Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium
Номер патента: US20200219727A1
Опубликовано: 09-07-2020
Автор(ы): HIROSHI Ashihara, Motomu DEGAI
Принадлежит: Kokusai Electric Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-07-2020
Автор(ы): HIROSHI Ashihara, Motomu DEGAI
Принадлежит: Kokusai Electric Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming a nano-FET semiconductor device
Номер патента: US12040382B2. Автор: Yee-Chia Yeo,Sen-Hong Syue,Huicheng Chang,Yi-Rui Chen,Wen-Kai Lin,Chen-Fong Tsai,Li-Chi Yu,Yoh-Rong Liu,Cheng-I Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.