Method of forming a trench transistor having a superior gate dielectric
Номер патента: US20020100932A1
Опубликовано: 01-08-2002
Автор(ы): Brian Mo, Duc Chau
Принадлежит: Fairchild Semiconductor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2002
Автор(ы): Brian Mo, Duc Chau
Принадлежит: Fairchild Semiconductor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of fabricating semiconductor devices and structures thereof
Номер патента: US09659778B2. Автор: Jin-Ping Han,Knut Stahrenberg. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-05-23.