Charged particle beam exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method
Номер патента: US6255663B1
Опубликовано: 03-07-2001
Автор(ы): Atsushi Yamada, Koichi Kamijo
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-07-2001
Автор(ы): Atsushi Yamada, Koichi Kamijo
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Charged particle beam lens and exposure apparatus using the same
Номер патента: US20140166894A1. Автор: Takahisa Kato,Yutaka Setomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-06-19.