Method of thin layers forming on base material
Номер патента: CS167686B1
Опубликовано: 29-04-1976
Автор(ы): Horst Stelzer, Lutz Fabian, Michael Kleinert, Rainer Moeller
Принадлежит: Horst Stelzer, Lutz Fabian, Michael Kleinert, Rainer Moeller
Опубликовано: 29-04-1976
Автор(ы): Horst Stelzer, Lutz Fabian, Michael Kleinert, Rainer Moeller
Принадлежит: Horst Stelzer, Lutz Fabian, Michael Kleinert, Rainer Moeller
The method of applying a thin layer of amorphous silicon
Номер патента: RU2015156782A. Автор: Владимир Сергеевич Ермолаев,Владимир Александрович Усачев,Борис Петрович Папченко,Михаил Владимирович Пузык,Дмитрий Климович Хегай,Евгений Викторович Васильченко. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики (Университет ИТМО). Дата публикации: 2017-07-04.