анатольевич Каменев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский авиационный институт (национальный исследовательский университет) (МАИ). Дата публикации: 2016-04-20.

Method for electronic sale of goods and services

Номер патента: RU2470363C2. Автор: Антон Владимирович Воскресенский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Адривер". Дата публикации: 2012-12-20.

Cooling device for electronic power modules

Номер патента: RU2273970C1. Автор: Давид Львович Киржнер,Валерий Семёнович Коссов,Валентин Борисович Зорин,Юрий Григорьевич Колоколкин,Сергей Дмитриевич Саленко,Анатолий Алексеевич Кураев,Давид Львович Киржнер (RU),Валерий Семёнович Коссов (RU),Анатолий Алексеевич Кураев (RU),Сергей Дмитриевич Саленко (RU),Валентин Борисович Зорин (RU),Юрий Григорьевич Колоколкин (RU). Владелец: Сибирский филиал Федерального государственного унитарного предприятия Всероссийский научно-исследовательский и конструкторско-технологический институт подвижного состава Министерства путей сообщения Российской Федерации. Дата публикации: 2006-04-10.

Measuring device for electronic components

Номер патента: CA165778S. Автор: . Владелец: Ilia Malamoud. Дата публикации: 2016-07-12.

EVOH Barrier Film with Reduced Autoclave Shock

Номер патента: US20120000166A1. Автор: . Владелец: CRYOVAC, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Commutator switched by electron beams for active compressor microwave pulses

Номер патента: RU2461922C1. Автор: Владимир Александрович Исаев,Анатолий Леонтьевич Вихарев,Михаил Александрович Лобаев,Олег Андреевич Иванов. Владелец: Учреждение Российской академии наук институт прикладной физики РАН. Дата публикации: 2012-09-20.

Electron-beam welding method of heterogeneous metal materials

Номер патента: RU2534183C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Максим Владимирович Чепурин. Владелец: федеративное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2014-11-27.

Method of producing low-molecular water-soluble chitin in electron-beam plasma

Номер патента: RU2595162C2. Автор: Михаил Николаевич Васильев,Валерий Петрович Варламов,Татьяна Михайловна Васильева,Сергей Александрович Лопатин. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Фундаментальные основы биотехнологии" Российской академии наук (ФИЦ Биотехнологии РАН). Дата публикации: 2016-08-20.

Shf quantum generator based on electron beams

Номер патента: RU2541162C1. Автор: Богдан Николаевич Казьмин,Иван Васильевич Трифанов,Юрий Юрьевич Логинов,Дмитрий Ринатович Рыжов,Владимир Афанасьевич Колмыков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ). Дата публикации: 2015-02-10.

Method of coating application by electron beam evaporation in vacuum

Номер патента: RU2496912C1. Автор: Алексей Алексеевич Буянкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2013-10-27.

Tube electron-beam welding method

Номер патента: RU2285599C1. Автор: Александр Николаевич Семенов,Владимир Павлович Гордо,Василий Никитович Тюрин,Михаил Иванович Плышевский,Герман Николаевич Шевелев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2006-10-20.

Shaping device of bipolar reference voltage with reduced noise level

Номер патента: RU2549509C1. Автор: Сергей Николаевич Бондарь,Мария Сергеевна Жаворонкова. Владелец: ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "Дельта". Дата публикации: 2015-04-27.

Method of creating multilingual automatic index for electronic digital pilot book

Номер патента: RU2452002C1. Автор: Сергей Иванович Колесник,Сергей Иванович Колесник (RU). Владелец: Сергей Иванович Колесник. Дата публикации: 2012-05-27.

Cooling device for electronic boards

Номер патента: RU2416895C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Олег Викторович Евдулов,Ильдар Азатович Габитов. Владелец: Государственное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2011-04-20.

Paste-like milk-containing product with reduced milk proteins allergenicity

Номер патента: RU2552149C2. Автор: Сергей Владимирович Симоненко,Евгения Юрьевна Агаркова,Светлана Елисеевна Димитриева,Светлана Геннадиевна Ботина,Александр Юрьевич Золотин. Владелец: Государственное научное учреждение Научно-исследовательский институт детского питания Российской академии сельскохозяйственных наук. Дата публикации: 2015-06-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.