Etchant for copper or copper alloys
Номер патента: US6426020B1
Опубликовано: 30-07-2002
Автор(ы): Maki Arimura, Masao Okada, Masayo Kuriyama
Принадлежит: MEC Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-07-2002
Автор(ы): Maki Arimura, Masao Okada, Masayo Kuriyama
Принадлежит: MEC Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
A method for increasing adhesion strength between a surface of copper or copper alloy and an organic layer
Номер патента: WO2019215072A1. Автор: Toshio Honda,Wonjin Cho,Markku Lager,Dirk Tews,Martin Thoms,Mirko Kloppisch,Norbert Lützow,Felix TANG,Aaron HAHN,Gabriela SCHMIDT. Владелец: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Дата публикации: 2019-11-14.