Process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of elemental germanium and/or Si1-xGex material in the presence of a CMP composition comprising a specific organic compound
Номер патента: US9443739B2
Опубликовано: 13-09-2016
Автор(ы): Bastian Marten Noller, Bettina Drescher, Christophe Gillot, Yuzhuo Li
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-09-2016
Автор(ы): Bastian Marten Noller, Bettina Drescher, Christophe Gillot, Yuzhuo Li
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND
Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.