Three-dimensional semiconductor structure and method for forming same
Номер патента: US20240023324A1
Опубликовано: 18-01-2024
Автор(ы): Chao Lin
Принадлежит: Changxin Memory Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-01-2024
Автор(ы): Chao Lin
Принадлежит: Changxin Memory Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Three-dimensional semiconductor device having a first main separation structure and a second main separation structure on a lower structure
Номер патента: US11812609B2. Автор: Byoung Il Lee,Yu Jin Seo,Jun Eon Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-07.